JPH09245377A - 光ディスク基板及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク基板及びその製造方法Info
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- JPH09245377A JPH09245377A JP8051331A JP5133196A JPH09245377A JP H09245377 A JPH09245377 A JP H09245377A JP 8051331 A JP8051331 A JP 8051331A JP 5133196 A JP5133196 A JP 5133196A JP H09245377 A JPH09245377 A JP H09245377A
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- Japan
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- light
- optical disk
- disk substrate
- spot
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【解決手段】 複数個の光スポットを半径方向にわずか
にずらして連続的に照射し，それぞれのスポット照射開
始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致する
ように時間差を生じさせて露光することにより基板を製
造する。または，複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し，それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。 【効果】 光ディスク基板上の無駄スペースがなくなり
基板表面を情報記録再生に有効利用できるようになっ
た。また，複数個の振動露光により高速にカッティング
できるようになった。さらに，偏向素子に極端な高速応
答性を必要としなくなったことから偏向に必要な回路関
係の設計が容易になった。さらに，素子の選択範囲も広
くなり，多種類の中から，価格などを考慮して最適素子
を選定できる。
にずらして連続的に照射し，それぞれのスポット照射開
始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致する
ように時間差を生じさせて露光することにより基板を製
造する。または，複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し，それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。 【効果】 光ディスク基板上の無駄スペースがなくなり
基板表面を情報記録再生に有効利用できるようになっ
た。また，複数個の振動露光により高速にカッティング
できるようになった。さらに，偏向素子に極端な高速応
答性を必要としなくなったことから偏向に必要な回路関
係の設計が容易になった。さらに，素子の選択範囲も広
くなり，多種類の中から，価格などを考慮して最適素子
を選定できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＣＤーＲＯＭ等の再
生専用型光ディスクおよび追記型，可逆型光ディスクの
基板に関し，その品質向上を意図したものである。特に
高密度記録に対応する光ディスクに適したデータトラッ
ク構成に関するものである。
生専用型光ディスクおよび追記型，可逆型光ディスクの
基板に関し，その品質向上を意図したものである。特に
高密度記録に対応する光ディスクに適したデータトラッ
ク構成に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクには再生専用型と読み書き可
能型とがある。前者にはレーザディスク（ＬＤ）やコン
パクトディスク（ＣＤ）があり現在大量生産されてい
る。再生専用型光ディスクには上記以外にマルチメディ
ア媒体としてＣＤーＲＯＭ，ＣＤーＩ，ＤＶーＩなどが
あり，これらは今後大きく発展しようとしている。特に
電子出版物メディア，カーナビゲーション用途として，
光ディスクに対する期待は大きい。後者には光磁気，相
変化光ディスクなどに代表される記録形態がある。
能型とがある。前者にはレーザディスク（ＬＤ）やコン
パクトディスク（ＣＤ）があり現在大量生産されてい
る。再生専用型光ディスクには上記以外にマルチメディ
ア媒体としてＣＤーＲＯＭ，ＣＤーＩ，ＤＶーＩなどが
あり，これらは今後大きく発展しようとしている。特に
電子出版物メディア，カーナビゲーション用途として，
光ディスクに対する期待は大きい。後者には光磁気，相
変化光ディスクなどに代表される記録形態がある。
【０００３】これらの光ディスクの製造手段には，まず
原盤から電鋳プロセスでニッケルのスタンパを作り，こ
れを用いて射出成形法あるいは，平坦基板の上に紫外線
硬化樹脂でパターンを転写するいわゆる２Ｐ法などによ
って，大量に円板を製造していた。この原盤は次のよう
にして製造されている。１０ミリ程度の厚いガラス基板
の上に，フォトレジストを回転塗布により約１４０ナノ
メータ厚に塗り，これに信号変調されたレーザ光で露光
を行なう。（このことをカッティングと称している）カ
ッティング用変調信号はトラックピッチ1.6μｍのトラ
ックに沿って同心円状あるいはスパイラル状で，再生専
用以外の基板の場合データの記録番地や，タイミング用
のクロックを表わすプリフォーマット信号を原盤のとこ
ろどころに記録している。さらに，記録，再生用レーザ
光の案内溝を原盤の使用領域ほぼ全面に記録している。
原盤から電鋳プロセスでニッケルのスタンパを作り，こ
れを用いて射出成形法あるいは，平坦基板の上に紫外線
硬化樹脂でパターンを転写するいわゆる２Ｐ法などによ
って，大量に円板を製造していた。この原盤は次のよう
にして製造されている。１０ミリ程度の厚いガラス基板
の上に，フォトレジストを回転塗布により約１４０ナノ
メータ厚に塗り，これに信号変調されたレーザ光で露光
を行なう。（このことをカッティングと称している）カ
ッティング用変調信号はトラックピッチ1.6μｍのトラ
ックに沿って同心円状あるいはスパイラル状で，再生専
用以外の基板の場合データの記録番地や，タイミング用
のクロックを表わすプリフォーマット信号を原盤のとこ
ろどころに記録している。さらに，記録，再生用レーザ
光の案内溝を原盤の使用領域ほぼ全面に記録している。
【０００４】光ディスクの高記録密度化を図るためには
円周方向記録密度いわゆる線密度向上，あるいは半径方
向トラックピッチを小さくする高トラック密度などの手
法がある。その一つがランド／グルーブ（L/G）記録で
ある。これは，溝中（グルーブ）及び溝と溝の間すなわ
ちランドに情報を記録するものであり，実効的にトラッ
クピッチを半分にすることを狙ったものである。この方
式だとランドに１トラック，グルーブに１トラック配置
される。この方式に使用される溝は光スポットよりも広
い幅が必要であり，溝幅を広く形成するには２個以上の
スポットを互いにずらして配置し，露光することでスポ
ット直径以上の幅広溝を形成していた。この時のスポッ
ト配置は相互に干渉しないように円周方向にわずかづつ
ずらした位置にある。
円周方向記録密度いわゆる線密度向上，あるいは半径方
向トラックピッチを小さくする高トラック密度などの手
法がある。その一つがランド／グルーブ（L/G）記録で
ある。これは，溝中（グルーブ）及び溝と溝の間すなわ
ちランドに情報を記録するものであり，実効的にトラッ
クピッチを半分にすることを狙ったものである。この方
式だとランドに１トラック，グルーブに１トラック配置
される。この方式に使用される溝は光スポットよりも広
い幅が必要であり，溝幅を広く形成するには２個以上の
スポットを互いにずらして配置し，露光することでスポ
ット直径以上の幅広溝を形成していた。この時のスポッ
ト配置は相互に干渉しないように円周方向にわずかづつ
ずらした位置にある。
【０００５】幅広溝を形成する他の方法は，１個のスポ
ットを半径方向にわずかに振動させながら円周方向に光
を移動させ，幅広溝を形成していた。このような例とし
てミニディスク（ソニー株式会社の商標）がある。
ットを半径方向にわずかに振動させながら円周方向に光
を移動させ，幅広溝を形成していた。このような例とし
てミニディスク（ソニー株式会社の商標）がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】幅広溝を形成する手法
として従来技術で述べたように，２個以上のスポットを
用いた場合，その始端あるいは終端が不揃いとなり，そ
の部分は情報記録に使用できない無駄スペースとなって
いた。また，１個のスポットを半径方向に振動させなが
ら行なう方法は，溝側面に段差を生じさせないように高
速に振動させなけねばならない。光を振動させる手段と
しては，E/O光偏向素子あるいはA/O光変調素子などが使
用される。いずれも高速応答性に問題があり，カッティ
ングの速度を早くすることができない。ということは，
カッティングに時間がかかり，経時変化などの影響を受
けやすくなるという問題点があった。
として従来技術で述べたように，２個以上のスポットを
用いた場合，その始端あるいは終端が不揃いとなり，そ
の部分は情報記録に使用できない無駄スペースとなって
いた。また，１個のスポットを半径方向に振動させなが
ら行なう方法は，溝側面に段差を生じさせないように高
速に振動させなけねばならない。光を振動させる手段と
しては，E/O光偏向素子あるいはA/O光変調素子などが使
用される。いずれも高速応答性に問題があり，カッティ
ングの速度を早くすることができない。ということは，
カッティングに時間がかかり，経時変化などの影響を受
けやすくなるという問題点があった。
【０００７】本発明の目的は，前述したような無駄スペ
ースを少なくし，高速カッティングを可能にする基板作
製方法を提供することにある。
ースを少なくし，高速カッティングを可能にする基板作
製方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
ために，本発明では基板表面に光ディスクの案内溝が形
成され，その上に光反射膜あるいは記録膜が形成された
光ディスク基板において，その溝幅が光スポット直径以
上であり，かつ螺旋形状溝の始端もしくは終端のいずれ
かあるいは両方が半径方向に直線的である光ディスク基
板を提供する。前記光ディスク基板は，回転移動する光
感光性材料表面に，複数個の光スポットを半径方向にわ
ずかにずらして連続的に照射し，それぞれのスポット照
射開始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致
するように時間差を生じさせて露光することにより製造
される。または，複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し，それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。あるいは，複数個の光スポットを円周方
向にわずかにずらして連続的あるいはパルス的に照射
し，光スポットを半径方向に振動させ，各スポットの光
照射位置が異なるようにして製造される。または，複数
個の光スポットを円周方向にわずかにずらして連続的あ
るいはパルス的に照射し，光スポットを半径方向に振動
させ，各スポットの光照射軌跡の位相が異なるようにし
て基板を製造する。
ために，本発明では基板表面に光ディスクの案内溝が形
成され，その上に光反射膜あるいは記録膜が形成された
光ディスク基板において，その溝幅が光スポット直径以
上であり，かつ螺旋形状溝の始端もしくは終端のいずれ
かあるいは両方が半径方向に直線的である光ディスク基
板を提供する。前記光ディスク基板は，回転移動する光
感光性材料表面に，複数個の光スポットを半径方向にわ
ずかにずらして連続的に照射し，それぞれのスポット照
射開始及び終了時間を先頭スポットの光照射位置に一致
するように時間差を生じさせて露光することにより製造
される。または，複数個の光スポットを円周方向にわず
かにずらして連続的あるいはパルス的に照射し，それら
の光スポットを半径方向にわずかに振動させることによ
り製造される。あるいは，複数個の光スポットを円周方
向にわずかにずらして連続的あるいはパルス的に照射
し，光スポットを半径方向に振動させ，各スポットの光
照射位置が異なるようにして製造される。または，複数
個の光スポットを円周方向にわずかにずらして連続的あ
るいはパルス的に照射し，光スポットを半径方向に振動
させ，各スポットの光照射軌跡の位相が異なるようにし
て基板を製造する。
【０００９】
（実施例１）以下，本発明の実施例を図を用いて説明す
る。図１は光ディスク原盤カッティング装置における光
学系の概念を示す。Arレーザ１（スペクトラ・フィジッ
クス社製；波長４５８ｎｍ，出力；１００ｍＷ）からの
光は鏡２によりその進行方向を９０度変え，半透明鏡３
によりほぼ強度の等しいふたつの光に分割した。半透明
鏡３により反射された光（光Ａ）はＡＯ（アカスト・オ
プチックス）偏向変調器４を通過し，鏡２により進行方
向を変え，半透明鏡３で反射され，先に第一の半透明鏡
３により分割された光（光Ｂ）と合致させる。一方，光
Ｂは半透明鏡３を通過後，鏡２により反射されＡＯ偏向
変調器４を通過し，半透明鏡３を通過し前述の光Ａと合
わされる。その後，光Ａと光Ｂはほぼ同一光軸上を通り
光集光用のレンズ５を通過して，その焦点近傍に配置さ
れた原盤６の表面に２個のスポットとして絞りこまれ
る。ＡＯ偏向変調器４にはフォーマット回路10から所望
の信号に変調された電気信号を送り，これに従いレーザ
光を強度変調あるいは偏向して所定の基板を得るように
している。基板６は厚さ１０ミリのガラス板７の上に，
ポジ型ホトレジスト８（シップレー社；ＡＺ１３５０な
ど）を１４０nmの厚さに回転塗布したものである。この
基板は回転モータ９により６００rpmの速度で回転して
いる。
る。図１は光ディスク原盤カッティング装置における光
学系の概念を示す。Arレーザ１（スペクトラ・フィジッ
クス社製；波長４５８ｎｍ，出力；１００ｍＷ）からの
光は鏡２によりその進行方向を９０度変え，半透明鏡３
によりほぼ強度の等しいふたつの光に分割した。半透明
鏡３により反射された光（光Ａ）はＡＯ（アカスト・オ
プチックス）偏向変調器４を通過し，鏡２により進行方
向を変え，半透明鏡３で反射され，先に第一の半透明鏡
３により分割された光（光Ｂ）と合致させる。一方，光
Ｂは半透明鏡３を通過後，鏡２により反射されＡＯ偏向
変調器４を通過し，半透明鏡３を通過し前述の光Ａと合
わされる。その後，光Ａと光Ｂはほぼ同一光軸上を通り
光集光用のレンズ５を通過して，その焦点近傍に配置さ
れた原盤６の表面に２個のスポットとして絞りこまれ
る。ＡＯ偏向変調器４にはフォーマット回路10から所望
の信号に変調された電気信号を送り，これに従いレーザ
光を強度変調あるいは偏向して所定の基板を得るように
している。基板６は厚さ１０ミリのガラス板７の上に，
ポジ型ホトレジスト８（シップレー社；ＡＺ１３５０な
ど）を１４０nmの厚さに回転塗布したものである。この
基板は回転モータ９により６００rpmの速度で回転して
いる。
【００１０】図２はカッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係及び形成さ
れた溝の始端，終端を示す。図２(a) は従来の溝端面形
状を表しておりスポットＳ1およびＳ2によって同時に露
光開始されるため，両スポットのずれた部分は無駄スペ
ース21となっている。図２(b) は本発明による溝端面形
状を表しており，溝の始端ではスポットＳ1で露光する
タイミングをスポットＳ2との位置ずれ分ｔ時間だけ遅
らせて露光し，溝の終端でもスポットＳ1で露光するタ
イミングをｔ時間だけ遅らせることで，図に示すように
両スポットずれによる段差のない形状を実現できた。こ
れらのことはスポットＳ2での露光のタイミングをｔ時
間だけ早くすることでも同様な結果が得られた。こうし
て２つのスポットによって露光された案内溝の幅は１個
のスポット直径以上であることはもちろんである。
た時における基板上の光スポットの配置関係及び形成さ
れた溝の始端，終端を示す。図２(a) は従来の溝端面形
状を表しておりスポットＳ1およびＳ2によって同時に露
光開始されるため，両スポットのずれた部分は無駄スペ
ース21となっている。図２(b) は本発明による溝端面形
状を表しており，溝の始端ではスポットＳ1で露光する
タイミングをスポットＳ2との位置ずれ分ｔ時間だけ遅
らせて露光し，溝の終端でもスポットＳ1で露光するタ
イミングをｔ時間だけ遅らせることで，図に示すように
両スポットずれによる段差のない形状を実現できた。こ
れらのことはスポットＳ2での露光のタイミングをｔ時
間だけ早くすることでも同様な結果が得られた。こうし
て２つのスポットによって露光された案内溝の幅は１個
のスポット直径以上であることはもちろんである。
【００１１】（実施例２）図３は他の案内溝形成方法を
説明する図であり，カッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係を示す。光
スポットＳ1あるいはＳ2のどちらも溝幅Ｌだけ幅方向に
振動させながら露光した。なお，光スポットＳ1とＳ2は
円周上で距離ｄだけ離れている。この距離は光スポット
Ｓ1の振動周期以下に設定している。こうすることで，
光スポットＳ1及びＳ2の照射軌跡は一致することなく，
溝幅Ｌの中を均一に露光し，幅広溝を確実に形成でき
た。なお，振動周期は光スポット直径以下に設定した。
また，距離ｄをＳ1の振動周期の半分にした場合，Ｓ1及
びＳ2の露光軌跡は逆位相となった。溝の始端及び終端
での段差をなくすために記録開始，終了のタイミングは
スポットＳ1及びＳ2が溝の幅縁にある時に実行した。
説明する図であり，カッティングレーザ光を真上から見
た時における基板上の光スポットの配置関係を示す。光
スポットＳ1あるいはＳ2のどちらも溝幅Ｌだけ幅方向に
振動させながら露光した。なお，光スポットＳ1とＳ2は
円周上で距離ｄだけ離れている。この距離は光スポット
Ｓ1の振動周期以下に設定している。こうすることで，
光スポットＳ1及びＳ2の照射軌跡は一致することなく，
溝幅Ｌの中を均一に露光し，幅広溝を確実に形成でき
た。なお，振動周期は光スポット直径以下に設定した。
また，距離ｄをＳ1の振動周期の半分にした場合，Ｓ1及
びＳ2の露光軌跡は逆位相となった。溝の始端及び終端
での段差をなくすために記録開始，終了のタイミングは
スポットＳ1及びＳ2が溝の幅縁にある時に実行した。
【００１２】なお，本実施例では光スポットが２個の場
合について説明したが，これに限定されるものではな
く，複数個の光スポットについても同様に使用できる。
また，光照射を連続的に行なったが，パルス的に行なっ
ても本発明になんら支障はない。
合について説明したが，これに限定されるものではな
く，複数個の光スポットについても同様に使用できる。
また，光照射を連続的に行なったが，パルス的に行なっ
ても本発明になんら支障はない。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば，光ディスク基板上の無
駄スペースがなくなり基板表面を情報記録再生に有効利
用できるようになった。また，複数個の振動露光により
高速にカッティングできるようになった。さらに，偏向
素子に極端な高速応答性を必要としなくなったことから
偏向に必要な回路関係の設計が容易になった。さらに，
素子の選択範囲も広くなり，多種類の中から，価格など
を考慮して最適素子を選定することができるようになっ
た。
駄スペースがなくなり基板表面を情報記録再生に有効利
用できるようになった。また，複数個の振動露光により
高速にカッティングできるようになった。さらに，偏向
素子に極端な高速応答性を必要としなくなったことから
偏向に必要な回路関係の設計が容易になった。さらに，
素子の選択範囲も広くなり，多種類の中から，価格など
を考慮して最適素子を選定することができるようになっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図１】光ディスク基板カッティング装置における光学
系の概念図。
系の概念図。
【図２】カッティング装置における基板上のスポット配
置図。
置図。
【図３】案内溝形成のためのカッティング装置における
光スポットの動作説明図。
光スポットの動作説明図。
【符号の説明】 １：Arレーザ ２：鏡 ３：半透明鏡 ４：ＡＯ
偏向変調器 ５：レンズ ６：基板 ７：ガラス板 ８：レジ
スト ９：回転モータ 10：フォーマット回路 21：無駄
スペース ｔ：露光時間差 Ｓ1，Ｓ2：光スポット。
偏向変調器 ５：レンズ ６：基板 ７：ガラス板 ８：レジ
スト ９：回転モータ 10：フォーマット回路 21：無駄
スペース ｔ：露光時間差 Ｓ1，Ｓ2：光スポット。
Claims (6)
- 【請求項１】表面に溝が形成され，該表面上に光反射膜
あるいは光記録膜が形成された光ディスク基板におい
て，上記溝の幅が光スポット直径以上であり，かつ螺旋
形状溝の始端もしくは終端のいずれかあるいは両方の光
の進行方向端面において，溝中の内周寄り及び外周寄り
の端面が一致していることを特徴とする光ディスク基
板。 - 【請求項２】光ディスク基板の案内溝形成方法として，
回転移動する光感光性材料表面に，複数個の光スポット
を半径方向及び円周方向にわずかにずらして連続的に照
射し，それぞれのスポット照射開始及び終了時間を先頭
スポットもしくは後続スポットの光照射位置が他のスポ
ットの光照射位置と基板の中心線上で一致するように時
間差を生じさせて露光することを特長とする光ディスク
基板製造方法。 - 【請求項３】光ディスク基板の案内溝形成方法として，
回転移動する光感光性材料表面に，複数個の光スポット
を円周方向にわずかにずらして連続的に照射し，光スポ
ットを半径方向にわずかに振動させ，それぞれのスポッ
ト照射開始及び終了時間を先頭スポットもしくは後続ス
ポットの光照射位置が他のスポットの光照射位置と基板
の中心線上で一致するように時間差を生じさせて露光す
ることを特長とする光ディスク基板製造方法。 - 【請求項４】請求項３記載の光ディスク基板製造方法に
おいて，回転移動する光感光性材料表面に，複数個の光
スポットを円周方向にわずかにずらして連続的に照射
し，光スポットを半径方向にわずかに振動させ，各スポ
ットの光照射位置が異なることを特長とする光ディスク
基板製造方法。 - 【請求項５】請求項４記載の光ディスク基板製造方法に
おいて，回転移動する光感光性材料表面に，複数個の光
スポットを円周方向にわずかにずらして連続的に照射
し，光スポットを半径方向にわずかに振動させ，各スポ
ットの光照射軌跡の位相が異なることを特長とする光デ
ィスク基板製造方法。 - 【請求項６】請求項３から請求項５のうち何れかに記載
の光ディスク基板製造方法において，回転移動する光感
光性材料表面に，複数個の光スポットをパルス的に照射
しながら光スポットを半径方向にわずかに振動させ露光
することを特長とする光ディスク基板製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051331A JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051331A JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09245377A true JPH09245377A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12883950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8051331A Withdrawn JPH09245377A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 光ディスク基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09245377A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001018802A1 (fr) * | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Disque compact reinscriptible et son procede de fabrication |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051331A patent/JPH09245377A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001018802A1 (fr) * | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Disque compact reinscriptible et son procede de fabrication |
| US6580678B2 (en) | 1999-09-08 | 2003-06-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Rewritable compact disk and manufacturing method thereof |
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