JP3083168B2 - プリグルーブライタのビーム位置制御装置 - Google Patents
プリグルーブライタのビーム位置制御装置Info
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- JP3083168B2 JP3083168B2 JP03046507A JP4650791A JP3083168B2 JP 3083168 B2 JP3083168 B2 JP 3083168B2 JP 03046507 A JP03046507 A JP 03046507A JP 4650791 A JP4650791 A JP 4650791A JP 3083168 B2 JP3083168 B2 JP 3083168B2
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- laser
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はプリグルーブライタに
関し、特にプリグルーブライタに使用される２つのビー
ムの位置の制御方法及び装置に関するものである。
関し、特にプリグルーブライタに使用される２つのビー
ムの位置の制御方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクには信号を記録するトラック
と、該信号を読み取るためのビームを正しくトラック上
に位置させる、いわゆるトラッキング制御に用いるグル
ーブとを備えている。上記トラックには製造時にトラッ
ク番号やセクタ番号を書き込むフォーマット処理がなさ
れており、記録再生時にはこのフォーマットを確認する
ことによって、その位置を特定できるようになってい
る。
と、該信号を読み取るためのビームを正しくトラック上
に位置させる、いわゆるトラッキング制御に用いるグル
ーブとを備えている。上記トラックには製造時にトラッ
ク番号やセクタ番号を書き込むフォーマット処理がなさ
れており、記録再生時にはこのフォーマットを確認する
ことによって、その位置を特定できるようになってい
る。
【０００３】このような光ディスクはプリグルーブライ
タによってその原盤が作成される。図５はプリグルーブ
ライタの全体構成を示すものである。レーザ光源１０と
して高出力のアルゴンレーザ発振器が使用され、該レー
ザ光源１０より発射されたレーザビームは偏光ビームス
プリッタ５２でＳ波とＰ波に分離され、第１のレーザビ
ームＢ1 と第２のレーザビームＢ2 が形成される。すな
わち、Ｓ波は偏光ビームスプリッタ５２で反射されて第
１のレーザビームＢ1 となり、また、Ｐ波は偏光ビーム
スプリッタ５２を透過して第２のレーザビームＢ2 とな
り、ミラー５３で上記第１のレーザビームＢ1 と平行に
進行される。この２つのレーザビームＢ 1 、Ｂ2 は集光
レンズ５４、５５で集光され、音響光学素子（ＡＯＭ）
５６、５７で変調がかけられ、再び集光レンズ５８、５
９で平行光に戻される。
タによってその原盤が作成される。図５はプリグルーブ
ライタの全体構成を示すものである。レーザ光源１０と
して高出力のアルゴンレーザ発振器が使用され、該レー
ザ光源１０より発射されたレーザビームは偏光ビームス
プリッタ５２でＳ波とＰ波に分離され、第１のレーザビ
ームＢ1 と第２のレーザビームＢ2 が形成される。すな
わち、Ｓ波は偏光ビームスプリッタ５２で反射されて第
１のレーザビームＢ1 となり、また、Ｐ波は偏光ビーム
スプリッタ５２を透過して第２のレーザビームＢ2 とな
り、ミラー５３で上記第１のレーザビームＢ1 と平行に
進行される。この２つのレーザビームＢ 1 、Ｂ2 は集光
レンズ５４、５５で集光され、音響光学素子（ＡＯＭ）
５６、５７で変調がかけられ、再び集光レンズ５８、５
９で平行光に戻される。
【０００４】第１のレーザビームＢ1 （Ｓ波）は偏光ビ
ームスプリッタ６０に入射され、該偏光ビームスプリッ
タ６０で反射されてキャリアに搭載された対物レンズ１
２に入射され、第２のレーザビームＢ2 （Ｐ波）は折返
しミラー６１を介して偏光ビームスプリッタ６０に入射
され、該偏光ビームスプリッタ６０を透過して、対物レ
ンズ１２に入射される。
ームスプリッタ６０に入射され、該偏光ビームスプリッ
タ６０で反射されてキャリアに搭載された対物レンズ１
２に入射され、第２のレーザビームＢ2 （Ｐ波）は折返
しミラー６１を介して偏光ビームスプリッタ６０に入射
され、該偏光ビームスプリッタ６０を透過して、対物レ
ンズ１２に入射される。
【０００５】このようにして対物レンズ１２に入射され
た第１のレーザビームＢ1 は、上記光ディスクのフォー
マットに対応するプリフォーマットを形成するために用
いられ、また、第２のレーザビームＢ2 は光ディスクの
グルーブに対応するプリグルーブを形成するために用い
られる。すなわち、上記２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2
は図６に示すように、光ディスクのトラックとグルーブ
に対応した距離ｄ0 （通常は０．８μｍ）を保って、基
盤（例えばガラス基盤）１上にスポットＰ1 、Ｐ2 が形
成される。この基盤１には図７に示すように、フォトレ
ジスト層２がコーティングされており、上記スポットＰ
1 の位置（トラック対応位置）にプリフォーマットＰｆ
が、また、スポットＰ2 の位置にプリグルーブＰｇが形
成される。この後、フォトレジストの非露光部分をエッ
チングによって除去し、その上にニッケル等の導電膜を
スパッタ蒸着し、更に、その上にめっきによって金属膜
を形成した後、該めっき膜から上記基盤１を剥離するこ
とによって光ディスクの原盤が形成される。
た第１のレーザビームＢ1 は、上記光ディスクのフォー
マットに対応するプリフォーマットを形成するために用
いられ、また、第２のレーザビームＢ2 は光ディスクの
グルーブに対応するプリグルーブを形成するために用い
られる。すなわち、上記２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2
は図６に示すように、光ディスクのトラックとグルーブ
に対応した距離ｄ0 （通常は０．８μｍ）を保って、基
盤（例えばガラス基盤）１上にスポットＰ1 、Ｐ2 が形
成される。この基盤１には図７に示すように、フォトレ
ジスト層２がコーティングされており、上記スポットＰ
1 の位置（トラック対応位置）にプリフォーマットＰｆ
が、また、スポットＰ2 の位置にプリグルーブＰｇが形
成される。この後、フォトレジストの非露光部分をエッ
チングによって除去し、その上にニッケル等の導電膜を
スパッタ蒸着し、更に、その上にめっきによって金属膜
を形成した後、該めっき膜から上記基盤１を剥離するこ
とによって光ディスクの原盤が形成される。
【０００６】上記光ディスクのトラックピッチは１．６
μｍであり、従って、基盤１上での２つのレーザビーム
Ｂ1 、Ｂ2 のスポットＰ1 、Ｐ2 の距離ｄ0 は０．８μ
ｍを保つことが要求される。また、プリフォーマット用
の第１のレーザビームＢ1 の径方向の位置精度は読み取
りエラーを極力抑えるために±０．０５μｍ以下が要求
される。このスポット位置の制御は、対物レンズ１２へ
の入射角を変えることによって行われる。この対物レン
ズ１２への入射角の制御は通常上記ビームスプリッタ５
２、６０（又は折り返しミラー５３、６１）の設置角度
を変更したり、あるいは集光レンズ（５４、５５、５
８、５９）の平面位置（図５の矢印方向参照）をマイク
ロメータヘッドと称せられる治具を用いて手作業で制御
することがなされている。
μｍであり、従って、基盤１上での２つのレーザビーム
Ｂ1 、Ｂ2 のスポットＰ1 、Ｐ2 の距離ｄ0 は０．８μ
ｍを保つことが要求される。また、プリフォーマット用
の第１のレーザビームＢ1 の径方向の位置精度は読み取
りエラーを極力抑えるために±０．０５μｍ以下が要求
される。このスポット位置の制御は、対物レンズ１２へ
の入射角を変えることによって行われる。この対物レン
ズ１２への入射角の制御は通常上記ビームスプリッタ５
２、６０（又は折り返しミラー５３、６１）の設置角度
を変更したり、あるいは集光レンズ（５４、５５、５
８、５９）の平面位置（図５の矢印方向参照）をマイク
ロメータヘッドと称せられる治具を用いて手作業で制御
することがなされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように光ディス
クのトラックピッチは、通常１．６μｍと非常に小さ
く、かつ、プリフォーマット用の第１のレーザビームＢ
1 の径方向の位置精度は±０．０５μｍ以下を要求され
ている。ここで、対物レンズ１２の焦点距離ｆを２. ５
mm、該対物レンズ１２へのレーザビームＢ1 （Ｂ2 ）の
入射角の変動量をΔθとするとき、上記要件を満足する
ためには、 Δθ＝０．０５μｍ／ｆ＝０．０２ｍｒａｄ 程度の精度で制御しなければならない。
クのトラックピッチは、通常１．６μｍと非常に小さ
く、かつ、プリフォーマット用の第１のレーザビームＢ
1 の径方向の位置精度は±０．０５μｍ以下を要求され
ている。ここで、対物レンズ１２の焦点距離ｆを２. ５
mm、該対物レンズ１２へのレーザビームＢ1 （Ｂ2 ）の
入射角の変動量をΔθとするとき、上記要件を満足する
ためには、 Δθ＝０．０５μｍ／ｆ＝０．０２ｍｒａｄ 程度の精度で制御しなければならない。
【０００８】しかしながら、ビームスプリッタ５２等の
設置角や集光レンズ５４等の位置は温度、振動等によっ
て経時的に一定ではなく、上記精度を満たしているか否
かは基盤１上のフォトレジスト層２を現像してみるま
で、はっきり判らない難点がある。この発明は上記従来
の事情に鑑みて提案されたものであって、レーザビーム
のスポット位置の制御が容易なプリグルーブライタのビ
ーム位置制御方法及び装置を提供することを目的とす
る。
設置角や集光レンズ５４等の位置は温度、振動等によっ
て経時的に一定ではなく、上記精度を満たしているか否
かは基盤１上のフォトレジスト層２を現像してみるま
で、はっきり判らない難点がある。この発明は上記従来
の事情に鑑みて提案されたものであって、レーザビーム
のスポット位置の制御が容易なプリグルーブライタのビ
ーム位置制御方法及び装置を提供することを目的とす
る。
【０００９】この発明は上記目的を達成するために以下
の手段を採用している。すなわち、図１に示すようにプ
リフォーマット記録用の第１のレーザビームＢ1 とプリ
グルーブ記録用の第２のレーザビームＢ2 と、該第１の
レーザビームＢ1 と第２のレーザビームＢ2 の基盤１か
らの反射光をレーザ光源と基盤１間のメイン光路外に導
く光学系２０とを備え、基盤１上にコーティングしたフ
ォトレジスト２にプリフォーマットＰｆとプリグルーブ
Ｐｇを記録するプリグルーブライタにおいて、図２に示
すように上記光学系２０からの２つの反射光Ｂ10、Ｂ20
を光電変換するＣＣＤ３１と、該ＣＣＤ３１よりの画像
信号から２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2の基盤１上のス
ポットＰ1 、Ｐ2 間の実距離を検出するピーク位置検出
手段と、上記２つの反射光Ｂ10、Ｂ20を上記ＣＣＤ３１
に適合した光量にするための、図４に示すようなＮＤフ
ィルタ２３ａと上記２つの反射光Ｂ10、Ｂ20の強度を平
均化する偏光板２３ｂとからなる光量調整手段２３と、
上記検出されたスポット間の実距離が予め定めた基準の
距離となるよう上記第１及び／又は第２のレーザビーム
のスポット位置を制御する制御手段とを備えるものであ
る。
の手段を採用している。すなわち、図１に示すようにプ
リフォーマット記録用の第１のレーザビームＢ1 とプリ
グルーブ記録用の第２のレーザビームＢ2 と、該第１の
レーザビームＢ1 と第２のレーザビームＢ2 の基盤１か
らの反射光をレーザ光源と基盤１間のメイン光路外に導
く光学系２０とを備え、基盤１上にコーティングしたフ
ォトレジスト２にプリフォーマットＰｆとプリグルーブ
Ｐｇを記録するプリグルーブライタにおいて、図２に示
すように上記光学系２０からの２つの反射光Ｂ10、Ｂ20
を光電変換するＣＣＤ３１と、該ＣＣＤ３１よりの画像
信号から２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2の基盤１上のス
ポットＰ1 、Ｐ2 間の実距離を検出するピーク位置検出
手段と、上記２つの反射光Ｂ10、Ｂ20を上記ＣＣＤ３１
に適合した光量にするための、図４に示すようなＮＤフ
ィルタ２３ａと上記２つの反射光Ｂ10、Ｂ20の強度を平
均化する偏光板２３ｂとからなる光量調整手段２３と、
上記検出されたスポット間の実距離が予め定めた基準の
距離となるよう上記第１及び／又は第２のレーザビーム
のスポット位置を制御する制御手段とを備えるものであ
る。
【００１０】２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2 は光量調整
手段２３によって上記２つの反射光Ｂ 10 、Ｂ 20 が上記Ｃ
ＣＤ３１に適合するように光量調整され、これにより、
上記ＣＣＤ３１を用いて２つのレーザビームＢ 1 、Ｂ 2
のスポットＰ 1 、Ｐ 2 を画像信号として得ることができ
るようになる。そして、２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2
のスポットＰ1 、Ｐ2 を画像信号として得ることによっ
て、上記画像上のスポット間の距離Ｄを検出でき、この
値から基盤１上の現在のスポットＰ1 、Ｐ2 の現在の実
距離ｄを検出できる。従って、この検出された実距離ｄ
と基準となる距離ｄ0 との差を検出することによってス
ポットＰ1 （Ｐ2 ）の制御移動量が算出できる。したが
って、この値に基づいて集光レンズ（例えば５４）の平
面位置を制御すると、スポット位置の制御が容易とな
る。
手段２３によって上記２つの反射光Ｂ 10 、Ｂ 20 が上記Ｃ
ＣＤ３１に適合するように光量調整され、これにより、
上記ＣＣＤ３１を用いて２つのレーザビームＢ 1 、Ｂ 2
のスポットＰ 1 、Ｐ 2 を画像信号として得ることができ
るようになる。そして、２つのレーザビームＢ1 、Ｂ2
のスポットＰ1 、Ｐ2 を画像信号として得ることによっ
て、上記画像上のスポット間の距離Ｄを検出でき、この
値から基盤１上の現在のスポットＰ1 、Ｐ2 の現在の実
距離ｄを検出できる。従って、この検出された実距離ｄ
と基準となる距離ｄ0 との差を検出することによってス
ポットＰ1 （Ｐ2 ）の制御移動量が算出できる。したが
って、この値に基づいて集光レンズ（例えば５４）の平
面位置を制御すると、スポット位置の制御が容易とな
る。
【００１１】
【実施例】図１の原理図に従って更に説明する。レーザ
光源１０（図５参照）よりの第１のレーザビームＢ1 と
第２のレーザビームＢ2 は、ハーフミラー２１を介して
対物レンズ１２に入力され、前記したように基盤１上に
は所定の規準距離ｄ0 をおいてスポットＰ1 、Ｐ2 が形
成され、更に、この基盤１より第１のレーザビームＢ1
に対応して反射ビームＢ10が、また、第２のレーザビー
ムＢ2 に対応して反射ビームＢ20が形成される。この基
盤１より反射ビームＢ10、Ｂ20は、上記レーザ光源１０
と基盤１を結ぶメイン光路を逆進して、前記ハーフミラ
ー２１で反射され、該メイン光路より分離される。この
ようにメイン光路より分離された反射ビームＢ10、Ｂ20
は、拡大手段２２を介してスクリーン２４に投影され
る。これによってスクリーン２４上には、上記拡大手段
２２の倍率をＭとするとき、上記基盤１上の２つのレー
ザビームＢ1 、Ｂ2 のスポットＰ1 、Ｐ2 の実距離ｄに
対して、 Ｄ＝ｄ×Ｍ … (1) なる距離Ｄで上記スポットが表れることになる。従っ
て、距離Ｄを何等かの方法で測定することによって、ス
ポットＰ1 、Ｐ2 の実距離ｄを検出することができる。
光源１０（図５参照）よりの第１のレーザビームＢ1 と
第２のレーザビームＢ2 は、ハーフミラー２１を介して
対物レンズ１２に入力され、前記したように基盤１上に
は所定の規準距離ｄ0 をおいてスポットＰ1 、Ｐ2 が形
成され、更に、この基盤１より第１のレーザビームＢ1
に対応して反射ビームＢ10が、また、第２のレーザビー
ムＢ2 に対応して反射ビームＢ20が形成される。この基
盤１より反射ビームＢ10、Ｂ20は、上記レーザ光源１０
と基盤１を結ぶメイン光路を逆進して、前記ハーフミラ
ー２１で反射され、該メイン光路より分離される。この
ようにメイン光路より分離された反射ビームＢ10、Ｂ20
は、拡大手段２２を介してスクリーン２４に投影され
る。これによってスクリーン２４上には、上記拡大手段
２２の倍率をＭとするとき、上記基盤１上の２つのレー
ザビームＢ1 、Ｂ2 のスポットＰ1 、Ｐ2 の実距離ｄに
対して、 Ｄ＝ｄ×Ｍ … (1) なる距離Ｄで上記スポットが表れることになる。従っ
て、距離Ｄを何等かの方法で測定することによって、ス
ポットＰ1 、Ｐ2 の実距離ｄを検出することができる。
【００１２】このスポットの実距離ｄと規準となるスポ
ット距離ｄ0 との差をとることによって、基盤１上のス
ポットをどのぐらい移動させればよいかの判断ができる
ことになる。図２は本発明の一実施例を示す概念図であ
る。上記図１で説明したように、ハーフミラー２１でメ
イン光路から分離された反射ビームＢ10、Ｂ20は、拡大
手段２２に入力されるとともに、該拡大手段２２の出力
は次段のＣＣＤ３１に対応する光量となるように光量調
整手段２３で光量調整され、図１に示すスクリーン２４
に代えて配置されたＣＣＤ３１に入力される。このＣＣ
Ｄ３１よりのアナログ出力をモニタ３９で表示すると、
スポットＰ1 、Ｐ2 に対応して強度の高い波形が表れ
る。このＣＣＤ３１から出力される画像データは図３に
示すように画像処理系３０のＡ／Ｄ変換器３２にも入力
されて、ここでＡ／Ｄ変換されてラインメモリ３３に記
憶される。このラインメモリ３３に記憶された画像デー
タに基づいて、ピーク位置検出手段３４で２つのスポッ
トＰ1 、Ｐ2 の画像上の距離Ｄを検出し、次いで(1)式
に基づいて基盤１上のスポットＰ1 、Ｐ2 間の実距離ｄ
を算出する。このようにして算出された実距離ｄに基づ
いて、次段の制御系４０を構成する制御装置４１では規
準の距離ｄ0 と上記のようにして得られる実距離ｄとを
比較し、その差値に基づいて集光レンズ５４を平面内で
移動させるアクチュエータ（例えば、マイクロメータを
作動させるモータやソレノイド）４２を作動させるよう
にし、これによって、自動的にスポットＰ1 、Ｐ2 の距
離を制御できることになる。
ット距離ｄ0 との差をとることによって、基盤１上のス
ポットをどのぐらい移動させればよいかの判断ができる
ことになる。図２は本発明の一実施例を示す概念図であ
る。上記図１で説明したように、ハーフミラー２１でメ
イン光路から分離された反射ビームＢ10、Ｂ20は、拡大
手段２２に入力されるとともに、該拡大手段２２の出力
は次段のＣＣＤ３１に対応する光量となるように光量調
整手段２３で光量調整され、図１に示すスクリーン２４
に代えて配置されたＣＣＤ３１に入力される。このＣＣ
Ｄ３１よりのアナログ出力をモニタ３９で表示すると、
スポットＰ1 、Ｐ2 に対応して強度の高い波形が表れ
る。このＣＣＤ３１から出力される画像データは図３に
示すように画像処理系３０のＡ／Ｄ変換器３２にも入力
されて、ここでＡ／Ｄ変換されてラインメモリ３３に記
憶される。このラインメモリ３３に記憶された画像デー
タに基づいて、ピーク位置検出手段３４で２つのスポッ
トＰ1 、Ｐ2 の画像上の距離Ｄを検出し、次いで(1)式
に基づいて基盤１上のスポットＰ1 、Ｐ2 間の実距離ｄ
を算出する。このようにして算出された実距離ｄに基づ
いて、次段の制御系４０を構成する制御装置４１では規
準の距離ｄ0 と上記のようにして得られる実距離ｄとを
比較し、その差値に基づいて集光レンズ５４を平面内で
移動させるアクチュエータ（例えば、マイクロメータを
作動させるモータやソレノイド）４２を作動させるよう
にし、これによって、自動的にスポットＰ1 、Ｐ2 の距
離を制御できることになる。
【００１３】図４は上記光量調整手段２３を詳しく示し
たものである。一般に、プリグルーブライタに用いられ
るレーザ光源はアルゴンレーザ光源であるため、１００
ｍｗ程度の大容量となる。従って、基盤１からの反射率
を数％とみてもＣＣＤ３１に入射する強度が強すぎる。
そこで、上記ハーフミラー２１で分離された反射光に対
し、まず、軸Ｌａを中心とする周方向で透過率が変化す
るＮＤフィルタ２３ａで全体の強度が弱められる。更
に、上記装置においてプリグルーブ形成用の第２のレー
ザビームＢ2 は、プリフォーマット用の第１のレーザビ
ームＢ1 より強いビームが用いられるので、ＣＣＤ３１
に入射する前に両レーザビームＢ1 、Ｂ2 の強度を平均
化する必要がある。そこで、上記ＮＤフィルタ２３ａを
通過した反射ビームＢ10、Ｂ20はＳ波とＰ波の透過率が
軸Ｌｂを中心とする円周方向に沿って変化する偏光板２
３ｂを透過され、該偏光板２３ｂで反射ビームＢ10（Ｓ
波）と反射ビームＢ20（Ｐ波）の透過光の平衡を図るよ
うにしている。
たものである。一般に、プリグルーブライタに用いられ
るレーザ光源はアルゴンレーザ光源であるため、１００
ｍｗ程度の大容量となる。従って、基盤１からの反射率
を数％とみてもＣＣＤ３１に入射する強度が強すぎる。
そこで、上記ハーフミラー２１で分離された反射光に対
し、まず、軸Ｌａを中心とする周方向で透過率が変化す
るＮＤフィルタ２３ａで全体の強度が弱められる。更
に、上記装置においてプリグルーブ形成用の第２のレー
ザビームＢ2 は、プリフォーマット用の第１のレーザビ
ームＢ1 より強いビームが用いられるので、ＣＣＤ３１
に入射する前に両レーザビームＢ1 、Ｂ2 の強度を平均
化する必要がある。そこで、上記ＮＤフィルタ２３ａを
通過した反射ビームＢ10、Ｂ20はＳ波とＰ波の透過率が
軸Ｌｂを中心とする円周方向に沿って変化する偏光板２
３ｂを透過され、該偏光板２３ｂで反射ビームＢ10（Ｓ
波）と反射ビームＢ20（Ｐ波）の透過光の平衡を図るよ
うにしている。
【００１４】尚、集光レンズ５４の平面位置を制御する
場合についてのみ説明したが、他の集光レンズ５５、５
８、５９の位置を制御してもよいし、ビームスプリッタ
５２、６０、あるいは折り返しミラー５３、６１の角度
を制御してもよいことはもちろんである。
場合についてのみ説明したが、他の集光レンズ５５、５
８、５９の位置を制御してもよいし、ビームスプリッタ
５２、６０、あるいは折り返しミラー５３、６１の角度
を制御してもよいことはもちろんである。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明は、プリグ
ルーブライタが基盤上に形成する２つのスポットの距離
ｄをリアルタイムで規準距離ｄ0 に合わせることがで
き、試し露光を作成する必要がなく、時間的、経済的な
効果が大きい利点がある。
ルーブライタが基盤上に形成する２つのスポットの距離
ｄをリアルタイムで規準距離ｄ0 に合わせることがで
き、試し露光を作成する必要がなく、時間的、経済的な
効果が大きい利点がある。
【図１】本発明の原理図である。
【図２】本発明の一実施例の概念図である。
【図３】本発明の電気系の一実施例の概念図である。
【図４】本発明の光学系の一実施例の概念図である。
【図５】従来のプリグルーブライタの概念図である。
【図６】プリグルーブライタの形成するスポットの概念
図である。
図である。
【図７】プリフォーマットとプリグルーブの概念図であ
る。
る。
１ 基盤 ２ フォトレジスト １０ レーザ光源 ２０ 光学系 ２１ ハーフミラー ２２ 拡大手段 ２３ 光量調整手段 ３０ 画像処理系 ３１ ＣＣＤ ３４ ピーク位置換検出手段 ４０ 制御系 Ｂ1 ・Ｂ2 レーザビーム Ｐｆ プリフォーマット Ｐｇ プリグルーブ Ｐ1 ・Ｐ2 スポット ｄ 実距離
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−16424（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−273503（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−58139（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−7328（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−229545（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 プリフォーマット記録用の第１のレーザ
ビームとプリグルーブ記録用の第２のレーザビームと、
該第１のレーザビームと第２のレーザビームの基盤から
の反射光をレーザ光源と基盤間のメイン光路外に導く光
学系とを備え、基盤上にコーティングしたフォトレジス
トにプリフォーマットとプリグルーブを記録するプリグ
ルーブライタにおいて、 上記光学系からの２つの反射光を光電変換するＣＣＤ
と、該ＣＣＤよりの画像信号から２つのレーザビームの
基盤上のスポット間の実距離を検出するピーク位置検出
手段と、上記２つの反射光を上記ＣＣＤに適合した光量
にするためのＮＤフィルタと上記２つの反射光の強度を
平均化する偏光板とからなる光量調整手段と、上記検出
されたスポット間の実距離が予め定めた基準の距離とな
るよう上記第１及び／又は第２のレーザビームのスポッ
ト位置を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする
プリグルーブライタのビーム位置制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03046507A JP3083168B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プリグルーブライタのビーム位置制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03046507A JP3083168B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プリグルーブライタのビーム位置制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283424A JPH04283424A (ja) | 1992-10-08 |
| JP3083168B2 true JP3083168B2 (ja) | 2000-09-04 |
Family
ID=12749170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03046507A Expired - Lifetime JP3083168B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | プリグルーブライタのビーム位置制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3083168B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021403B2 (ja) * | 1979-10-18 | 1985-05-27 | 日本ビクター株式会社 | 光学的記録装置における集光状態の監視装置 |
| JP2585527B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1997-02-26 | 株式会社日立製作所 | 光記録装置 |
| JPS647328A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Sony Corp | Positioning and adjusting device for photodetector |
-
1991
- 1991-03-12 JP JP03046507A patent/JP3083168B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04283424A (ja) | 1992-10-08 |
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