JP2003338048A - 光ディスクの初期化装置および初期化方法 - Google Patents
光ディスクの初期化装置および初期化方法Info
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- JP2003338048A JP2003338048A JP2002146371A JP2002146371A JP2003338048A JP 2003338048 A JP2003338048 A JP 2003338048A JP 2002146371 A JP2002146371 A JP 2002146371A JP 2002146371 A JP2002146371 A JP 2002146371A JP 2003338048 A JP2003338048 A JP 2003338048A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 片面側に2つの記録層を設けた光ディスクを
短時間で初期化する。 【解決手段】 第1レーザ光源21から放射されたS偏
光のレーザ光は、第1コリメートレンズ22、偏光ビー
ムスプリッタ41、非偏光ビームスプリッタ42、4分
の1波長板44、対物レンズ45などを介して光ディス
クDKの第1記録層に集光される。第2レーザ光源31
から放射されたS偏光のレーザ光は、第2コリメートレ
ンズ32、2分の1波長板34、偏光ビームスプリッタ
41、非偏光ビームスプリッタ42、4分の1波長板4
4、対物レンズ45などを介して光ディスクDKの第2
記録層に集光される。第1記録層で反射された反射光
は、対物レンズ45、4分の1波長板44、非偏光ビー
ムスプリッタ42、偏光ビームスプリッタ51などを介
して4分割フォトディテクタ54に進行し、フォーカス
制御に利用される。
短時間で初期化する。 【解決手段】 第1レーザ光源21から放射されたS偏
光のレーザ光は、第1コリメートレンズ22、偏光ビー
ムスプリッタ41、非偏光ビームスプリッタ42、4分
の1波長板44、対物レンズ45などを介して光ディス
クDKの第1記録層に集光される。第2レーザ光源31
から放射されたS偏光のレーザ光は、第2コリメートレ
ンズ32、2分の1波長板34、偏光ビームスプリッタ
41、非偏光ビームスプリッタ42、4分の1波長板4
4、対物レンズ45などを介して光ディスクDKの第2
記録層に集光される。第1記録層で反射された反射光
は、対物レンズ45、4分の1波長板44、非偏光ビー
ムスプリッタ42、偏光ビームスプリッタ51などを介
して4分割フォトディテクタ54に進行し、フォーカス
制御に利用される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CD−RW、DV
D−RW,DVD−RAMなどの相変化型の記録層を備
えた書き換え可能な光ディスクの初期化装置に係り、特
に記録層を片面側に2層設けた書き換え可能な光ディス
クの初期化装置に関する。
D−RW,DVD−RAMなどの相変化型の記録層を備
えた書き換え可能な光ディスクの初期化装置に係り、特
に記録層を片面側に2層設けた書き換え可能な光ディス
クの初期化装置に関する。
【0002】
【従来の技術およびその欠点】この種の光ディスクにお
いては、スパッタリングなどによる製膜直後の記録層は
アモルファス状態であるために反射率が低く、このまま
ではフォーカス制御、トラッキング制御が不安定となる
ためにそのまま使用することができず、記録層を反射率
の高いクリスタル状態にするための初期化が必要であ
る。通常の初期化装置は、一つのレーザ光で光ディスク
の全面を走査することにより、記録層を初期化してい
る。しかし、光ディスクの中には記憶容量を2倍にする
ために片面側に記録層を2層備えたものもあり、この場
合には、通常第1の記録層にレーザ光の焦点を合わせて
初期化した後に、第2の記録層にレーザ光の焦点を合わ
せて初期化することが行われているが、これでは光ディ
スクの初期化に多くの時間(一つの記録層を有する場合
のほぼ2倍)が必要となる。
いては、スパッタリングなどによる製膜直後の記録層は
アモルファス状態であるために反射率が低く、このまま
ではフォーカス制御、トラッキング制御が不安定となる
ためにそのまま使用することができず、記録層を反射率
の高いクリスタル状態にするための初期化が必要であ
る。通常の初期化装置は、一つのレーザ光で光ディスク
の全面を走査することにより、記録層を初期化してい
る。しかし、光ディスクの中には記憶容量を2倍にする
ために片面側に記録層を2層備えたものもあり、この場
合には、通常第1の記録層にレーザ光の焦点を合わせて
初期化した後に、第2の記録層にレーザ光の焦点を合わ
せて初期化することが行われているが、これでは光ディ
スクの初期化に多くの時間(一つの記録層を有する場合
のほぼ2倍)が必要となる。
【0003】
【発明の概要】本発明は、上記問題に対処するためにな
されたもので、その目的は、光ディスクの片面側に設け
た2層の記録層を短時間で初期化することが可能な光デ
ィスクの初期化装置および初期化方法を提供することに
ある。
されたもので、その目的は、光ディスクの片面側に設け
た2層の記録層を短時間で初期化することが可能な光デ
ィスクの初期化装置および初期化方法を提供することに
ある。
【0004】本発明の特徴は、平行またはほぼ平行な光
束を有する第1レーザ光を対物レンズに放射する第1レ
ーザ光放射装置と、平行またはほぼ平行な光束を有する
とともに第1レーザ光とは独立した第2レーザ光を前記
対物レンズに放射する第2レーザ光放射装置とを設け、
第1および第2レーザ光の両光束の広がりまたは狭まり
度合いを僅かに異ならせておき、前記対物レンズによ
り、光ディスクの異なる深さに位置する第1および第2
記録層に第1および第2レーザ光をそれぞれ集光させ
て、光ディスクの片面側に設けた第1および第2記録層
を同時に初期化するようにしたことにある。
束を有する第1レーザ光を対物レンズに放射する第1レ
ーザ光放射装置と、平行またはほぼ平行な光束を有する
とともに第1レーザ光とは独立した第2レーザ光を前記
対物レンズに放射する第2レーザ光放射装置とを設け、
第1および第2レーザ光の両光束の広がりまたは狭まり
度合いを僅かに異ならせておき、前記対物レンズによ
り、光ディスクの異なる深さに位置する第1および第2
記録層に第1および第2レーザ光をそれぞれ集光させ
て、光ディスクの片面側に設けた第1および第2記録層
を同時に初期化するようにしたことにある。
【0005】この場合、第1および第2レーザ光の両光
束の広がりまたは狭まり度合いを互いに僅かに異ならせ
るために、例えば、第1および第2レーザ光のうちのい
ずれか一方のレーザ光を平行な光束にするとともに、他
方のレーザ光を平行から僅かにずらした光束(平行から
僅かに広がりまたは狭まる光束)とし、または第1およ
び第2レーザ光をそれぞれ異なる態様で共に平行から僅
かにずらした光束(平行から共に僅かに広がるまたは狭
まる光束)とすることができる。
束の広がりまたは狭まり度合いを互いに僅かに異ならせ
るために、例えば、第1および第2レーザ光のうちのい
ずれか一方のレーザ光を平行な光束にするとともに、他
方のレーザ光を平行から僅かにずらした光束(平行から
僅かに広がりまたは狭まる光束)とし、または第1およ
び第2レーザ光をそれぞれ異なる態様で共に平行から僅
かにずらした光束(平行から共に僅かに広がるまたは狭
まる光束)とすることができる。
【0006】このように構成した本発明の特徴によれ
ば、第1および第2レーザ光を、それらの光束の広がり
または狭まり度合いを僅かに異ならせることにより、対
物レンズを介して光ディスクの異なる深さに位置する第
1および第2記録層にそれぞれ集光させて、光ディスク
の第1および第2記録層を同時に初期化することができ
るので、光ディスクの片面側に設けた2つの記録層を短
時間で初期化できる。また、対物レンズを一つだけ設け
ればよいので、光ディスクの初期化装置を簡単に構成で
きるとともに、その製造コストを低減できる。
ば、第1および第2レーザ光を、それらの光束の広がり
または狭まり度合いを僅かに異ならせることにより、対
物レンズを介して光ディスクの異なる深さに位置する第
1および第2記録層にそれぞれ集光させて、光ディスク
の第1および第2記録層を同時に初期化することができ
るので、光ディスクの片面側に設けた2つの記録層を短
時間で初期化できる。また、対物レンズを一つだけ設け
ればよいので、光ディスクの初期化装置を簡単に構成で
きるとともに、その製造コストを低減できる。
【0007】また、本発明の他の特徴は、前記第1レー
ザ光放射装置を、レーザ光を放射する第1レーザ光源
と、第1レーザ光源からのレーザ光を平行またはほぼ平
行な光束にして出射する第1コリメートレンズとで構成
するとともに、前記第2レーザ光放射装置を、レーザ光
を放射する第2レーザ光源と、第2レーザ光源からのレ
ーザ光を平行またはほぼ平行な光束にして出射する第2
コリメートレンズとで構成し、第1および第2コリメー
トレンズのうちの少なくとも一方を光軸方向に変位可能
に構成したことにある。
ザ光放射装置を、レーザ光を放射する第1レーザ光源
と、第1レーザ光源からのレーザ光を平行またはほぼ平
行な光束にして出射する第1コリメートレンズとで構成
するとともに、前記第2レーザ光放射装置を、レーザ光
を放射する第2レーザ光源と、第2レーザ光源からのレ
ーザ光を平行またはほぼ平行な光束にして出射する第2
コリメートレンズとで構成し、第1および第2コリメー
トレンズのうちの少なくとも一方を光軸方向に変位可能
に構成したことにある。
【0008】このように構成した本発明の他の特徴にお
いては、第1および第2コリメートレンズのうちの一方
を光軸方向に変位させれば、対物レンズに入射する第1
および第2レーザ光のうちの一方のレーザ光の光束の広
がりまたは狭まり度合いと、他方のレーザ光の光束の広
がりまたは狭まり度合いとの差を変化させることができ
る。この光束の広がりまたは狭まり度合いの差を変化さ
せることは、光ディスク内にて第1および第2レーザ光
の集光される位置の深さの差を変化させることを意味す
る。これにより、光ディスクの片面側に設けた第1記録
層と第2記録層との深さの差が異なる種々の光ディスク
に対しても、前記第1または第2コリメートレンズの変
位により、第1および第2レーザ光を第1および第2記
録層に正確に集光でき、この初期化装置を種々の光ディ
スクの初期化に利用できるようになる。
いては、第1および第2コリメートレンズのうちの一方
を光軸方向に変位させれば、対物レンズに入射する第1
および第2レーザ光のうちの一方のレーザ光の光束の広
がりまたは狭まり度合いと、他方のレーザ光の光束の広
がりまたは狭まり度合いとの差を変化させることができ
る。この光束の広がりまたは狭まり度合いの差を変化さ
せることは、光ディスク内にて第1および第2レーザ光
の集光される位置の深さの差を変化させることを意味す
る。これにより、光ディスクの片面側に設けた第1記録
層と第2記録層との深さの差が異なる種々の光ディスク
に対しても、前記第1または第2コリメートレンズの変
位により、第1および第2レーザ光を第1および第2記
録層に正確に集光でき、この初期化装置を種々の光ディ
スクの初期化に利用できるようになる。
【0009】また、本発明の他の特徴は、対物レンズを
光軸方向に変位させることが可能なフォーカスアクチュ
エータと、第1および第2レーザ光のうちのいずれか一
方のレーザ光による光ディスクからの反射光に基づいて
フォーカスアクチュエータを駆動制御して対物レンズを
フォーカス制御するフォーカス制御回路とを備えたこと
にある。
光軸方向に変位させることが可能なフォーカスアクチュ
エータと、第1および第2レーザ光のうちのいずれか一
方のレーザ光による光ディスクからの反射光に基づいて
フォーカスアクチュエータを駆動制御して対物レンズを
フォーカス制御するフォーカス制御回路とを備えたこと
にある。
【0010】このように構成した本発明の他の特徴にお
いては、対物レンズのフォーカス制御により、第1およ
び第2レーザ光のうちの一方のレーザ光を光ディスクの
片面側に設けた第1および第2記録層のうちの一方の記
録層に高精度で集光させることができる。そして、第1
および第2レーザ光の両光束間の広がりまたは狭まり度
合いの差を第1および第2記録層の光ディスクにおける
深さの差に対応させておけば、第1および第2レーザ光
のうちの他方のレーザ光も第1および第2記録層の他方
の記録層に自動的に高精度で集光させることができる。
これにより、対物レンズをフォーカス制御する場合、フ
ォーカス制御のための光学装置および電気回路装置を1
組設けるだけでよく、構成の簡単化および製造コストの
低減化の効果が大きい。
いては、対物レンズのフォーカス制御により、第1およ
び第2レーザ光のうちの一方のレーザ光を光ディスクの
片面側に設けた第1および第2記録層のうちの一方の記
録層に高精度で集光させることができる。そして、第1
および第2レーザ光の両光束間の広がりまたは狭まり度
合いの差を第1および第2記録層の光ディスクにおける
深さの差に対応させておけば、第1および第2レーザ光
のうちの他方のレーザ光も第1および第2記録層の他方
の記録層に自動的に高精度で集光させることができる。
これにより、対物レンズをフォーカス制御する場合、フ
ォーカス制御のための光学装置および電気回路装置を1
組設けるだけでよく、構成の簡単化および製造コストの
低減化の効果が大きい。
【0011】また、このようにフォーカス制御する装置
においては、第1および第2レーザ光放射装置から放射
された第1および第2レーザ光のうちのいずれか一方の
レーザ光を反射させてS偏光のレーザ光を対物レンズに
進行させるとともに、他方のレーザ光を透過させてP偏
光のレーザ光を対物レンズに進行させる第1偏光ビーム
スプリッタと、第1偏光ビームスプリッタから対物レン
ズへの光路に介装されて、第1偏光ビームスプリッタか
ら進行する第1および第2レーザ光を透過して対物レン
ズにそれぞれ導くとともに、第1および第2レーザ光に
それぞれ対応していて光ディスクにて反射されて対物レ
ンズを介して進行する第1および第2反射光をそれぞれ
反射する非偏光ビームスプリッタと、非偏光ビームスプ
リッタと対物レンズとの間の光路に介装された4分の1
波長板と、非偏光ビームスプリッタによって反射された
第1および第2反射光を入射してS偏光のレーザ光を反
射するとともにP偏光のレーザ光を透過する第2偏光ビ
ームスプリッタと、第2偏光ビームスプリッタによって
反射されたS偏光のレーザ光または同第2偏光ビームス
プリッタを透過したP偏光のレーザ光を受光するフォト
ディテクタとを備え、フォーカス制御回路が、フォトデ
ィテクタによって受光されたP偏光またはS偏光のレー
ザ光に応じてフォーカスアクチュエータを駆動制御する
ように構成できる。
においては、第1および第2レーザ光放射装置から放射
された第1および第2レーザ光のうちのいずれか一方の
レーザ光を反射させてS偏光のレーザ光を対物レンズに
進行させるとともに、他方のレーザ光を透過させてP偏
光のレーザ光を対物レンズに進行させる第1偏光ビーム
スプリッタと、第1偏光ビームスプリッタから対物レン
ズへの光路に介装されて、第1偏光ビームスプリッタか
ら進行する第1および第2レーザ光を透過して対物レン
ズにそれぞれ導くとともに、第1および第2レーザ光に
それぞれ対応していて光ディスクにて反射されて対物レ
ンズを介して進行する第1および第2反射光をそれぞれ
反射する非偏光ビームスプリッタと、非偏光ビームスプ
リッタと対物レンズとの間の光路に介装された4分の1
波長板と、非偏光ビームスプリッタによって反射された
第1および第2反射光を入射してS偏光のレーザ光を反
射するとともにP偏光のレーザ光を透過する第2偏光ビ
ームスプリッタと、第2偏光ビームスプリッタによって
反射されたS偏光のレーザ光または同第2偏光ビームス
プリッタを透過したP偏光のレーザ光を受光するフォト
ディテクタとを備え、フォーカス制御回路が、フォトデ
ィテクタによって受光されたP偏光またはS偏光のレー
ザ光に応じてフォーカスアクチュエータを駆動制御する
ように構成できる。
【0012】なお、この明細書において、P偏光とは、
試料面に入射する光の電気ベクトルの振動方向が入射面
(試料面に立てた法線と光の進行方向を含む面)内に含
まれる直線偏光を意味する。また、S偏光とは、試料面
に入射する光の電気ベクトルの振動方向が、試料面の法
線と光の進行方向である波面の法線とを含む面に垂直な
直線偏光を意味する。
試料面に入射する光の電気ベクトルの振動方向が入射面
(試料面に立てた法線と光の進行方向を含む面)内に含
まれる直線偏光を意味する。また、S偏光とは、試料面
に入射する光の電気ベクトルの振動方向が、試料面の法
線と光の進行方向である波面の法線とを含む面に垂直な
直線偏光を意味する。
【0013】これによれば、第1偏光ビームスプリッタ
から非偏光ビームスプリッタを介して4分の1波長板に
進行した直線偏光の第1および第2レーザ光(S偏光お
よびP偏光のレーザ光)は、4分の1波長板によって円
偏光のレーザ光に変換される。この円偏光の第1および
第2レーザ光は対物レンズによって光ディスクの第1お
よび第2記録層に集光され、第1および第2記録層にて
反射されて第1および第2反射光として対物レンズに進
行する。対物レンズに進行した円偏光の第1および第2
反射光は、対物レンズを介して4分の1波長板に進行
し、4分の1波長板によって直線偏光の第1および第2
レーザ光(P偏光およびS偏光のレーザ光)に変換さ
れ、非偏光ビームスプリッタによって反射されて第2偏
光ビームスプリッタに入射する。前記光ディスクにおけ
る第1および第2レーザ光の反射の際には、円偏光の第
1および第2レーザ光の回転方向が逆方向に変更されて
第1および第2反射光となるので、第1偏光ビームスプ
リッタから非偏光ビームスプリッタを介して4分の1波
長板に進行した第1および第2レーザ光がS偏光および
P偏光のレーザ光であれば、4分の1波長板から出射さ
れるとともに非偏光ビームスプリッタによって反射され
て第2偏光ビームスプリッタに入射する第1および第2
反射光はそれぞれP偏光およびS偏光のレーザ光に変換
される。したがって、第1および第2反射光は、この第
2偏光ビームスプリッタによって分離されて、それらの
一方の反射光のみがフォトディテクタに進行することに
なる。
から非偏光ビームスプリッタを介して4分の1波長板に
進行した直線偏光の第1および第2レーザ光(S偏光お
よびP偏光のレーザ光)は、4分の1波長板によって円
偏光のレーザ光に変換される。この円偏光の第1および
第2レーザ光は対物レンズによって光ディスクの第1お
よび第2記録層に集光され、第1および第2記録層にて
反射されて第1および第2反射光として対物レンズに進
行する。対物レンズに進行した円偏光の第1および第2
反射光は、対物レンズを介して4分の1波長板に進行
し、4分の1波長板によって直線偏光の第1および第2
レーザ光(P偏光およびS偏光のレーザ光)に変換さ
れ、非偏光ビームスプリッタによって反射されて第2偏
光ビームスプリッタに入射する。前記光ディスクにおけ
る第1および第2レーザ光の反射の際には、円偏光の第
1および第2レーザ光の回転方向が逆方向に変更されて
第1および第2反射光となるので、第1偏光ビームスプ
リッタから非偏光ビームスプリッタを介して4分の1波
長板に進行した第1および第2レーザ光がS偏光および
P偏光のレーザ光であれば、4分の1波長板から出射さ
れるとともに非偏光ビームスプリッタによって反射され
て第2偏光ビームスプリッタに入射する第1および第2
反射光はそれぞれP偏光およびS偏光のレーザ光に変換
される。したがって、第1および第2反射光は、この第
2偏光ビームスプリッタによって分離されて、それらの
一方の反射光のみがフォトディテクタに進行することに
なる。
【0014】したがって、フォトディテクタは第1およ
び第2レーザ光に対応した第1および第2反射光のうち
のいずれか一方の反射光のみを受光することになり、同
第1または第2反射光を用いたフォーカス制御が、簡単
かつ高精度で実現できるようになる。
び第2レーザ光に対応した第1および第2反射光のうち
のいずれか一方の反射光のみを受光することになり、同
第1または第2反射光を用いたフォーカス制御が、簡単
かつ高精度で実現できるようになる。
【0015】また、本発明の他の特徴は、平行またはほ
ぼ平行な光束を有するとともに光軸に対する光束の広が
りまたは狭まり度合いを互いに僅かに異ならせた第1お
よび第2レーザ光を前記対物レンズに入射させ、かつ対
物レンズにより、光ディスクの異なる深さに位置する第
1および第2記録層に第1および第2レーザ光をそれぞ
れ集光させて、光ディスクの片面側に設けた第1および
第2記録層を同時に初期化するようにした光ディスクの
初期化方法にある。
ぼ平行な光束を有するとともに光軸に対する光束の広が
りまたは狭まり度合いを互いに僅かに異ならせた第1お
よび第2レーザ光を前記対物レンズに入射させ、かつ対
物レンズにより、光ディスクの異なる深さに位置する第
1および第2記録層に第1および第2レーザ光をそれぞ
れ集光させて、光ディスクの片面側に設けた第1および
第2記録層を同時に初期化するようにした光ディスクの
初期化方法にある。
【0016】これによっても、平行またはほぼ平行な光
束を有するとともに光軸に対する光束の広がりまたは狭
まり度合いを互いに僅かに異ならせた第1および第2レ
ーザ光を一つの対物レンズに入射させるだけで、光ディ
スクの異なる深さに位置する第1および第2記録層に第
1および第2レーザ光をそれぞれ集光させて、光ディス
クの第1および第2記録層を同時に初期化することがで
きる。したがって、この本発明の他の特徴によれば、片
面側に2層の記録層を設けた光ディスクを短時間かつ簡
単に初期化できる。
束を有するとともに光軸に対する光束の広がりまたは狭
まり度合いを互いに僅かに異ならせた第1および第2レ
ーザ光を一つの対物レンズに入射させるだけで、光ディ
スクの異なる深さに位置する第1および第2記録層に第
1および第2レーザ光をそれぞれ集光させて、光ディス
クの第1および第2記録層を同時に初期化することがで
きる。したがって、この本発明の他の特徴によれば、片
面側に2層の記録層を設けた光ディスクを短時間かつ簡
単に初期化できる。
【0017】
【実施の形態】以下、本発明の一実施形態に係る光ディ
スクの初期化装置について図面を用いて説明すると、図
1は同実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体を
示すブロック図である。
スクの初期化装置について図面を用いて説明すると、図
1は同実施形態に係る光ディスクの初期化装置の全体を
示すブロック図である。
【0018】この初期化装置は、光ディスクDKの組み
付けられる支持テーブル11を回転駆動するスピンドル
モータ12を備えている。スピンドルモータ12は、支
持テーブル11と共に、フィード機構により光ディスク
DKの径方向に駆動される。フィード機構は、フィード
モータ13と、スピンドルモータ12を固定するととも
に前記径方向の移動のみが許容された支持部材14とを
備えている。
付けられる支持テーブル11を回転駆動するスピンドル
モータ12を備えている。スピンドルモータ12は、支
持テーブル11と共に、フィード機構により光ディスク
DKの径方向に駆動される。フィード機構は、フィード
モータ13と、スピンドルモータ12を固定するととも
に前記径方向の移動のみが許容された支持部材14とを
備えている。
【0019】フィードモータ13と支持部材14とは、
前記径方向に延設されてフィードモータ13によって軸
線回りに回転するスクリューロッド15および支持部材
14に固着されてスクリューロッド15に螺合したナッ
ト(図示しない)からなるねじ機構により連結されてい
る。したがって、フィードモータ13の回転により、支
持部材14は、スピンドルモータ12と共にスクリュー
ロッド15の軸線方向すなわち光ディスクDKの径方向
に変位する。
前記径方向に延設されてフィードモータ13によって軸
線回りに回転するスクリューロッド15および支持部材
14に固着されてスクリューロッド15に螺合したナッ
ト(図示しない)からなるねじ機構により連結されてい
る。したがって、フィードモータ13の回転により、支
持部材14は、スピンドルモータ12と共にスクリュー
ロッド15の軸線方向すなわち光ディスクDKの径方向
に変位する。
【0020】また、この初期化装置は、レーザ光を光デ
ィスクDKに照射して同光ディスクDKの片面側に設け
た第1および第2記録層MP1,MP2(図2参照)を
初期化するとともに、同第1および第2記録層MP1,
MP2からの反射光を受光するための光学装置ODも備
えている。光学装置ODは、S偏光のレーザ光L1(図
示1点鎖線参照)を放射する第1レーザ光源21を備え
ている。この第1レーザ光源21から放射されたレーザ
光L1は、第1コリメートレンズ22によって平行光
(光束が光軸と平行であるレーザ光)に変換され、ミラ
ープリズム23によって反射されて偏向ビームスプリッ
タ41に入射する。
ィスクDKに照射して同光ディスクDKの片面側に設け
た第1および第2記録層MP1,MP2(図2参照)を
初期化するとともに、同第1および第2記録層MP1,
MP2からの反射光を受光するための光学装置ODも備
えている。光学装置ODは、S偏光のレーザ光L1(図
示1点鎖線参照)を放射する第1レーザ光源21を備え
ている。この第1レーザ光源21から放射されたレーザ
光L1は、第1コリメートレンズ22によって平行光
(光束が光軸と平行であるレーザ光)に変換され、ミラ
ープリズム23によって反射されて偏向ビームスプリッ
タ41に入射する。
【0021】また、光学装置ODは、第1レーザ光源2
1と同様に、S偏光のレーザ光L2(図示2点鎖線参
照)を放射する第2レーザ光源31を備えている。この
第2レーザ光源31から放射されたレーザ光L2は、第
2コリメートレンズ32によって平行光に近いレーザ光
(光束が進行方向に向かって平行から僅かに広がるレー
ザ光)に変換される。この第2コリメートレンズ32
は、レーザ光L2の広がりまたは狭まり度合いを可変と
するために光軸方向に変位可能になっている。また、第
2コリメートレンズ32の光軸方向の位置を電気的に可
変制御するために、第2コリメートレンズ32を直線駆
動するアクチュエータ33が設けられている。第2コリ
メートレンズ32から出射されたレーザ光L2は、S偏
向のレーザ光をP偏光のレーザ光に変換する2分の1波
長板34に入射する。
1と同様に、S偏光のレーザ光L2(図示2点鎖線参
照)を放射する第2レーザ光源31を備えている。この
第2レーザ光源31から放射されたレーザ光L2は、第
2コリメートレンズ32によって平行光に近いレーザ光
(光束が進行方向に向かって平行から僅かに広がるレー
ザ光)に変換される。この第2コリメートレンズ32
は、レーザ光L2の広がりまたは狭まり度合いを可変と
するために光軸方向に変位可能になっている。また、第
2コリメートレンズ32の光軸方向の位置を電気的に可
変制御するために、第2コリメートレンズ32を直線駆
動するアクチュエータ33が設けられている。第2コリ
メートレンズ32から出射されたレーザ光L2は、S偏
向のレーザ光をP偏光のレーザ光に変換する2分の1波
長板34に入射する。
【0022】1/2波長板34から出射されたレーザ光
L2は、ミラープリズム35,36によって反射されて
偏向ビームスプリッタ41に入射するようになってい
る。ミラープリズム35は、反射面に平行な軸線回りに
回転可能になっており、この回転により光軸の方向が若
干量だけ変更されるようになっている。図示において
は、このミラープリズム35を含む第2レーザ光源3
1、第2コリメートレンズ32および2の1波長板34
を他の部品と同一平面状に示してあるが、実際にはこれ
らを通る光軸が紙面と垂直方向になるように配置されて
おり、ミラープリズム35の回転により、同ミラープリ
ズム35にて反射されてミラープリズム36に進行する
レーザ光L2の光軸の紙面に対する傾きが変化するよう
になっている。また、ミラープリズム36の前記回転を
電気的に制御するために、ミラープリズム35を回転駆
動するアクチュエータ37が設けられている。
L2は、ミラープリズム35,36によって反射されて
偏向ビームスプリッタ41に入射するようになってい
る。ミラープリズム35は、反射面に平行な軸線回りに
回転可能になっており、この回転により光軸の方向が若
干量だけ変更されるようになっている。図示において
は、このミラープリズム35を含む第2レーザ光源3
1、第2コリメートレンズ32および2の1波長板34
を他の部品と同一平面状に示してあるが、実際にはこれ
らを通る光軸が紙面と垂直方向になるように配置されて
おり、ミラープリズム35の回転により、同ミラープリ
ズム35にて反射されてミラープリズム36に進行する
レーザ光L2の光軸の紙面に対する傾きが変化するよう
になっている。また、ミラープリズム36の前記回転を
電気的に制御するために、ミラープリズム35を回転駆
動するアクチュエータ37が設けられている。
【0023】偏向ビームスプリッタ41は、S偏向のレ
ーザ光を反射するとともに、P偏向のレーザ光を透過さ
せるものである。したがって、第1レーザ光源21から
のレーザ光L1(S偏向のレーザ光)はこの偏向ビーム
スプリッタ41にて反射して非偏向ビームスプリッタ4
2に入射し、2分の1波長板34を介した第2レーザ光
源31からのレーザ光L2(P偏向のレーザ光)はこの
偏向ビームスプリッタ41を透過して非偏向ビームスプ
リッタ42に入射する。本実施形態の場合、偏光ビーム
スプリッタ41に入射するレーザ光L1,L2はそれぞ
れ既にS偏光およびP偏光のレーザ光になっているが、
この偏光ビームスプリッタ41の挿入により、混在する
自然発光成分が除去されたS偏光のレーザ光L1および
P偏光のレーザ光L2が非偏光ビームスプリッタ42に
進行するようになる。
ーザ光を反射するとともに、P偏向のレーザ光を透過さ
せるものである。したがって、第1レーザ光源21から
のレーザ光L1(S偏向のレーザ光)はこの偏向ビーム
スプリッタ41にて反射して非偏向ビームスプリッタ4
2に入射し、2分の1波長板34を介した第2レーザ光
源31からのレーザ光L2(P偏向のレーザ光)はこの
偏向ビームスプリッタ41を透過して非偏向ビームスプ
リッタ42に入射する。本実施形態の場合、偏光ビーム
スプリッタ41に入射するレーザ光L1,L2はそれぞ
れ既にS偏光およびP偏光のレーザ光になっているが、
この偏光ビームスプリッタ41の挿入により、混在する
自然発光成分が除去されたS偏光のレーザ光L1および
P偏光のレーザ光L2が非偏光ビームスプリッタ42に
進行するようになる。
【0024】非偏向ビームスプリッタ42は、S偏向の
レーザ光も、P偏向のレーザ光も、共に一部を反射し、
共に一部を透過させるものである。したがって、第1レ
ーザ光源21からのレーザ光L1(S偏向のレーザ光)
および2分の1波長板34を介した第2レーザ光源31
からのレーザ光L2(P偏向のレーザ光)は、共に非偏
向ビームスプリッタ42を透過し、ミラープリズム43
にて反射され、1/4波長板44および対物レンズ45
を介して光ディスクDKに進行する。
レーザ光も、P偏向のレーザ光も、共に一部を反射し、
共に一部を透過させるものである。したがって、第1レ
ーザ光源21からのレーザ光L1(S偏向のレーザ光)
および2分の1波長板34を介した第2レーザ光源31
からのレーザ光L2(P偏向のレーザ光)は、共に非偏
向ビームスプリッタ42を透過し、ミラープリズム43
にて反射され、1/4波長板44および対物レンズ45
を介して光ディスクDKに進行する。
【0025】1/4波長板44は、入射した直線偏光
(S偏光およびP偏光)のレーザ光を円偏光のレーザ光
に変換して出射し、入射した円偏光のレーザ光を直線偏
光(S偏光およびP偏光)に変換して出射するものであ
る。対物レンズ45は、第1レーザ光源21から放射さ
れて第1コリメートレンズ22によって平行光に変換さ
れたレーザ光L1を光ディスクDKの第1記録層MP1
に集光して、同第1記録層MP1上に光スポットを形成
する。また、この対物レンズ45は、第2レーザ光源3
1から放射されて第2コリメートレンズ32によって平
行光に近いレーザ光に変換されたレーザ光L2を光ディ
スクDKの第2記録層MP2に集光して、同第2記録層
MP2上に光スポットを形成する。対物レンズ45は光
軸方向に変位可能になっており、同対物レンズ45はフ
ォーカスアクチュエータ46によって光軸方向に駆動制
御される。
(S偏光およびP偏光)のレーザ光を円偏光のレーザ光
に変換して出射し、入射した円偏光のレーザ光を直線偏
光(S偏光およびP偏光)に変換して出射するものであ
る。対物レンズ45は、第1レーザ光源21から放射さ
れて第1コリメートレンズ22によって平行光に変換さ
れたレーザ光L1を光ディスクDKの第1記録層MP1
に集光して、同第1記録層MP1上に光スポットを形成
する。また、この対物レンズ45は、第2レーザ光源3
1から放射されて第2コリメートレンズ32によって平
行光に近いレーザ光に変換されたレーザ光L2を光ディ
スクDKの第2記録層MP2に集光して、同第2記録層
MP2上に光スポットを形成する。対物レンズ45は光
軸方向に変位可能になっており、同対物レンズ45はフ
ォーカスアクチュエータ46によって光軸方向に駆動制
御される。
【0026】光ディスクDKで反射された第1および第
2反射光は、対物レンズ45によって平行光および平行
光に近いレーザ光に変換され、4分の1波長板44およ
びミラープリズム43を介して進行して、非偏光ビーム
スプリッタ42にて反射されて偏光ビームスプリッタ5
1に入射されるようになっている。この偏向ビームスプ
リッタ51も、S偏向のレーザ光を反射するとともに、
P偏向のレーザ光を透過させるものである。
2反射光は、対物レンズ45によって平行光および平行
光に近いレーザ光に変換され、4分の1波長板44およ
びミラープリズム43を介して進行して、非偏光ビーム
スプリッタ42にて反射されて偏光ビームスプリッタ5
1に入射されるようになっている。この偏向ビームスプ
リッタ51も、S偏向のレーザ光を反射するとともに、
P偏向のレーザ光を透過させるものである。
【0027】偏光ビームスプリッタ51の透過光は、集
光レンズ52およびシリンドリカルレンズ53を介して
4分割フォトディテクタ54に進行する。シリンドリカ
ルレンズ53と4分割フォトディテクタ54の間にはナ
イフエッジ55が介装されている。これらの集光レンズ
52、シリンドリカルレンズ53、4分割フォトディテ
クタ54およびナイフエッジ55は、ナイフエッジ法に
よるフォーカスエラー信号の生成のための光学装置を構
成する。
光レンズ52およびシリンドリカルレンズ53を介して
4分割フォトディテクタ54に進行する。シリンドリカ
ルレンズ53と4分割フォトディテクタ54の間にはナ
イフエッジ55が介装されている。これらの集光レンズ
52、シリンドリカルレンズ53、4分割フォトディテ
クタ54およびナイフエッジ55は、ナイフエッジ法に
よるフォーカスエラー信号の生成のための光学装置を構
成する。
【0028】次に、スピンドルモータ12、フィードモ
ータ13および光学装置ODを制御するための電気制御
装置について説明する。この電気制御装置は、スピンド
ルモータ制御回路61およびフィードモータ制御回路6
2を含む。スピンドルモータ制御回路61は、スピンド
ルモータ12に内蔵されたエンコーダから同モータ12
の回転を表す信号を入力して、光ディスクDKが対物レ
ンズ45による光スポット位置にて線速度一定で回転す
るようにスピンドルモータ12の回転を制御する。すな
わち、スピンドルモータ12の回転角速度は、光スポッ
トが光ディスクDKの最内周にある状態で最も速く、光
スポットが光ディスクDKの外周に向かうに従って遅く
なるように制御される。このスピンドルモータ12の回
転制御においては、後述するフィードモータ制御の際に
用いられて、光ディスクDKにおける光スポットの径方
向位置を表す信号がコンピュータ63から与えられて利
用される。
ータ13および光学装置ODを制御するための電気制御
装置について説明する。この電気制御装置は、スピンド
ルモータ制御回路61およびフィードモータ制御回路6
2を含む。スピンドルモータ制御回路61は、スピンド
ルモータ12に内蔵されたエンコーダから同モータ12
の回転を表す信号を入力して、光ディスクDKが対物レ
ンズ45による光スポット位置にて線速度一定で回転す
るようにスピンドルモータ12の回転を制御する。すな
わち、スピンドルモータ12の回転角速度は、光スポッ
トが光ディスクDKの最内周にある状態で最も速く、光
スポットが光ディスクDKの外周に向かうに従って遅く
なるように制御される。このスピンドルモータ12の回
転制御においては、後述するフィードモータ制御の際に
用いられて、光ディスクDKにおける光スポットの径方
向位置を表す信号がコンピュータ63から与えられて利
用される。
【0029】フィードモータ制御回路62は、フィード
モータ13に内蔵されたエンコーダから同モータ13の
回転を表す信号を入力して、対物レンズ45による光ス
ポットが光ディスクDK上を径方向に移動するように
(例えば、光スポットが最内周から最外周まで移動する
ように)、フィードモータ13の回転を制御する。この
光スポットの光ディスクDK上の移動においては、コン
ピュータ63が、光ディスクDKにおける光スポットの
径方向位置を表す情報に応じて、光ディスクDKの径方
向移動速度を表す信号をフィードモータ制御回路62に
出力し、フィードモータ制御回路62がこの径方向移動
速度を表す信号に応じた速度でフィードモータ13の回
転を制御する。この場合、スピンドルモータ12の回転
は前記線速度一定で回転制御されて、光スポットが光デ
ィスクDKを1回転する時間は光ディスクの外側に向か
うに従って長くなるので、フィードモータ13の回転角
速度は、光スポットが光ディスクDKの最内周にある状
態で最も速く、光スポットが光ディスクDKの外周に向
かうに従って遅くなるように制御される。また、前記径
方向位置を表す情報は、コンピュータ63内に前記フィ
ードモータ13の回転制御に関連して更新されながら記
憶されている。
モータ13に内蔵されたエンコーダから同モータ13の
回転を表す信号を入力して、対物レンズ45による光ス
ポットが光ディスクDK上を径方向に移動するように
(例えば、光スポットが最内周から最外周まで移動する
ように)、フィードモータ13の回転を制御する。この
光スポットの光ディスクDK上の移動においては、コン
ピュータ63が、光ディスクDKにおける光スポットの
径方向位置を表す情報に応じて、光ディスクDKの径方
向移動速度を表す信号をフィードモータ制御回路62に
出力し、フィードモータ制御回路62がこの径方向移動
速度を表す信号に応じた速度でフィードモータ13の回
転を制御する。この場合、スピンドルモータ12の回転
は前記線速度一定で回転制御されて、光スポットが光デ
ィスクDKを1回転する時間は光ディスクの外側に向か
うに従って長くなるので、フィードモータ13の回転角
速度は、光スポットが光ディスクDKの最内周にある状
態で最も速く、光スポットが光ディスクDKの外周に向
かうに従って遅くなるように制御される。また、前記径
方向位置を表す情報は、コンピュータ63内に前記フィ
ードモータ13の回転制御に関連して更新されながら記
憶されている。
【0030】電気制御装置は、フォーカスエラー信号生
成回路64、フォーカス位置調整回路65および光スポ
ット間隔調整回路66も備えている。フォーカスエラー
信号生成回路64は、4分割フォトディテクタ54の受
光信号を入力してナイフエッジ法によりフォーカスエラ
ー信号を生成し、同生成したフォーカスエラー信号をフ
ォーカサーボ回路67に供給する。フォーカスサーボ回
路67は、供給されたフォーカスエラー信号に基づい
て、ドライブ回路68を介してフォーカスアクチュエー
タ46を駆動制御して、対物レンズ45をフォーカス制
御する。なお、このフォーカスエラー信号の生成におい
ては、ナイフエッジ法に代えて、非点収差法、ウェッジ
プリズム法、臨界角法など、種々のフォーカスエラー信
号を生成する方法を採用できる。
成回路64、フォーカス位置調整回路65および光スポ
ット間隔調整回路66も備えている。フォーカスエラー
信号生成回路64は、4分割フォトディテクタ54の受
光信号を入力してナイフエッジ法によりフォーカスエラ
ー信号を生成し、同生成したフォーカスエラー信号をフ
ォーカサーボ回路67に供給する。フォーカスサーボ回
路67は、供給されたフォーカスエラー信号に基づい
て、ドライブ回路68を介してフォーカスアクチュエー
タ46を駆動制御して、対物レンズ45をフォーカス制
御する。なお、このフォーカスエラー信号の生成におい
ては、ナイフエッジ法に代えて、非点収差法、ウェッジ
プリズム法、臨界角法など、種々のフォーカスエラー信
号を生成する方法を採用できる。
【0031】フォーカス位置調整回路65は、コンピュ
ータ63から供給されるフォーカス位置信号に基づい
て、アクチュエータ33を駆動制御して第2コリメート
レンズ32を光軸方向に移動調整する。このフォーカス
位置信号は、図2に示すように、光ディスクDKの第1
および第2記録層MP1,MP2間の距離Δdに対応し
た第2コリメートレンズ32の光軸方向位置を表してい
る。光スポット間隔調整回路66は、コンピュータ63
から供給されるミラープリズム35の回転位置信号に基
づいて、アクチュエータ37を駆動制御してミラープリ
ズム35を回転させる。この回転位置信号は、図3に示
すように、光ディスクDK上における第1レーザ光源2
1による光スポットSP1と、第2レーザ光源31によ
る光スポットSP2との間の周方向距離ΔWに対応した
ミラープリズム35の回転位置を表している。
ータ63から供給されるフォーカス位置信号に基づい
て、アクチュエータ33を駆動制御して第2コリメート
レンズ32を光軸方向に移動調整する。このフォーカス
位置信号は、図2に示すように、光ディスクDKの第1
および第2記録層MP1,MP2間の距離Δdに対応し
た第2コリメートレンズ32の光軸方向位置を表してい
る。光スポット間隔調整回路66は、コンピュータ63
から供給されるミラープリズム35の回転位置信号に基
づいて、アクチュエータ37を駆動制御してミラープリ
ズム35を回転させる。この回転位置信号は、図3に示
すように、光ディスクDK上における第1レーザ光源2
1による光スポットSP1と、第2レーザ光源31によ
る光スポットSP2との間の周方向距離ΔWに対応した
ミラープリズム35の回転位置を表している。
【0032】また、コンピュータ63には、前記第1お
よび第2記録層MP1,MP2間の距離Δd、光スポッ
トSP1,SP2間の周方向距離ΔWなどを入力する入
力装置71も接続されている。
よび第2記録層MP1,MP2間の距離Δd、光スポッ
トSP1,SP2間の周方向距離ΔWなどを入力する入
力装置71も接続されている。
【0033】次に、上記のように構成した実施形態の動
作を説明する。この初期化装置の使用の開始にあたって
は、使用者は、入力装置71を用いて、初期化すべき光
ディスクDKの第1および第2記録層MP1,MP2間
の距離Δdを表すデータと、光スポットSP1,SP2
間の周方向距離ΔWを表すデータとをコンピュータ63
に入力する。
作を説明する。この初期化装置の使用の開始にあたって
は、使用者は、入力装置71を用いて、初期化すべき光
ディスクDKの第1および第2記録層MP1,MP2間
の距離Δdを表すデータと、光スポットSP1,SP2
間の周方向距離ΔWを表すデータとをコンピュータ63
に入力する。
【0034】コンピュータ63は、前記第1および第2
記録層MP1,MP2間の距離Δdに対応した第2コリ
メートレンズ32の光軸方向位置を計算して、同光軸方
向位置を表すフォーカス位置信号をフォーカス位置調整
回路65に出力する。フォーカス位置調整回路65は、
フォーカス位置信号に基づいてアクチュエータ33を駆
動制御して、第2コリメートレンズ32の光軸方向位置
を調整する。この第2コリメートレンズ32の光軸方向
位置の調整は、第2レーザ光源31から放射されて対物
レンズ45に進行するレーザ光L2の光束を、平行光束
すなわち第1レーザ光源21から放射されて対物レンズ
45に進行するレーザ光L1の光束よりも、進行方向に
向かって僅かに広がったものにすることを意味する。こ
れにより、第2レーザ光源31から放射されて対物レー
ザ45によって集光されるレーザ光L2の光スポット位
置が、第1レーザ光源21から放射されて対物レンズ4
5によって集光されるレーザ光L1の光スポット位置よ
りも僅かに遠くなる。そして、これらの両光スポットの
位置の差が、前記第1および第2記録層MP1,MP2
間の距離Δdに対応する。
記録層MP1,MP2間の距離Δdに対応した第2コリ
メートレンズ32の光軸方向位置を計算して、同光軸方
向位置を表すフォーカス位置信号をフォーカス位置調整
回路65に出力する。フォーカス位置調整回路65は、
フォーカス位置信号に基づいてアクチュエータ33を駆
動制御して、第2コリメートレンズ32の光軸方向位置
を調整する。この第2コリメートレンズ32の光軸方向
位置の調整は、第2レーザ光源31から放射されて対物
レンズ45に進行するレーザ光L2の光束を、平行光束
すなわち第1レーザ光源21から放射されて対物レンズ
45に進行するレーザ光L1の光束よりも、進行方向に
向かって僅かに広がったものにすることを意味する。こ
れにより、第2レーザ光源31から放射されて対物レー
ザ45によって集光されるレーザ光L2の光スポット位
置が、第1レーザ光源21から放射されて対物レンズ4
5によって集光されるレーザ光L1の光スポット位置よ
りも僅かに遠くなる。そして、これらの両光スポットの
位置の差が、前記第1および第2記録層MP1,MP2
間の距離Δdに対応する。
【0035】また、コンピュータ63は、前記光スポッ
トSP1,SP2間の周方向距離ΔWに対応したミラー
プリズム35の回転位置を計算して、同回転位置を表す
回転位置信号を光スポット間隔調整回路66に出力す
る。光スポット間隔調整回路66は、この回転位置信号
に基づいてアクチュエータ37を駆動制御して、ミラー
プリズム37の回転位置を調整する。このミラープリズ
ム37の回転位置の調整は、第2レーザ光源31から放
射されて光ディスクDKに到達するレーザ光L1の光軸
を、図1の紙面に対する傾き角すなわち光スポットの位
置を光ディスクDKの周方向に移動させることを意味す
る。したがって、この光スポットの移動により、第1お
よび第2レーザ光源21、31によって光ディスクDK
にそれぞれ形成される両光スポットの周方向距離ΔWが
適宜値に設定される。
トSP1,SP2間の周方向距離ΔWに対応したミラー
プリズム35の回転位置を計算して、同回転位置を表す
回転位置信号を光スポット間隔調整回路66に出力す
る。光スポット間隔調整回路66は、この回転位置信号
に基づいてアクチュエータ37を駆動制御して、ミラー
プリズム37の回転位置を調整する。このミラープリズ
ム37の回転位置の調整は、第2レーザ光源31から放
射されて光ディスクDKに到達するレーザ光L1の光軸
を、図1の紙面に対する傾き角すなわち光スポットの位
置を光ディスクDKの周方向に移動させることを意味す
る。したがって、この光スポットの移動により、第1お
よび第2レーザ光源21、31によって光ディスクDK
にそれぞれ形成される両光スポットの周方向距離ΔWが
適宜値に設定される。
【0036】そして、支持テーブル11が初期位置にあ
る状態で、支持テーブル11上に光ディスクDKを固定
して、光学装置ODを作動させるとともに、スピンドル
モータ12およびフィードモータ13の回転を開始させ
る。なお、支持テーブル11が初期位置にある状態と
は、光ディスクDKを支持テーブル11上に載せた状態
で、光学装置ODによる光スポットが光ディスクDKの
第1および第2記録層MP1,MP2の最内周位置に形
成される状態をいう。
る状態で、支持テーブル11上に光ディスクDKを固定
して、光学装置ODを作動させるとともに、スピンドル
モータ12およびフィードモータ13の回転を開始させ
る。なお、支持テーブル11が初期位置にある状態と
は、光ディスクDKを支持テーブル11上に載せた状態
で、光学装置ODによる光スポットが光ディスクDKの
第1および第2記録層MP1,MP2の最内周位置に形
成される状態をいう。
【0037】光学装置ODの作動により、第1レーザ光
源21から放射されたS偏光のレーザ光L1は、第1コ
リメートレンズ22によって平行光束に変換され、ミラ
ープリズム41および偏光ビームスプリッタ41にて反
射され、非偏光ビームスプリッタ42に入射する。一
方、第2レーザ光源31から放射されたS偏光のレーザ
光L2は、第2コリメートレンズ32によって進行方向
に向かって僅かに広がる平行光束から僅かにずれた非平
行光束に変換されて、2分の1波長板34に入射する。
2分の1波長板34は、前記入射したS偏光のレーザ光
L2をP偏光のレーザ光L2に変換する。この変換され
たP偏光のレーザ光L2は、ミラープリズム35,36
にて反射され、偏光ビームスプリッタ41を透過して、
非偏光ビームスプリッタ42に入射する。
源21から放射されたS偏光のレーザ光L1は、第1コ
リメートレンズ22によって平行光束に変換され、ミラ
ープリズム41および偏光ビームスプリッタ41にて反
射され、非偏光ビームスプリッタ42に入射する。一
方、第2レーザ光源31から放射されたS偏光のレーザ
光L2は、第2コリメートレンズ32によって進行方向
に向かって僅かに広がる平行光束から僅かにずれた非平
行光束に変換されて、2分の1波長板34に入射する。
2分の1波長板34は、前記入射したS偏光のレーザ光
L2をP偏光のレーザ光L2に変換する。この変換され
たP偏光のレーザ光L2は、ミラープリズム35,36
にて反射され、偏光ビームスプリッタ41を透過して、
非偏光ビームスプリッタ42に入射する。
【0038】これらの入射されたレーザ光L1,L2
は、それぞれ非偏光ビームスプリッタ42を透過し、ミ
ラープリズム43にて反射され、4分の1波長板44を
介して対物レンズ45に入射する。対物レンズ45は、
これらの入射されたレーザ光L1,L2を集光して、光
ディスクDK上に光スポットSP1,SP2を形成する
(図2,3参照)。
は、それぞれ非偏光ビームスプリッタ42を透過し、ミ
ラープリズム43にて反射され、4分の1波長板44を
介して対物レンズ45に入射する。対物レンズ45は、
これらの入射されたレーザ光L1,L2を集光して、光
ディスクDK上に光スポットSP1,SP2を形成する
(図2,3参照)。
【0039】光ディスクDKは、前記レーザ光L1,L
2を反射して、同レーザ光L1,L2による両反射光を
対物レンズ45にそれぞれ入射する。対物レンズ45
は、これらのレーザ光L1,L2による両反射光を平行
光束および平行光束から僅かにずれた光束に変換し、こ
の変換されたレーザ光L1,L2による両反射光は、4
分の1波長板44を介して進行し、ミラープリズム43
および非偏光ビームスプリッタ42にて反射されて偏光
ビームスプリッタ51に入射する。
2を反射して、同レーザ光L1,L2による両反射光を
対物レンズ45にそれぞれ入射する。対物レンズ45
は、これらのレーザ光L1,L2による両反射光を平行
光束および平行光束から僅かにずれた光束に変換し、こ
の変換されたレーザ光L1,L2による両反射光は、4
分の1波長板44を介して進行し、ミラープリズム43
および非偏光ビームスプリッタ42にて反射されて偏光
ビームスプリッタ51に入射する。
【0040】4分の1波長板44は、S偏光およびP偏
光のレーザ光が入射された場合にはそれぞれ回転方向の
異なる円偏光のレーザ光に変換して出射するとともに、
円偏光のレーザ光が入射された場合にはその回転方向に
応じてS偏光およびP偏光のレーザ光にそれぞれ変換し
て出射する。また、光ディスクDKにおける円偏光のレ
ーザ光の反射においては、入射した円偏光のレーザ光の
回転方向が反転されて出射される。
光のレーザ光が入射された場合にはそれぞれ回転方向の
異なる円偏光のレーザ光に変換して出射するとともに、
円偏光のレーザ光が入射された場合にはその回転方向に
応じてS偏光およびP偏光のレーザ光にそれぞれ変換し
て出射する。また、光ディスクDKにおける円偏光のレ
ーザ光の反射においては、入射した円偏光のレーザ光の
回転方向が反転されて出射される。
【0041】したがって、第1レーザ光源21から放射
されたS偏光のレーザ光L1の光ディスクDKによる反
射光(以下、単にレーザ光L1の反射光という)は、P
偏光の反射光として偏光ビームスプリッタ51に入射す
る。したがって、このレーザ光L1の反射光は、偏光ビ
ームスプリッタ51を透過して、集光レンズ52および
シリンドリカルレンズ53を介してフォトディテクタ5
4に進行し、フォトディテクタ54によって受光され
る。一方、第2レーザ光源31から放射されるとともに
2分の1波長板L2によって変換されたP偏光のレーザ
光L2の光ディスクDKによる反射光(以下、単にレー
ザ光L2の反射光という)は、S偏光の反射光として偏
光ビームスプリッタ51に入射する。したがって、この
レーザ光L2の反射光は、偏光ビームスプリッタ51に
て反射されて、フォトディテクタ54には到達しない。
されたS偏光のレーザ光L1の光ディスクDKによる反
射光(以下、単にレーザ光L1の反射光という)は、P
偏光の反射光として偏光ビームスプリッタ51に入射す
る。したがって、このレーザ光L1の反射光は、偏光ビ
ームスプリッタ51を透過して、集光レンズ52および
シリンドリカルレンズ53を介してフォトディテクタ5
4に進行し、フォトディテクタ54によって受光され
る。一方、第2レーザ光源31から放射されるとともに
2分の1波長板L2によって変換されたP偏光のレーザ
光L2の光ディスクDKによる反射光(以下、単にレー
ザ光L2の反射光という)は、S偏光の反射光として偏
光ビームスプリッタ51に入射する。したがって、この
レーザ光L2の反射光は、偏光ビームスプリッタ51に
て反射されて、フォトディテクタ54には到達しない。
【0042】その結果、フォトディテクタ54、フォー
カスエラー信号生成回路64、フォーカスサーボ回路6
7、ドライブ回路68およびフォーカスアクチュエータ
46によるフォーカス制御は、レーザ光L1の反射光の
みに依存する。したがって、予め光ディスクDKの第1
記録層MP1に集光するように設定されている第1レー
ザ光源21からのレーザ光L1は、前記フォーカス制御
により第1記録層MP1に高精度で集光されて光スポッ
トSP1を形成する。一方、第2レーザ光源31からの
レーザ光L2は、第2コリメートレンズ32により、レ
ーザ光L1による場合よりも第1および第2記録層MP
1,MP2間の距離Δdだけ遠い位置に集光されるよう
になっているので、同レーザ光L2による光スポットS
P2も高精度で第2記録層MP2上に形成される。
カスエラー信号生成回路64、フォーカスサーボ回路6
7、ドライブ回路68およびフォーカスアクチュエータ
46によるフォーカス制御は、レーザ光L1の反射光の
みに依存する。したがって、予め光ディスクDKの第1
記録層MP1に集光するように設定されている第1レー
ザ光源21からのレーザ光L1は、前記フォーカス制御
により第1記録層MP1に高精度で集光されて光スポッ
トSP1を形成する。一方、第2レーザ光源31からの
レーザ光L2は、第2コリメートレンズ32により、レ
ーザ光L1による場合よりも第1および第2記録層MP
1,MP2間の距離Δdだけ遠い位置に集光されるよう
になっているので、同レーザ光L2による光スポットS
P2も高精度で第2記録層MP2上に形成される。
【0043】このように第1および第2記録層MP1,
MP2にレーザ光L1,L2による光スポットが形成さ
れた状態で、スピンドルモータ制御回路61、フィード
モータ制御回路62およびコンピュータ63による前述
した制御のもとに、スピンドルモータ12およびフィー
ドモータ13は回転する。このスピンドルモータ12お
よびフィードモータ13の回転により、レーザ光L1,
L2による光スポットSP1,SP2が、線速度一定で
回転しながら第1および第2記録層MP1,MP2をそ
れらの最内周から最外周まで外側に向かって走査するの
で、第1および第2記録層MP1,MP2の全てが初期
化される。そして、この初期化を終了した時点で、フィ
ードモータ62およびコンピュータ63の制御のもとに
フィードモータ13を前記とは逆転させて、支持テーブ
ル11、スピンドルモータ12などを初期位置に復帰さ
せる。なお、光ディスクDKに対するレーザ光L1,L
2による光スポットSP1,SP2の走査においては、
光ディスクDKの第1および第2記録層MP1,MP2
をそれらの最外周から最内周まで内側に向かって走査す
るようにしてもよい。
MP2にレーザ光L1,L2による光スポットが形成さ
れた状態で、スピンドルモータ制御回路61、フィード
モータ制御回路62およびコンピュータ63による前述
した制御のもとに、スピンドルモータ12およびフィー
ドモータ13は回転する。このスピンドルモータ12お
よびフィードモータ13の回転により、レーザ光L1,
L2による光スポットSP1,SP2が、線速度一定で
回転しながら第1および第2記録層MP1,MP2をそ
れらの最内周から最外周まで外側に向かって走査するの
で、第1および第2記録層MP1,MP2の全てが初期
化される。そして、この初期化を終了した時点で、フィ
ードモータ62およびコンピュータ63の制御のもとに
フィードモータ13を前記とは逆転させて、支持テーブ
ル11、スピンドルモータ12などを初期位置に復帰さ
せる。なお、光ディスクDKに対するレーザ光L1,L
2による光スポットSP1,SP2の走査においては、
光ディスクDKの第1および第2記録層MP1,MP2
をそれらの最外周から最内周まで内側に向かって走査す
るようにしてもよい。
【0044】上記作動説明からも理解できるとおり、上
記実施形態によれば、第1および第2レーザ光源21,
31からのレーザ光L1,L2を、対物レンズ45を介
して光ディスクDKの片面側から異なる深さに位置する
第1および第2記録層MP1,MP2に同時に集光させ
ることにより、同第1および第2記録層MP1,MP2
を同時に初期化することができるので、片面側に2層の
記録層MP1,MP2を設けた光ディスクDKを短時間
で初期化できる。また、第1および第2レーザ光源2
1,31からのレーザ光L1,L2に対して一つの対物
レンズ45を共用するようにしたので、初期化装置の構
成が簡単になるとともに、その製造コストを低減でき
る。
記実施形態によれば、第1および第2レーザ光源21,
31からのレーザ光L1,L2を、対物レンズ45を介
して光ディスクDKの片面側から異なる深さに位置する
第1および第2記録層MP1,MP2に同時に集光させ
ることにより、同第1および第2記録層MP1,MP2
を同時に初期化することができるので、片面側に2層の
記録層MP1,MP2を設けた光ディスクDKを短時間
で初期化できる。また、第1および第2レーザ光源2
1,31からのレーザ光L1,L2に対して一つの対物
レンズ45を共用するようにしたので、初期化装置の構
成が簡単になるとともに、その製造コストを低減でき
る。
【0045】また、第1レーザ光源21からのレーザ光
L1の反射光を用いて、同レーザ光L1を第1記録層M
P1にフォーカス制御するようにしたので、光ディスク
DKが撓んでいても、第1記録層MP1を高精度で初期
化できる。また、第1および第2記録層MP1,MP2
間の距離Δdは一つの光ディスクDK内ではほぼ一定で
あるので、第2コリメートレンズ32の光軸方向の位置
調整により、第2レーザ光源31からのレーザ光L2の
光スポットSP2も常に第2記録層MP2に形成するこ
とができ、第2記録層MP2も高精度で初期化できる。
さらに、前記フォーカス制御のための光学装置および電
気回路装置を1組設けるだけでよく、装置全体を簡単に
構成できるので、その製造コストを低減できる。
L1の反射光を用いて、同レーザ光L1を第1記録層M
P1にフォーカス制御するようにしたので、光ディスク
DKが撓んでいても、第1記録層MP1を高精度で初期
化できる。また、第1および第2記録層MP1,MP2
間の距離Δdは一つの光ディスクDK内ではほぼ一定で
あるので、第2コリメートレンズ32の光軸方向の位置
調整により、第2レーザ光源31からのレーザ光L2の
光スポットSP2も常に第2記録層MP2に形成するこ
とができ、第2記録層MP2も高精度で初期化できる。
さらに、前記フォーカス制御のための光学装置および電
気回路装置を1組設けるだけでよく、装置全体を簡単に
構成できるので、その製造コストを低減できる。
【0046】また、上記実施形態においては、第2コリ
メートレンズ32の光軸方向位置を変化させることによ
り、光ディスクDK内に形成される光スポットSP1,
SP2の位置の深さの差Δdを変化させることができ
る。また、ミラープリズム35の回転位置を変化させる
ことにより、光ディスクDK内に形成されるレーザ光L
1,L2の光スポットSP1,SP2の周方向距離ΔW
を変化させることができる。したがって、上記実施形態
に係る初期化装置を、種々のタイプの光ディスクの初期
化に利用できる。
メートレンズ32の光軸方向位置を変化させることによ
り、光ディスクDK内に形成される光スポットSP1,
SP2の位置の深さの差Δdを変化させることができ
る。また、ミラープリズム35の回転位置を変化させる
ことにより、光ディスクDK内に形成されるレーザ光L
1,L2の光スポットSP1,SP2の周方向距離ΔW
を変化させることができる。したがって、上記実施形態
に係る初期化装置を、種々のタイプの光ディスクの初期
化に利用できる。
【0047】さらに、本発明の実施にあたっては、上記
実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、
本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変形も可
能である。例えば、第1コリメートレンズ22から出射
されるレーザ光L1を平行光束でなくして、第2コリメ
ートレンズ32から出射されるレーザ光L2を平行光束
にするようにしてもよい。この場合、レーザ光L1を進
行方向に向かって僅かに狭まる光束にするとよい。ま
た、レーザ光L1,L2を共に平行から僅かにずらせた
光束としてもよい。要は、レーザ光L1,L2を共に平
行光束またはほぼ平行な光束にしておき、レーザ光L
1、L2が、それぞれ光ディスクDKの第1および第2
記録層MP1,MP2に集光されて光スポットを形成す
るようにすればよい。
実施形態およびその変形例に限定されるものではなく、
本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変形も可
能である。例えば、第1コリメートレンズ22から出射
されるレーザ光L1を平行光束でなくして、第2コリメ
ートレンズ32から出射されるレーザ光L2を平行光束
にするようにしてもよい。この場合、レーザ光L1を進
行方向に向かって僅かに狭まる光束にするとよい。ま
た、レーザ光L1,L2を共に平行から僅かにずらせた
光束としてもよい。要は、レーザ光L1,L2を共に平
行光束またはほぼ平行な光束にしておき、レーザ光L
1、L2が、それぞれ光ディスクDKの第1および第2
記録層MP1,MP2に集光されて光スポットを形成す
るようにすればよい。
【0048】また、上記実施形態では、第2コリメート
レンズ32を光軸方向に変位可能にしたが、これに代え
またはこれに加えて、第1コリメートレンズ22を光軸
方向に変位可能にするようにしてもよい。この場合、第
1コリメートレンズ22を光軸方向に駆動するアクチュ
エータを設けて、同アクチュエータをコンピュータ63
およびフォーカス位置調整回路65を用いて駆動制御す
るようにすればよい。
レンズ32を光軸方向に変位可能にしたが、これに代え
またはこれに加えて、第1コリメートレンズ22を光軸
方向に変位可能にするようにしてもよい。この場合、第
1コリメートレンズ22を光軸方向に駆動するアクチュ
エータを設けて、同アクチュエータをコンピュータ63
およびフォーカス位置調整回路65を用いて駆動制御す
るようにすればよい。
【0049】また、上記実施形態においては、ミラープ
リズム35のみを回転させてレーザ光L2の光軸の図1
の紙面に対する傾きを変化させるようにしたが、これに
代えまたはこれに加えて、ミラープリズム23をミラー
プリズム35の場合と同様に回転させて、レーザ光L1
の光軸の紙面に対する傾きを変化させて、光ディスクD
Kに形成される光スポットSP1の位置を光ディスクD
Kの周方向に変化させるようにしてもよい。この場合
も、ミラープリズム23に進行するレーザ光L1の光軸
が紙面に対して垂直になるように第1レーザ光源21、
第1コリメートレンズ22およびミラープリズム23を
配置するとともに、ミラープリズム23を紙面に平行な
軸線回りに回転させるアクチュエータを設けておき、コ
ンピュータ63および光スポット間隔調整回路66が同
アクチュエータを駆動制御するようにするとよい。
リズム35のみを回転させてレーザ光L2の光軸の図1
の紙面に対する傾きを変化させるようにしたが、これに
代えまたはこれに加えて、ミラープリズム23をミラー
プリズム35の場合と同様に回転させて、レーザ光L1
の光軸の紙面に対する傾きを変化させて、光ディスクD
Kに形成される光スポットSP1の位置を光ディスクD
Kの周方向に変化させるようにしてもよい。この場合
も、ミラープリズム23に進行するレーザ光L1の光軸
が紙面に対して垂直になるように第1レーザ光源21、
第1コリメートレンズ22およびミラープリズム23を
配置するとともに、ミラープリズム23を紙面に平行な
軸線回りに回転させるアクチュエータを設けておき、コ
ンピュータ63および光スポット間隔調整回路66が同
アクチュエータを駆動制御するようにするとよい。
【0050】また、上記実施形態では、第1レーザ光源
21からのレーザ光L1による光ディスクDKからの反
射光を用いて対物レンズ45をフォーカス制御するよう
にした。しかし、これに代えて、第2レーザ光源31か
らのレーザ光L2による光ディスクDKからの反射光を
用いて対物レンズ45をフォーカス制御するようにして
もよい。この場合、偏光ビームスプリッタ51にて反射
されたS偏光のレーザ光(レーザ光L2による光ディス
クDKからの反射光)を4分割フォトディテクタ64に
導くようにして、フォーカス制御を行うようにすればよ
い。この場合、第2レーザ光源31からのレーザ光L2
が光ディスクDKの第2記録層MP2に集光されて光ス
ポットSP2を形成するように、対物レンズ45がフォ
ーカス制御される。そして、第2レーザ光源31からの
レーザ光L2に対する第1レーザ光源21からのレーザ
光L1の光束の広がり度合いのずれにより、レーザ光L
1は光ディスクDKの第1記録層SP1に集光されて光
スポットSP1を形成する。
21からのレーザ光L1による光ディスクDKからの反
射光を用いて対物レンズ45をフォーカス制御するよう
にした。しかし、これに代えて、第2レーザ光源31か
らのレーザ光L2による光ディスクDKからの反射光を
用いて対物レンズ45をフォーカス制御するようにして
もよい。この場合、偏光ビームスプリッタ51にて反射
されたS偏光のレーザ光(レーザ光L2による光ディス
クDKからの反射光)を4分割フォトディテクタ64に
導くようにして、フォーカス制御を行うようにすればよ
い。この場合、第2レーザ光源31からのレーザ光L2
が光ディスクDKの第2記録層MP2に集光されて光ス
ポットSP2を形成するように、対物レンズ45がフォ
ーカス制御される。そして、第2レーザ光源31からの
レーザ光L2に対する第1レーザ光源21からのレーザ
光L1の光束の広がり度合いのずれにより、レーザ光L
1は光ディスクDKの第1記録層SP1に集光されて光
スポットSP1を形成する。
【0051】また、上記実施形態では、第1レーザ光源
21から放射されたS偏光のレーザ光L1を偏光ビーム
スプリッタ41で反射させて対物レンズ45に導くとと
もに、第2レーザ光源31から放射されたS偏光のレー
ザ光L2を2分の1波長板34で変換したP偏光のレー
ザ光L2を偏光ビームスプリッタ41を透過させて対物
レンズ45に導くようにした。しかし、第1レーザ光源
21から放射されたS偏光のレーザ光L1および2分の
1波長板34で変換されたP偏光のレーザ光L2がそれ
ぞれ自然発光成分を含まない純粋なものであれば、偏光
ビームスプリッタ41を省略して、第1レーザ光源21
から放射されたS偏光のレーザ光L1および2分の1波
長板34で変換されたP偏光のレーザ光L2を偏光ビー
ムスプリッタ41を介さず、対物レンズ45に導くよう
にしてもよい。
21から放射されたS偏光のレーザ光L1を偏光ビーム
スプリッタ41で反射させて対物レンズ45に導くとと
もに、第2レーザ光源31から放射されたS偏光のレー
ザ光L2を2分の1波長板34で変換したP偏光のレー
ザ光L2を偏光ビームスプリッタ41を透過させて対物
レンズ45に導くようにした。しかし、第1レーザ光源
21から放射されたS偏光のレーザ光L1および2分の
1波長板34で変換されたP偏光のレーザ光L2がそれ
ぞれ自然発光成分を含まない純粋なものであれば、偏光
ビームスプリッタ41を省略して、第1レーザ光源21
から放射されたS偏光のレーザ光L1および2分の1波
長板34で変換されたP偏光のレーザ光L2を偏光ビー
ムスプリッタ41を介さず、対物レンズ45に導くよう
にしてもよい。
【0052】また、逆に、偏光ビームスプリッタ41に
よる不要な透過光および反射光を問題視しなければ、偏
光ビームスプリッタ41はもともとS偏光のレーザ光を
反射し、P偏光のレーザ光を透過させるものであるの
で、第1レーザ光源21,31からS偏光およびP偏光
の両者を含むレーザ光L1,L2をそれぞれ放射させる
ようにしてもよい。この場合、レーザ光L1に含まれる
S偏光およびP偏光のレーザ光のうちのS偏光のレーザ
光のみが偏光ビームスプリッタ41で反射されて、対物
レンズ45に導かれる。また、レーザ光L2に含まれる
S偏光およびP偏光のレーザ光のうちのP偏光のレーザ
光のみが偏光ビームスプリッタ41を透過して対物レン
ズ45に導かれる。したがって、この場合でも、上記実
施形態と同様な効果が期待される。なお、この場合、2
分の1波長板34は不用となる。
よる不要な透過光および反射光を問題視しなければ、偏
光ビームスプリッタ41はもともとS偏光のレーザ光を
反射し、P偏光のレーザ光を透過させるものであるの
で、第1レーザ光源21,31からS偏光およびP偏光
の両者を含むレーザ光L1,L2をそれぞれ放射させる
ようにしてもよい。この場合、レーザ光L1に含まれる
S偏光およびP偏光のレーザ光のうちのS偏光のレーザ
光のみが偏光ビームスプリッタ41で反射されて、対物
レンズ45に導かれる。また、レーザ光L2に含まれる
S偏光およびP偏光のレーザ光のうちのP偏光のレーザ
光のみが偏光ビームスプリッタ41を透過して対物レン
ズ45に導かれる。したがって、この場合でも、上記実
施形態と同様な効果が期待される。なお、この場合、2
分の1波長板34は不用となる。
【図1】 本発明の一実施形態に係る光ディスクの初期
化装置の全体概略図である。
化装置の全体概略図である。
【図2】 光ディスクにおける第1及び第2記録層と、
両記録層へのレーザの照射状態を示す図である。
両記録層へのレーザの照射状態を示す図である。
【図3】 光ディスク上への光スポットの形成状態を示
す図である。
す図である。
DK…光ディスク、12…スピンドルモータ、13…フ
ィードモータ、21…第1レーザ光源、22…第1コリ
メートレンズ、31…第2レーザ光源、32…第2コリ
メートレンズ、33,37…アクチュエータ、34…2
分の1波長板、35…ミラープリズム、41,51…偏
光ビームスプリッタ、42…非偏光ビームスプリッタ、
44…4分の1波長板、45…対物レンズ、46…フォ
ーカスアクチュエータ、54…4分割フォトディテク
タ、63…コンピュータ、67…フォーカスサーボ回
路。
ィードモータ、21…第1レーザ光源、22…第1コリ
メートレンズ、31…第2レーザ光源、32…第2コリ
メートレンズ、33,37…アクチュエータ、34…2
分の1波長板、35…ミラープリズム、41,51…偏
光ビームスプリッタ、42…非偏光ビームスプリッタ、
44…4分の1波長板、45…対物レンズ、46…フォ
ーカスアクチュエータ、54…4分割フォトディテク
タ、63…コンピュータ、67…フォーカスサーボ回
路。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 5D090 AA01 BB05 BB12 CC11 KK13
5D118 AA13 BA01 BB07 BB08 CD02
CG03 CG26
5D119 AA28 AA50 BA01 BB04 BB13
EA03 EC40 FA08
5D789 AA28 AA50 BA01 BB04 BB13
EA03 EC40 FA08
Claims (5)
- 【請求項1】光ディスクの記録層に対物レンズを用いて
レーザ光を集光させて光ディスクの記録層を初期化する
光ディスクの初期化装置において、 平行またはほぼ平行な光束を有する第1レーザ光を前記
対物レンズに放射する第1レーザ光放射装置と、 平行またはほぼ平行な光束を有するとともに前記第1レ
ーザ光とは独立した第2レーザ光を前記対物レンズに放
射する第2レーザ光放射装置とを設け、 前記第1および第2レーザ光の両光束の広がりまたは狭
まり度合いを互いに僅かに異ならせておき、前記対物レ
ンズにより、光ディスクの異なる深さに位置する第1お
よび第2記録層に前記第1および第2レーザ光をそれぞ
れ集光させて、光ディスクの片面側に設けた第1および
第2記録層を同時に初期化するようにした光ディスクの
初期化装置。 - 【請求項2】前記請求項1に記載の光ディスクの初期化
装置において、 前記第1レーザ光放射装置を、レーザ光を放射する第1
レーザ光源と、前記第1レーザ光源からのレーザ光を平
行またはほぼ平行な光束にして出射する第1コリメート
レンズとで構成するとともに、 前記第2レーザ光放射装置を、レーザ光を放射する第2
レーザ光源と、前記第2レーザ光源からのレーザ光を平
行またはほぼ平行な光束にして出射する第2コリメート
レンズとで構成し、 前記第1および第2コリメートレンズのうちの少なくと
も一方を光軸方向に変位可能に構成した光ディスクの初
期化装置。 - 【請求項3】前記請求項1または2に記載の光ディスク
の初期化装置において、さらに、 前記対物レンズを光軸方向に変位させることが可能なフ
ォーカスアクチュエータと、 前記第1および第2レーザ光のうちのいずれか一方のレ
ーザ光による光ディスクからの反射光に基づいて前記フ
ォーカスアクチュエータを駆動制御して前記対物レンズ
をフォーカス制御するフォーカス制御回路とを備えた光
ディスクの初期化装置。 - 【請求項4】前記請求項3に記載の光ディスクの初期化
装置において、さらに、 前記第1および第2レーザ光放射装置から放射された第
1および第2レーザ光のうちのいずれか一方のレーザ光
を反射させてS偏光のレーザ光を前記対物レンズに進行
させるとともに、他方のレーザ光を透過させてP偏光の
レーザ光を前記対物レンズに進行させる第1偏光ビーム
スプリッタと、 前記第1偏光ビームスプリッタから前記対物レンズへの
光路に介装されて、前記第1偏光ビームスプリッタから
進行する第1および第2レーザ光を透過して前記対物レ
ンズにそれぞれ導くとともに、前記第1および第2レー
ザ光にそれぞれ対応していて光ディスクにて反射されて
前記対物レンズを介して進行する第1および第2反射光
をそれぞれ反射する非偏光ビームスプリッタと、 前記非偏光ビームスプリッタと前記対物レンズとの間の
光路に介装された4分の1波長板と、 前記非偏光ビームスプリッタによって反射された第1お
よび第2反射光を入射してS偏光のレーザ光を反射する
とともにP偏光のレーザ光を透過する第2偏光ビームス
プリッタと、 前記第2偏光ビームスプリッタによって反射されたS偏
光のレーザ光または同第2偏光ビームスプリッタを透過
したP偏光のレーザ光を受光するフォトディテクタとを
備え、 前記フォーカス制御回路は、前記フォトディテクタによ
って受光されたP偏光またはS偏光のレーザ光に応じて
前記フォーカスアクチュエータを駆動制御する光ディス
クの初期化装置。 - 【請求項5】光ディスクの記録層に対物レンズを用いて
レーザ光を集光させて光ディスクの記録層を初期化する
光ディスクの初期化方法において、 平行またはほぼ平行な光束を有するとともに光束の広が
りまたは狭まり度合いを互いに僅かに異ならせた第1お
よび第2レーザ光を前記対物レンズに入射させ、かつ前
記対物レンズにより、光ディスクの異なる深さに位置す
る第1および第2記録層に前記第1および第2レーザ光
をそれぞれ集光させて、 光ディスクの片面側に設けた第1および第2記録層を同
時に初期化するようにした光ディスクの初期化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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2002
- 2002-05-21 JP JP2002146371A patent/JP2003338048A/ja active Pending
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