JPH0845114A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
- Publication number
- JPH0845114A JPH0845114A JP18247694A JP18247694A JPH0845114A JP H0845114 A JPH0845114 A JP H0845114A JP 18247694 A JP18247694 A JP 18247694A JP 18247694 A JP18247694 A JP 18247694A JP H0845114 A JPH0845114 A JP H0845114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- master exposure
- exposure apparatus
- modulator
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】露光ビーム形状を整形でき、レジスト板（光デ
ィスク原盤）に形成する溝形状を矩形化することのでき
る光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】本発明では、レーザ光源１より出射したレーザ
光が光量変調器２及びパルス変調器３により変調光とな
り、第１レンズ４、偏向変調器５、第２レンズ６でビー
ム整形を行ない、反射ミラー７によりレーザ光を一部抽
出して対物レンズ８によりレジスト板９へ露光を行なう
露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装置において、
ビーム整形に用いる第１レンズ４、第２レンズ６には同
じ焦点距離のレンズを用い、第２レンズ６によりコリメ
ートを行なう。ビーム整形に用いる偏向変調器５はラマ
ンナス回折をするように調整して±１次光の強度分布が
均一になるように設置する。また、偏向変調器５はレジ
スト板９の半径方向に±１次回折光が得られるように設
置する。
ィスク原盤）に形成する溝形状を矩形化することのでき
る光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】本発明では、レーザ光源１より出射したレーザ
光が光量変調器２及びパルス変調器３により変調光とな
り、第１レンズ４、偏向変調器５、第２レンズ６でビー
ム整形を行ない、反射ミラー７によりレーザ光を一部抽
出して対物レンズ８によりレジスト板９へ露光を行なう
露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装置において、
ビーム整形に用いる第１レンズ４、第２レンズ６には同
じ焦点距離のレンズを用い、第２レンズ６によりコリメ
ートを行なう。ビーム整形に用いる偏向変調器５はラマ
ンナス回折をするように調整して±１次光の強度分布が
均一になるように設置する。また、偏向変調器５はレジ
スト板９の半径方向に±１次回折光が得られるように設
置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤用のレ
ジスト板にレーザ光を露光しトラック案内溝用のグルー
ブ（溝）や信号用のピット（穴）を記録する光ディスク
原盤露光装置に関する。
ジスト板にレーザ光を露光しトラック案内溝用のグルー
ブ（溝）や信号用のピット（穴）を記録する光ディスク
原盤露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ディスク原盤用のレジスト板に
露光光学系でレーザ光を露光しトラック案内溝用のグル
ーブや信号用のピットを記録する光ディスク原盤露光装
置が知られているが、その中で、光ディスク原盤露光
装置の露光光学系において、溝形成用のレーザ光を２つ
に分割し、図６に示すように、ディスクの半径方向で２
つのレーザ光の強度分布が一部重なるように再び重ね合
わせて肩ダレの少ない溝形成を行なう技術が提案されて
いる（特開平５−３１４５４３号公報）。また、２枚
のレンズを用いたビームエキスパンダでビーム径を拡大
して、ピンホール等でビーム整形を行ない溝形状を変化
させる技術が知られている。
露光光学系でレーザ光を露光しトラック案内溝用のグル
ーブや信号用のピットを記録する光ディスク原盤露光装
置が知られているが、その中で、光ディスク原盤露光
装置の露光光学系において、溝形成用のレーザ光を２つ
に分割し、図６に示すように、ディスクの半径方向で２
つのレーザ光の強度分布が一部重なるように再び重ね合
わせて肩ダレの少ない溝形成を行なう技術が提案されて
いる（特開平５−３１４５４３号公報）。また、２枚
のレンズを用いたビームエキスパンダでビーム径を拡大
して、ピンホール等でビーム整形を行ない溝形状を変化
させる技術が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来技術で
は、光学素子を用いてレーザ光を２分割しているため、
その光軸調整は非常に困難なものとなる。また、レーザ
チューブの寿命によるチューブ交換時においても再度調
整が必要であり、再現性も良くない。そしてこの方式で
は、図６（ｂ）に示すように溝幅は広くなるが、実際に
は光軸調整のずれやガウス強度分布の影響で肩ダレが生
じるため、良好な信号特性は得られず、図７(ｂ)のよう
な強度分布となる場合がある。またこの場合、レジスト
板に形成される溝底部もガウス強度分布の影響のため台
形とはならず、図７(ｂ)に示すようなＶ字形状になって
しまう虞れがある。また、前記のビームエキスパンダ
とピンホールを用いたビーム整形法では、図８に示すよ
うに、ピンホールによる回折が生じエアリーディスクが
発生するため、良好なビーム強度分布が得られず、露光
溝にもエアリーディスクの影響がでてしまい、レジスト
板表面を荒らしてしまう原因となる。また、大出力のレ
ーザも必要となり、装置が大型化してしまう。また、溝
形成を変更するにはビームエキスパンダ比を変えるか、
ピンホール径を変えるため、その都度調整が必要にな
り、再現性も良くないという欠点がある。
は、光学素子を用いてレーザ光を２分割しているため、
その光軸調整は非常に困難なものとなる。また、レーザ
チューブの寿命によるチューブ交換時においても再度調
整が必要であり、再現性も良くない。そしてこの方式で
は、図６（ｂ）に示すように溝幅は広くなるが、実際に
は光軸調整のずれやガウス強度分布の影響で肩ダレが生
じるため、良好な信号特性は得られず、図７(ｂ)のよう
な強度分布となる場合がある。またこの場合、レジスト
板に形成される溝底部もガウス強度分布の影響のため台
形とはならず、図７(ｂ)に示すようなＶ字形状になって
しまう虞れがある。また、前記のビームエキスパンダ
とピンホールを用いたビーム整形法では、図８に示すよ
うに、ピンホールによる回折が生じエアリーディスクが
発生するため、良好なビーム強度分布が得られず、露光
溝にもエアリーディスクの影響がでてしまい、レジスト
板表面を荒らしてしまう原因となる。また、大出力のレ
ーザも必要となり、装置が大型化してしまう。また、溝
形成を変更するにはビームエキスパンダ比を変えるか、
ピンホール径を変えるため、その都度調整が必要にな
り、再現性も良くないという欠点がある。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
って、その目的は、上記従来技術の問題を解決し、所望
の強度分布が得られる露光ビーム形状に整形でき、レジ
スト板（光ディスク原盤）に形成する溝形状を矩形化す
ることのできる光ディスク原盤露光装置を提供すること
である。
って、その目的は、上記従来技術の問題を解決し、所望
の強度分布が得られる露光ビーム形状に整形でき、レジ
スト板（光ディスク原盤）に形成する溝形状を矩形化す
ることのできる光ディスク原盤露光装置を提供すること
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、レーザ光源(１)より出射したレーザ光が
光量変調器(２)及びパルス変調器(３)により変調光とな
り、第１レンズ(４)、偏向変調器(５)、第２レンズ(６)
でビーム整形を行ない、反射ミラー(７)によりレーザ光
を一部抽出して対物レンズ(８)によりレジスト板(９)へ
露光を行なう露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装
置において、前記ビーム整形に用いる第１レンズ(４)、
第２レンズ(６)には同じ焦点距離のレンズを用い、第２
レンズ(６)によりコリメートされていることを特徴とす
る（図１，２）。
め、本発明は、レーザ光源(１)より出射したレーザ光が
光量変調器(２)及びパルス変調器(３)により変調光とな
り、第１レンズ(４)、偏向変調器(５)、第２レンズ(６)
でビーム整形を行ない、反射ミラー(７)によりレーザ光
を一部抽出して対物レンズ(８)によりレジスト板(９)へ
露光を行なう露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装
置において、前記ビーム整形に用いる第１レンズ(４)、
第２レンズ(６)には同じ焦点距離のレンズを用い、第２
レンズ(６)によりコリメートされていることを特徴とす
る（図１，２）。
【０００６】ここで本発明では、前記ビーム整形に用い
る偏向変調器(５)はラマンナス回折をするように調整し
て±１次光の強度分布が均一になるように設置した（請
求項２）。また、前記偏向変調器(５)はレジスト板(９)
の半径方向に±１次回折光が得られるように設置した
（請求項３）。また、前記偏向変調器(５)による偏向角
θは、対物レンズ(８)の有効口径をａ、第２レンズ(６)
の焦点距離をＦとすると、 θ≦tan~1(ａ／２Ｆ) であることを特徴とする（請求項４）。
る偏向変調器(５)はラマンナス回折をするように調整し
て±１次光の強度分布が均一になるように設置した（請
求項２）。また、前記偏向変調器(５)はレジスト板(９)
の半径方向に±１次回折光が得られるように設置した
（請求項３）。また、前記偏向変調器(５)による偏向角
θは、対物レンズ(８)の有効口径をａ、第２レンズ(６)
の焦点距離をＦとすると、 θ≦tan~1(ａ／２Ｆ) であることを特徴とする（請求項４）。
【０００７】さらに本発明では、ビーム整形後のレーザ
光の一部を抽出して対物レンズ(８)へ入射させる反射ミ
ラー(７)の径をａ√２とし、該反射ミラー(７)による反
射光を対物レンズ(８)へ垂直に入射するように設置した
（請求項５）。また、前記反射ミラー(７)の中心を偏向
変調器(５)からの０次光光軸位置と一致させた（請求項
６）。
光の一部を抽出して対物レンズ(８)へ入射させる反射ミ
ラー(７)の径をａ√２とし、該反射ミラー(７)による反
射光を対物レンズ(８)へ垂直に入射するように設置した
（請求項５）。また、前記反射ミラー(７)の中心を偏向
変調器(５)からの０次光光軸位置と一致させた（請求項
６）。
【０００８】
【作用】本発明の光ディスク原盤露光装置においては、
ビーム整形に用いる第１レンズ(４)、第２レンズ(６)に
は同じ焦点距離のレンズを用いているので、光学素子に
よるビーム径が変化することがなく、また、第２レンズ
(６)によりコリメート光としているので、第２レンズ
(６)以後のレーザ光に角度変動を起こさず、±１次光も
０次光光軸に対して平行となり、対物レンズ(８)により
レジスト板(９)上に合焦させることができる。
ビーム整形に用いる第１レンズ(４)、第２レンズ(６)に
は同じ焦点距離のレンズを用いているので、光学素子に
よるビーム径が変化することがなく、また、第２レンズ
(６)によりコリメート光としているので、第２レンズ
(６)以後のレーザ光に角度変動を起こさず、±１次光も
０次光光軸に対して平行となり、対物レンズ(８)により
レジスト板(９)上に合焦させることができる。
【０００９】さらに本発明では、前記偏向変調器(５)は
ラマンナス回折をするように設置されているので、±１
次光に光量差がなく、本発明によるビーム整形で均等な
強度分布が得られる。また、偏向変調器(５)がレジスト
板の半径方向に±１次光が得られるように設置してある
ので、レジスト板上に形成される溝の断面形状を変える
ことが可能となり、矩形化することが可能となる。ま
た、偏向変調器(５)による偏向角θを、θ≦tan~1(ａ／
２Ｆ) とすることで、±１次光の強度分布のピーク値が
対物レンズ(８)の有効口径ａ以下となり、対物レンズ
(８)に入射されるビーム強度分布は常に０次光及び±１
次光のピーク値が入射され、光利用効率の低下を防ぐこ
とができる。
ラマンナス回折をするように設置されているので、±１
次光に光量差がなく、本発明によるビーム整形で均等な
強度分布が得られる。また、偏向変調器(５)がレジスト
板の半径方向に±１次光が得られるように設置してある
ので、レジスト板上に形成される溝の断面形状を変える
ことが可能となり、矩形化することが可能となる。ま
た、偏向変調器(５)による偏向角θを、θ≦tan~1(ａ／
２Ｆ) とすることで、±１次光の強度分布のピーク値が
対物レンズ(８)の有効口径ａ以下となり、対物レンズ
(８)に入射されるビーム強度分布は常に０次光及び±１
次光のピーク値が入射され、光利用効率の低下を防ぐこ
とができる。
【００１０】さらに、前記反射ミラー(７)は直径がａ√
２であり、ビーム整形後のレーザ光を９０°反射するよ
うに設置してあるので、反射したレーザ光のビーム径は
対物レンズ(８)の有効口径ａと同じになり、しかも一部
反射であるので、回折による影響（エアリーディスクの
発生）がなく、ビーム整形ができる。また、反射ミラー
(７)の中心位置と偏向変調器(５)による０次光光軸位置
を一致させているので、±１次光の強度分布のピーク位
置でビームをカットし、反射することができる。
２であり、ビーム整形後のレーザ光を９０°反射するよ
うに設置してあるので、反射したレーザ光のビーム径は
対物レンズ(８)の有効口径ａと同じになり、しかも一部
反射であるので、回折による影響（エアリーディスクの
発生）がなく、ビーム整形ができる。また、反射ミラー
(７)の中心位置と偏向変調器(５)による０次光光軸位置
を一致させているので、±１次光の強度分布のピーク位
置でビームをカットし、反射することができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細
に説明する。図１に本発明による光ディスク原盤露光装
置の露光光学系の構成例を示す。ここで、図中符号１は
Ａｒ+ レーザを用いたレーザ光源、２は光量変調器、３
はパルス変調器、４は第１レンズ、５は偏向変調器、６
は第２レンズ、７は反射ミラー、８は対物レンズ、９は
光ディスク原盤作製用のレジスト板（円盤状のガラス基
板にフォトレジストを塗布したもの）をそれぞれ示して
いる。
に説明する。図１に本発明による光ディスク原盤露光装
置の露光光学系の構成例を示す。ここで、図中符号１は
Ａｒ+ レーザを用いたレーザ光源、２は光量変調器、３
はパルス変調器、４は第１レンズ、５は偏向変調器、６
は第２レンズ、７は反射ミラー、８は対物レンズ、９は
光ディスク原盤作製用のレジスト板（円盤状のガラス基
板にフォトレジストを塗布したもの）をそれぞれ示して
いる。
【００１２】図１において、Ａｒ+ レーザ光源１より出
射したレーザ光は光量変調器２、パルス変調器３により
変調される。変調されたレーザ光は焦点距離Ｆの第１レ
ンズ４により集光され、この集光位置に偏向変調器５が
設置される。偏向変調器５は図４に示すように、０次光
（非回折光）に加えて±１次回折光（ラマンナス回折
光）が出るように調整されている。そして偏向変調器５
により０次，±１次光に回折されたレーザ光は再び第２
レンズ６でコリメートされ、平行光となる。そして、０
次，±１次光の３本の平行光に分割されたレーザ光は反
射ミラー７で一部が抽出（反射）されて対物レンズ８へ
入射する。この反射ミラー７はその反射光が対物レンズ
８の有効口径ａになるようなミラー径（ａ√２）となっ
ており、対物レンズ８の有効口径に対応する部分のみが
反射される。そして対物レンズ８へ入射したレーザ光は
対物レンズ８により集光されサブミクロンまで絞られて
レジスト板９に照射され、露光を行なう。尚、本発明の
光ディスク原盤露光装置では、第１レンズ４、偏向変調
器５、第２レンズ６、反射ミラー７でビーム整形部が構
成されているが、以下において、このビーム整形部の動
作を詳しく説明する。
射したレーザ光は光量変調器２、パルス変調器３により
変調される。変調されたレーザ光は焦点距離Ｆの第１レ
ンズ４により集光され、この集光位置に偏向変調器５が
設置される。偏向変調器５は図４に示すように、０次光
（非回折光）に加えて±１次回折光（ラマンナス回折
光）が出るように調整されている。そして偏向変調器５
により０次，±１次光に回折されたレーザ光は再び第２
レンズ６でコリメートされ、平行光となる。そして、０
次，±１次光の３本の平行光に分割されたレーザ光は反
射ミラー７で一部が抽出（反射）されて対物レンズ８へ
入射する。この反射ミラー７はその反射光が対物レンズ
８の有効口径ａになるようなミラー径（ａ√２）となっ
ており、対物レンズ８の有効口径に対応する部分のみが
反射される。そして対物レンズ８へ入射したレーザ光は
対物レンズ８により集光されサブミクロンまで絞られて
レジスト板９に照射され、露光を行なう。尚、本発明の
光ディスク原盤露光装置では、第１レンズ４、偏向変調
器５、第２レンズ６、反射ミラー７でビーム整形部が構
成されているが、以下において、このビーム整形部の動
作を詳しく説明する。
【００１３】図２は上記ビーム整形部の構成及び動作の
説明図である。図２において、第１レンズ４で集光され
たレーザ光は合焦点で図４に示す構成の偏向変調器５に
より０次光及び±１次回折光に分割される。その時の偏
向角θは、対物レンズ８の有効口径をａ，第１，第２レ
ンズ４，６の焦点距離をＦとすると、 θ＝tan~1(ａ／２Ｆ) ・・・(１) で与えられ、この偏向角を与えるための偏向変調器５の
駆動周波数ｆは、図３より、 θ＝λｆ／ｖ ・・・(２) （λ：波長、ｖ：結晶媒体中の音速） ∴ｆ＝ｖθ／λ ・・・(３) であり、(１)，(３)式より、 ｆ＝ｖ・tan~1(ａ／２Ｆ)／λ となる。
説明図である。図２において、第１レンズ４で集光され
たレーザ光は合焦点で図４に示す構成の偏向変調器５に
より０次光及び±１次回折光に分割される。その時の偏
向角θは、対物レンズ８の有効口径をａ，第１，第２レ
ンズ４，６の焦点距離をＦとすると、 θ＝tan~1(ａ／２Ｆ) ・・・(１) で与えられ、この偏向角を与えるための偏向変調器５の
駆動周波数ｆは、図３より、 θ＝λｆ／ｖ ・・・(２) （λ：波長、ｖ：結晶媒体中の音速） ∴ｆ＝ｖθ／λ ・・・(３) であり、(１)，(３)式より、 ｆ＝ｖ・tan~1(ａ／２Ｆ)／λ となる。
【００１４】従って、この周波数ｆで駆動すれば±１次
回折光は、第２レンズ６の位置でそれぞれａ／２ずれた
位置になり、±１次回折光のビーム強度分布のピーク間
距離がａになる。また、レンズ４，６とも同一の焦点距
離Ｆのため、ビーム径に変化はなく、±１次回折光も０
次光に対して平行移動するだけである。この±１次回折
光はレジスト板９の半径方向になるように偏向変調器５
の向きが設置されており、それぞれに回折されたレーザ
光は、０次光が反射ミラー７の中心で反射するように位
置しており、その反射ミラー７の直径は前述したように
ａ√２となっている。すなわち、この反射ミラー７で０
次光及び±１次光のピークから半分の部分が反射され、
±１次光のそれぞれの残りの半分の強度分布は反射され
ずに遮光もしくは透過される。従って、反射ミラー７で
反射されたレーザ光のビーム強度分布はガウス分布では
なく、ほぼ矩形のビーム強度分布を得ることができ、回
折によるエアリーディスクを発生することがない。ま
た、対物レンズ８の有効口径ａまでビーム径は拡大され
ているので、対物レンズ８のＮＡを最大限利用すること
ができ、レジスト板９上に十分絞り込むことができる。
そして、そのレーザ光のビーム強度分布は図５(ａ)に示
す形状となっているので、レジスト板９上に形成される
溝形状も、図５(ｂ)に示すように矩形に近い形状を得る
ことができる。
回折光は、第２レンズ６の位置でそれぞれａ／２ずれた
位置になり、±１次回折光のビーム強度分布のピーク間
距離がａになる。また、レンズ４，６とも同一の焦点距
離Ｆのため、ビーム径に変化はなく、±１次回折光も０
次光に対して平行移動するだけである。この±１次回折
光はレジスト板９の半径方向になるように偏向変調器５
の向きが設置されており、それぞれに回折されたレーザ
光は、０次光が反射ミラー７の中心で反射するように位
置しており、その反射ミラー７の直径は前述したように
ａ√２となっている。すなわち、この反射ミラー７で０
次光及び±１次光のピークから半分の部分が反射され、
±１次光のそれぞれの残りの半分の強度分布は反射され
ずに遮光もしくは透過される。従って、反射ミラー７で
反射されたレーザ光のビーム強度分布はガウス分布では
なく、ほぼ矩形のビーム強度分布を得ることができ、回
折によるエアリーディスクを発生することがない。ま
た、対物レンズ８の有効口径ａまでビーム径は拡大され
ているので、対物レンズ８のＮＡを最大限利用すること
ができ、レジスト板９上に十分絞り込むことができる。
そして、そのレーザ光のビーム強度分布は図５(ａ)に示
す形状となっているので、レジスト板９上に形成される
溝形状も、図５(ｂ)に示すように矩形に近い形状を得る
ことができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の光ディ
スク原盤露光装置においては、ビーム整形に用いる第１
レンズ(４)、第２レンズ(６)には同じ焦点距離のレンズ
を用いているので、光学素子によるビーム径が変化する
ことがなく、また、第２レンズ(６)によりコリメート光
としているので、第２レンズ(６)以後のレーザ光に角度
変動を起こさず、±１次光も０次光光軸に対して平行と
なり、対物レンズ(８)によりレジスト板(９)上に合焦さ
せることができる。
スク原盤露光装置においては、ビーム整形に用いる第１
レンズ(４)、第２レンズ(６)には同じ焦点距離のレンズ
を用いているので、光学素子によるビーム径が変化する
ことがなく、また、第２レンズ(６)によりコリメート光
としているので、第２レンズ(６)以後のレーザ光に角度
変動を起こさず、±１次光も０次光光軸に対して平行と
なり、対物レンズ(８)によりレジスト板(９)上に合焦さ
せることができる。
【００１６】請求項２の光ディスク原盤露光装置におい
ては、偏向変調器(５)はラマンナス回折をするように設
置されているので、±１次光に光量差がなく、本発明に
よるビーム整形で均等な強度分布を得ることができる。
ては、偏向変調器(５)はラマンナス回折をするように設
置されているので、±１次光に光量差がなく、本発明に
よるビーム整形で均等な強度分布を得ることができる。
【００１７】請求項３の光ディスク原盤露光装置におい
ては、偏向変調器(５)がレジスト板の半径方向に±１次
光が得られるように設置してあるので、レジスト板上に
形成される溝の断面形状を変えることが可能となり、矩
形化することができる。
ては、偏向変調器(５)がレジスト板の半径方向に±１次
光が得られるように設置してあるので、レジスト板上に
形成される溝の断面形状を変えることが可能となり、矩
形化することができる。
【００１８】請求項４の光ディスク原盤露光装置におい
ては、偏向変調器(５)による偏向角θを、θ≦tan~1(ａ
／２Ｆ) とすることで、±１次光の強度分布のピーク値
が対物レンズ(８)の有効口径ａ以下となり、対物レンズ
(８)に入射されるビーム強度分布は常に０次光及び±１
次光のピーク値が入射され、光利用効率の低下を防ぐこ
とができる。
ては、偏向変調器(５)による偏向角θを、θ≦tan~1(ａ
／２Ｆ) とすることで、±１次光の強度分布のピーク値
が対物レンズ(８)の有効口径ａ以下となり、対物レンズ
(８)に入射されるビーム強度分布は常に０次光及び±１
次光のピーク値が入射され、光利用効率の低下を防ぐこ
とができる。
【００１９】請求項５の光ディスク原盤露光装置におい
ては、反射ミラー(７)は、直径がａ√２であり、ビーム
整形後のレーザ光を９０°反射するように設置してある
ので、反射したレーザ光のビーム径は対物レンズ(８)の
有効口径ａと同じになり、しかも一部反射であるので、
回折による影響（エアリーディスクの発生）がなく、ビ
ーム整形ができる。
ては、反射ミラー(７)は、直径がａ√２であり、ビーム
整形後のレーザ光を９０°反射するように設置してある
ので、反射したレーザ光のビーム径は対物レンズ(８)の
有効口径ａと同じになり、しかも一部反射であるので、
回折による影響（エアリーディスクの発生）がなく、ビ
ーム整形ができる。
【００２０】請求項６の光ディスク原盤露光装置におい
ては、反射ミラー(７)の中心位置と偏向変調器(５)によ
る０次光光軸位置を一致させているので、±１次光の強
度分布のピーク位置でビームをカットし、反射すること
ができる。従って、露光ビームの強度分布を矩形状とす
ることができ、レジスト板上に形成される溝の断面形状
を矩形化することができる。
ては、反射ミラー(７)の中心位置と偏向変調器(５)によ
る０次光光軸位置を一致させているので、±１次光の強
度分布のピーク位置でビームをカットし、反射すること
ができる。従って、露光ビームの強度分布を矩形状とす
ることができ、レジスト板上に形成される溝の断面形状
を矩形化することができる。
【００２１】このように、本発明の光ディスク原盤露光
装置によれば、露光ビーム形状を整形し、均等で且つ矩
形形状に近い強度分布を有する露光ビームを得ることが
できるため、レジスト板(９)上に形成される溝の断面形
状を矩形化することができ、ノイズが少なく分解能の高
いグルーブを有する光ディスク原盤を作成することが可
能となる。
装置によれば、露光ビーム形状を整形し、均等で且つ矩
形形状に近い強度分布を有する露光ビームを得ることが
できるため、レジスト板(９)上に形成される溝の断面形
状を矩形化することができ、ノイズが少なく分解能の高
いグルーブを有する光ディスク原盤を作成することが可
能となる。
【図１】本発明の一実施例を示す光ディスク原盤露光装
置の露光光学系の概略構成図である。
置の露光光学系の概略構成図である。
【図２】図１に示す光ディスク原盤露光装置の露光光学
系のビーム整形部の構成及び動作の説明図である。
系のビーム整形部の構成及び動作の説明図である。
【図３】偏向変調器による回折の説明図である。
【図４】偏向変調器の説明図である。
【図５】本発明による光ディスク原盤露光装置の露光ビ
ームの強度分布とレジスト板上に形成される溝の断面形
状を示す図である。
ームの強度分布とレジスト板上に形成される溝の断面形
状を示す図である。
【図６】従来技術における露光ビームの強度分布とレジ
スト板上に形成される溝の断面形状を示す図である。
スト板上に形成される溝の断面形状を示す図である。
【図７】従来技術の装置でガウス強度分布の影響により
肩ダレが生じた場合の露光ビームの強度分布とレジスト
板上に形成される溝の断面形状を示す図である。
肩ダレが生じた場合の露光ビームの強度分布とレジスト
板上に形成される溝の断面形状を示す図である。
【図８】ピンホールでビーム整形を行なった場合の露光
ビームの強度分布の説明図である。
ビームの強度分布の説明図である。
１：レーザ光源 ２：光量変調器 ３：パルス変調器 ４：第１レンズ ５：偏向変調器 ６：第２レンズ ７：反射ミラー ８：対物レンズ ９：レジスト板（光ディスク原盤）
Claims (6)
- 【請求項１】レーザ光源(１)より出射したレーザ光が光
量変調器(２)及びパルス変調器(３)により変調光とな
り、第１レンズ(４)、偏向変調器(５)、第２レンズ(６)
でビーム整形を行ない、反射ミラー(７)によりレーザ光
を一部抽出して対物レンズ(８)によりレジスト板(９)へ
露光を行なう露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装
置において、前記ビーム整形に用いる第１レンズ(４)、
第２レンズ(６)には同じ焦点距離のレンズを用い、第２
レンズ(６)によりコリメートされていることを特徴とす
る光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスク原盤露光装置に
おいて、ビーム整形に用いる偏向変調器(５)はラマンナ
ス回折をするように調整して±１次光の強度分布が均一
になるように設置したことを特徴とする光ディスク原盤
露光装置。 - 【請求項３】請求項１，２記載の光ディスク原盤露光装
置において、前記偏向変調器(５)はレジスト板(９)の半
径方向に±１次回折光が得られるように設置したことを
特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】請求項１，２，３記載の光ディスク原盤露
光装置において、前記偏向変調器(５)による偏向角θ
は、対物レンズ(８)の有効口径をａ、第２レンズ(６)の
焦点距離をＦとすると、 θ≦tan~1(ａ／２Ｆ) であることを特徴とする光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項５】請求項１乃至４記載の光ディスク原盤露光
装置において、ビーム整形後のレーザ光の一部を抽出し
て対物レンズ(８)へ入射させる反射ミラー(７)の径をａ
√２とし、該反射ミラー(７)による反射光を対物レンズ
(８)へ垂直に入射するように設置したことを特徴とする
光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項６】請求項１乃至５記載の光ディスク原盤露光
装置において、前記反射ミラー(７)の中心を偏向変調器
(５)からの０次光光軸位置と一致させたことを特徴とす
る光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18247694A JPH0845114A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18247694A JPH0845114A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845114A true JPH0845114A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16118943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18247694A Pending JPH0845114A (ja) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0845114A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6731446B2 (en) | 2000-02-03 | 2004-05-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for forming a magnetic pattern in a magnetic recording medium, method for producing a magnetic recording medium, magnetic pattern forming device, magnetic recording medium and magnetic recording device |
| JPWO2016039419A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2017-08-31 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | ジルコニア系セラミックスの表面構造形成方法及びジルコニア系セラミックス |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP18247694A patent/JPH0845114A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6731446B2 (en) | 2000-02-03 | 2004-05-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for forming a magnetic pattern in a magnetic recording medium, method for producing a magnetic recording medium, magnetic pattern forming device, magnetic recording medium and magnetic recording device |
| JPWO2016039419A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2017-08-31 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | ジルコニア系セラミックスの表面構造形成方法及びジルコニア系セラミックス |
| JP2019206471A (ja) * | 2014-09-11 | 2019-12-05 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | ジルコニア系セラミックス |
| US10774003B2 (en) | 2014-09-11 | 2020-09-15 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Surface structure forming method for zirconia-based ceramics, and zirconia-based ceramics |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6278548B1 (en) | Polarizing diffraction grating and magneto-optical head made by using the same | |
| JPH09500459A (ja) | 反射防止回折格子を有する光透過性光学素子 | |
| JPH0627907B2 (ja) | 光学的情報処理装置 | |
| US5258862A (en) | Rotating disc optical synchronization system using binary diffractive optical elements | |
| US5291319A (en) | Rotating disc optical synchronization system using binary diffractive optical elements | |
| JPH1020750A (ja) | 周期的パターンのホログラフィ記録方法及び装置 | |
| JPS63244013A (ja) | 光学的走査装置 | |
| JPH0845114A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
| US5859730A (en) | Optical apparatus having a luminous flux shaping filter | |
| US7236434B2 (en) | Exposure apparatus of an optical disk master, method of exposing an optical disk master, and wavefront fluctuation correction mechanism | |
| JPH0714242A (ja) | ２ビーム光ヘッド | |
| JP2529376B2 (ja) | 光ディスク原盤の作成装置 | |
| JPH07104647A (ja) | ホログラム形成方法及び装置 | |
| JP2803434B2 (ja) | 回折格子プロッター | |
| US5335108A (en) | Rotating disc optical synchronization system using alternating binary diffractive optical elements | |
| US6208611B1 (en) | Light exposure apparatus for master optical disc | |
| JP3406338B2 (ja) | 円盤状記録媒体の製造装置 | |
| JPH06103613A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
| JP3432235B2 (ja) | ホログラフィックフィルタの作成方法 | |
| JP2540582B2 (ja) | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 | |
| JPH10213777A (ja) | ビーム整形装置 | |
| JP3290832B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2538192B2 (ja) | 光ディスク装置 | |
| JPH0426941A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
| JPH0737276A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 |