JPH09245377A - 光ディスク基板及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク基板及びその製造方法Info
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- JPH09245377A JPH09245377A JP8051331A JP5133196A JPH09245377A JP H09245377 A JPH09245377 A JP H09245377A JP 8051331 A JP8051331 A JP 8051331A JP 5133196 A JP5133196 A JP 5133196A JP H09245377 A JPH09245377 A JP H09245377A
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- light
- optical disk
- disk substrate
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】 複数個の光スポットを半径方向にわずか
にずらして連続的に照射し,それぞれのスポット照射開
始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致する
ように時間差を生じさせて露光することにより基板を製
造する。または,複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し,それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。 【効果】 光ディスク基板上の無駄スペースがなくなり
基板表面を情報記録再生に有効利用できるようになっ
た。また,複数個の振動露光により高速にカッティング
できるようになった。さらに,偏向素子に極端な高速応
答性を必要としなくなったことから偏向に必要な回路関
係の設計が容易になった。さらに,素子の選択範囲も広
くなり,多種類の中から,価格などを考慮して最適素子
を選定できる。
にずらして連続的に照射し,それぞれのスポット照射開
始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致する
ように時間差を生じさせて露光することにより基板を製
造する。または,複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し,それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。 【効果】 光ディスク基板上の無駄スペースがなくなり
基板表面を情報記録再生に有効利用できるようになっ
た。また,複数個の振動露光により高速にカッティング
できるようになった。さらに,偏向素子に極端な高速応
答性を必要としなくなったことから偏向に必要な回路関
係の設計が容易になった。さらに,素子の選択範囲も広
くなり,多種類の中から,価格などを考慮して最適素子
を選定できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はCDーROM等の再
生専用型光ディスクおよび追記型,可逆型光ディスクの
基板に関し,その品質向上を意図したものである。特に
高密度記録に対応する光ディスクに適したデータトラッ
ク構成に関するものである。
生専用型光ディスクおよび追記型,可逆型光ディスクの
基板に関し,その品質向上を意図したものである。特に
高密度記録に対応する光ディスクに適したデータトラッ
ク構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光ディスクには再生専用型と読み書き可
能型とがある。前者にはレーザディスク(LD)やコン
パクトディスク(CD)があり現在大量生産されてい
る。再生専用型光ディスクには上記以外にマルチメディ
ア媒体としてCDーROM,CDーI,DVーIなどが
あり,これらは今後大きく発展しようとしている。特に
電子出版物メディア,カーナビゲーション用途として,
光ディスクに対する期待は大きい。後者には光磁気,相
変化光ディスクなどに代表される記録形態がある。
能型とがある。前者にはレーザディスク(LD)やコン
パクトディスク(CD)があり現在大量生産されてい
る。再生専用型光ディスクには上記以外にマルチメディ
ア媒体としてCDーROM,CDーI,DVーIなどが
あり,これらは今後大きく発展しようとしている。特に
電子出版物メディア,カーナビゲーション用途として,
光ディスクに対する期待は大きい。後者には光磁気,相
変化光ディスクなどに代表される記録形態がある。
【0003】これらの光ディスクの製造手段には,まず
原盤から電鋳プロセスでニッケルのスタンパを作り,こ
れを用いて射出成形法あるいは,平坦基板の上に紫外線
硬化樹脂でパターンを転写するいわゆる2P法などによ
って,大量に円板を製造していた。この原盤は次のよう
にして製造されている。10ミリ程度の厚いガラス基板
の上に,フォトレジストを回転塗布により約140ナノ
メータ厚に塗り,これに信号変調されたレーザ光で露光
を行なう。(このことをカッティングと称している)カ
ッティング用変調信号はトラックピッチ1.6μmのトラ
ックに沿って同心円状あるいはスパイラル状で,再生専
用以外の基板の場合データの記録番地や,タイミング用
のクロックを表わすプリフォーマット信号を原盤のとこ
ろどころに記録している。さらに,記録,再生用レーザ
光の案内溝を原盤の使用領域ほぼ全面に記録している。
原盤から電鋳プロセスでニッケルのスタンパを作り,こ
れを用いて射出成形法あるいは,平坦基板の上に紫外線
硬化樹脂でパターンを転写するいわゆる2P法などによ
って,大量に円板を製造していた。この原盤は次のよう
にして製造されている。10ミリ程度の厚いガラス基板
の上に,フォトレジストを回転塗布により約140ナノ
メータ厚に塗り,これに信号変調されたレーザ光で露光
を行なう。(このことをカッティングと称している)カ
ッティング用変調信号はトラックピッチ1.6μmのトラ
ックに沿って同心円状あるいはスパイラル状で,再生専
用以外の基板の場合データの記録番地や,タイミング用
のクロックを表わすプリフォーマット信号を原盤のとこ
ろどころに記録している。さらに,記録,再生用レーザ
光の案内溝を原盤の使用領域ほぼ全面に記録している。
【0004】光ディスクの高記録密度化を図るためには
円周方向記録密度いわゆる線密度向上,あるいは半径方
向トラックピッチを小さくする高トラック密度などの手
法がある。その一つがランド/グルーブ(L/G)記録で
ある。これは,溝中(グルーブ)及び溝と溝の間すなわ
ちランドに情報を記録するものであり,実効的にトラッ
クピッチを半分にすることを狙ったものである。この方
式だとランドに1トラック,グルーブに1トラック配置
される。この方式に使用される溝は光スポットよりも広
い幅が必要であり,溝幅を広く形成するには2個以上の
スポットを互いにずらして配置し,露光することでスポ
ット直径以上の幅広溝を形成していた。この時のスポッ
ト配置は相互に干渉しないように円周方向にわずかづつ
ずらした位置にある。
円周方向記録密度いわゆる線密度向上,あるいは半径方
向トラックピッチを小さくする高トラック密度などの手
法がある。その一つがランド/グルーブ(L/G)記録で
ある。これは,溝中(グルーブ)及び溝と溝の間すなわ
ちランドに情報を記録するものであり,実効的にトラッ
クピッチを半分にすることを狙ったものである。この方
式だとランドに1トラック,グルーブに1トラック配置
される。この方式に使用される溝は光スポットよりも広
い幅が必要であり,溝幅を広く形成するには2個以上の
スポットを互いにずらして配置し,露光することでスポ
ット直径以上の幅広溝を形成していた。この時のスポッ
ト配置は相互に干渉しないように円周方向にわずかづつ
ずらした位置にある。
【0005】幅広溝を形成する他の方法は,1個のスポ
ットを半径方向にわずかに振動させながら円周方向に光
を移動させ,幅広溝を形成していた。このような例とし
てミニディスク(ソニー株式会社の商標)がある。
ットを半径方向にわずかに振動させながら円周方向に光
を移動させ,幅広溝を形成していた。このような例とし
てミニディスク(ソニー株式会社の商標)がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】幅広溝を形成する手法
として従来技術で述べたように,2個以上のスポットを
用いた場合,その始端あるいは終端が不揃いとなり,そ
の部分は情報記録に使用できない無駄スペースとなって
いた。また,1個のスポットを半径方向に振動させなが
ら行なう方法は,溝側面に段差を生じさせないように高
速に振動させなけねばならない。光を振動させる手段と
しては,E/O光偏向素子あるいはA/O光変調素子などが使
用される。いずれも高速応答性に問題があり,カッティ
ングの速度を早くすることができない。ということは,
カッティングに時間がかかり,経時変化などの影響を受
けやすくなるという問題点があった。
として従来技術で述べたように,2個以上のスポットを
用いた場合,その始端あるいは終端が不揃いとなり,そ
の部分は情報記録に使用できない無駄スペースとなって
いた。また,1個のスポットを半径方向に振動させなが
ら行なう方法は,溝側面に段差を生じさせないように高
速に振動させなけねばならない。光を振動させる手段と
しては,E/O光偏向素子あるいはA/O光変調素子などが使
用される。いずれも高速応答性に問題があり,カッティ
ングの速度を早くすることができない。ということは,
カッティングに時間がかかり,経時変化などの影響を受
けやすくなるという問題点があった。
【0007】本発明の目的は,前述したような無駄スペ
ースを少なくし,高速カッティングを可能にする基板作
製方法を提供することにある。
ースを少なくし,高速カッティングを可能にする基板作
製方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
ために,本発明では基板表面に光ディスクの案内溝が形
成され,その上に光反射膜あるいは記録膜が形成された
光ディスク基板において,その溝幅が光スポット直径以
上であり,かつ螺旋形状溝の始端もしくは終端のいずれ
かあるいは両方が半径方向に直線的である光ディスク基
板を提供する。前記光ディスク基板は,回転移動する光
感光性材料表面に,複数個の光スポットを半径方向にわ
ずかにずらして連続的に照射し,それぞれのスポット照
射開始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致
するように時間差を生じさせて露光することにより製造
される。または,複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し,それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。あるいは,複数個の光スポットを円周方
向にわずかにずらして連続的あるいはパルス的に照射
し,光スポットを半径方向に振動させ,各スポットの光
照射位置が異なるようにして製造される。または,複数
個の光スポットを円周方向にわずかにずらして連続的あ
るいはパルス的に照射し,光スポットを半径方向に振動
させ,各スポットの光照射軌跡の位相が異なるようにし
て基板を製造する。
ために,本発明では基板表面に光ディスクの案内溝が形
成され,その上に光反射膜あるいは記録膜が形成された
光ディスク基板において,その溝幅が光スポット直径以
上であり,かつ螺旋形状溝の始端もしくは終端のいずれ
かあるいは両方が半径方向に直線的である光ディスク基
板を提供する。前記光ディスク基板は,回転移動する光
感光性材料表面に,複数個の光スポットを半径方向にわ
ずかにずらして連続的に照射し,それぞれのスポット照
射開始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致
するように時間差を生じさせて露光することにより製造
される。または,複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し,それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。あるいは,複数個の光スポットを円周方
向にわずかにずらして連続的あるいはパルス的に照射
し,光スポットを半径方向に振動させ,各スポットの光
照射位置が異なるようにして製造される。または,複数
個の光スポットを円周方向にわずかにずらして連続的あ
るいはパルス的に照射し,光スポットを半径方向に振動
させ,各スポットの光照射軌跡の位相が異なるようにし
て基板を製造する。
【0009】
(実施例1)以下,本発明の実施例を図を用いて説明す
る。図1は光ディスク原盤カッティング装置における光
学系の概念を示す。Arレーザ1(スペクトラ・フィジッ
クス社製;波長458nm,出力;100mW)からの
光は鏡2によりその進行方向を90度変え,半透明鏡3
によりほぼ強度の等しいふたつの光に分割した。半透明
鏡3により反射された光(光A)はAO(アカスト・オ
プチックス)偏向変調器4を通過し,鏡2により進行方
向を変え,半透明鏡3で反射され,先に第一の半透明鏡
3により分割された光(光B)と合致させる。一方,光
Bは半透明鏡3を通過後,鏡2により反射されAO偏向
変調器4を通過し,半透明鏡3を通過し前述の光Aと合
わされる。その後,光Aと光Bはほぼ同一光軸上を通り
光集光用のレンズ5を通過して,その焦点近傍に配置さ
れた原盤6の表面に2個のスポットとして絞りこまれ
る。AO偏向変調器4にはフォーマット回路10から所望
の信号に変調された電気信号を送り,これに従いレーザ
光を強度変調あるいは偏向して所定の基板を得るように
している。基板6は厚さ10ミリのガラス板7の上に,
ポジ型ホトレジスト8(シップレー社;AZ1350な
ど)を140nmの厚さに回転塗布したものである。この
基板は回転モータ9により600rpmの速度で回転して
いる。
る。図1は光ディスク原盤カッティング装置における光
学系の概念を示す。Arレーザ1(スペクトラ・フィジッ
クス社製;波長458nm,出力;100mW)からの
光は鏡2によりその進行方向を90度変え,半透明鏡3
によりほぼ強度の等しいふたつの光に分割した。半透明
鏡3により反射された光(光A)はAO(アカスト・オ
プチックス)偏向変調器4を通過し,鏡2により進行方
向を変え,半透明鏡3で反射され,先に第一の半透明鏡
3により分割された光(光B)と合致させる。一方,光
Bは半透明鏡3を通過後,鏡2により反射されAO偏向
変調器4を通過し,半透明鏡3を通過し前述の光Aと合
わされる。その後,光Aと光Bはほぼ同一光軸上を通り
光集光用のレンズ5を通過して,その焦点近傍に配置さ
れた原盤6の表面に2個のスポットとして絞りこまれ
る。AO偏向変調器4にはフォーマット回路10から所望
の信号に変調された電気信号を送り,これに従いレーザ
光を強度変調あるいは偏向して所定の基板を得るように
している。基板6は厚さ10ミリのガラス板7の上に,
ポジ型ホトレジスト8(シップレー社;AZ1350な
ど)を140nmの厚さに回転塗布したものである。この
基板は回転モータ9により600rpmの速度で回転して
いる。
【0010】図2はカッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係及び形成さ
れた溝の始端,終端を示す。図2(a) は従来の溝端面形
状を表しておりスポットS1およびS2によって同時に露
光開始されるため,両スポットのずれた部分は無駄スペ
ース21となっている。図2(b) は本発明による溝端面形
状を表しており,溝の始端ではスポットS1で露光する
タイミングをスポットS2との位置ずれ分t時間だけ遅
らせて露光し,溝の終端でもスポットS1で露光するタ
イミングをt時間だけ遅らせることで,図に示すように
両スポットずれによる段差のない形状を実現できた。こ
れらのことはスポットS2での露光のタイミングをt時
間だけ早くすることでも同様な結果が得られた。こうし
て2つのスポットによって露光された案内溝の幅は1個
のスポット直径以上であることはもちろんである。
た時における基板上の光スポットの配置関係及び形成さ
れた溝の始端,終端を示す。図2(a) は従来の溝端面形
状を表しておりスポットS1およびS2によって同時に露
光開始されるため,両スポットのずれた部分は無駄スペ
ース21となっている。図2(b) は本発明による溝端面形
状を表しており,溝の始端ではスポットS1で露光する
タイミングをスポットS2との位置ずれ分t時間だけ遅
らせて露光し,溝の終端でもスポットS1で露光するタ
イミングをt時間だけ遅らせることで,図に示すように
両スポットずれによる段差のない形状を実現できた。こ
れらのことはスポットS2での露光のタイミングをt時
間だけ早くすることでも同様な結果が得られた。こうし
て2つのスポットによって露光された案内溝の幅は1個
のスポット直径以上であることはもちろんである。
【0011】(実施例2)図3は他の案内溝形成方法を
説明する図であり,カッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係を示す。光
スポットS1あるいはS2のどちらも溝幅Lだけ幅方向に
振動させながら露光した。なお,光スポットS1とS2は
円周上で距離dだけ離れている。この距離は光スポット
S1の振動周期以下に設定している。こうすることで,
光スポットS1及びS2の照射軌跡は一致することなく,
溝幅Lの中を均一に露光し,幅広溝を確実に形成でき
た。なお,振動周期は光スポット直径以下に設定した。
また,距離dをS1の振動周期の半分にした場合,S1及
びS2の露光軌跡は逆位相となった。溝の始端及び終端
での段差をなくすために記録開始,終了のタイミングは
スポットS1及びS2が溝の幅縁にある時に実行した。
説明する図であり,カッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係を示す。光
スポットS1あるいはS2のどちらも溝幅Lだけ幅方向に
振動させながら露光した。なお,光スポットS1とS2は
円周上で距離dだけ離れている。この距離は光スポット
S1の振動周期以下に設定している。こうすることで,
光スポットS1及びS2の照射軌跡は一致することなく,
溝幅Lの中を均一に露光し,幅広溝を確実に形成でき
た。なお,振動周期は光スポット直径以下に設定した。
また,距離dをS1の振動周期の半分にした場合,S1及
びS2の露光軌跡は逆位相となった。溝の始端及び終端
での段差をなくすために記録開始,終了のタイミングは
スポットS1及びS2が溝の幅縁にある時に実行した。
【0012】なお,本実施例では光スポットが2個の場
合について説明したが,これに限定されるものではな
く,複数個の光スポットについても同様に使用できる。
また,光照射を連続的に行なったが,パルス的に行なっ
ても本発明になんら支障はない。
合について説明したが,これに限定されるものではな
く,複数個の光スポットについても同様に使用できる。
また,光照射を連続的に行なったが,パルス的に行なっ
ても本発明になんら支障はない。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば,光ディスク基板上の無
駄スペースがなくなり基板表面を情報記録再生に有効利
用できるようになった。また,複数個の振動露光により
高速にカッティングできるようになった。さらに,偏向
素子に極端な高速応答性を必要としなくなったことから
偏向に必要な回路関係の設計が容易になった。さらに,
素子の選択範囲も広くなり,多種類の中から,価格など
を考慮して最適素子を選定することができるようになっ
た。
駄スペースがなくなり基板表面を情報記録再生に有効利
用できるようになった。また,複数個の振動露光により
高速にカッティングできるようになった。さらに,偏向
素子に極端な高速応答性を必要としなくなったことから
偏向に必要な回路関係の設計が容易になった。さらに,
素子の選択範囲も広くなり,多種類の中から,価格など
を考慮して最適素子を選定することができるようになっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】光ディスク基板カッティング装置における光学
系の概念図。
系の概念図。
【図2】カッティング装置における基板上のスポット配
置図。
置図。
【図3】案内溝形成のためのカッティング装置における
光スポットの動作説明図。
光スポットの動作説明図。
【符号の説明】 1:Arレーザ 2:鏡 3:半透明鏡 4:AO
偏向変調器 5:レンズ 6:基板 7:ガラス板 8:レジ
スト 9:回転モータ 10:フォーマット回路 21:無駄
スペース t:露光時間差 S1,S2:光スポット。
偏向変調器 5:レンズ 6:基板 7:ガラス板 8:レジ
スト 9:回転モータ 10:フォーマット回路 21:無駄
スペース t:露光時間差 S1,S2:光スポット。
Claims (6)
- 【請求項1】表面に溝が形成され,該表面上に光反射膜
あるいは光記録膜が形成された光ディスク基板におい
て,上記溝の幅が光スポット直径以上であり,かつ螺旋
形状溝の始端もしくは終端のいずれかあるいは両方の光
の進行方向端面において,溝中の内周寄り及び外周寄り
の端面が一致していることを特徴とする光ディスク基
板。 - 【請求項2】光ディスク基板の案内溝形成方法として,
回転移動する光感光性材料表面に,複数個の光スポット
を半径方向及び円周方向にわずかにずらして連続的に照
射し,それぞれのスポット照射開始及び終了時間を先頭
スポットもしくは後続スポットの光照射位置が他のスポ
ットの光照射位置と基板の中心線上で一致するように時
間差を生じさせて露光することを特長とする光ディスク
基板製造方法。 - 【請求項3】光ディスク基板の案内溝形成方法として,
回転移動する光感光性材料表面に,複数個の光スポット
を円周方向にわずかにずらして連続的に照射し,光スポ
ットを半径方向にわずかに振動させ,それぞれのスポッ
ト照射開始及び終了時間を先頭スポットもしくは後続ス
ポットの光照射位置が他のスポットの光照射位置と基板
の中心線上で一致するように時間差を生じさせて露光す
ることを特長とする光ディスク基板製造方法。 - 【請求項4】請求項3記載の光ディスク基板製造方法に
おいて,回転移動する光感光性材料表面に,複数個の光
スポットを円周方向にわずかにずらして連続的に照射
し,光スポットを半径方向にわずかに振動させ,各スポ
ットの光照射位置が異なることを特長とする光ディスク
基板製造方法。 - 【請求項5】請求項4記載の光ディスク基板製造方法に
おいて,回転移動する光感光性材料表面に,複数個の光
スポットを円周方向にわずかにずらして連続的に照射
し,光スポットを半径方向にわずかに振動させ,各スポ
ットの光照射軌跡の位相が異なることを特長とする光デ
ィスク基板製造方法。 - 【請求項6】請求項3から請求項5のうち何れかに記載
の光ディスク基板製造方法において,回転移動する光感
光性材料表面に,複数個の光スポットをパルス的に照射
しながら光スポットを半径方向にわずかに振動させ露光
することを特長とする光ディスク基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8051331A JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8051331A JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09245377A true JPH09245377A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12883950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8051331A Withdrawn JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09245377A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001018802A1 (fr) * | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Disque compact reinscriptible et son procede de fabrication |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051331A patent/JPH09245377A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001018802A1 (fr) * | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Disque compact reinscriptible et son procede de fabrication |
US6580678B2 (en) | 1999-09-08 | 2003-06-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Rewritable compact disk and manufacturing method thereof |
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