JP2538192B2 - 光ディスク装置 - Google Patents

光ディスク装置

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JP2538192B2
JP2538192B2 JP6239029A JP23902994A JP2538192B2 JP 2538192 B2 JP2538192 B2 JP 2538192B2 JP 6239029 A JP6239029 A JP 6239029A JP 23902994 A JP23902994 A JP 23902994A JP 2538192 B2 JP2538192 B2 JP 2538192B2
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semiconductor laser
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shaping optical
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博志 後藤
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図2に示す光ピックアップ光学系におい
て、半導体レーザ1から出射した光は、カップリングレ
ンズ2により平行ビームになり、偏光ビームスプリッタ
3、1/4波長板4を通り、対物レンズ5で集光されて
光ディスク6上に微小なスポットを形成する。光ディス
ク6からの反射光は、再び対物レンズ5、1/4波長板
4を通り偏光ビームスプリッタ3で直角に曲がり、トラ
ック検出2分割素子7に入射する。
【0003】ところで、半導体レーザ1は発光の分布が
非等方であり、図3に示す様に半導体レーザの接合面に
平行な(‖)方向とこれに垂直な(⊥)方向での強度分
布が異なっている。ファー・フィールド・パターンの代
表的な値は半値全幅でθ‖=10°,θ⊥=30°であ
る。このような非等方な光束をカップリングレンズで集
光し、そのまま対物レンズで集光すると形成されるスポ
ットは楕円になる。
【0004】図4に示す如く、楕円スポット8が光ディ
スクに照射されると、複数のトラック9に光が照射され
るのでトラック信号が弱くなってしまう。そこで、ビー
ム整形光学系を用い、対物レンズに入射するビームを特
定方向に拡大して、略円形なスポットを得る方策が試み
られている。
【0005】図5、図6に凹凸シリンダーレンズによる
ビーム整形光学系を用いた光ピックアップ光学系の構成
を示す。半導体レーザの接合面に平行な断面を説明した
図5において、半導体レーザ1より出射された光はカッ
プリングレンズ2により平行光束となり、凹シリンダー
レンズ9により発散光束となる。そして、凸シリンダー
レンズ10により再び平行光束となり、対物レンズ5で
集光されて光ディスク6上にスポットを形成する。
【0006】半導体レーザの接合面に垂直な断面を説明
した図6においてはビーム整形光学系11はパワーを有
しないので、カップリングレンズ2により平行光束とさ
れた後、対物レンズ5で集光される。ここで、凹シリン
ダーレンズ9及び凸シリンダーレンズ10を以ってビー
ム整形光学系11が構成されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】図5において、カップ
リングレンズ2の直後の、半導体レーザの接合面に平行
方向のビーム径ψ‖は、 ψ‖=2fc・sin(θ‖/2)…(1) となり、図6において、同垂直方向のビーム径ψ⊥は、 ψ⊥=2fc・sin(θ⊥/2)…(2) となる。但し、fcはカップリングレンズの焦点距離、
Mはビーム整形光学系の倍率とする。
【0008】又、図5において、ビーム整形光学系11
の直後の、半導体レーザの接合面に平行方向のビーム径
B‖は、 B‖=M・ψ‖=2・M・fc・sin(θ‖/2)…(3) となり、図6において、同垂直方向はビーム整形光学系
11のパワーがないので、ビーム径はψ⊥に等しい。
【0009】さて、従来、ビーム整形直後のビームは略
円形にしていた。すると、この場合、半導体レーザの接
合面と平行方向、垂直方向でのビーム整形直後のビーム
径は、B‖=ψ⊥と等しくなるので、 ∴ 2・M・fc・sin(θ‖/2)=2・fc・sin(θ⊥/2) ∴ M=sin(θ⊥/2)/sin(θ‖/2)…(4) と倍率を設定している。代表的なファー・フィールド・
パターンの値では、θ‖=10°,θ⊥=30°では、
M=3.0になる。
【0010】このように、ビーム整形で3倍までビーム
を拡大すると光束が広がり、遂には、対物レンズの有効
径より大きくなりケラレル光束が大きくなって、対物レ
ンズより出射するパワーと、半導体レーザのパワーとの
比で表される光利用効率が小さくなる。これに伴い半導
体レーザの出力も大きなものが必要になり、コスト高に
なるという問題がある。
【0011】従って、本発明の目的は、スポット径を略
円形にしてスポットが隣接するトラックに照射しないよ
うにしてトラック信号の再生レベルを上げ、トラック信
号を安定させると共に、光利用効率も高めることのでき
るビーム整形光学系を備えた光ディスク装置を提供する
ことにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、レーザ光を絞って、光ディスクに照射して
信号を記録又は再生する光ディスク装置であって、半導
体レーザからの光束をカップリングレンズでコリメート
するとともにその光束について前記半導体レーザの接合
面に平行な方向での径を拡大するビーム整形光学系を通
過させてから、前記光束における、前記半導体レーザの
接合面に垂直な方向の半値全幅にほぼ等しい有効径を有
する対物レンズで集光しスポットを形成させるビーム整
形光学系を有するものにおいて、前記ビーム整形光学系
に関し、以下の倍率を満足する様に設定することとし
た。
【0013】 0.55≦〔M・fc・sin(θ‖/2)〕/〔f0・NA0〕≦0.8 但し、Mは ビーム整形光学系の倍率 fcは カップリングレンズの焦点距離 θ‖は 半導体レーザの接合面に平行な方向での発散
角 f0は 対物レンズの焦点距離 NA0は 対物レンズの開口数
【0014】
【作用】スポット径がビーム整形され、該スポットが隣
接するトラックに照射されない。又、対物レンズによる
ケラレの割合が光利用効率上実用的な範囲に定められ
る。
【0015】
【実施例】本発明は上記の目的を達成させるため、対物
レンズによるケラレの割合の実用的な設定範囲を示した
ことを特徴とする。以下、本発明の一実施例に基づいて
具体的に説明する。
【0016】図2及び図5、図6に示した光学系におい
て、光ディスク6上でのスポット径は、対物レンズ5へ
の入射ビーム径がある程度以上大きくなると殆ど一定に
なってくる。そして、対物レンズ有効径でビームをケル
ことにより入射ビームは平面波に近づき、スポット径は
回折限界で与えられる一定値に近づく。すなわち、対物
レンズ5によるビームのケラレがある程度以上大きくな
るとスポット径はほぼ一定になる。従って再生されるト
ラック信号も安定する。
【0017】この状況を図1(a)、(b)に示す。図
1(a)において、横軸は対物レンズによるビームのケ
ラレの割合P、縦軸はスポット径及びトラック信号が各
々目盛られており、破線はスポット径、実線はトラック
信号の特性を各々示している。ケラレの割合Pについ
て、図5と同じ部材構成の図7を参照して説明する。
【0018】対物レンズ5の有効径Φは、対物レンズ5
の焦点距離をf0、開口数をNA0とすると、 Φ=2・f0・NA0…(5) で与えられる。
【0019】そして、ケラレの割合Pを P=B‖/Φ=M・fc・sin(θ‖/2)/f0・NA0…(6) とする。なお、図7中符号50は光強度分布を示す。
【0020】図1(a)によれば、開口数NA0=0.
5のとき、スポット径の最小値は約0.9μmであり、
これより約1割大きい1.0μmのスポット径以下であ
れば、スポットは略円形とみなすことできる。従って、
P>0.55の範囲はクロストークの生じない限界値と
みなすことができる。
【0021】ちなみに、θ‖=10°でビーム整形をし
ない場合、例えば図2に示す如き光学系を用いた場合に
は、fc=9mm、f0=4.35mm、NA0=0.5
とすると、P=0.36になり、これに対応するスポッ
ト径は約1.2μm、トラック信号は60mVである。
【0022】これに対し、本発明に係る設定値である例
えばP=0.55のとき、スポット径は約1.0μmで
略円形となり、トラック信号は約100mVも出る。よ
って、ビーム整形による効果は十分である。
【0023】次にケラレの割合Pと光利用効率、半導体
レーザのパワー比の関係を示した図1(b)を参照しつ
つ、本発明による条件の設定根拠を説明する。半導体レ
ーザのパワー比は、記録のために必要な半導体レーザの
パワーの下限値をP=1.08(従来例M=3.0)の
時を1として規格化している。
【0024】P=0.8の場合には、光利用効率は55
%であり、これはP=1.08の場合の光利用効率45
%に対し10%上まわっている。これを半導体レーザの
パワー比でみると、約2割少なくてすむことになる。
【0025】以上により、ビーム整形に際し、半導体レ
ーザの接合面に平行な方向の倍率を、以下の条件に定め
ると光利用効率が高く、且つトラック信号強度も高いビ
ーム整形光学系を得ることができる。
【0026】0.55≦〔M・fc・sin(θ‖/
2)〕/〔f0・NA0〕≦0.8…(7) なお、本発
明はシリンダーレンズを用いたビーム整形光学系に限定
されるものではなく、プリズムを用いた光学系について
も上記と同じような効果を得ることができる。図8はそ
の一例を示したもので、符号12が、プリズムからなる
ビーム整形光学系を示す。
【0027】
【発明の効果】本発明により、ビーム整形光学系の倍率
設定を行えば、スポット径を略円形にできると共に光利
用効率も高くとれ好都合である。
【図面の簡単な説明】
【図1】対物レンズによるビームのケラレの割合を変化
させたときにあらわれる光ピックアップ特性図である。
【図2】ビーム整形を用いない光ピックアップ光学系の
構成図である。
【図3】半導体レーザ出射光の発光分布を説明した図で
ある。
【図4】楕円スポットが複数のトラックに照射される状
況を説明した図である。
【図5】本発明の実施に好適な光ピックアップ光学系で
あって、半導体レーザの接合面と平行な方向についての
光路パターンを説明した図である。
【図6】本発明の実施に好適な光ピックアップ光学系で
あって、半導体レーザの接合面と垂直な方向についての
光路パターンを説明した図である。
【図7】図5に示した光学系の構成において、対物レン
ズの有効径Фと半導体レーザの接合面に平行方向のビー
ム径B‖を説明した図である。
【図8】ビーム整形光学系としてプリズムを用いた場合
の光路パターンを説明した図である。
【符号の説明】
11 ビーム整形光学系 12 ビーム整形光学系

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光を絞って、光ディスクに照射して
    信号を記録又は再生する光ディスク装置であって、半導
    体レーザからの光束をカップリングレンズでコリメート
    するとともにその光束について前記半導体レーザの接合
    面に平行な方向での径を拡大するビーム整形光学系を通
    過させてから、前記光束における、前記半導体レーザの
    接合面に垂直な方向の半値全幅にほぼ等しい有効径を有
    する対物レンズで集光しスポットを形成させるビーム整
    形光学系を有するものにおいて、 前記ビーム整形光学系に関し、以下の倍率を満足する様
    に設定したことを特徴とする光ディスク装置。 0.55≦〔M・fc・sin(θ‖/2)〕/〔f0・NA0〕≦0.8 但し、Mは ビーム整形光学系の倍率 fcは カップリングレンズの焦点距離 θ‖は 半導体レーザの接合面に平行な方向での発散
    角 f0は 対物レンズの焦点距離 NA0は 対物レンズの開口数
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