JPS63300445A - 光ディスク製造装置 - Google Patents

光ディスク製造装置

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JPS63300445A
JPS63300445A JP13753187A JP13753187A JPS63300445A JP S63300445 A JPS63300445 A JP S63300445A JP 13753187 A JP13753187 A JP 13753187A JP 13753187 A JP13753187 A JP 13753187A JP S63300445 A JPS63300445 A JP S63300445A
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light
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mirror
pit
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Minemasa Oota
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1丘且1 本発明は、光ディスクの原盤を作成するマスタリング工
程において、制御用ピット又は案内溝を該原盤に形成す
る光ディスク製造装置に関する。
11且薫 従来、ユーザによる書き込みができる追記型光ディスク
として、案内溝及びアドレスピットを右するものとピッ
ト列のみを有するものとが知られている。かかるピット
列のみを有する光ディスクにおいては、第3図に示す如
きピットが光ディスクの原盤上に間欠的に形成される。
この複数のピット列Pは読み取り装置のためサーボ領域
をなしトラッキング及びアドレス情報を担持する。サー
ボ領域Pに続く部分は追記領域Rでありピット列は予め
形成されておらず、復にユーザによりピット2が追記さ
れる。これらサーボ領域P、追記領域Rは光ディスク上
に渦巻状に形成されトラックとなるが、この案内用のピ
ット列は、トラック方向Tに関してずれ幅(+δ)、(
−δ)の対で原盤の半径方向に偏倚して形成されたトラ
ッキングサーボ用のピット1a、1bと、このピット1
a。
1bの位置を検出するセクタマークピット1cとにより
構成されている。このセクタマークピット1Cはトラッ
クの中心Tにあり原盤の半径方向において偏倚されてい
ない。
マスタリング工程において、このように蛇行した案内用
ピット列Pを光ディスク原盤に形成するために、第4図
の如き光ディスク記録装置が開発されている(特開昭6
1−170934号公報)。
かかる装置においては、記録用のArレーザ光源21か
ら放射されたレーザビーム22は、偏向レンズ23によ
って超音波光変調器24に所定の周波数応答特性を得る
ように集光され、この超音波光変調器24によってレー
ザビーム22の強度変調を可能としている。
光変調器24を通過したレーザビームは、コンバータ6
からのフォーマット信号7に応じて光変調され、レーザ
光束補正光学系25を通って反射ミラー28によって反
射され、対物レンズ27を通過して、フォトレジストを
担持した原盤29の主面上にスポット30として絞り込
まれる。原盤29は、スピンドルモータ31によって回
転駆動されており、螺旋状又は同心円状のトラックに沿
って間欠的に露光されるようにスポット30に対し相対
的に移動自在となっている。
かかる従来装置によって第3図に示す如くピット1及び
2を蛇行させるためには、超音波光変調器24は以下の
ように!i11御される。
先ず変調信号源32において、第5図(A)に示す如き
変調信号33を第5図(a)(b)に示す如きトラッキ
ングサーボ用ピットia、ibを形成する信号33a、
33b及び第5図(C)に示す如きセクターマークピッ
ト2を形成する信号33Cとなるように3つの変調信号
に時間分割する。次に、この各々の信号33a、33b
、33Cを異なるキャリア周波数で発!する超音波米麦
it’−z’zla、4b、4cに入力する。この各超
音波光変調ドライバ回路からの出カ信@55a。
55b、55Cを高周波コンバータ6によって加WL、
、フォーマット信号7とする。このフォーマット信号7
を超音波変m器24に入力し、レーザビーム22を変調
させる。ここで異なるキャリア周波数の各々の間には、
レーザビーム22をウオブリングさせるために一定の関
係が付与されている。
このように従来の光ディスク記録装置においては、超音
波光変調器24をt、lI御することにより、レーザビ
ームを、例えばパルス変調し同時に偏向させてレーザビ
ームスポットを微少ずれ幅(±δ)だけ蛇行させ露光を
行っている。
しかしながら、かがる従来装置においては、次のような
問題がある。
まず、超音波光変調器24に入射するレーザビームがそ
の超音波光変調素子の中心部で焦点を結ぶように集光さ
せて使用される場合、その集光点と対物レンズ27で絞
られた原盤上の集光された焦点とが共役になり、キャリ
ア周波数を変えても対物レンズによって集光される原盤
上のレーザビームの露光位置30の変化が十分に取れな
いという問題がある。また、この問題を除くために超音
波光変調素子へのレーザビームの焦光位置を正規の位置
からずらすか、又は後の光学系25においてレーザビー
ムの偏倚が大となるように構成しなければならず、この
場合レーザビームの光路が艮(なるため記録装置におけ
る光変調の応答性及び安定性が低くなる。
また、超音波光変調ドライバ4a、4b、4cにおいて
は、各キャリア周波数が150〜200MHzと高い状
態においても早い応答性をもってキャリア周波数を切り
換えることのできる高周波処理回路及びキャリア周波数
発生回路が必要になり、超音波光変調ドライバの構成が
複雑化する。
さらに、キャリア周波数を切り換える間にレーザビーム
の通過を阻止する特性の超音波光変調素子を必要とする
故に、第3図に示すピット列Pにおけるトラッキングサ
ーボ用ピットのブロックとセクターマークピットのブロ
ックとの間の路gildを短くするには限界が生じる。
よって、ピットの高密度化や読み取られたピット情報の
転送レートの高速化を阻む問題が生じる。
l豆立且1 そこで、本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を
解決し、高密度のトラッキングサーボ用ピット又は案内
溝を形成できる光ディスク製造装置を提供することであ
る。
本発明の光ディスク製造装置は、記録トラック位置を予
め定めるために半径方向において互いに偏倚したピット
(案内溝を含む)を有する光ディスクを製造する製造装
置であって、単一の光ビームを発生させる光源と、光ビ
ームを分v1シ複数の光ビームになす光分割手段と、分
割された光ビームの各々を変調する複数の光変調手段と
、変調された光ビームの各々を偏向させ光ディスク原盤
の半径方向において互いに偏倚した複数の露光位置に照
射させる光偏向手段を有し、複数のピット列及び/又は
案内溝を光ディスクの円周方向に沿って同−又は交互に
露光しめるようにしたことを特徴とする。
友−凰−1 以下に、本発明による実施例を添付図面を参照しつつ説
明する。
第1図は本実施例の光ディスク製造装置の概略を示す説
明図である。この製造装置は、レーザ光源10から発生
する単一のレーザビームの一部分を順に同一方向へ直角
に分割し他の部分を透過させるようにレーザビームの光
軸上に配置されたハーフミラ−11,12と、透過光を
同一方向へ偏向するように配置されたミラー13とから
なる光分割手段を有している。
また、本製造装置においては、分割されたレーザビーム
10a、10b、10cを例えばパルス変調するように
各レーザビームの光路中に複数の光変調素子15a、1
5b、15cが設けられている。光変調素子の各々は、
光変調素子ドライバー14a、14b、14cを介して
フォーマット信号発生器16に接続されている。光変調
素子ドライバーの各々は、フォーマット信号発生器16
からの変調用信号に応じて光変調素子を作動させる。ハ
ーフミラ−11,12とミラー13とは、製造装置の応
答性を高めるためにレーザビーム10a、iob、10
cが光変調素子15a、15b、15cの中心で焦点を
結ぶように配置されている。
更に、かかる製造装けにおいては、パルス変調されたレ
ーザビーム10a、10bの各々を偏向させ、光ディス
ク原盤の半径方向に偏倚した露光位置に焦光させるため
にミラー17及びハーフミラ−18,19並びに集光レ
ンズ20からなる光学的偏向手段が設けられている。
ミラー17は、入射したレーザビーム10aをハーフミ
ラ−19に反射させて集光レンズ20を介して第3図に
示すトラック方向Tから偏倚したピット1aの位置を露
光するように該レーザビーム10aの軸に対して傾斜し
て配置されている。
ハーフミラ−18は、入射したレーザビーム10bをハ
ーフミラ−19に反射させて集光レンズ20を介して第
3図に示すトラック方向Tから偏倚したピット1bの位
置を露光するように該レーザビーム10bの軸に対して
傾斜して配Uされている。ハーフミラ−19はミラー1
7及びハーフミラ−18からのレーザビーム1Qa、1
0bを偏向しつつ、レーザビーム10Cをそのまま透過
し第3図に示すトラック方向T上のセクターマークピッ
ト1Cの位8に焦光させるように配置されている。
ここで、光源10から光ディスク原盤29までの分割前
のレーザビームを含む分割されたレーザビームの光路長
はいずれも等しくなるように両光学系が配置されており
、たとえレーザビーム光源10が変動しても3つのレー
ザビーム10a、IQb、IOCの相対位置が変化しな
いように構成されている。すなわち、かかる両光学系は
、ハーフミラ−11,12間距離とミラー17.ハーフ
ミラ−18間距離とが等しく、ハーフミラ−12゜ミラ
ー13間距離とハーフミラ−18,19間距離とが等し
く、かつ対応するハーフミラ−11゜ミラー17間距離
とハーフミラ−12,18間距離とミラー13.ハーフ
ミラ−19間距離とが等しくなるように配置されている
。光変調素子15a、15b、15Cの各々は、対応す
るハーフミラ−11,ミラー17間、ハーフミラ−12
,18間、ミラー13.ハーフミラ−19問に個別に配
置されている。
ハーフミラ−11,12,18,19の透過率、反射率
及びミラー13.17の反射率は、集光シン120ti
r通るLi−+j”t’−ム10a、iob、10Cの
強度がほぼ等しくなるように、予め決められている。
この光ディスク製造装置の動作は以下の如く行われる。
第1図に示すようにレーザ光源10から発したレーザビ
ームは、ハーフミラ−11,12及びミラー13によっ
て3つのレーザビーム10a、10b、10Cに分割さ
れ、光変調素子15a、15b、15cに各々入射され
る。
変調用信号はフォーマット信号発生器16によって発生
され第3図に示す如きトラッキングサーボ用のピット1
aのピット信号をドライバー14aを介して光変調素子
15aに印加し、また、トラッキングサーボ用のピット
1bのピット信号をドライバ14bを介して光変調素子
15bに印加し、また、シンク及びアドレス検出用のセ
クタマークピット1Cのピット信号をドライバ14Cを
介して光変調素子15cに印加して所定の変調を行う。
変調されたレーザビーム10aは、ミラー17上で反射
され、ハーフミラ−18を通過してハーフミラ−19に
達する。変調されたレーザビーム10bは、ハーフミラ
−18上で反射され、ハーフミラ−19に達する。これ
らレーザビーム10a、10bは、ハーフミラ−1つ上
にて反射され、ハーフミラ−19を通過したレーザビー
ム10cとともに、集光レンズ20へ導かれる。
レーザビーム10a、10b、10cの各々はは、集光
レンズ20によって光ディスク原!!29上に焦光され
、第3図におけるトラック方向Tから偏倚したトラッキ
ングサーボ用ピット1a、1b位置及びトラック方向T
上のセクターマークピット10位置にそれぞれ焦光する
。このようにしテレーサピーム10a、10b、101
Cよッテ、スピンドルモータ31上に担持された回転原
盤29上の7オトレジストは第3図に示す如き蛇行する
ピット列として露光される。現像後、所定のピット列を
有したされた光ディスク原盤が得られる。
本実施例の光ディスク製造装置においては、3 ゛つの
レーザビームを用いてパルス変調しっつウオブリングし
たピット列を形成しているが、3つのうち2つのビーム
を使用することも可能である。
この場合、第2図に示すように2つのレーザビームの内
の1つのビーム1aはパルス変調せずに強度変調された
レーザビームを連続照射し、他の残るレーザビーム1C
はフォーマット信号に応じてパルス変調される。その結
果、所定の幅の案内溝40と同時にピット41を形成す
ることができるようになり、案内溝間にピット列を有す
る光ディスク原盤をも作成できる。
また、この光ディスク製造装置においては、3つのレー
ザビームの内1つのレーザビームのみを使用し、案内溝
のみ又はアドレスピットのみを形成することも可能であ
る。
本実施例によれば、レーザビームの偏向をミラー及びハ
ーフミラ−の傾斜角度にのみによって行っているために
光変調素子を振幅作動させるための高周波のキャリア周
波数を制御する回路は必要としない。また、光ディスク
原盤の半径方向における形成すべきピットの偏倚農の範
囲を従来より内幅に拡大することができる。
1里立11 本発明によれば、光ビームを発生させる光源と、光ビー
ムを分割しする光分割手段と、分割された光ビームを各
々変調する複数の光変調素子と、変調された光ビームの
各々を偏向させ光ディスク原盤の半径方向に偏倚した露
光位置に照射させる光偏向手段とから構成されている故
に、独立した複数の光ビームを使用しトラッキングサー
ボ用ピットとセクタマークピットとのピット列における
ピットのブロック間隔を制限させることなく高密度に形
成できた光ディスクが得られる。また、ピット列と案内
溝を同時に形成できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による光ディスク製造装置の説明図、第
2図は本発明による装置から得られる光ディスク原盤の
部分拡大平面図、第3図はピット列を示す光ディスク原
盤の部分拡大平面図、第4図は従来の光ディスク製造装
置の説明図、第5図はフォーマット信号及びその分解し
た信号を示す説明図である。 主要部分の符号の説明 1a、1b・・・・・・トラッキングサーボ用ピット1
C・・・・・・セクタマークピット 10・・・・・・レーザ光源 11.12.18.19・・・・・・ハーフミラ−13
,17・・・・・・ミラー 15a、15b、15c・・・・・・光変調素子14a
、14b、14c ・・・・・・光変調素子ドライバ 20・・・・・・集光レンズ 2つ・・・・・・ガラス原盤

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)記録トラック位置を予め定めるために半径方向に
    おいて互いに偏倚したピット(案内溝を含む)を有する
    光ディスクを製造する製造装置であって、単一の光ビー
    ムを発生させる光源と、前記光ビームを分割し複数の光
    ビームになす光分割手段と、分割された光ビームの各々
    を変調する複数の光変調手段と、変調された光ビームの
    各々を偏向させ光ディスク原盤の半径方向において互い
    に偏倚した複数の露光位置に照射させる光偏向手段を有
    することを特徴とする光ディスク製造装置。
  2. (2)前記光分割手段は、前記単一の光ビームと同一の
    光軸上に配置されかつ該光軸に対して傾斜したミラー及
    びハーフミラーを含んでいることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の装置。
  3. (3)前記光偏向手段は、前記分割された光ビームの各
    々の光軸上に別個に配置され該光軸の各々に対して傾斜
    したミラー及びハーフミラーを含んでいることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の装置。
JP13753187A 1987-05-29 1987-05-29 光ディスク製造装置 Expired - Fee Related JPH0719397B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03122843A (ja) * 1989-10-06 1991-05-24 Nec Corp サンプルサーボフォーマット原盤露光方法
US5404345A (en) * 1991-06-07 1995-04-04 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Optical recording medium and tracking servo circuit adapted therefor using wobbled pits

Cited By (2)

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JPH03122843A (ja) * 1989-10-06 1991-05-24 Nec Corp サンプルサーボフォーマット原盤露光方法
US5404345A (en) * 1991-06-07 1995-04-04 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Optical recording medium and tracking servo circuit adapted therefor using wobbled pits

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