JPH07169114A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH07169114A JPH07169114A JP31464493A JP31464493A JPH07169114A JP H07169114 A JPH07169114 A JP H07169114A JP 31464493 A JP31464493 A JP 31464493A JP 31464493 A JP31464493 A JP 31464493A JP H07169114 A JPH07169114 A JP H07169114A
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- JP
- Japan
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- exposure
- axis
- beam expander
- optical disk
- pbs
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 多品種の露光フォーマットを最小限の調整で
再現性良く安定した溝形状品質を得る。 【構成】 第１軸の露光ビームに偏向角の変調を与える
ために設けられたウォブルＡ／Ｏ変調器４を通過したレ
ーザ光は、λ／２波長板７を回転させることで位置を変
えＰＢＳ８ａで透過、反射、分割を選択することができ
る。分割された光学系は、ＰＢＳ８ａが等距離（Ｌ1＝
Ｌ2）離れた位置にビームエキスパンダ１３，１４が設
置されている。ビームエキスパンダ１３，１４を通過し
たレーザ光はＰＢＳ８ｂで再び合成される。その後、再
びλ／２波長板９を回転させ、ＰＢＳ１０で第２軸と合
成されて、λ／４波長板を通り、対物レンズ１５へ入射
する。第２軸については、変調光学系通過後、ビームエ
キスパンダ１２でビーム径拡大後、λ／２波長板６とＰ
ＢＳ１０により第１軸と合成されて対物レンズ１５へ入
射する。
再現性良く安定した溝形状品質を得る。 【構成】 第１軸の露光ビームに偏向角の変調を与える
ために設けられたウォブルＡ／Ｏ変調器４を通過したレ
ーザ光は、λ／２波長板７を回転させることで位置を変
えＰＢＳ８ａで透過、反射、分割を選択することができ
る。分割された光学系は、ＰＢＳ８ａが等距離（Ｌ1＝
Ｌ2）離れた位置にビームエキスパンダ１３，１４が設
置されている。ビームエキスパンダ１３，１４を通過し
たレーザ光はＰＢＳ８ｂで再び合成される。その後、再
びλ／２波長板９を回転させ、ＰＢＳ１０で第２軸と合
成されて、λ／４波長板を通り、対物レンズ１５へ入射
する。第２軸については、変調光学系通過後、ビームエ
キスパンダ１２でビーム径拡大後、λ／２波長板６とＰ
ＢＳ１０により第１軸と合成されて対物レンズ１５へ入
射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤露光装
置に関し、より詳細には、多品種の露光フォーカスを最
小限の調整で再現性良く安定した溝形状品質を得られる
ようにした光ディスク原盤露光装置に関する。
置に関し、より詳細には、多品種の露光フォーカスを最
小限の調整で再現性良く安定した溝形状品質を得られる
ようにした光ディスク原盤露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の光ディスク原盤露光装置におい
て、露光するフォーマット（ＭＯ，ＣＤ，etc）に応じ
てビームエキスパンダ比を組み変え、調整した露光ビー
ム形状を変えて、それぞれのフォーマット信号規格を満
足するような溝形状を得ている。図４は、従来のＭＯ
（磁気光学）フォーマット（ＣＣＳ：Common Command S
et）溝形状を示す図で、図中、３１は案内溝、３２はレ
ジスト、３３はピット、３４はガラスである。
て、露光するフォーマット（ＭＯ，ＣＤ，etc）に応じ
てビームエキスパンダ比を組み変え、調整した露光ビー
ム形状を変えて、それぞれのフォーマット信号規格を満
足するような溝形状を得ている。図４は、従来のＭＯ
（磁気光学）フォーマット（ＣＣＳ：Common Command S
et）溝形状を示す図で、図中、３１は案内溝、３２はレ
ジスト、３３はピット、３４はガラスである。
【０００３】例えば、ＭＯディスクの原盤露光を行なう
時は、図４のようなＩＤピットは開口部で０.４〜０.５
μｍで、かつ台形形状で、案内溝３１は開口部で０.５
〜０.６μｍのＶ字溝形状をしている。このような形状
を得るには、露光するドーム径をそれぞれ変えて行なっ
ている。また、ＭＯディスクの原盤露光では、１本の案
内溝が蛇行しており、開口部が１μｍと非常に広い。露
光される溝形状は露光ビーム径で決まるため、露光フォ
ーマットに応じてビーム径を調整（ビームエキスパンダ
比を変え）して、露光条件設定を確認した後、本露光を
行っている。
時は、図４のようなＩＤピットは開口部で０.４〜０.５
μｍで、かつ台形形状で、案内溝３１は開口部で０.５
〜０.６μｍのＶ字溝形状をしている。このような形状
を得るには、露光するドーム径をそれぞれ変えて行なっ
ている。また、ＭＯディスクの原盤露光では、１本の案
内溝が蛇行しており、開口部が１μｍと非常に広い。露
光される溝形状は露光ビーム径で決まるため、露光フォ
ーマットに応じてビーム径を調整（ビームエキスパンダ
比を変え）して、露光条件設定を確認した後、本露光を
行っている。
【０００４】図５は、従来の光ディスク原盤露光装置の
構成図で、図中、４１はＡｒレーザ（アルゴンイオンレ
ーザ）、４２ａ，４２ｂはアナログ音響光学（Ａ／Ｏ）
変調器、４３ａ，４３ｂはディジタル音響光学（Ａ／
Ｏ）変調器、４４はウォブル音響光学（Ａ／Ｏ）変調
器、４５ａ〜４５ｄはレンズ、４６，４７はλ／２波長
板、４８は偏向ビームスピリッタ（ＰＢＳ：Polarizing
Beam Splitter）、４９はλ／４波長板、５０，５１は
第２のビームエキスパンダ、５１は第１ビームエキスパ
ンダ、５２は対物レンズ、５３はレジスト板である。
構成図で、図中、４１はＡｒレーザ（アルゴンイオンレ
ーザ）、４２ａ，４２ｂはアナログ音響光学（Ａ／Ｏ）
変調器、４３ａ，４３ｂはディジタル音響光学（Ａ／
Ｏ）変調器、４４はウォブル音響光学（Ａ／Ｏ）変調
器、４５ａ〜４５ｄはレンズ、４６，４７はλ／２波長
板、４８は偏向ビームスピリッタ（ＰＢＳ：Polarizing
Beam Splitter）、４９はλ／４波長板、５０，５１は
第２のビームエキスパンダ、５１は第１ビームエキスパ
ンダ、５２は対物レンズ、５３はレジスト板である。
【０００５】アルゴンイオンレーザ５１より出射したレ
ーザ光は、ハーフミラーなどにより２分割されて各々露
光ビームとなる。各々の露光ビームは、独立したアナロ
グＡ／Ｏ変調器４２ａ，４２ｂとディジタルＡ／Ｏ変調
器４３ａ，４３ｂを介して光変調が行なわれる。一方の
露光ビームには、該露光ビームに偏向角の変調を与える
ウォブルＡ／Ｏ変調器４４が設けられる。双方の露光ビ
ームは第１及び第２のビームエキスパンダ５０，５１に
よりビーム径を変え、ＰＢＳ４８で合成されて対物レン
ズ５２によりレジスト５２板上に集光して露光される。
ーザ光は、ハーフミラーなどにより２分割されて各々露
光ビームとなる。各々の露光ビームは、独立したアナロ
グＡ／Ｏ変調器４２ａ，４２ｂとディジタルＡ／Ｏ変調
器４３ａ，４３ｂを介して光変調が行なわれる。一方の
露光ビームには、該露光ビームに偏向角の変調を与える
ウォブルＡ／Ｏ変調器４４が設けられる。双方の露光ビ
ームは第１及び第２のビームエキスパンダ５０，５１に
よりビーム径を変え、ＰＢＳ４８で合成されて対物レン
ズ５２によりレジスト５２板上に集光して露光される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
光ディスク原盤露光装置においては、露光するフォーカ
スに応じてビームエキスパンダを組み換えていると、調
整に時間がかかり、また、再現性も悪いという欠点があ
る。また、ＭＯやＣＤ等の多品種の原盤露光を行なうに
は露光フォーマット毎に露光条件の確認設定を行ってい
ては量産性が悪いという問題点があった。
光ディスク原盤露光装置においては、露光するフォーカ
スに応じてビームエキスパンダを組み換えていると、調
整に時間がかかり、また、再現性も悪いという欠点があ
る。また、ＭＯやＣＤ等の多品種の原盤露光を行なうに
は露光フォーマット毎に露光条件の確認設定を行ってい
ては量産性が悪いという問題点があった。
【０００７】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たもので、多品種の露光フォーマットを最小限の調整で
再現性良く安定した溝形状品質を得るようにした光ディ
スク原盤露光装置を提供することを目的としている。
たもので、多品種の露光フォーマットを最小限の調整で
再現性良く安定した溝形状品質を得るようにした光ディ
スク原盤露光装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、（１）レーザ光を出射するレーザ光源
と、該レーザ光源より出射したレーザ光を複数の露光軸
に分けて露光ビームとし、各々の露光軸に設けられた光
量変調用のアナログ音響光学変調器（２ａ),(２ｂ）及
びパルス変調用のディジタル音響光学変調器（３ａ),
(３ｂ）と、前記露光軸の一方に設けられた第１のビー
ムエキスパンダと、前記露光軸の他方に設けられ、露光
ビームに偏向角の変調を与えるための音響光学変調器
（１４）と、該音響光学変調器（１４）を通過したレー
ザ光のビーム径を変える複数の第２のビームエキスパン
ダ（１３),(１４）とから成り、前記各変調器を介した
レーザ光を対物レンズによりレジスト板上に集光して露
光すること、更には、（２）前記第２のビームエキスパ
ンダの切り換えを、複数のλ／２波長板（７),(９）を
回転させることで行なうこと、更には、（３）前記
（２）において、前記第２のビームエキスパンダ（１
３),(１４）は、偏光ビームスプリッタ（８ａ）からの
距離が同一（Ｌ1＝Ｌ2）であり、又、ビームエキスパン
ダ後の偏光ビームスプリッタ（８ｂ）からの距離も同一
（Ｌ3＝Ｌ4）であること、更には、（４）前記（１）,
（２）又は（３）において、前記ビームエキスパンダは
ユニット構造となっており、交換可能な構造となってい
ること、更には、（５）前記（４）において、前記ビー
ムエキスパンダのユニット構造は、ベースに３点支持す
るように埋め込まれた３個の鋼球をホルダに埋め込まれ
たマグネットによって吸着されていること、更には、
（６）前記（５）において、前記マグネットに設けられ
ているマグネットチャック用の穴径は、鋼球の直径より
も小さいことを特徴としたものである。
成するために、（１）レーザ光を出射するレーザ光源
と、該レーザ光源より出射したレーザ光を複数の露光軸
に分けて露光ビームとし、各々の露光軸に設けられた光
量変調用のアナログ音響光学変調器（２ａ),(２ｂ）及
びパルス変調用のディジタル音響光学変調器（３ａ),
(３ｂ）と、前記露光軸の一方に設けられた第１のビー
ムエキスパンダと、前記露光軸の他方に設けられ、露光
ビームに偏向角の変調を与えるための音響光学変調器
（１４）と、該音響光学変調器（１４）を通過したレー
ザ光のビーム径を変える複数の第２のビームエキスパン
ダ（１３),(１４）とから成り、前記各変調器を介した
レーザ光を対物レンズによりレジスト板上に集光して露
光すること、更には、（２）前記第２のビームエキスパ
ンダの切り換えを、複数のλ／２波長板（７),(９）を
回転させることで行なうこと、更には、（３）前記
（２）において、前記第２のビームエキスパンダ（１
３),(１４）は、偏光ビームスプリッタ（８ａ）からの
距離が同一（Ｌ1＝Ｌ2）であり、又、ビームエキスパン
ダ後の偏光ビームスプリッタ（８ｂ）からの距離も同一
（Ｌ3＝Ｌ4）であること、更には、（４）前記（１）,
（２）又は（３）において、前記ビームエキスパンダは
ユニット構造となっており、交換可能な構造となってい
ること、更には、（５）前記（４）において、前記ビー
ムエキスパンダのユニット構造は、ベースに３点支持す
るように埋め込まれた３個の鋼球をホルダに埋め込まれ
たマグネットによって吸着されていること、更には、
（６）前記（５）において、前記マグネットに設けられ
ているマグネットチャック用の穴径は、鋼球の直径より
も小さいことを特徴としたものである。
【０００９】
【作用】アルゴンイオンレーザから出射されたレーザ光
は、２分割されて各々露光ビームとなり、該露光ビーム
は各々独立したアナログＡ／Ｏ変調器とディジタルＡ／
Ｏ変調器とにより光変調される。一方の露光ビームは、
該露光ビームに偏向角の変調を与えるためのウォブルＡ
／Ｏ変調器により光変調され、複数のビームエキスパン
ダを介して偏向ビームスプリッタで合成され、対物レン
ズによりレジスト板上に集光して露光される。
は、２分割されて各々露光ビームとなり、該露光ビーム
は各々独立したアナログＡ／Ｏ変調器とディジタルＡ／
Ｏ変調器とにより光変調される。一方の露光ビームは、
該露光ビームに偏向角の変調を与えるためのウォブルＡ
／Ｏ変調器により光変調され、複数のビームエキスパン
ダを介して偏向ビームスプリッタで合成され、対物レン
ズによりレジスト板上に集光して露光される。
【００１０】
【実施例】実施例について、図面を参照して以下に説明
する。図１は、本発明による光ディスク原盤露光装置の
一実施例を説明するための構成図で、図中、１はＡｒレ
ーザ（アルゴンイオンレーザ）、２ａ，２ｂはアナログ
音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、３ａ，３ｂはディジタル音
響光学（Ａ／Ｏ）変調器、４はウォブル音響光学（Ａ／
Ｏ）変調器、５ａ〜５ｄはレンズ、６，７はλ／２波長
板、８ａ，８ｂは偏向ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、９
はλ／２波長板、１０は偏向ビームスプリッタ（ＰＢ
Ｓ）、１１はλ／４波長板、１２〜１４はビームエキス
パンダ、１５は対物レンズ、１６はレジスト板である。
する。図１は、本発明による光ディスク原盤露光装置の
一実施例を説明するための構成図で、図中、１はＡｒレ
ーザ（アルゴンイオンレーザ）、２ａ，２ｂはアナログ
音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、３ａ，３ｂはディジタル音
響光学（Ａ／Ｏ）変調器、４はウォブル音響光学（Ａ／
Ｏ）変調器、５ａ〜５ｄはレンズ、６，７はλ／２波長
板、８ａ，８ｂは偏向ビームスプリッタ（ＰＢＳ）、９
はλ／２波長板、１０は偏向ビームスプリッタ（ＰＢ
Ｓ）、１１はλ／４波長板、１２〜１４はビームエキス
パンダ、１５は対物レンズ、１６はレジスト板である。
【００１１】光源のＡｒレーザ１（λ＝４５７.９ｍ
ｍ）より出射したレーザ光は、ハーフミラー等（図示せ
ず）で２分割され、各々が露光ビームとなる。該露光ビ
ームは、各々独立したアナログＡ／Ｏ変調器（光量変調
用）２と、ディジタルＡ／Ｏ変調器（パルス変調用）３
が設置されており、各々の露光ビームを独立して光変調
を行なうことができる。一方の露光ビームには、露光ビ
ームに偏向角の変調を与えるためのウォブルＡ／Ｏ変調
器４が設置されており、この光軸を第１軸と呼び、他方
を第２軸と呼び、ここまでの光学系を変調光学系と呼
ぶ。レジスト原盤上に集光し、露光が行なわれる。これ
はビーム径を変えることで対物レンズで集光するビーム
径が変わるので、露光溝形状を変えるのに一般的な手法
である。
ｍ）より出射したレーザ光は、ハーフミラー等（図示せ
ず）で２分割され、各々が露光ビームとなる。該露光ビ
ームは、各々独立したアナログＡ／Ｏ変調器（光量変調
用）２と、ディジタルＡ／Ｏ変調器（パルス変調用）３
が設置されており、各々の露光ビームを独立して光変調
を行なうことができる。一方の露光ビームには、露光ビ
ームに偏向角の変調を与えるためのウォブルＡ／Ｏ変調
器４が設置されており、この光軸を第１軸と呼び、他方
を第２軸と呼び、ここまでの光学系を変調光学系と呼
ぶ。レジスト原盤上に集光し、露光が行なわれる。これ
はビーム径を変えることで対物レンズで集光するビーム
径が変わるので、露光溝形状を変えるのに一般的な手法
である。
【００１２】図２に示すように、集光されたビーム径ｄ
は ｄ＝４λｆ／πＤ で表わされ、入射ビーム径Ｄを変えることで、集光ビー
ム径ｄを変えることができる。第１軸については、変調
光学系通過後、λ／２波長板７を回転させることで位相
を変え、ＰＢＳ８ａで透過、反射、分割を選択すること
ができる。分割された光学系（１Ａ軸、１Ｂ軸）は、Ｐ
ＢＳ８ａが等距離（Ｌ1＝Ｌ2）離れた位置にビームエキ
スパンダ１３，１４が設置されている。ビームエキスパ
ンダ１３，１４を通過したレーザ光はＰＢＳ８ｂで再び
合成される。その後、再びλ／２波長板９を回転させ、
ＰＢＳ１０で第２軸と合成されて、λ／４波長板を通
り、対物レンズ１５へ入射する。第２軸については、変
調光学系通過後、ビームエキスパンダ１２でビーム径拡
大後、λ／２波長板６とＰＢＳ１０により第１軸と合成
されて対物レンズ１５へ入射する構成となっている。
は ｄ＝４λｆ／πＤ で表わされ、入射ビーム径Ｄを変えることで、集光ビー
ム径ｄを変えることができる。第１軸については、変調
光学系通過後、λ／２波長板７を回転させることで位相
を変え、ＰＢＳ８ａで透過、反射、分割を選択すること
ができる。分割された光学系（１Ａ軸、１Ｂ軸）は、Ｐ
ＢＳ８ａが等距離（Ｌ1＝Ｌ2）離れた位置にビームエキ
スパンダ１３，１４が設置されている。ビームエキスパ
ンダ１３，１４を通過したレーザ光はＰＢＳ８ｂで再び
合成される。その後、再びλ／２波長板９を回転させ、
ＰＢＳ１０で第２軸と合成されて、λ／４波長板を通
り、対物レンズ１５へ入射する。第２軸については、変
調光学系通過後、ビームエキスパンダ１２でビーム径拡
大後、λ／２波長板６とＰＢＳ１０により第１軸と合成
されて対物レンズ１５へ入射する構成となっている。
【００１３】図３（ａ）〜（ｃ）は、ビームエキスパン
ダの構成図で、図（ａ）は上面図、図（ｂ）は右側面
図、図（ｃ）は平面図である。図中、２１はベース、２
２は鋼球、２３はマグネット、２４は第１のホルダ、２
５は第２のホルダである。ベース２１とホルダ２４を鋼
球２２の３点支持構造でマグネット２３によリチャッキ
ングされるため、取りはずし交換が容易であり、再現性
も良い。また、ホルダ２５は、ホルダ２４とガイド溝で
はみ合い構造で、光軸方向の調整が容易な構造となって
いる。レンズを固定するホルダ２５は３点のねじ支持で
保持されており、Ｘ，Ｙ方向が調整可能となっている。
ダの構成図で、図（ａ）は上面図、図（ｂ）は右側面
図、図（ｃ）は平面図である。図中、２１はベース、２
２は鋼球、２３はマグネット、２４は第１のホルダ、２
５は第２のホルダである。ベース２１とホルダ２４を鋼
球２２の３点支持構造でマグネット２３によリチャッキ
ングされるため、取りはずし交換が容易であり、再現性
も良い。また、ホルダ２５は、ホルダ２４とガイド溝で
はみ合い構造で、光軸方向の調整が容易な構造となって
いる。レンズを固定するホルダ２５は３点のねじ支持で
保持されており、Ｘ，Ｙ方向が調整可能となっている。
【００１４】本発明の露光光学系によれば、３本の露光
光学系を持っているので、露光するフォーマットに応じ
て、第１Ａ軸のみ、第１Ｂ軸のみ、第２軸のみ、第１Ａ
軸＋第２軸、第１Ｂ軸＋第２軸、第１Ａ軸＋第１Ｂ軸、
第１Ａ軸＋第１Ｂ軸＋第２軸と７種類の露光が可能とな
り、さらに、ビームエキスパンダを必要に応じて拡大比
を変えることであらゆる露光溝形状に対応できる。この
ビームエキスパンダは、前述のように、交換が容易で、
元のユニットに戻しても再調整の必要がなく、信頼性の
高いものとなる。
光学系を持っているので、露光するフォーマットに応じ
て、第１Ａ軸のみ、第１Ｂ軸のみ、第２軸のみ、第１Ａ
軸＋第２軸、第１Ｂ軸＋第２軸、第１Ａ軸＋第１Ｂ軸、
第１Ａ軸＋第１Ｂ軸＋第２軸と７種類の露光が可能とな
り、さらに、ビームエキスパンダを必要に応じて拡大比
を変えることであらゆる露光溝形状に対応できる。この
ビームエキスパンダは、前述のように、交換が容易で、
元のユニットに戻しても再調整の必要がなく、信頼性の
高いものとなる。
【００１５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：請求項１の原盤露光装
置においては、１個のＡｒレーザ光源から２本のレーザ
光に分離しているので、チューブ交換等の場合には、コ
ストが安くなり、また、メンテナンスにおいても容易に
行なうことができる。また、ビームエキスパンダにおい
ては、対物レンズによって集光されるビーム径を変える
ことが可能となり、露光する溝形状を変えることができ
る。 （２）請求項２に対応する効果：請求項２のλ／２波長
板を回転させることで露光軸を選択することができる。
また、回転させた場合でもすでに設定している光軸変動
がないので、そのつど光軸調整をする必要がない。 （３）請求項３に対応する効果：請求項３のビームエキ
スパンダは、ＰＢＳから同距離（Ｌ1＝Ｌ2）にあるの
で、ウォブルＡ／Ｏでレーザ光に偏向変調（角度変調）
を行なってもビームエキスパンダ入射位置は同じ位置に
なるため、ビームエキスパンダに出射光の光軸位置も同
じ位置になる。また、ビームエキスパンダに互換性を持
つことも可能になる。 （４）請求項４に対応する効果：請求項４のビームエキ
スパンダは、交換が可能なので、露光するフォーマット
の溝形状に応じて露光ビーム径を変えることができる。 （５）請求項５に対応する効果：請求項５のビームエキ
スパンダユニットは、ベースと本体とを３点支持構造と
なっているため位置決め再現性が良く、マグネットチャ
ックなので容易に交換することができる。 （６）請求項６に対応する効果：マグネットチャックの
穴径が鋼球の直径より小さいことでホルダの位置決めを
精度良く行なうことができる。
によると、以下のような効果がある。 （１）請求項１に対応する効果：請求項１の原盤露光装
置においては、１個のＡｒレーザ光源から２本のレーザ
光に分離しているので、チューブ交換等の場合には、コ
ストが安くなり、また、メンテナンスにおいても容易に
行なうことができる。また、ビームエキスパンダにおい
ては、対物レンズによって集光されるビーム径を変える
ことが可能となり、露光する溝形状を変えることができ
る。 （２）請求項２に対応する効果：請求項２のλ／２波長
板を回転させることで露光軸を選択することができる。
また、回転させた場合でもすでに設定している光軸変動
がないので、そのつど光軸調整をする必要がない。 （３）請求項３に対応する効果：請求項３のビームエキ
スパンダは、ＰＢＳから同距離（Ｌ1＝Ｌ2）にあるの
で、ウォブルＡ／Ｏでレーザ光に偏向変調（角度変調）
を行なってもビームエキスパンダ入射位置は同じ位置に
なるため、ビームエキスパンダに出射光の光軸位置も同
じ位置になる。また、ビームエキスパンダに互換性を持
つことも可能になる。 （４）請求項４に対応する効果：請求項４のビームエキ
スパンダは、交換が可能なので、露光するフォーマット
の溝形状に応じて露光ビーム径を変えることができる。 （５）請求項５に対応する効果：請求項５のビームエキ
スパンダユニットは、ベースと本体とを３点支持構造と
なっているため位置決め再現性が良く、マグネットチャ
ックなので容易に交換することができる。 （６）請求項６に対応する効果：マグネットチャックの
穴径が鋼球の直径より小さいことでホルダの位置決めを
精度良く行なうことができる。
【図１】 本発明による光ディスク原盤露光装置の一実
施例を説明するための構成図である。
施例を説明するための構成図である。
【図２】 本発明におけるレンズによる集光ビーム形を
示す図である。
示す図である。
【図３】 本発明におけるビームエキスパンダの構成図
である。
である。
【図４】 従来のＭＯフォーマット（ＣＣＳ）溝形状を
示す図である。
示す図である。
【図５】 従来の露光光学系を示す図である。
１…Ａｒレーザ（アルゴンイオンレーザ）、２ａ，２ｂ
…アナログ音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、３ａ，３ｂ…デ
ィジタル音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、４…ウォブル音響
光学（Ａ／Ｏ）変調器、５ａ〜５ｄ…レンズ、６，７…
λ／２波長板、８ａ，８ｂ…偏向ビームスプリッタ（Ｐ
ＢＳ）、９…λ／２波長板、１０…偏向ビームスプリッ
タ（ＰＢＳ）、１１…λ／４波長板、１２〜１４…ビー
ムエキスパンダ、１５…対物レンズ、１６…レジスト
板。
…アナログ音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、３ａ，３ｂ…デ
ィジタル音響光学（Ａ／Ｏ）変調器、４…ウォブル音響
光学（Ａ／Ｏ）変調器、５ａ〜５ｄ…レンズ、６，７…
λ／２波長板、８ａ，８ｂ…偏向ビームスプリッタ（Ｐ
ＢＳ）、９…λ／２波長板、１０…偏向ビームスプリッ
タ（ＰＢＳ）、１１…λ／４波長板、１２〜１４…ビー
ムエキスパンダ、１５…対物レンズ、１６…レジスト
板。
Claims (6)
- 【請求項１】 レーザ光を出射するレーザ光源と、該レ
ーザ光源より出射したレーザ光を複数の露光軸に分けて
露光ビームとし、各々の露光軸に設けられた光量変調用
のアナログ音響光学変調器及びパルス変調用のディジタ
ル音響光学変調器と、前記露光軸の一方に設けられた第
１のビームエキスパンダと、前記露光軸の他方に設けら
れ、露光ビームに偏向角の変調を与えるための音響光学
変調器と、該音響光学変調器を通過したレーザ光のビー
ム径を変える複数の第２のビームエキスパンダとから成
り、前記各変調器を介したレーザ光を対物レンズにより
レジスト板上に集光して露光することを特徴とする光デ
ィスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 前記第２のビームエキスパンダの切り換
えを、複数のλ／２波長板を回転させることで行なうこ
とを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤露光装
置。 - 【請求項３】 前記第２のビームエキスパンダは、偏光
ビームスプリッタからの距離が同一であり、又、ビーム
エキスパンダ後の偏光ビームスプリッタからの距離も同
一であることを特徴とする請求項２記載の光ディスク原
盤露光装置。 - 【請求項４】 前記ビームエキスパンダはユニット構造
となっており、交換可能な構造となっていることを特徴
とする請求項１,２又は３記載の光ディスク原盤露光装
置。 - 【請求項５】 前記ビームエキスパンダのユニット構造
は、ベースに３点支持するように埋め込まれた３個の鋼
球をホルダに埋め込まれたマグネットによって吸着され
ていることを特徴とする請求項４記載の光ディスク原盤
露光装置。 - 【請求項６】 前記マグネットに設けられているマグネ
ットチャック用の穴径は、鋼球の直径よりも小さいこと
を特徴とする請求項５記載の光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31464493A JPH07169114A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31464493A JPH07169114A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169114A true JPH07169114A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18055815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31464493A Pending JPH07169114A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07169114A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6118748A (en) * | 1997-10-06 | 2000-09-12 | Fujitsu Limited | Optical information storage unit having phase compensation means for applying different phase compensation quantities with respect to signals detected from land and groove of recording medium |
| JP2002222548A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤、光記録媒体製造用原盤の製造装置、光記録媒体製造用原盤の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP31464493A patent/JPH07169114A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6118748A (en) * | 1997-10-06 | 2000-09-12 | Fujitsu Limited | Optical information storage unit having phase compensation means for applying different phase compensation quantities with respect to signals detected from land and groove of recording medium |
| JP2002222548A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤、光記録媒体製造用原盤の製造装置、光記録媒体製造用原盤の製造方法 |
| US7813257B2 (en) | 2001-01-26 | 2010-10-12 | Sony Corporation | Optical recording medium and master disc for manufacturing optical recording medium |
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