JPH11179579A - 光軸補正方法、装置及びそれを利用した露光加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ビームの光軸の揺らぎを補正して常に安定
な光ビームを得る。 【解決手段】 光源レーザー装置１で発生されたレーザ
ー光ビームが可動ミラー３（ミラー１）に入射され、こ
の反射ビームが固定ミラー４（ミラー２）を介して可動
ミラー６（ミラー３）に入射される。この反射ビームが
ハーフミラー７、８を介して変調器９に入射され、信号
源１０からの記録信号に従って変調された光ビーム（記
録光）がミラー１１で反射されて対物レンズ１２に入射
される。そしてこの対物レンズ１２で集光されたレーザ
ー光ビームが、例えばガラス基板１３上に塗布された感
光部材１４に照射される。さらにハーフミラー７、８で
分離された光ビームの一部がそれぞれ位置検出手段１
６、１７（ＰＳＤ１、２）に照射され、これらの検出信
号がミラードライバ１８に供給されてレーザー光ビーム
の光軸の揺らぎ解消するように可動ミラー３、６の駆動
が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばデジタルビ
デオディスク（ＤＶＤ）等の光ディスクの原盤を作成す
る際などに使用して好適な光軸補正方法、装置及びそれ
を利用した露光加工装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば光ディスクの原盤を作成する場合
においては、比較的容易に高精度、高密度の記録や加工
を行うことのできる露光加工装置が用いられている。す
なわち露光加工装置で光ディスクの原盤を作成する場合
には、例えば高出力のレーザー光ビームを記録信号で変
調し、この変調された光ビームを例えばガラス原盤上に
設けられた感光部材等に照射して記録信号に応じた加工
を行うものである。

【０００３】このような露光加工装置において、例えば
高出力のレーザー光ビームを得るための光源レーザー装
置としては、一般的にガスレーザーが多く用いられてい
る。このガスレーザーは、例えば図７のＡに示すように
対向して設けられる２枚の共振器ミラーを用いて、この
間でレーザーを発振させて共振器ミラーの一方を通過す
る方向にレーザー光ビームの発生を行うものである。

【０００４】ところがこのような共振器ミラーを用いて
レーザー光ビームの発生を行う光源レーザー装置におい
ては、熱膨張等の経時変化によって図７のＢに示すよう
に発生されるレーザー光ビームの光軸に揺らぎが発生す
る恐れがある。すなわち熱膨張等によって共振器ミラー
の角度が微妙にずれることによって、レーザー光ビーム
の光軸に揺らぎが発生する恐れがある。

【０００５】これは特に光源レーザー装置を点灯してか
らの数時間は、このようなレーザー光ビームの光軸の揺
らぎが激しく生じているものである。そしてレーザー光
ビームにこのような光軸の揺らぎが発生すると、例えば
対物レンズから出射される光量に変動が生じたり、対物
レンズの集光点に時間変動が生じることになって、露光
が不安定になってしまうものである。

【０００６】そこで従来から、光軸の安定なレーザー光
ビームを得るために、例えば光源レーザー装置を終夜運
転させたり、光源レーザー装置の点灯後の数時間を経て
から露光を行うなどの対処の方法が取られているが、い
ずれの方法も長時間に亙って無為のエネルギーや時間を
消費することになり、経済的には極めて不都合と言わざ
るを得ないものであった。

【０００７】なおこのようなレーザー光ビームの光軸の
揺らぎは、例えば従来のコンパクトディスク（ＣＤ）の
原盤の作成等では、加工時の実効ＮＡが低いことと、ト
ラックピッチやピッチむらに対する規格が緩いことから
問題にならなかった。しかし例えばデジタルビデオディ
スク（ＤＶＤ）の原盤の作成のように高精度の加工が要
求される場合には問題になってくるものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】この出願はこのような
点に鑑みて成されたものであって、解決しようとする問
題点は、従来の手段ではレーザー光ビームの光軸に揺ら
ぎが発生すると、例えば対物レンズから出射される光量
に変動が生じたり、集光点に時間変動が生じて露光が不
安定になり、例えばデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）
の原盤の作成のような高精度の加工が要求される場合に
問題を生じるというものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このため本発明の請求項
１においては、互いに直交する空間３軸の内の第１軸の
方向に入射された光ビームを、第１軸から第２軸及び第
２軸から第３軸の方向へ反射し、その際のそれぞれの反
射の角度及び位置を調整するようにした光軸補正方法で
あって、これによれば、光ビームの光軸の揺らぎを補正
して常に光軸の安定な光ビームを得ることができる。

【００１０】また、本発明の請求項２は、出射された光
ビームの位置をビームスプリット手段で分離しその一方
の光ビームを用いて光ビームの位置の検出を行う光軸補
正方法である。

【００１１】さらに本発明の請求項３においては、互い
に直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光
ビームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の方
向へ反射する第１及び第２の可動ミラーを設け、それぞ
れの反射の角度及び位置を調整するようにした光軸補正
装置であって、これによれば、光ビームの光軸の揺らぎ
を補正して常に光軸の安定な光ビームを得ることができ
る。

【００１２】また、本発明の請求項４は、出射された光
ビームの位置をビームスプリット手段で分離しその一方
の光ビームを用いて光ビームの位置の検出を行う光軸補
正装置である。

【００１３】さらに本発明の請求項５においては、互い
に直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光
ビームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の方
向へ反射し、その際のそれぞれの反射の角度及び位置を
調整し、出射された光ビームを用いて露光加工を行うよ
うにした露光加工装置であって、これによれば、光ビー
ムの光軸の揺らぎを補正して常に良好な露光加工を行う
ことができる。

【００１４】また、本発明の請求項６は、出射された光
ビームの位置をビームスプリット手段で分離しその一方
の光ビームを用いて光ビームの位置の検出を行う露光加
工装置である。

【００１５】

【発明の実施の形態】すなわち本発明の第１の実施の形
態は、互いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入
射された光ビームを第２軸の方向に反射し、この反射さ
れた光ビームをさらに第３軸の方向に反射して出射する
と共に、この出射された光ビームの位置を第１及び第２
の距離で検出し、これらの検出値の差が０になるように
第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向へ
の反射の角度を調整し、第１または第２の検出値が所定
値となるように第１軸から第２軸の方向及び第２軸から
第３軸の方向への反射の位置を調整してなるものであ
る。

【００１６】また、本発明の第２の実施の形態では、互
いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された
光ビームを第２軸の方向に反射すると共にその反射面を
第３軸の方向に回動及び第１軸の方向に平行移動する第
１の可動ミラーと、第１の可動ミラーで反射された光ビ
ームを第３軸の方向に反射すると共にその反射面を第１
軸の方向に回動及び第２軸の方向に平行移動する第２の
可動ミラーと、第２の可動ミラーで反射された光ビーム
の位置を第１及び第２の距離で検出する第１及び第２の
光ビーム位置検出手段とを有し、第１及び第２の光ビー
ム位置検出手段の検出値の差が０になるように第１及び
第２の可動ミラーの反射の角度を回動し、第１または第
２の光ビーム位置検出手段の検出値が所定値となるよう
に第１及び第２の可動ミラーの反射の位置を平行移動し
てなるものである。

【００１７】さらに本発明の第３の実施の形態では、互
いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された
光ビームを第２軸の方向に反射し、この反射された光ビ
ームをさらに第３軸の方向に反射して出射すると共に、
この出射された光ビームの位置を第１及び第２の距離で
検出し、これらの検出値の差が０になるように第１軸か
ら第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向への反射の
角度を調整し、第１または第２の検出値が所定値となる
ように第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の
方向への反射の位置を調整し、出射された光ビームを用
いて露光加工を行ってなるものである。

【００１８】

【実施例】以下、図面を参照して本発明を説明するに、
図１は本発明を適用した露光加工装置の一例の構成を示
すブロック図である。

【００１９】図１において、上述したガスレーザー等か
らなる光源レーザー装置１が設けられる。そしてこの光
源レーザー装置１で発生されたレーザー光ビームが、後
述するアクチュエータ２によって駆動される可動ミラー
３（ミラー１）に入射される。さらにこの可動ミラー３
で反射されたレーザー光ビームが固定ミラー４（ミラー
２）を介して、後述するアクチュエータ５によって駆動
される可動ミラー６（ミラー３）に入射される。

【００２０】この可動ミラー６で反射されたレーザー光
ビームが、後述する第１及び第２ハーフミラー７、８を
介して変調器９に入射される。そしてこの変調器９でレ
ーザー光ビームが信号源１０からの記録信号に従って変
調される。さらにこの変調されたレーザー光ビーム（記
録光）が、ミラー１１で反射されて対物レンズ１２に入
射される。そしてこの対物レンズ１２で集光されたレー
ザー光ビームが、例えばガラス基板１３上に塗布された
感光部材１４に照射される。

【００２１】さらに上述のガラス基板１３がスピンドル
１５によって回転されると共に、対物レンズ１２を含む
レーザー光ビームの照射手段が、スピンドル１５による
回転の半径に沿って移動される。これによって、例えば
ガラス基板１３上に塗布された感光部材１４に、例えば
螺旋状にレーザー光ビームが照射される。そしてこの螺
旋状にレーザー光ビームによる露光が行われて、例えば
信号源１０からの記録信号に従った記録（加工）が行わ
れる。

【００２２】そしてこの装置において、上述の第１及び
第２ハーフミラー７、８で分離されたレーザー光ビーム
の一部が、それぞれ位置検出手段１６、１７（ＰＳＤ
１、ＰＳＤ２）に照射される。ここでＰＳＤ（Position
Sesing Device）は、例えば正方形に形成されたフォト
ダイオードの４辺に電極を設け、光スポットの照射によ
る表面抵抗の変化を４辺の電極で検出して、その検出値
の演算によって照射された光スポットの２次元の位置検
出を行うものである。

【００２３】そこでこれらの位置検出手段１６、１７か
らの検出信号がミラードライバ１８に供給され、レーザ
ー光ビームの光軸に揺らぎ解消するように、上述のアク
チュエータ２、５の駆動が行われる。

【００２４】すなわちこの装置において、上述のミラー
１、２、３の空間的な配置は、例えば図２に示すように
なっている。この図２において、例えば互いに直交する
空間３軸の内の水平Ｙ軸の方向に入射されたレーザー光
ビームは、最初にミラー１によって例えば鉛直Ｚ軸の方
向に反射され、次にミラー２によって水平Ｙ軸の方向に
反射され、さらにミラー３によって水平Ｘ軸の方向に反
射される。そしてこのミラー３によって反射されたレー
ザー光ビームが取り出されている。

【００２５】そこで上述のミラー１、２、３の空間的な
配置を水平Ｘ軸の方向から見たものが図３である。そし
てこの図３のＡに示すように、ミラー１の反射面をレー
ザー光ビームの入射方向に対して回転（あおり）方向の
制御することによって、反射されるレーザー光ビームの
鉛直方向の角度を調整することができる。また図３のＢ
に示すように、ミラー１の反射面を並進方向に制御する
ことによって、反射されるレーザー光ビームの鉛直方向
の位置を調整することができる。

【００２６】さらに上述のミラー１、２、３の空間的な
配置を鉛直Ｚ軸の方向から見たものが図４である。そし
てこの図４のＡに示すように、ミラー３の反射面をレー
ザー光ビームの入射方向に対して回転（あおり）方向の
制御することによって、反射されるレーザー光ビームの
水平方向の角度を調整することができる。また図４のＢ
に示すように、ミラー３の反射面を並進方向に制御する
ことによって、反射されるレーザー光ビームの水平方向
の位置を調整することができる。

【００２７】そしてこの装置において、上述の位置検出
手段１６、１７からの検出信号を用いて、例えば図５、
６のフローチャートに示すように、レーザー光ビームの
水平方向及び鉛直方向の角度と位置の調整が行われる。

【００２８】まず図５はレーザー光ビームの鉛直方向の
光軸の変動を補正するものである。この図５において、
ステップ〔０１〕では、予め検出されたＰＳＤ１の鉛直
方向の出力値とその目標値が比較されてＰＳＤ１の鉛直
方向の誤差信号が取り出され、また予め検出されたＰＳ
Ｄ２の鉛直方向の出力値とその目標値が比較されてＰＳ
Ｄ２の鉛直方向の誤差信号が取り出され、これらが比較
される。

【００２９】次にステップ〔０２〕で両誤差信号の差分
が“０”か否か判別される。そして“０”でないとき
（ＮＯ）は、ステップ〔０３〕で差分が増幅され、この
増幅された差分値に従ってステップ〔０４〕でミラー１
の鉛直面内のあおり方向の駆動制御が行われる。

【００３０】さらにステップ〔０２〕で差分が“０”に
なっているとき（ＹＥＳ）は、ステップ〔０５〕でＰＳ
Ｄ１の鉛直方向の誤差信号が“０”か否か判別される。
そして“０”でないとき（ＮＯ）は、ステップ〔０６〕
で誤差信号が増幅され、この増幅された誤差値に従って
ステップ〔０７〕でミラー１の鉛直面内の並進方向の駆
動制御が行われる。さらにステップ〔０５〕で差分が
“０”になっているとき（ＹＥＳ）は補正を終了してス
タートに戻される。

【００３１】また図６はレーザー光ビームの水平方向の
光軸の変動を補正するものである。この図６において、
ステップ〔１１〕では、予め検出されたＰＳＤ１の水平
方向の出力値とその目標値が比較されてＰＳＤ１の水平
方向の誤差信号が取り出され、また予め検出されたＰＳ
Ｄ２の水平方向の出力値とその目標値が比較されてＰＳ
Ｄ２の水平方向の誤差信号が取り出され、これらが比較
される。

【００３２】次にステップ〔１２〕で両誤差信号の差分
が“０”か否か判別される。そして“０”でないとき
（ＮＯ）は、ステップ〔１３〕で差分が増幅され、この
増幅された差分値に従ってステップ〔１４〕でミラー３
の水平面内のあおり方向の駆動制御が行われる。

【００３３】さらにステップ〔１２〕で差分が“０”に
なっているとき（ＹＥＳ）は、ステップ〔１５〕でＰＳ
Ｄ１の水平方向の誤差信号が“０”か否か判別される。
そして“０”でないとき（ＮＯ）は、ステップ〔１６〕
で誤差信号が増幅され、この増幅された誤差値に従って
ステップ〔１７〕でミラー３の水平面内の並進方向の駆
動制御が行われる。さらにステップ〔１５〕で差分が
“０”になっているとき（ＹＥＳ）は補正を終了してス
タートに戻される。

【００３４】これによってこの装置において、レーザー
光ビームの水平方向及び鉛直方向の角度と位置の調整を
行い、レーザー光ビームの光軸に揺らぎを補正、解消す
ることができる。さらにこの光軸の補正されたレーザー
光ビームを用いて、例えばデジタルビデオディスク（Ｄ
ＶＤ）の原盤の作成に匹敵するような、極めて高精度の
露光加工を行うことができる。

【００３５】従って本発明の光軸補正方法において、互
いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された
光ビームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の
方向へ反射し、その際のそれぞれの反射の角度及び位置
を調整することによって、光ビームの光軸の揺らぎを補
正して常に光軸の安定な光ビームを得ることができるも
のである。

【００３６】また、本発明の光軸補正装置においては、
互いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射され
た光ビームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸
の方向へ反射する第１及び第２の可動ミラーを設け、そ
れぞれの反射の角度及び位置を調整することによって、
光ビームの光軸の揺らぎを補正して常に光軸の安定な光
ビームを得ることができるものである。

【００３７】さらに本発明の露光加工装置においては、
互いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射され
た光ビームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸
の方向へ反射し、その際のそれぞれの反射の角度及び位
置を調整し、出射された光ビームを用いて露光加工を行
うことによって、光ビームの光軸の揺らぎを補正して常
に良好な露光加工を行うことができるものである。

【００３８】また、出射された光ビームの位置をビーム
スプリット手段で分離しその一方の光ビームを用いて光
ビームの位置の検出を行うことができるものである。

【００３９】これによって従来の手段では、レーザー光
ビームの光軸に揺らぎが発生すると、例えば対物レンズ
から出射される光量に変動が生じたり、集光点に時間変
動が生じて露光が不安定になり、例えばデジタルビデオ
ディスク（ＤＶＤ）の原盤の作成のような高精度の加工
が要求される場合に問題が生じていたものを、本発明に
よればこれらの問題点を容易に解消することができるも
のである。

【００４０】従ってこの装置においては、例えば光源レ
ーザー装置を終夜運転させたり、光源レーザー装置の点
灯後の数時間を経てから露光を行うなどの対処の方法を
取る必要が無く、経済性を向上させることができる。

【００４１】こうして上述の光軸補正方法によれば、互
いに直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された
光ビームを第２軸の方向に反射し、この反射された光ビ
ームをさらに第３軸の方向に反射して出射すると共に、
この出射された光ビームの位置を第１及び第２の距離で
検出し、これらの検出値の差が０になるように第１軸か
ら第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向への反射の
角度を調整し、第１または第２の検出値が所定値となる
ように第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の
方向への反射の位置を調整することにより、光ビームの
光軸の揺らぎを補正して常に光軸の安定な光ビームを得
ることができるものである。

【００４２】また、上述の光軸補正装置によれば、互い
に直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光
ビームを第２軸の方向に反射すると共にその反射面を第
３軸の方向に回動及び第１軸の方向に平行移動する第１
の可動ミラーと、第１の可動ミラーで反射された光ビー
ムを第３軸の方向に反射すると共にその反射面を第１軸
の方向に回動及び第２軸の方向に平行移動する第２の可
動ミラーと、第２の可動ミラーで反射された光ビームの
位置を第１及び第２の距離で検出する第１及び第２の光
ビーム位置検出手段とを有し、第１及び第２の光ビーム
位置検出手段の検出値の差が０になるように第１及び第
２の可動ミラーの反射の角度を回動し、第１または第２
の光ビーム位置検出手段の検出値が所定値となるように
第１及び第２の可動ミラーの反射の位置を平行移動する
ことにより、光ビームの光軸の揺らぎを補正して常に光
軸の安定な光ビームを得ることができるものである。

【００４３】さらに上述の露光加工装置によれば、互い
に直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光
ビームを第２軸の方向に反射し、この反射された光ビー
ムをさらに第３軸の方向に反射して出射すると共に、こ
の出射された光ビームの位置を第１及び第２の距離で検
出し、これらの検出値の差が０になるように第１軸から
第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向への反射の角
度を調整し、第１または第２の検出値が所定値となるよ
うに第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方
向への反射の位置を調整し、出射された光ビームを用い
て露光加工を行うことにより、光ビームの光軸の揺らぎ
を補正して常に良好な露光加工を行うことができるもの
である。

【００４４】

【発明の効果】従って請求項１の発明によれば、互いに
直交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光ビ
ームを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の方向
へ反射し、その際のそれぞれの反射の角度及び位置を調
整することによって、光ビームの光軸の揺らぎを補正し
て常に光軸の安定な光ビームを得ることができるもので
ある。

【００４５】また、請求項３の発明によれば、互いに直
交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光ビー
ムを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の方向へ
反射する第１及び第２の可動ミラーを設け、それぞれの
反射の角度及び位置を調整することによって、光ビーム
の光軸の揺らぎを補正して常に光軸の安定な光ビームを
得ることができるものである。

【００４６】さらに請求項５の発明によれば、互いに直
交する空間３軸の内の第１軸の方向に入射された光ビー
ムを、第１軸から第２軸及び第２軸から第３軸の方向へ
反射し、その際のそれぞれの反射の角度及び位置を調整
し、出射された光ビームを用いて露光加工を行うことに
よって、光ビームの光軸の揺らぎを補正して常に良好な
露光加工を行うことができるものである。

【００４７】また、出射された光ビームの位置をビーム
スプリット手段で分離しその一方の光ビームを用いて光
ビームの位置の検出を行うことができるものである。

【００４８】これによって従来の手段では、レーザー光
ビームの光軸に揺らぎが発生すると、例えば対物レンズ
から出射される光量に変動が生じたり、集光点に時間変
動が生じて露光が不安定になり、例えばデジタルビデオ
ディスク（ＤＶＤ）の原盤の作成のような高精度の加工
が要求される場合に問題が生じていたものを、本発明に
よればこれらの問題点を容易に解消することができるも
のである。

【００４９】従って本発明によれば、例えば光源レーザ
ー装置を終夜運転させたり、光源レーザー装置の点灯後
の数時間を経てから露光を行うなどの対処の方法を取る
必要が無く、経済性を向上させることができるものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の適用される露光加工装置の一例の構成
図である。

【図２】その動作の説明のための図である。

【図３】その動作の説明のための図である。

【図４】その動作の説明のための図である。

【図５】その動作の説明のための図である。

【図６】その動作の説明のための図である。

【図７】ガスレーザーの説明のための図である。

【符号の説明】

１…光源レーザー装置、２，５…アクチュエータ、３，
６…可動ミラー、４…固定ミラー、７，８…ハーフミラ
ー、９…変調器、１０…信号源、１１…ミラー、１２…
対物レンズ、１３…ガラス基板、１４…感光部材、１５
…スピンドル、１６，１７…位置検出手段、１８…ミラ
ードライバ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 互いに直交する空間３軸の内の第１軸の
   方向に入射された光ビームを第２軸の方向に反射し、 この反射された光ビームをさらに第３軸の方向に反射し
   て出射すると共に、 この出射された光ビームの位置を第１及び第２の距離で
   検出し、 これらの検出値の差が０になるように上記第１軸から第
   ２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向への反射の角度
   を調整し、 上記第１または第２の検出値が所定値となるように上記
   第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向へ
   の反射の位置を調整することを特徴とする光軸補正方
   法。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光軸補正方法において、 上記出射された光ビームの位置をビームスプリット手段
   で分離しその一方の光ビームを用いて上記光ビームの位
   置の検出を行うことを特徴とする光軸補正方法。
3. 【請求項３】 互いに直交する空間３軸の内の第１軸の
   方向に入射された光ビームを第２軸の方向に反射すると
   共にその反射面を第３軸の方向に回動及び上記第１軸の
   方向に平行移動する第１の可動ミラーと、 上記第１の可動ミラーで反射された光ビームを上記第３
   軸の方向に反射すると共にその反射面を上記第１軸の方
   向に回動及び上記第２軸の方向に平行移動する第２の可
   動ミラーと、 上記第２の可動ミラーで反射された光ビームの位置を第
   １及び第２の距離で検出する第１及び第２の光ビーム位
   置検出手段とを有し、 上記第１及び第２の光ビーム位置検出手段の検出値の差
   が０になるように上記第１及び第２の可動ミラーの反射
   の角度を回動し、 上記第１または第２の光ビーム位置検出手段の検出値が
   所定値となるように上記第１及び第２の可動ミラーの反
   射の位置を平行移動することを特徴とする光軸補正装
   置。
4. 【請求項４】 請求項３記載の光軸補正装置において、 上記出射された光ビームの位置をビームスプリット手段
   で分離しその一方の光ビームを用いて上記光ビームの位
   置の検出を行うことを特徴とする光軸補正装置。
5. 【請求項５】 互いに直交する空間３軸の内の第１軸の
   方向に入射された光ビームを第２軸の方向に反射し、 この反射された光ビームをさらに第３軸の方向に反射し
   て出射すると共に、 この出射された光ビームの位置を第１及び第２の距離で
   検出し、 これらの検出値の差が０になるように上記第１軸から第
   ２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向への反射の角度
   を調整し、 上記第１または第２の検出値が所定値となるように上記
   第１軸から第２軸の方向及び第２軸から第３軸の方向へ
   の反射の位置を調整し、 上記出射された光ビームを用いて露光加工を行うことを
   特徴とする露光加工装置。
6. 【請求項６】 請求項５記載の露光加工装置において、 上記出射された光ビームの位置をビームスプリット手段
   で分離しその一方の光ビームを用いて上記光ビームの位
   置の検出を行うことを特徴とする露光加工装置。