JPH01143037A - デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置 - Google Patents
デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置Info
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- JPH01143037A JPH01143037A JP62301275A JP30127587A JPH01143037A JP H01143037 A JPH01143037 A JP H01143037A JP 62301275 A JP62301275 A JP 62301275A JP 30127587 A JP30127587 A JP 30127587A JP H01143037 A JPH01143037 A JP H01143037A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
以下の順序で本発明を説明する。
A産業上の利用分野
B発明の概要
C従来の技術
り発明が解決しようとする問題点
E問題点を解決するための手段(第1図〜第4図F作用
(第1図〜第4図) G実施例 (G1)ディスク製造用原盤並びにその製造方法(第1
図〜第3図) (G2)ディスク製造用原盤の製造装置(第4図)(G
3)他の実施例 H発明の効果 A産業上の利用分野 本発明はディスク製造用原盤並びにその製造方法及び製
造装置に関し、特に定線速度(CLV (consta
nt 1inear velocity) )方式の追
記型(WO(inrite once) )又は消去可
能型(erasable)光ディスクの製造に用いるデ
ィスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置に適
用して好適なものである。
(第1図〜第4図) G実施例 (G1)ディスク製造用原盤並びにその製造方法(第1
図〜第3図) (G2)ディスク製造用原盤の製造装置(第4図)(G
3)他の実施例 H発明の効果 A産業上の利用分野 本発明はディスク製造用原盤並びにその製造方法及び製
造装置に関し、特に定線速度(CLV (consta
nt 1inear velocity) )方式の追
記型(WO(inrite once) )又は消去可
能型(erasable)光ディスクの製造に用いるデ
ィスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置に適
用して好適なものである。
B発明の概要
本発明は、ディスク製造用原盤並びにその製造方法及び
製造装置において、ポジ型フォトレジスト膜が形成され
た円盤状ガラス原盤上に対して、第1及び第2のレーザ
スポットを所定の記録情報に基づいて、それぞれガラス
原盤の半径方向に同相で振ると共に、常にガラス原盤が
1回転したとき、内周側の第1のレーザスポットが1回
転前の外周側の第2のレーザスポットの所定分だけ外周
側にずれた位置に位置決めするように照射してグルーブ
部を感光することにより、現像後のディスク製造−川原
盤上に、所定の記録情報に基づいてディスク製造用原盤
の半径方向に振られたランド部を形成できる。
製造装置において、ポジ型フォトレジスト膜が形成され
た円盤状ガラス原盤上に対して、第1及び第2のレーザ
スポットを所定の記録情報に基づいて、それぞれガラス
原盤の半径方向に同相で振ると共に、常にガラス原盤が
1回転したとき、内周側の第1のレーザスポットが1回
転前の外周側の第2のレーザスポットの所定分だけ外周
側にずれた位置に位置決めするように照射してグルーブ
部を感光することにより、現像後のディスク製造−川原
盤上に、所定の記録情報に基づいてディスク製造用原盤
の半径方向に振られたランド部を形成できる。
また加工用レーザ装置から射出されたレーザビームから
、レーザビーム分割整形手段を用いて、レーザ出力が等
しくかつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレーザ
ビームを形成し、この2本のレーザビームをレーザビー
ム偏向手段を用いて任意の記録情報に応じて所定の方向
に振ると共に、ガラス原盤が1回転したとき、内周側の
第1のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレー
ザスポットの外周側に所定量だけ重なる位置に、位置決
めされるような速度で移動するようになされたヘッド可
動手段を介して、ガラス原盤上に照射するようにしたこ
とにより、ポジ型フォトレジスト膜が形成されたガラス
原盤上に、所定の記録情報をランド部上に記録したディ
スク製造用原盤を製造し得る。
、レーザビーム分割整形手段を用いて、レーザ出力が等
しくかつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレーザ
ビームを形成し、この2本のレーザビームをレーザビー
ム偏向手段を用いて任意の記録情報に応じて所定の方向
に振ると共に、ガラス原盤が1回転したとき、内周側の
第1のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレー
ザスポットの外周側に所定量だけ重なる位置に、位置決
めされるような速度で移動するようになされたヘッド可
動手段を介して、ガラス原盤上に照射するようにしたこ
とにより、ポジ型フォトレジスト膜が形成されたガラス
原盤上に、所定の記録情報をランド部上に記録したディ
スク製造用原盤を製造し得る。
C従来の技術
従来、この種のCLV方式の追記型又は消去可能型光デ
ィスクとして、例えばコンパクトディスク(CD)形状
の光磁気ディスクにおいては、螺線状に配された記録ト
ラックとしてのランド部に沿うように連続溝でなるグル
ーブ部(いわゆるプリグルーブ)を形成し、このプリグ
ルーブを用いてトラッキングサーボをかけるようになさ
れたものが用いられている。
ィスクとして、例えばコンパクトディスク(CD)形状
の光磁気ディスクにおいては、螺線状に配された記録ト
ラックとしてのランド部に沿うように連続溝でなるグル
ーブ部(いわゆるプリグルーブ)を形成し、このプリグ
ルーブを用いてトラッキングサーボをかけるようになさ
れたものが用いられている。
すなわちこの種の光磁気ディスクにおいては、光ヘッド
から照射されるレーザビームに対して、グルーブ部とラ
ンド部から得られる反射光に含まれる信号レベルの差に
より、その光ヘッドの記録トラックの中心からのずれ量
を検出し、この検出結果を用いてトラッキングサーボを
施すようになされている。
から照射されるレーザビームに対して、グルーブ部とラ
ンド部から得られる反射光に含まれる信号レベルの差に
より、その光ヘッドの記録トラックの中心からのずれ量
を検出し、この検出結果を用いてトラッキングサーボを
施すようになされている。
なお一般に、この種の光磁気ディスクの記録トラック、
すなわちランド部上には例えばピット形状で時間情報、
アドレス番号等の識別情報が形成されており、これによ
りデータの記録時には、まず再生モードにて識別情報を
取り出して記録すべき記録トラック上の位置を検出し、
かくして所望の記録トラック上にデータを記録し得るよ
うになされている。
すなわちランド部上には例えばピット形状で時間情報、
アドレス番号等の識別情報が形成されており、これによ
りデータの記録時には、まず再生モードにて識別情報を
取り出して記録すべき記録トラック上の位置を検出し、
かくして所望の記録トラック上にデータを記録し得るよ
うになされている。
ところで最近これに代え、グルーブ部をトラッキングサ
ーボの追従し得ないFM変調周波数で、光磁気ディスク
の半径方向に振る(以下、これをグルーブウォーブリン
グと呼ぶ)ことにより、時間情報、アドレス番号等の識
別情報をグルーブ部上に記録し、再生時にプッシュプル
信号としてこれを取り出し、かくして全体として記録ト
ラックに対する記録密度を向上するようになされた光磁
気ディスクが提案されている。
ーボの追従し得ないFM変調周波数で、光磁気ディスク
の半径方向に振る(以下、これをグルーブウォーブリン
グと呼ぶ)ことにより、時間情報、アドレス番号等の識
別情報をグルーブ部上に記録し、再生時にプッシュプル
信号としてこれを取り出し、かくして全体として記録ト
ラックに対する記録密度を向上するようになされた光磁
気ディスクが提案されている。
D発明が解決しようとする問題点
ところが、このような光磁気ディスクを製造する際に用
いる光磁気ディスク製造用原盤(以下、これをマスク原
盤と呼ぶ)の作成においては、感光した部分が溶解する
ようになされたポジ型フォトレジスト膜が塗布された円
盤状ガラス原盤に対してレーザ光を走査し、この感光軌
跡でグルーブ部を形成するようになされていることによ
り、現像後のグルーブ部間に残されてなるランド部にお
いて、隣合うグルーブ部間の位相が絶えず変化する。
いる光磁気ディスク製造用原盤(以下、これをマスク原
盤と呼ぶ)の作成においては、感光した部分が溶解する
ようになされたポジ型フォトレジスト膜が塗布された円
盤状ガラス原盤に対してレーザ光を走査し、この感光軌
跡でグルーブ部を形成するようになされていることによ
り、現像後のグルーブ部間に残されてなるランド部にお
いて、隣合うグルーブ部間の位相が絶えず変化する。
このため、ランド部から得られる再生信号にグルーブウ
ォーブリングの揺れ成分が混入し、結局グルーブウォー
ブリングからプッシュプル信号を取り出せないおそれを
回避し得なかった。
ォーブリングの揺れ成分が混入し、結局グルーブウォー
ブリングからプッシュプル信号を取り出せないおそれを
回避し得なかった。
この問題を解決するため、ランド部自体をマスク原盤の
半径方向に振る(以下、これをランドウォーブリングと
呼ぶ)ことにより、時間情報、アドレス番号等の識別情
報をランド部上に記録することが考えられる。
半径方向に振る(以下、これをランドウォーブリングと
呼ぶ)ことにより、時間情報、アドレス番号等の識別情
報をランド部上に記録することが考えられる。
ところが、このランドウォーブリングをマスク原盤上に
形成する方法として、感光した部分が残るようになされ
たネガ型フォトレジスト膜が塗布されたマスク原盤を用
いる方法があるが、実際上ネガ型フォトレジストは分解
能が悪く、解決策としては未だ不十分であった。− 本発明は以上の点を考慮してなされたもので、ディスク
のランド部に確実にウォーブリング情報を形成し得るよ
うにしたディスク製造用原盤並びにその製造方法及び製
造装置を提案しようとするものである。
形成する方法として、感光した部分が残るようになされ
たネガ型フォトレジスト膜が塗布されたマスク原盤を用
いる方法があるが、実際上ネガ型フォトレジストは分解
能が悪く、解決策としては未だ不十分であった。− 本発明は以上の点を考慮してなされたもので、ディスク
のランド部に確実にウォーブリング情報を形成し得るよ
うにしたディスク製造用原盤並びにその製造方法及び製
造装置を提案しようとするものである。
E問題点を解決するための手段
かかる問題点を解決するため第1の発明においては、ガ
ラス原盤2上にポジ型フォトレジスト膜5が形成され、
そのポジ型フォトレジスト膜5上にレーザスポットSP
I、SF3を照射して螺線状のグルーブ部3を感光して
なるディスク製造用原盤1において、現像後のグルーブ
部3間には半径方向に所定の記録信号に応じて、その半
径方向に常に一定の幅を有して振られたランド部4を設
けるようにした。
ラス原盤2上にポジ型フォトレジスト膜5が形成され、
そのポジ型フォトレジスト膜5上にレーザスポットSP
I、SF3を照射して螺線状のグルーブ部3を感光して
なるディスク製造用原盤1において、現像後のグルーブ
部3間には半径方向に所定の記録信号に応じて、その半
径方向に常に一定の幅を有して振られたランド部4を設
けるようにした。
また第2の発明においては、ガラス原盤2上にポジ型フ
ォトレジスト膜5が形成され、そのポジ型フォトレジス
ト膜5上にレーザスポットSPI、SF3を照射して螺
線状のグルーブ部3を感光してなるディスク製造用原盤
の製造方法において、第1及び第2のレーザスポットS
Pl及びSF3を所定の記録情報に基づいて、ガラス原
盤2の半径方向に同相で振ると共に、その第1及び第2
のレーザスポットSPI及びSF3をガラス原盤2が1
回転したとき、常にガラス原盤2の内周側を照射する第
1のレーザスポットSPIが、1回転前のガラス原盤の
外周側を照射する第2のレーザスポットSP2に対して
所定分だけ外周側にずれた位置を照射するように移動さ
せ、現像後のディスク製造用原盤1上に、所定の記録情
報に応じて半径方向に常に一定の幅を有して振られたラ
ンド部4を形成するようにした。
ォトレジスト膜5が形成され、そのポジ型フォトレジス
ト膜5上にレーザスポットSPI、SF3を照射して螺
線状のグルーブ部3を感光してなるディスク製造用原盤
の製造方法において、第1及び第2のレーザスポットS
Pl及びSF3を所定の記録情報に基づいて、ガラス原
盤2の半径方向に同相で振ると共に、その第1及び第2
のレーザスポットSPI及びSF3をガラス原盤2が1
回転したとき、常にガラス原盤2の内周側を照射する第
1のレーザスポットSPIが、1回転前のガラス原盤の
外周側を照射する第2のレーザスポットSP2に対して
所定分だけ外周側にずれた位置を照射するように移動さ
せ、現像後のディスク製造用原盤1上に、所定の記録情
報に応じて半径方向に常に一定の幅を有して振られたラ
ンド部4を形成するようにした。
さらに第3の発明においては、ガラス原盤2上にポジ型
フォトレジスト膜5が形成され、そのポジ型フォトレジ
スト膜5上にレーザスポットSP1、SF3を照射して
螺線状のグルーブ部3を感光してなるディスク製造用原
盤の製造装置10において、加工用のレーザ出力でなる
レーザビームL0を射出する加工用レーザ装置11と、
その加工用レーザ装置11から射出されたレーザビーム
L0より、レーザ出力が等しくかつ所定の間隔を有する
平行光でなる2本のレーザビームLIsL2を形成する
レーザビーム分割整形手段12.13.15.16と、
そのレーザビーム分割整形手段12.13.15.16
から入射される2本のレーザビームL、 、L、を、任
意の記録情報SIDに応じて所定の方向に振るレーザビ
ーム偏向手段14と、そのレーザビーム偏向手段14か
ら射出された2本のレーザビームL+ 、Lxを、ガラ
ス原盤2上に照射すると共に、その2本のレーザスポッ
トSPI、SF3を、ガラス原盤2が1回転したとき、
常にガラス原盤2の内周側を照射する第1のレーザスポ
ットSPIが、その1回転前のガラス原盤2の外周側を
照射する第2のレーザスポラl−3P2に対して所定分
だけ外周側にずれた位置を照射するように移動させるヘ
ッド可動手段17とを設けるようにした。
フォトレジスト膜5が形成され、そのポジ型フォトレジ
スト膜5上にレーザスポットSP1、SF3を照射して
螺線状のグルーブ部3を感光してなるディスク製造用原
盤の製造装置10において、加工用のレーザ出力でなる
レーザビームL0を射出する加工用レーザ装置11と、
その加工用レーザ装置11から射出されたレーザビーム
L0より、レーザ出力が等しくかつ所定の間隔を有する
平行光でなる2本のレーザビームLIsL2を形成する
レーザビーム分割整形手段12.13.15.16と、
そのレーザビーム分割整形手段12.13.15.16
から入射される2本のレーザビームL、 、L、を、任
意の記録情報SIDに応じて所定の方向に振るレーザビ
ーム偏向手段14と、そのレーザビーム偏向手段14か
ら射出された2本のレーザビームL+ 、Lxを、ガラ
ス原盤2上に照射すると共に、その2本のレーザスポッ
トSPI、SF3を、ガラス原盤2が1回転したとき、
常にガラス原盤2の内周側を照射する第1のレーザスポ
ットSPIが、その1回転前のガラス原盤2の外周側を
照射する第2のレーザスポラl−3P2に対して所定分
だけ外周側にずれた位置を照射するように移動させるヘ
ッド可動手段17とを設けるようにした。
F作用
第1並びに第2の発明によれば、ポジ型フォトレジスト
膜5が形成された円盤状ガラス原盤2上に対して、第1
及び第2のレーザスポットSPI及びSF3を所定の記
録情報に基づいて、それぞれガラス原盤2の半径方向に
同相で振ると共に、常にガラス原盤2が1回転したとき
、内周側の第1のレーザスポットSPIが1回転前の外
周側の第2のレーザスポットSP2の所定分だけ外周側
にずれた位置に位置決めするように照射してグルーブ部
3を感光することにより、現像後のディスク製造用原盤
1上に、所定の記録情報に基づいてディスク製造用原盤
1の半径方向に振られたランド部4を形成できる。
膜5が形成された円盤状ガラス原盤2上に対して、第1
及び第2のレーザスポットSPI及びSF3を所定の記
録情報に基づいて、それぞれガラス原盤2の半径方向に
同相で振ると共に、常にガラス原盤2が1回転したとき
、内周側の第1のレーザスポットSPIが1回転前の外
周側の第2のレーザスポットSP2の所定分だけ外周側
にずれた位置に位置決めするように照射してグルーブ部
3を感光することにより、現像後のディスク製造用原盤
1上に、所定の記録情報に基づいてディスク製造用原盤
1の半径方向に振られたランド部4を形成できる。
また第3の発明によれば、加工用レーザ装置11から射
出されたレーザビームL0か□ら、レーザビーム分割整
形手段12.13.15.16を用いて、レーザ出力が
等しくかつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレー
ザビームL+ 、L!を形成し、この2本のレーザビー
ムL+ 、Lx をレーザビーム偏向手段14を用いて
任意の記録情報5lflに応じて所定の方向に振ると共
に、マスク原盤1が1回転したとき、第1のレーザスポ
ットSP1が、1回転前の第2のレーザスポットSP2
の外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるよう
な速度で移動するようになされたヘッド可動手段17を
介して、ディスク製造用原盤1上に照射するようにした
ことにより、ポジ型フォトレジスト膜5が形成されたデ
ィスク製造用原盤1上のランド部4上に所定の記録情報
を記録したディスク製造用原盤lを製造し得る。
出されたレーザビームL0か□ら、レーザビーム分割整
形手段12.13.15.16を用いて、レーザ出力が
等しくかつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレー
ザビームL+ 、L!を形成し、この2本のレーザビー
ムL+ 、Lx をレーザビーム偏向手段14を用いて
任意の記録情報5lflに応じて所定の方向に振ると共
に、マスク原盤1が1回転したとき、第1のレーザスポ
ットSP1が、1回転前の第2のレーザスポットSP2
の外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるよう
な速度で移動するようになされたヘッド可動手段17を
介して、ディスク製造用原盤1上に照射するようにした
ことにより、ポジ型フォトレジスト膜5が形成されたデ
ィスク製造用原盤1上のランド部4上に所定の記録情報
を記録したディスク製造用原盤lを製造し得る。
G実施例
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
(G1)ディスク製造用原盤並びにその製造方法第1図
において、1は全体として第1の発明の光磁気ディスク
製造用原盤(マスク原盤)を示し、その中心0を軸とし
て矢印a方向に所定の速度で回転するようになされた円
盤状のガラス原盤2上に塗布等によって形成されたポジ
型フォトレジスト膜5に対して、マスク原盤1の半径方
向上の矢印す方向へ所定の速度で移動するようになされ
た、第1及び第2のレーザスポットSP1及びSF3を
用いて感光することにより螺線状のグルーブ部3をカッ
ティングするようになされている。
において、1は全体として第1の発明の光磁気ディスク
製造用原盤(マスク原盤)を示し、その中心0を軸とし
て矢印a方向に所定の速度で回転するようになされた円
盤状のガラス原盤2上に塗布等によって形成されたポジ
型フォトレジスト膜5に対して、マスク原盤1の半径方
向上の矢印す方向へ所定の速度で移動するようになされ
た、第1及び第2のレーザスポットSP1及びSF3を
用いて感光することにより螺線状のグルーブ部3をカッ
ティングするようになされている。
ここで、マスク原盤1の回転速度と、第1及び第2のレ
ーザスポットSPI及びSP2のマスク原盤lの半径方
向への移動速度との関係は、マスク原盤上が1回転した
ときに第1のレーザスポットSP1が1回転前の第2の
レーザスポット5P12の外周側に所定量だけ重なる位
置に位置決めされるように選定されている。
ーザスポットSPI及びSP2のマスク原盤lの半径方
向への移動速度との関係は、マスク原盤上が1回転した
ときに第1のレーザスポットSP1が1回転前の第2の
レーザスポット5P12の外周側に所定量だけ重なる位
置に位置決めされるように選定されている。
さらにこれに加えて、第1及び第2のレーザスポラ)S
P 1及びSP2は時間情報、アドレス番号等の識別情
報に基づいてマスク原盤1の半径方向に同時に振られる
ようになされており、かくして第1のレーザスポラ)S
P 1の外周側端部を用いてランド部4の内周側を形成
すると共に、第2のレーザスポットSP2の内周側端部
を用いてランド部4の外周側を形成するようになされて
いる。
P 1及びSP2は時間情報、アドレス番号等の識別情
報に基づいてマスク原盤1の半径方向に同時に振られる
ようになされており、かくして第1のレーザスポラ)S
P 1の外周側端部を用いてランド部4の内周側を形成
すると共に、第2のレーザスポットSP2の内周側端部
を用いてランド部4の外周側を形成するようになされて
いる。
これにより、現像後のマスク原盤1上に第2図に示すよ
うに、時間情報、アドレス番号等の識別情報に基づいて
マスク原盤1の半径方向に振るいわゆるランドウォーブ
リングが施されたランド部4を形成することができる。
うに、時間情報、アドレス番号等の識別情報に基づいて
マスク原盤1の半径方向に振るいわゆるランドウォーブ
リングが施されたランド部4を形成することができる。
ここで第1及び第2のレーザスポラl−5PI及びSP
2のアライメント設定方法は、第3図に示すように、マ
スク原盤1上の記録トラック(すなわちランド部4〕の
トラックピッチをP1第1及び第2のレーザスポットS
PI及びSP2のスポット径をR、スポット間隔をL1
%グルーブ部3及びランド部4の幅をそれぞれW、及び
wL、時間情報、アドレス番号等の識別情報に基づくマ
スク原盤1上の半径方向のウオーブル量をΔW、とする
と、スポット間隔り、は、次式、 P−R+ΔW0≦Lll:5 P−ΔW0・・・・・・
(1) で表され、グルーブ部3の幅WGは、次式、R+ΔW0
≦WG≦2R−ΔWo −−(2)で表され、さらに
ランド部4の幅WLは、次式、P−2R+ΔW0≦WL
≦P−R−4w0・・・・・・(3) で表される。
2のアライメント設定方法は、第3図に示すように、マ
スク原盤1上の記録トラック(すなわちランド部4〕の
トラックピッチをP1第1及び第2のレーザスポットS
PI及びSP2のスポット径をR、スポット間隔をL1
%グルーブ部3及びランド部4の幅をそれぞれW、及び
wL、時間情報、アドレス番号等の識別情報に基づくマ
スク原盤1上の半径方向のウオーブル量をΔW、とする
と、スポット間隔り、は、次式、 P−R+ΔW0≦Lll:5 P−ΔW0・・・・・・
(1) で表され、グルーブ部3の幅WGは、次式、R+ΔW0
≦WG≦2R−ΔWo −−(2)で表され、さらに
ランド部4の幅WLは、次式、P−2R+ΔW0≦WL
≦P−R−4w0・・・・・・(3) で表される。
従って、ランド部4及びグルーブ部3の幅を第1及び第
2のレーザスポットSPI及びSP2 (SP12A、
5P12B)のスポット間隔Lmによって任意に選定す
ることができる。
2のレーザスポットSPI及びSP2 (SP12A、
5P12B)のスポット間隔Lmによって任意に選定す
ることができる。
因に、トラックピッチPをP=1.6(μm〕、第1及
び第2のレーザスポットSPl及びSP2のスポット径
RをR=0.5Cμm〕、時間情報、アドレス番号等の
識別情報に基づくマスク原盤1上の半径方向のウオーブ
ル■ΔW、をΔWo ”0゜1 〔μm〕に選定すると
、ランド部4の幅WLは、次式、 0.7(μm)≦WL≦1.0 (μm) −(4)
で表される値を有する。
び第2のレーザスポットSPl及びSP2のスポット径
RをR=0.5Cμm〕、時間情報、アドレス番号等の
識別情報に基づくマスク原盤1上の半径方向のウオーブ
ル■ΔW、をΔWo ”0゜1 〔μm〕に選定すると
、ランド部4の幅WLは、次式、 0.7(μm)≦WL≦1.0 (μm) −(4)
で表される値を有する。
以上の方法によれば、ポジ型フォトレジスト膜が塗布さ
れた円盤状のガラス原盤上に対して、第1及び第2のレ
ーザスポットを時間情報、アドレス番号等の識別情報に
基づいて、それぞれガラス原盤の半径方向に同相で振る
と共に、常にガラス原盤が1回転したとき、内周側の第
1のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレーザ
スポットの所定分だけ外周側にずれた位置に位置決めす
るように照射して、グルーブ部を感光することにより、
現像後のマスク原盤上に、時間情報、アドレス番号等の
識別情報に基づいてマスク原盤の半径方向に振るいわゆ
るランドウォーブリングが施されたランド部を容易に形
成することができる。
れた円盤状のガラス原盤上に対して、第1及び第2のレ
ーザスポットを時間情報、アドレス番号等の識別情報に
基づいて、それぞれガラス原盤の半径方向に同相で振る
と共に、常にガラス原盤が1回転したとき、内周側の第
1のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレーザ
スポットの所定分だけ外周側にずれた位置に位置決めす
るように照射して、グルーブ部を感光することにより、
現像後のマスク原盤上に、時間情報、アドレス番号等の
識別情報に基づいてマスク原盤の半径方向に振るいわゆ
るランドウォーブリングが施されたランド部を容易に形
成することができる。
さらに上述の構成によれば、ランドウォーブリングを形
成することにより、時間情報、アドレス番号等の識別情
報をランド部上に記録したマスク原盤を容易に実現でき
る。
成することにより、時間情報、アドレス番号等の識別情
報をランド部上に記録したマスク原盤を容易に実現でき
る。
(G2)ディスク製造用原盤の製造装置第1図から第3
図との対応する部分に同一符号を付して示す第4図にお
いて、10は全体として第3の発明によるマスク原盤製
造装置を示し、例えばYAGレーザ等でなる加工用レー
ザ装置11から射出された第1のレーザビームL0は、
第1の偏光ビームスプリッタ12に入射し、第2及び第
3のレーザビームL、及びり、に分割される。
図との対応する部分に同一符号を付して示す第4図にお
いて、10は全体として第3の発明によるマスク原盤製
造装置を示し、例えばYAGレーザ等でなる加工用レー
ザ装置11から射出された第1のレーザビームL0は、
第1の偏光ビームスプリッタ12に入射し、第2及び第
3のレーザビームL、及びり、に分割される。
すなわち第1の偏光ビームスプリッタ12においては、
第1のレーザビームL0に含まれるP成分を偏光面で反
射して折り曲げて第2のレーザビームL、とじ、第2の
偏光ビームスプリッタ13の偏光面に入射する。
第1のレーザビームL0に含まれるP成分を偏光面で反
射して折り曲げて第2のレーザビームL、とじ、第2の
偏光ビームスプリッタ13の偏光面に入射する。
またこれと共に第1の偏光ビームスプリッタ12は、第
1のレーザビームL0に含まれるs成分を透過して第3
のレーザビームL2とし、第1及び第2のミラー15及
び16を用いてその光路を所定の方向に折り曲げて第2
の偏光ビームスプリッタ13の偏光面に入射する。
1のレーザビームL0に含まれるs成分を透過して第3
のレーザビームL2とし、第1及び第2のミラー15及
び16を用いてその光路を所定の方向に折り曲げて第2
の偏光ビームスプリッタ13の偏光面に入射する。
なおこのとき、第1の偏光ビームスプリッタ12の偏光
面は、第2及び第3のレーザビームL+及びL2のレー
ザ出力を、第1のレーザビームL0のレーザ出力に対し
てそれぞれ50%の値とするように選定されている。
面は、第2及び第3のレーザビームL+及びL2のレー
ザ出力を、第1のレーザビームL0のレーザ出力に対し
てそれぞれ50%の値とするように選定されている。
第2の偏光ビームスプリッタ13は、入射する第2のレ
ーザビームL、を反射すると共に、第3のレーザビーム
L2を透過し、これにより第2及び第3のレーザビーム
L11L2は、所定のビーム間隔を有する平行なレーザ
ビームとなされて音響光学偏向素子(AOD)14に入
射される。
ーザビームL、を反射すると共に、第3のレーザビーム
L2を透過し、これにより第2及び第3のレーザビーム
L11L2は、所定のビーム間隔を有する平行なレーザ
ビームとなされて音響光学偏向素子(AOD)14に入
射される。
ここでAOD14のトランスジューサ14Aには、時間
情報、アドレス番号等の識別情報に応じた識別制御信号
5lflが入力されており、これにより入射される第2
及び第3のレーザビームL、及びL2を識別制御信号5
ltlに基づいて矢印C方向に振りながら射出して、可
動ヘッド部17のミラー17Aに照射して折り曲げ、か
くして対物レンズ17Bを介してマスク原盤1上に集光
して第1及び第2のレーザスポットsP1及びSP2を
形成するようになされている。
情報、アドレス番号等の識別情報に応じた識別制御信号
5lflが入力されており、これにより入射される第2
及び第3のレーザビームL、及びL2を識別制御信号5
ltlに基づいて矢印C方向に振りながら射出して、可
動ヘッド部17のミラー17Aに照射して折り曲げ、か
くして対物レンズ17Bを介してマスク原盤1上に集光
して第1及び第2のレーザスポットsP1及びSP2を
形成するようになされている。
なお可動ヘッド部17は、マスク環ff1lが軸0を中
心として矢印a方向に1回転したとき、第1のレーザス
ポットSPIが1回転前の第2のレーザスポラl−5P
2の外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるよ
うな速度で矢印す方向に移動するようになされており、
これによりマスク原盤1上に第1図から第3図について
上述したランドウォーブリングを形成し、時間情報、ア
ドレス番号等の識別情報をランド部4上に記録したマス
ク原盤を製造するようになされている。
心として矢印a方向に1回転したとき、第1のレーザス
ポットSPIが1回転前の第2のレーザスポラl−5P
2の外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるよ
うな速度で矢印す方向に移動するようになされており、
これによりマスク原盤1上に第1図から第3図について
上述したランドウォーブリングを形成し、時間情報、ア
ドレス番号等の識別情報をランド部4上に記録したマス
ク原盤を製造するようになされている。
以上の構成によれば、加工用レーザ装W11から射出さ
れたレーザビームL0から、レーザビーム分割整形手段
12.13.15.16を用いて、レーザ出力が等しく
かつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレーザビー
ムL1、Ltを形成し、この2本のレーザビームL+−
Lxを音響光学偏向素子14を用いて時間情報、アドレ
ス番号等の識別情報に応じて所定の方向Cに振ると共に
、マスク原盤lが1回転したとき、第1のレーザスポッ
トSP 1が1回転前の第2のレーザスポットSP2の
外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるような
速度で移動するようになされた可動ヘッド部17を介し
て、マスク原盤l上に照射するようにしたことにより、
簡易な構成でポジ型フォトレジスト膜が形成されてなる
マスク原盤1上に、ランドウォーブリングを形成するこ
とにより、時間情報、アドレス番号等の識別情報をラン
ド部4上に記録したマスク原盤1を製造し得るマスク原
盤製造装置10を容易に実現できる。
れたレーザビームL0から、レーザビーム分割整形手段
12.13.15.16を用いて、レーザ出力が等しく
かつ所定の間隔を有する平行光でなる2本のレーザビー
ムL1、Ltを形成し、この2本のレーザビームL+−
Lxを音響光学偏向素子14を用いて時間情報、アドレ
ス番号等の識別情報に応じて所定の方向Cに振ると共に
、マスク原盤lが1回転したとき、第1のレーザスポッ
トSP 1が1回転前の第2のレーザスポットSP2の
外周側に所定量だけ重なる位置に位置決めされるような
速度で移動するようになされた可動ヘッド部17を介し
て、マスク原盤l上に照射するようにしたことにより、
簡易な構成でポジ型フォトレジスト膜が形成されてなる
マスク原盤1上に、ランドウォーブリングを形成するこ
とにより、時間情報、アドレス番号等の識別情報をラン
ド部4上に記録したマスク原盤1を製造し得るマスク原
盤製造装置10を容易に実現できる。
(G3)他の実施例
(1) 上述の実施例においては、第3の発明のマス
ク原盤製造袋WIOのレーザビーム偏向手段として、音
響光学偏向素子14に記録情報に応じた記録制御信号5
i11を供給し、これにより2本のレーザビームLl、
Ltを記録情報に応じて振るようにしたが、レーザビー
ム偏向手段の構成はこれに限らず、例えばガルバノミラ
−等の光学的な偏向手段を用いて、2本のレーザビーム
Ll 、Lt を記録情報に応じて振るようにしても、
上述の実施例と同様の効果を得ることができる。
ク原盤製造袋WIOのレーザビーム偏向手段として、音
響光学偏向素子14に記録情報に応じた記録制御信号5
i11を供給し、これにより2本のレーザビームLl、
Ltを記録情報に応じて振るようにしたが、レーザビー
ム偏向手段の構成はこれに限らず、例えばガルバノミラ
−等の光学的な偏向手段を用いて、2本のレーザビーム
Ll 、Lt を記録情報に応じて振るようにしても、
上述の実施例と同様の効果を得ることができる。
(2)上述の実施例においては、第1、第2及び第3の
発明を、CD型の光磁気ディスクに適用したが、これに
限らず、他のCLV方式の光ディスクの製造に用いるデ
ィスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置に広
く適用し得るものである。
発明を、CD型の光磁気ディスクに適用したが、これに
限らず、他のCLV方式の光ディスクの製造に用いるデ
ィスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置に広
く適用し得るものである。
H発明の効果
上述のように第1並びに第2の発明によれば、ポジ型フ
ォトレジスト膜が形成された円盤状ガラス原盤に対して
、第1及び第2のレーザスポットを所定の記録情報に基
づいて、それぞれガラス原盤の半径方向に同相で振ると
共に、常にガラス原盤が1回転したとき、内周側の第1
のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレーザス
ポットの所定分だけ外周側にずれた位置に位置決めされ
るように照射してグルーブ部を感光することにより、現
像後のディスク製造用原盤上に、所定の記録情報に基づ
いてディスク製造用原盤の半径方向に振るいわゆるラン
ドウォーブリングが施されたランド部を容易に形成する
ことができ、かくするにつき、所定の記録情報をランド
部上に記録したディスク製造用原盤を容易に実現できる
。
ォトレジスト膜が形成された円盤状ガラス原盤に対して
、第1及び第2のレーザスポットを所定の記録情報に基
づいて、それぞれガラス原盤の半径方向に同相で振ると
共に、常にガラス原盤が1回転したとき、内周側の第1
のレーザスポットが1回転前の外周側の第2のレーザス
ポットの所定分だけ外周側にずれた位置に位置決めされ
るように照射してグルーブ部を感光することにより、現
像後のディスク製造用原盤上に、所定の記録情報に基づ
いてディスク製造用原盤の半径方向に振るいわゆるラン
ドウォーブリングが施されたランド部を容易に形成する
ことができ、かくするにつき、所定の記録情報をランド
部上に記録したディスク製造用原盤を容易に実現できる
。
また第3の発明によれば、加工用レーザ装置から射出さ
れたレーザビームから、レーザビーム分割整形手段を用
いて、レーザ出力が等しくかつ所定の間隔を有する平行
光でなる2本のレーザビームを形成し、この2本のレー
ザビームをレーザビーム偏向手段を用いて任意の記録情
報に応じて所定の方向に振ると共に、マスク原盤が1回
転したとき、第1のレーザスポットが1回転前の第2の
レーザスポットの外周側に所定量だけ重なる位置に位゛
置決めされるような速度で移動するようになされたヘッ
ド可動手段を介してディスク製造用原盤上に照射するよ
うにしたことにより、簡易な構成でポジ型フォトレジス
ト膜が形成されてなるディスク製造用原盤上に、ランド
ウォーブリングを形成することにより、所定の記録情報
をランド部上に記録したディスク製造用原盤を製造し得
るディスク製造用原盤の製造装置を容易に実現できる。
れたレーザビームから、レーザビーム分割整形手段を用
いて、レーザ出力が等しくかつ所定の間隔を有する平行
光でなる2本のレーザビームを形成し、この2本のレー
ザビームをレーザビーム偏向手段を用いて任意の記録情
報に応じて所定の方向に振ると共に、マスク原盤が1回
転したとき、第1のレーザスポットが1回転前の第2の
レーザスポットの外周側に所定量だけ重なる位置に位゛
置決めされるような速度で移動するようになされたヘッ
ド可動手段を介してディスク製造用原盤上に照射するよ
うにしたことにより、簡易な構成でポジ型フォトレジス
ト膜が形成されてなるディスク製造用原盤上に、ランド
ウォーブリングを形成することにより、所定の記録情報
をランド部上に記録したディスク製造用原盤を製造し得
るディスク製造用原盤の製造装置を容易に実現できる。
第1図は第1の発明の一実施例を示す路線的平面図、第
2図はそのマスク原盤を■−■線でとった一部断面で示
す路線的斜視図、第3図は第2の発明によるマスク原盤
の製造方法の説明に供する路線的平面図、第4図は第3
の発明によるマスク原盤製造装置の一実施例を示す路線
的系統図である。 ■・・・・・・マスク原盤、2・・・・・・ガラス原盤
、3・・・・・・グルーブ部、4・・・・・・ランド部
、5・・・・・・ポジ型フォトレジスト膜、10・・・
・・・マスタ原盤製造装置、11・・・・・・加工用レ
ーザ装置、12.13・旧・・偏光ビームスプリッタ、
14・・・・・・音響光学偏向素子、15.16・・・
・・・ミラー、17・・・・・・可動ヘッド部。
2図はそのマスク原盤を■−■線でとった一部断面で示
す路線的斜視図、第3図は第2の発明によるマスク原盤
の製造方法の説明に供する路線的平面図、第4図は第3
の発明によるマスク原盤製造装置の一実施例を示す路線
的系統図である。 ■・・・・・・マスク原盤、2・・・・・・ガラス原盤
、3・・・・・・グルーブ部、4・・・・・・ランド部
、5・・・・・・ポジ型フォトレジスト膜、10・・・
・・・マスタ原盤製造装置、11・・・・・・加工用レ
ーザ装置、12.13・旧・・偏光ビームスプリッタ、
14・・・・・・音響光学偏向素子、15.16・・・
・・・ミラー、17・・・・・・可動ヘッド部。
Claims (3)
- (1)ガラス原盤上にポジ型フォトレジスト膜が形成さ
れ、当該ポジ型フォトレジスト膜上にレーザスポットを
照射して螺線状のグルーブ部を感光してなるディスク製
造用原盤において、 現像後の上記グルーブ部間には半径方向に所定の記録信
号に応じて、当該半径方向に常に一定の幅を有して振ら
れたランド部 を具えることを特徴とするディスク製造用原盤。 - (2)ガラス原盤上にポジ型フォトレジスト膜が形成さ
れ、当該ポジ型フォトレジスト膜上にレーザスポットを
照射して螺線状のグルーブ部を感光してなるディスク製
造用原盤の製造方法において、第1及び第2のレーザス
ポットを所定の記録情報に基づいて、上記ガラス原盤の
半径方向に同相で振ると共に、当該第1及び第2のレー
ザスポットを上記ガラス原盤が1回転したとき、常に上
記ガラス原盤の内周側を照射する上記第1のレーザスポ
ットが、当該1回転前の上記ガラス原盤の外周側を照射
する上記第2のレーザスポットに対して所定分だけ外周
側にずれた位置を照射するように移動させ、 現像後の上記ディスク製造用原盤上に、上記所定の記録
情報に応じて半径方向に常に一定の幅を有して振られた
ランド部を形成するようにしたことを特徴とするディス
ク製造用原盤の製造方法。 - (3)ガラス原盤上にポジ型フォトレジスト膜が形成さ
れ、当該ポジ型フォトレジスト膜上にレーザスポットを
照射して螺線状のグルーブ部を感光してなるディスク製
造用原盤の製造装置において、加工用のレーザ出力でな
るレーザビームを射出する加工用レーザ装置と、 上記加工用レーザ装置から射出されたレーザビームより
、レーザ出力が等しくかつ所定の間隔を有する平行光で
なる2本のレーザビームを形成するレーザビーム分割整
形手段と、上記レーザビーム分割整形手段から入射され
る上記2本のレーザビームを、任意の記録情報に応じて
所定の方向に振るレーザビーム偏向手段と、上記レーザ
ビーム偏向手段から射出された上記2本のレーザビーム
を、上記ガラス原盤上に照射して第1及び第2のレーザ
スポットを形成すると共に、当該第1及び第2のレーザ
スポットを、上記ガラス原盤が1回転したとき、常に上
記ガラス原盤の内周側を照射する上記第1のレーザスポ
ットが、当該1回転前の上記ガラス原盤の外周側を照射
する上記第2のレーザスポットに対して所定分だけ外周
側にずれた位置を照射するように移動させるヘッド可動
手段と を具えることを特徴とするディスク製造用原盤の製造装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301275A JPH01143037A (ja) | 1987-11-28 | 1987-11-28 | デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62301275A JPH01143037A (ja) | 1987-11-28 | 1987-11-28 | デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01143037A true JPH01143037A (ja) | 1989-06-05 |
Family
ID=17894861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62301275A Pending JPH01143037A (ja) | 1987-11-28 | 1987-11-28 | デイスク製造用原盤並びにその製造方法及び製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01143037A (ja) |
-
1987
- 1987-11-28 JP JP62301275A patent/JPH01143037A/ja active Pending
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