JPH10222869A - 記録媒体原盤の製造方法及び記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同期信号の検出が容易な片側アドレス方式が
採用された記録媒体、及びそのような記録媒体の作製に
使用される記録媒体原盤の製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明に係る記録媒体原盤の製造方法
は、感光層を露光する露光工程において、直線状にグル
ーブの側壁を露光する第１の光ビームと第２の光ビーム
とを使用し、同期信号が記録される領域を露光する際に
は、グルーブに対応する部分を第２の光ビームだけによ
って露光し、第２の光ビームを同期信号に応じてウォブ
ルさせる。また、本発明に係る記録媒体は、記録面上に
少なくともグルーブが形成されており、同期信号が記録
されていない領域では、グルーブの一方の側壁が直線状
に形成され、グルーブの他方の側壁の少なくとも一部が
アドレス信号に応じて蛇行しており、同期信号が記録さ
れた領域では、グルーブの両側壁が同期信号に応じて蛇
行している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、グルーブ側壁をウォブ
ルさせることにより、情報信号やアドレス信号等が記録
される記録媒体、及びそのような記録媒体の作製に使用
される記録媒体原盤の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】表面に情報信号等に対応した凹凸パター
ンが形成される光ディスクでは、例えば図１３に示すよ
うに、情報信号が記録される信号記録領域において、光
学的に透明なプラスチック材からなるディスク基板の一
方の面に凹状のグルーブ１００と、凸状のランド１０１
とが形成されている。そして、グルーブ１００は、所定
のトラックピッチｐでスパイラル状に設けられている。
ここで、トラックピッチｐは、約０．７μｍ〜１．６μ
ｍ程度とされる。この図１３に示した光ディスクは、表
面に記録層が形成され、情報信号の記録再生が行われ
る。

【０００３】例えば、記録可能な相変化型の光ディス
ク、あるいは光磁気型の光ディスク等としては、信号記
録領域において、例えばランド１０１を記録エリアと
し、グルーブ１００をトラッキング用光反射エリアとし
て用いるものが多数を占めている。これらの光ディスク
において、グルーブ１００等を形成した信号記録面上に
は、記録層として相変化膜、あるいは磁性膜及び光反射
膜等が形成されている。

【０００４】また、再生専用の光ディスクとしては、図
１４に示すように、信号記録面上におけるピット１０２
の列を、記録エリア及びトラッキング用回折格子として
用いるものが多数を占めている。なお、信号記録面上に
は、光反射膜等が形成されている。

【０００５】上述したような光ディスクに対して記録再
生を行う際には、光ディスクを回転させ、基板のグルー
ブやピットが形成された面とは反対側の面に、光学ピッ
クアップに備えられている光源からレーザー光を照射す
る。

【０００６】ここで、情報信号の記録が可能な光ディス
クでは、そのレーザー光によってランド１０１上の記録
層に情報が書き込まれ、レーザー光の反射光によって記
録層へ書き込みした情報が読み取られる。この情報信号
の記録再生時においては、記録又は再生用のレーザー光
が常に所定のトラック上に照射されるように、例えばグ
ルーブ１００からの反射光を検出してトラッキング制御
を行っている。

【０００７】一方、再生専用の光ディスクでは、信号記
録面へのレーザー光に対して、ピット１０２の列を設け
た信号記録面から反射する回折光を検出することで、情
報の読み取り及びトラッキング制御を行っている。

【０００８】このように、光ディスクの表面の凹凸形状
は、情報記録媒体としての性能を決定するものである。
したがって、光ディスクの製造においては、高精度に表
面に凹凸パターンが形成されているディスク基板を製造
することが要求されている。

【０００９】以下、このようなディスク基板の製造方法
について説明する。

【００１０】ディスク基板を製造方法するときは、先
ず、表面を十分に研磨、洗浄したガラス原盤上に、露光
処理によってアルカリ可溶性となるフォトレジストを厚
さ０．１μｍ程度に塗布する。

【００１１】次に、レーザー光をフォトレジストの表面
に対物レンズで集光して露光する。このとき、ガラス原
盤を回転させながら、ガラス原盤上に集光されているレ
ーザー光を一回転当たり等距離づつ半径方向に送る。こ
のように、レーザー光を露光することにより、フォトレ
ジストにグルーブの潜像を一定の間隔ｐで螺旋状に形成
する。このとき、レーザー光の照射を断続的に行えば、
フォトレジストにピットの列の潜像をトラックピッチ毎
に螺旋状に生じさせることができる。

【００１２】次に、このガラス原盤をアルカリ性現像液
で現像することにより、上述の工程で露光された部分を
除去する。これにより、記録可能な光ディスクでは、フ
ォトレジストに連続的な溝であるグルーブと、グルーブ
間に残された凹状のランドとがガラス原盤の半径方向に
交互に形成される。また、再生専用の光ディスクでは、
フォトレジストに連続的な溝であるグルーブと、凹状の
ピット列とを形成する。

【００１３】次に、ガラス原盤上にＮｉメッキを施し、
フォトレジストのグルーブ又は連続したピット列が転写
されたスタンパを作製する。

【００１４】次に、このスタンパに形成された凹凸を、
射出成形法等によって光ディスクの基板材料であるプラ
スチック材料に転写し、グルーブ及びランド又はピット
列を形成したディスク基板を完成させる。

【００１５】なお、記録可能な光ディスクに関しては、
このディスク基板の作製後に、ディスク基板のグルーブ
のある凹凸面上に記録膜や反射膜等を形成する。また、
再生専用の光ディスクに関しては、基板のピットのある
凹凸面上に反射膜や保護膜を形成する。

【００１６】このようなディスク基板を備える光ディス
クは、グルーブ構造のフォーマットとして、ランドのみ
に情報信号の記録が行われるランド記録方式と、グルー
ブのみに情報信号の記録が行われるグルーブ記録とが行
われている。さらには、今後の高密度記録媒体に対する
有力な手段として、ランドとグルーブとの幅をほぼ等し
く形成し、ランド及びグルーブの両方に信号を記録す
る、ランド／グルーブ記録方式が提案されている。

【００１７】また、このようなディスク基板には、信号
記録領域となるグルーブ構造だけでなく、記録されてい
る情報信号を正確に記録再生するためのトラックアドレ
ス信号やディスクの回転数を制御するためのクロック生
成用信号等のアドレス信号が予め記録されている。

【００１８】これらのアドレス信号を記録する方法とし
ては、エンボスピットを形成することによりアドレス信
号を記録する方法と、グルーブの側壁をウォブルするこ
とによりアドレス信号を記録する方法とが挙げられる。

【００１９】エンボスピットを形成することによりアド
レス信号を記録する方法としては、図１５に示すよう
に、信号記録領域中に、凹凸パターンからなるエンボス
ピット１０２によってアドレス情報を記録する。なお、
このアドレス信号をエンボスピット１０２で記録する方
法では、所定の領域をアドレス信号で占有するため、当
該領域には、情報信号の記録が行われない。このアドレ
ス信号を記録するエンボスピット１０２が形成されるア
ドレス信号領域は、ディスク基板の一周内に約２０箇所
程度形成される。したがって、信号記録領域を減らし、
情報信号の記録容量を減らしてしまうという欠点があ
る。

【００２０】一方、グルーブの側壁をウォブルさせるこ
とによりアドレス信号を記録する方法は、図１６に示す
ように、製造時においてガラス原盤上に形成されたフォ
トレジストを露光するスポットをウォブルさせることに
より、記録するアドレス信号に応じてグルーブの側壁を
蛇行させ、再生時にウォブリングを検出する方法であ
る。この方法は、上述したエンボスピットによる方法と
比較して、アドレス信号により信号記録領域の一部が占
有されるようなことがないので、信号記録領域の全領域
を情報信号を記録する領域として使用することができ
る。したがって、この方法によれば、情報信号の記録容
量を増加させることが可能である。

【００２１】以上述べたように、今後の高密度記録を実
現する手段として、ランド／グルーブ記録と、ウォブリ
ングによるアドレス情報の記録とを組み合わせることが
必要となる。

【００２２】しかしながら、図１６に示した従来のウォ
ブリング方法では、ランド１０１の形状がその両隣のグ
ルーブ１００の蛇行状態によって決定されるため、固有
のアドレス信号を与えることが不可能であった。

【００２３】そこで、図１７に示すように、グルーブ１
００の一方側１００ａを直線に保つことで、グルーブ１
００の他方側１００ｂのウォブリングによるアドレス情
報をランド１０１と共有し、後は何らかの手段でランド
１０１とグルーブ１００とを判別することにより、全て
のトラックに情報を与えるという片側ウォブル方式が提
案されている。

【００２４】このような片側ウォブル方式のディスク基
板を製造するには、２つの光ビームを用いる。すなわ
ち、片側ウォブル方式のディスク基板を製造する際にお
いては、図１７に示すように、直行するスポット１０３
（以下、直行スポットと称する。）と、ウォブルするス
ポット１０４（以下、ウォブリングスポットと称す
る。）との２つのスポットを用いてグルーブ１００を形
成する。そして、これらのスポットにより露光され形成
されるグルーブ１００の幅がランド１０１の幅と等しく
なるように形成する。このとき、２つの光ビームのう
ち、１つの光ビームのスポットとしてウォブリングスポ
ットを用いてグルーブ１００を形成することによって片
側ウォブル方式のディスク基板を製造する。なお、上述
した片側ウォブル方式のグルーブ１００を形成する直行
スポット１０３、ウォブリングスポット１０４のスポッ
ト径は、通常、約０．５μｍ程度である。また、グルー
ブ１００及びランド１０１の幅は、それぞれ約０．６μ
ｍ程度である。

【００２５】さらに、この片側ウォブル方式のディスク
基板には、図１８に示すように、ウォブリングによって
ディスク回転数を制御するための記録クロック用の同期
マークであって、情報信号の頭出しができるファインク
ロックマーク１０５を記録するということが提案されて
いる。また、このファインクロックマーク１０５は、上
述と同様に、２つの光ビームを有する光学系を用い、２
つの光ビームのうち、１つの光ビームにより記録するこ
とにより形成される。すなわち、このファインクロック
マーク１０５を形成する際には、直行スポット１０３を
直進させて露光を行い、ウォブリングスポット１０４を
大きな振幅でウォブルさせて露光を行うことによりファ
インクロックマーク１０５を形成する。

【００２６】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、片
側ウォブル方式によるアドレス信号の記録及びファイン
クロックマーク１０５の記録は、円盤状記録媒体の高密
度の記録を可能とする光ディスクにおいて非常に有効な
方法である。しかしながら、現状では、ディスク原盤の
製造工程において、レーザー光を露光することによって
グルーブ１００及びランド１０１をレジストに潜像させ
るときに問題が生ずる。

【００２７】ファインクロックマーク１０５は、信号記
録の頭出しの信号である。したがって、このファインク
ロックマーク１０５が記録される領域では、情報信号を
記録しないことが前提となる。そこで、ファインクロッ
クマーク１０５の専有領域は小さいほうが好ましい。し
たがって、このファインクロックマーク１０５は、一記
録単位に対して単発で記録されることが望ましく、数パ
ルスをつなげて冗長にすることは望ましくない。

【００２８】その結果、エラー訂正情報を含む通常のウ
ォブルによるアドレス信号と違い、ファインクロックマ
ーク１０５の検出のエラーが許されなくなるので、検出
の感度を高めるためにウォブル振幅を通常の数倍にする
必要が生ずる。

【００２９】ここで、通常のウォブル信号の振幅ｔ₆が
±０．０５μｍ程度であり、ファインクロックマーク１
０５の振幅ｔ₇は、±０．１〜０．２μｍ程度必要であ
る。

【００３０】このように、ファインクロックマーク１０
５のウォブル振幅を大きくすると、ファインクロックマ
ーク１０５の形成時において、図１９に示すように、ウ
ォブリングスポット１０４が、直行スポット１０３から
遠ざかった時に、２つのスポットの中心付近で露光され
ない部分１０６が生じたり、逆に近づいたときに直行ス
ポット１０３により形成されるグルーブ１００の側壁か
らはみ出す部分１０７が生じるという問題がある。

【００３１】また、より大きな問題としては、ファイン
クロックマーク１０５を形成する際、図１９に示すよう
に、検出の感度を高めるためにウォブリングスポット１
０４の振幅ｔ₇を大きくすると、ウォブリングスポット
１０４により形成されるグルーブと、直行スポット１０
３により形成されるグルーブとが、重複してしまう。す
なわち、ファインクロックマーク１０５を形成する際、
ウォブリングスポット１０４によって露光されるグルー
ブが、直行スポット１０３により形成されるグルーブに
塗りつぶされてしまう部分１０８が生ずると、ファイン
クロックマーク１０５の振幅ｔ₇が必要量とれなくな
る。またファインクロックマーク１０３の振幅が、左右
で不均衡となるので再生波形の歪みが生じ、ゼロクロス
点の検出が難しくなる。

【００３２】これは、情報信号の高密度化においては、
２つの光ビームで形成するグルーブの幅がより狭くなっ
て、両スポットの半径方向の距離を狭める必要が生じた
時において、より顕著な問題となる。

【００３３】この問題に対処するため、ファインクロッ
クマーク１０５を形成するウォブリングスポット１０４
を、直行スポット１０３側と反対側にのみファインクロ
ックマーク１０５の振幅を大きくするという方法が考え
られる。しかしながら、所望のファインクロックマーク
１０５の再生信号振幅を得るため、ファインクロックマ
ーク１０５の振幅を直行スポット１０３の反対側の方向
にのみとした場合、ウォブル振幅を上述の方法と比較し
て２倍ほどにしなくてはならない。このように、ファイ
ンクロックマーク１０５の振幅を２倍程度とすること
は、カッティング装置の光学系に備えられる光偏向素子
でそれだけの振幅が達成できないという可能性がある。

【００３４】本発明は、上述のような実情に鑑みて提案
されたものであり、ファインクロックマークを形成する
際において、ウォブリングスポットによって形成された
ファインクロックマークが直行スポットによって塗りつ
ぶされるようなことなく、かつ、ファインクロックマー
クによる再生信号の振幅を大きくして、記録媒体の記録
容量を向上させることが可能な記録媒体、及びそのよう
な記録媒体の作製に使用される記録媒体原盤の製造方法
を提供することを目的とする。

【００３５】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する本
発明にかかる記録媒体原盤の製造方法は、基板上に感光
層を形成する工程と、少なくともグルーブが形成される
ように、上記感光層の所定領域を露光する露光工程と、
露光工程で露光された感光層を現像する現像工程と、現
像工程で現像された感光層上に記録媒体原盤を形成する
原盤形成工程とを有し、露光工程において、同期信号が
記録される領域以外の領域を露光する際には、グルーブ
の一方の側壁が形成されるように第１の光ビームによっ
て露光するとともに、少なくともアドレス信号に応じて
ウォブルさせながら、グルーブの他方の側壁が形成され
るように第２の光ビームによって露光し、露光工程にお
いて、同期信号が記録される領域を露光する際には、グ
ルーブに対応する部分を第２の光ビームだけによって露
光し、第２の光ビームを同期信号に応じてウォブルさせ
ることを特徴とする。

【００３６】なお、露光工程においては、同期信号が記
録される領域を露光する際に、第２の光ビームだけによ
って露光する時間を、０μｓｅｃ≦ｔ≦０．５μｓｅｃ
で表される時間ｔを、同期信号に対応させて第２の光ビ
ームをウォブルさせる時間の前後に付加した時間とする
ことが望ましい。

【００３７】このような記録媒体基板の製造方法は、感
光層の所定の領域を露光する露光工程において、同期信
号が記録される領域以外の領域を露光する際には、グル
ーブの一方の側壁が形成されるように第１の光ビームに
よって露光するとともに、少なくともアドレス信号に応
じてウォブルさせながら、グルーブの他方の側壁が形成
されるように第２の光ビームによって露光し、同期信号
が記録される領域を露光する際には、グルーブに対応す
る部分を第２の光ビームだけによって露光し、第２の光
ビームを同期信号に応じてウォブルさせるので、同期信
号を記録する際に、第２の光ビームによって露光された
部分が第１の光ビームによって露光される部分と重なっ
てしまうようなことがない。したがって、この記録媒体
基板の製造方法によれば、第２の光ビームによって記録
される同期信号が第１の光ビームによって歪んでしまう
ようなことなく、同期信号を記録することが可能であ
る。

【００３８】また、本発明に係る記録媒体は、記録面上
に少なくともグルーブが形成されており、同期信号が記
録されていない領域では、グルーブの一方の側壁が直線
状に形成され、グルーブの他方の側壁の少なくとも一部
がアドレス信号に応じて蛇行しており、同期信号が記録
されている領域では、グルーブの両側壁が同期信号に応
じて蛇行していることを特徴とするものである。

【００３９】このような記録媒体は、同期信号が記録さ
れた領域において、グルーブの両側壁が同期信号に応じ
て蛇行しているので、同期信号の検出を行うことが可能
である。

【００４０】

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる記録媒体原
盤の製造方法及び記録媒体について図面を参照しながら
詳細に説明する。

【００４１】本発明にかかる記録媒体は、例えば、図１
に示すように、表面に機能層が形成され、情報信号が記
録される光ディスク１に適用することが可能である。こ
の本発明を適用した光ディスク１は、プラスチック材等
からなり、少なくとも一方面に凹状に形成されたグルー
ブと凸状に形成されたランドとが形成されたディスク基
板２と、このディスク基板２上に形成された機能層３と
を有する。

【００４２】このディスク基板２の情報信号等が記録さ
れる記録面２ａ上には、図２に示すように、凹状に形成
されたグルーブ４と凸状に形成されたランド５とが形成
されている。また、これらランド５及びグルーブ４は、
トラック毎に所定のトラックピッチｐでスパイラル状に
設けられている。なお、このトラックピッチｐは、約
０．７μｍ〜約１．６μｍ程度に形成されている。

【００４３】また、これらグルーブ４及びランド５は、
光ディスク１の半径方向Ａにおいて略同一の長さ寸法で
形成されており、これらランド４及びグルーブ５に情報
信号が記録される。なお、本発明を適用した光ディスク
１においては、グルーブ４の半径方向Ａの長さ寸法ｔ₁
が約０．６μｍ程度に形成されている。

【００４４】また、グルーブ４は、第１の側壁４ａが蛇
行され、第２の側壁４ｂが直線状に形成されている。こ
のように、グルーブ４は、第１の側壁４ａが蛇行される
ことによって、アドレス信号が記録されている。ここ
で、アドレス信号は、正確に情報信号を記録再生するた
めの付帯信号であって、トラックアドレス信号等があ
る。なお、本発明を適用した光ディスク１においては、
第１の側壁４ａの振幅ｔ₂が約±３０ｎｍ程度に形成さ
れている。

【００４５】光ディスク１には、アドレス情報としてデ
ィスク回転数を制御するためのクロック生成用のファイ
ンクロックマーク６が記録されている。このファインク
ロックマーク６は、第１の側壁４ａ及び第２の側壁４ｂ
が蛇行されて形成される。このファインクロックマーク
６が記録された領域においては、他のアドレス信号が記
録されている第１の側壁４ａに形成された蛇行の振幅ｔ
₂より大きく形成されている。なお、このファインクロ
ックマーク６を記録した領域での振幅ｔ₃は、約５０ｎ
ｍ〜１００ｎｍ程度に形成されている。また、ファイン
クロックマーク６を記録した領域は、トラック方向の長
さｔ₄が約５〜１０ｎｍ程度に形成されている。なお、
このファインクロックマーク６が記録されている領域に
おいては、再生信号の乱れを生じるので、情報信号が記
録されていない。

【００４６】また、機能層３は、ディスク基板２上に形
成され、情報信号の記録再生が行われる。この機能層３
は、例えば相変化型の光ディスクとする場合には相変化
型の材料によって形成され、光磁気型の光ディスクとす
る場合には光磁気材料によって形成される。

【００４７】このように構成された光ディスク１は、フ
ァインクロックマーク６が記録されていない領域におい
ては、グルーブ４の第１の側壁４ａのみに対して蛇行さ
せ、ファインクロックマーク６が記録される領域におい
ては、グルーブ４の第１の側壁４ａ及び第２の側壁４ｂ
に対して蛇行させているので、従来のファインクロック
マークと同じ振幅量であってもファインクロックマーク
６に対する再生信号の振幅を大きくすることが可能であ
る。したがって、この光ディスク１によれば、今後の狭
トラックピッチ化に対応してファインクロックマーク６
の振幅を小さくすることが可能である。また、この光デ
ィスク１は、ファインクロックマーク６の再生出力を大
きくすることができるので、ファインクロックマーク６
を記録する領域ｔ₄を短縮することができので、情報信
号を記録する領域を拡大することができ、記録容量を大
きくすることが可能である。

【００４８】つぎに、本発明にかかる記録媒体原盤の製
造方法の一例について説明する。

【００４９】以下に説明するディスク原盤の製造方法
は、ガラス材からなるガラス原盤上にレジスト層を形成
するレジスト層形成工程と、このレジスト層を光ビーム
により露光する露光工程と、光ビームにより露光された
レジスト層を現像する現像工程と、レジスト層上にメッ
キを形成するメッキ形成工程とを有する。

【００５０】先ず、レジスト層形成工程においては、図
３に示すように、表面を十分に研磨及び洗浄したガラス
原盤１０を作製する。次に、このガラス原盤１０上に対
して、図４に示すように、露光処理によってアルカリ可
溶性となるレジスト層１１を厚さ０．１μｍ程度に塗布
する。

【００５１】次に、露光工程においては、図５に示すよ
うに、光ビームをレジスト層１１の表面に対物レンズ１
２で集光して露光する。このとき、ガラス原盤１０を円
周方向Ａに回転させながら、ガラス原盤１０上に集光さ
れている光ビームを一回転当たり等距離づつ半径方向に
送る。このように、光ビームを露光することにより、レ
ジスト層１１にグルーブ４の潜像を一定の間隔のトラッ
クピッチｐで螺旋状に形成する。このとき、光ビームの
照射を断続的に行うことにより、レジスト層１１にラン
ド及びグルーブの潜像をトラックピッチｐ毎に螺旋状に
生じさせることができる。なお、この露光工程の説明に
ついては、簡単な説明のみを行ったが、その詳細につい
ては、後述する。

【００５２】次に、現像工程においては、図６に示すよ
うに、このガラス原盤１０をアルカリ性現像液で現像す
ることにより、上述の工程で光ビームによって露光され
た部分を除去する。これにより、記録可能な光ディスク
では、レジスト層１１に連続的な溝であるグルーブ１３
と、グルーブ１３間に残された凹部状のランド１４とが
ガラス原盤１０の半径方向に交互に形成される。

【００５３】次に、メッキ形成工程においては、図７に
示すように、ガラス原盤１０上にＮｉメッキを施し、グ
ルーブ１３とランド１４を転写したディスク原盤１５を
作製する。そして、ディスク基板を作製する際は、以上
のように作製されたディスク原盤を用いて合成樹脂材料
等に凹凸パターンを転写する。

【００５４】そして、このように製造されたディスク原
盤１５は、図８に示すように、このディスク原盤１５の
凹凸が形成された面に射出成形法等によって光ディスク
の基板材料であるプラスチック材料１６に転写し、グル
ーブとランドとを形成したディスク基板を完成させる。

【００５５】ところで、上述の露光工程においては、レ
ーザーカッティング装置を用いてレジスト層１１に光ビ
ームを露光することによって凹凸パターンを潜像させ
る。以下、本発明を適用したディスク基板の製造方法に
使用されるレーザーカッティング装置について説明す
る。

【００５６】ここで、例えば相変化ディスク基板あるい
は光磁気ディスク基板においては、信号記録領域となる
グルーブ構造以外に、情報信号の記録時において情報信
号を記録する位置の目標となるアドレス信号等を予め備
え付けておく必要があるため、後述するように、グルー
ブと別のスポットでアドレス信号用のピットを露光した
り、スポットをガラス原盤の半径方向に振動させて蛇行
されたグルーブを露光するといった必要性が生じる。

【００５７】このレーザーカッティング装置２０は、図
９に示すように、スポットをウォブルさせることに対応
したＣｈ−Ａの光学系とＣｈ−Ｂの光学系との２ビーム
光学系を備えている。そして、このレーザーカッティン
グ装置２０は、Ｃｈ−Ｂの光学系中に光偏向素子を挿入
してスポットをウォブルすることを可能としたものであ
る。すなわち、このレーザーカッティング装置２０は、
スポットをウォブルさせて露光を行うＣｈ−Ｂの光学系
と、スポットをウォブルさせないで露光を行うＣｈ−Ａ
の光学系とを設ける。このレーザーカッティング装置２
０の光学系によれば、例えばグルーブの一方の側壁にウ
ォブルを施したようなフォーマットを形成することが可
能である。

【００５８】このようなレーザーカッティング装置２０
は、図９に示すように、光を出射する光源２１と記録光
強度制御部２２と変調部２３とを有する固定定盤部２４
と、ビームエキスパンダー部２５と対物レンズ２６とが
備えられた移動定盤部２７と、レジスト層１１が塗布さ
れたガラス原盤１０を載置される回転自在なターンテー
ブル２８とを備える。

【００５９】光源２１には、例えば波長が約４１３ｎｍ
の光ビームを出射するＫｒイオンレーザーを使用する。

【００６０】記録光強度制御部２２は、光源２１から出
射されて、ガラス原盤１０に照射される光ビームの不安
定さを除去する。この記録光強度制御部２２は、光源２
１から出射された光ビームが入射され、この光ビームを
任意角度の偏光面を有する光ビームとする電気光学結晶
素子を用いた電気光学変調器（ｅｌｅｃｔｒｏ−ｏｐｔ
ｉｃ ｍｏｄｕｌａｔａｒ：ＥＯＭ）２９と、このＥＯ
Ｍ２９を通過した光が入射され、所定角度の偏光面を有
する光のみを通過させるアナライザー３０と、このアナ
ライザー３０を通過した光の半分の光量を通過させ、残
りの半分を後述する変調部２３に反射するビームスプリ
ッター３１Ａ，３１Ｂと、このビームスプリッター３１
Ａ，３１Ｂを通過した光を検出するフォトダイオード３
２と、このフォトダイオード３２からの信号とリファレ
ンス電圧とが入力されて、ガラス原盤１０に照射する光
の強度を制御する記録光強度制御回路３３とを備える。
すなわち、この記録光強度制御部２２は、ＥＯＭ２９に
より光の偏光面を変化させることにより、アナライザー
３０に通過させる光量を変化させて、ガラス原盤１０に
照射される光の強度を制御する。なお、この記録光強度
制御部２２には、Ｃｈ−ＡとＣｈ−Ｂとに対応したビー
ムスプリッター３１Ａ，３１Ｂが備えられている。

【００６１】変調部２３は、電気的記録信号に応じた長
さのピットを形成するために、入力される記録信号の電
圧レベルを光の強度に変換する。また、この変調部２３
は、Ｃｈ−Ａの光学系とＣｈ−Ｂの光学系に対応して一
対の変調部２３Ａ，２３Ｂからなる。この変調器２３
は、例えば記録の電圧信号レベルが０と１の２値よりな
る場合、光をｏｎとｏｆｆとに変調することによって記
録信号レベルを光の強度に変換する。この変調部２３
は、記録光強度制御部２２に備えられているビームスプ
リッター３１Ａ，３１Ｂにより反射された光が入射され
る第１の凸レンズ３４Ａ，３４Ｂと、この第１の凸レン
ズ３４Ａ，３４Ｂを通過した光が入射され、入力される
信号記録レベルに応じて光を変調させる音響光学変調器
３５Ａ，３５Ｂと、この音響光学変調器３５Ａ，３５Ｂ
により変調された光が入射される第２の凸レンズ３６
Ａ，３６Ｂとからなる。なお、この音響光学変調器３５
Ａ，３５Ｂは、記録信号が入力されることにより、この
記録信号電圧レベルを光強度に変換するものである。

【００６２】そして、この変調部２３を通過した光は、
Ｃｈ−Ａの光学系において、ビームスプリッター３７
Ａ、半波長板３８に入射し、偏光ビームスプリッター
（以下、ＰＢＳと称する。）３９を通過してビームエキ
スパンダー部２５へと入射し、Ｃｈ−Ｂの光学系におい
て、ビームスプリッター３７Ｂ、ＡＯＤ（Ａｃｏｕｓｔ
ｏ−Ｏｐｔｉｃ Ｄｅｆｌｅｃｔｏｒ）４０、ビームス
プリッター４１に入射し、ＰＢＳ３９に入射する。

【００６３】ビームエキスパンダー部２５は、ガラス原
盤１０に入射される光のスポット径を調整する。このビ
ームエキスパンダー部２５は、拡大率を変化させること
によって、ガラス原盤１０に集光するスポット径を調整
する。このビームエキスパンダー部２５は、ビームスプ
リッター３９からの光が入射される第３の凸レンズ４２
と、この第３の凸レンズ４２を通過した光が入射される
第４の凸レンズ４３とからなる。また、このビームエキ
スパンダー部２５のスポット径の拡大倍率は、第３の凸
レンズ４２の焦点距離をｆ₃とし、第４の凸レンズ４３
の焦点距離をｆ₄としたとき、ｆ₄／ｆ₃で表される。

【００６４】対物レンズ２６は、ビームエキスパンダー
部２５を通過した光が入射され、レジスト層１１が塗布
されたガラス原盤１０上に光ビームを所定のスポット径
で集光させる。なお、この対物レンズ２６は、ＮＡが約
０．９である。

【００６５】ターンテーブル２８は、表面にレジスト層
１１が塗布されたガラス原盤１０が載置され、ガラス原
盤１０を保持するとともに、所定の回転数、所定の回転
方向Ａにガラス原盤１０を回転させる。

【００６６】ここで、対物レンズ２６は、図示しない移
動機構によって移動定盤２７が移動されることにより、
ガラス原盤１０が回転する接線方向と垂直方向に移動さ
れる。このように、対物レンズ２６は、ガラス原盤１０
が回転する接線方向と垂直方向に移動されることによっ
て、ガラス原盤１０の全面に凹凸パターンを潜像させる
ことが可能である。

【００６７】また、この対物レンズ２６は、サーボシス
テムによってガラス原盤１０の露光面との距離が一定に
保持されている。このサーボシステムは、ガラス原盤１
０に塗布されているレジスト層１１が感光しないような
波長の光を出射するフォーカシング用光源を備える。そ
して、このサーボシステムは、フォーカシング用光源か
らの光ビームをガラス原盤１０上に集光させて、このガ
ラス原盤１０からの反射光を検出することによって、ガ
ラス原盤１０上に集光されている光源２１からの光ビー
ムのスポット径が一定になるように制御している。

【００６８】このように構成されたレーザーカッティン
グ装置２０は、ガラス原盤１０を回転させながら、光ビ
ームをガラス原盤１０の半径方向に一回転あたり等距離
ずつ移動させることにより、グルーブの潜像を一定のト
ラックピッチｐで、スパイラル状に生じさせる。

【００６９】このように構成されたレーザーカッティン
グ装置２０は、先ず、光源２１から出射され、ＥＯＭ２
９を通過した光が入射されるＣｈ−Ａのビームスプリッ
ター３１Ａの透過率を約５０％程度にすることによっ
て、Ｃｈ−Ａの光学系とＣｈ−Ｂの光学系とに与えられ
る光量をほぼ等しくする。このとき、チャンネル毎に必
要な光量によってビームスプリッター３１Ａの透過率を
任意に選んでも良い。

【００７０】次に、このビームスプリッター３１Ａ，３
１Ｂを通過した光ビームは、変調部２３に入射する。こ
こで、変調部２３に関して、Ｃｈ−Ａの光学系とＣｈ−
Ｂの光学系とは全く同一の光学系である。なお、それぞ
れのチャンネルに別の変調器２３Ａ，２３Ｂを使用する
ことで、全く独立して別の信号を記録することが可能で
ある。すなわち、このレーザーカッティング装置２０の
光学系においては、Ｃｈ−Ａの光学系ではグルーブを、
Ｃｈ−Ｂの光学系ではピットを同時に露光することも可
能である。なお、本発明を適用したディスク原盤の製造
方法の露光工程で使用されるレーザーカッティング装置
２０においては、Ｃｈ−Ａの光学系を通過した光ビーム
によりグルーブ４の第２の側壁４ｂを形成し、Ｃｈ−Ｂ
の光学系を通過した光ビームによりグルーブ４の第１の
側壁４ａを形成している。

【００７１】ここで、このレーザーカッティング装置２
０には、それぞれのチャンネルの変調器に備えられてい
るＣｈ−Ａの音響光学変調器３５Ａ、Ｃｈ−Ｂの音響光
学変調器３５Ｂに対してＣｈ−Ａ記録信号、Ｃｈ−Ｂ記
録信号が入力される。このＣｈ−Ａ記録信号及びＣｈ−
Ｂ記録信号は、Ｃｈ−Ａの音響光学変調器３５Ａ、Ｃｈ
−Ｂの音響光学変調器３５Ｂに入力されることによっ
て、Ｃｈ−Ａの音響光学変調器３５Ａ及びＣｈ−Ｂの音
響光学変調器３５Ｂのオン、オフの制御を行う。

【００７２】その後、Ｃｈ−Ｂの変調器２３Ｂを通過し
た光ビームを、例えばＡＯＤ５１のような光偏向素子を
通過させることにより、ＡＯＤ５１へ入力されるウォブ
リング信号に応じて光軸の方向を一平面内で微小に振動
させる。このウォブリング信号は、ＡＯＤ５１に入力す
ることによって、グルーブ４の側壁をウォブルさせる振
幅を電圧値で制御し、所定の周波数でグルーブ４の側壁
に振幅を与える信号である。これによって、図１０に示
すように、ガラス原盤１０上におけるスポットを、振動
させることにより、ウォブルさせることが可能である。
ここで、スポットをウォブルさせる方向は、現在のフォ
ーマットではガラス原盤１０の半径方向であるので、ガ
ラス原盤１０の半径方向にスポットが振動するように光
偏向素子を設置している。その後、ＡＯＤ５１を通過し
た光ビームは、ビームスプリッター５２を通過して偏光
ビームスプリッター（以下、ＰＢＳと称する。）５３に
入射する。

【００７３】一方、Ｃｈ−Ａの変調器２３Ａを通過した
光ビームは、先ず、ビームスプリッター３７Ａに入射す
る。そして、このビームスプリッター３７Ａを通過した
光ビームは、半波長板３８に入射させ、ＰＢＳ３９に入
射させる。

【００７４】そして、Ｃｈ−Ｂの光学系によりウォブル
された光ビームと、Ｃｈ−Ａの光学系を通過した光ビー
ムとを、ビームエキスパンダー部２５の手前のＰＢＳ３
９において再び合流させる。

【００７５】ここで、光源２１から出射された光ビーム
が、直線偏光の状態で出射されているので、ＰＢＳ３９
に入射される光ビームは、両チャンネルを通過した状態
においても同じ方向の直線偏光である。この状態におい
て、ビームスプリッター３７ＡとＰＢＳ３９との間に、
光ビームの偏光面を約９０度回転させる半波長板３８を
配設させて、ＰＢＳ３９により、両チャンネルを通過し
た光ビームの光量を最大限に利用するために、Ｃｈ−Ａ
の光学系を通過した光ビームを１００％透過し、Ｃｈ−
Ｂを通過した光ビームを１００％反射する。

【００７６】なお、図９に示したレーザーカッティング
装置２０は、Ｃｈ−Ｂの光学系を通過した光ビームを１
００％反射し、半波長板３８によって偏光方向の９０度
回転されたＣｈ−Ａの光学系を通過した光ビームを１０
０％透過している場合である。通常、半波長板３８は、
直線偏光の方向を、偏光方向と波長板面内のある一方向
（結晶軸方向）のなす角度θに対して２θ回転させる素
子なので、偏光回転角度を任意に決定でき、それによっ
てＰＢＳ３９の透過率を０％から１００％まで調整する
ことが可能である。すなわち、Ｃｈ−Ａの光学系を通過
した光ビームとＣｈ−Ｂの光学系を通過した光ビームの
光量比の最終的な調整は、上述した半波長板３８の性質
を利用すれば良いということである。

【００７７】ＰＢＳ３９において合流後の両チャンネル
を通過した光ビームは、上述したように、ビームエキス
パンダー部２５を通過した後、対物レンズ２６によって
ガラス原盤１０上に集光され、それぞれのスポットを形
成する。このように、ガラス原盤１０上に集光された両
チャンネルのスポットは、ガラス原盤１０の半径方向に
微小な距離（一般的に、トテックピッチｐの１／２以内
＝最大１μｍ程度）を介して集光させる。このスポット
間の距離の調整は、ＰＢＳ３９においてＣｈ−Ａの光学
系からのレーザ光とＣｈ−Ｂの光学系からの光ビームと
を合流させた後の両チャンネルの色軸が完全に一致した
状態から、ＰＢＳ３９における反射角度が半径方向に必
要量傾くように、ＰＢＳ３９に適当な「あおり角」を与
えることによって行われる。この角度によってスポット
がガラス原盤１０上で移動する原理は図１０に示したス
ポットをウォブルさせる場合と全く同じである。

【００７８】ここで、図１０は、点線で示した光軸を有
する光ビームがウォブルされることによって実線に示す
ように、光軸が角度φだけ傾き、ガラス原盤１０上に集
光されているスポットをウォブルされる様子を示した図
である。

【００７９】このようなレーザーカッティング装置２０
により凹凸パターンを形成する方法は、上述した露光工
程において、Ｃｈ−Ａの光学系を通過した光ビームとＣ
ｈ−Ｂの光ビームとによる２つのスポットを用いてガラ
ス原盤１０上に形成されているレジスト層１１にグルー
ブを潜像させる。

【００８０】ここで、上述したディスク基板に形成され
ているグルーブ４の第２の側壁４ｂを、図１１に示すよ
うに、Ｃｈ−Ａのスポット４４により形成し、第１の側
壁４ａをＣｈ−Ｂのスポット４５により形成する。

【００８１】ここで、ファインクロックマーク６が記録
される領域以外の領域を露光する際、Ｃｈ−Ａの光学系
を通過してガラス原盤上を直行するスポット（以下、直
行スポットと称する。）４４は、グルーブ４の第２の側
壁４ｂを形成する。また、Ｃｈ−Ｂの光学系を通過して
ガラス原盤上をウォブルされるスポット（以下、ウォブ
リングスポットと称する。）４５は、アドレス信号等を
記録するようにウォブルさせながら、グルーブ４の第１
の側壁４ａを形成する。

【００８２】このとき、Ｃｈ−Ａの音響光学変調器３５
Ａに入力されるＣｈ−Ａ記録信号は、図１２（ａ）に示
すように、光オンレベルの信号である。また、Ｃｈ−Ｂ
の音響光学変調器３５Ｂに入力されるＣｈ−Ｂ記録信号
は、図１２（ｂ）に示すように、Ｃｈ−Ａの記録信号と
同様に、光オンレベルの信号である。また、ウォブリン
グ信号は、図１２（ｃ）に示すように、第１の側壁４ａ
のガラス原盤１０の半径方向における振幅が約±３０ｎ
ｍ程度となるようにＣｈ−Ｂの光学系を通過した光ビー
ムによるスポットをウォブルさせるようにＡＯＤ４０に
入力される。

【００８３】このように、Ｃｈ−Ａ記録信号及びＣｈ−
Ｂ記録信号を光オンレベルとし、振幅が±３０ｎｍ程度
となるように、Ｃｈ−Ｂのスポットをウォブルさせるよ
うなウォブリング信号とすることによって、第１の側壁
４ａがウォブルされ、第２の側壁４ｂが直線状に形成さ
れたグルーブ４を形成するような潜像をレジスト層１１
に形成することができる。

【００８４】一方、ファインクロックマーク６が記録さ
れる領域を露光する際、直行スポット４４は、図１２
（ａ）に示すように、グルーブ４の第２の側壁４ｂを形
成しないようにＴ₁の時間だけオフ状態となっている。
また、ウォブリングスポット４５は、アドレス信号等を
記録するようにウォブルさせながら、所定の時間内にお
いてファインクロックマーク６を形成することによって
グルーブ４の第１の側壁４ａを形成する。

【００８５】このとき、Ｃｈ−Ａの音響光学変調器３５
Ａに入力されるＣｈ−Ａ記録信号は、光オフレベルの信
号である。また、Ｃｈ−Ｂの音響光学変調器３５Ｂに入
力されるＣｈ−Ｂ記録信号は、光オンレベルの信号であ
る。また、ウォブリング信号は、ファインクロックマー
ク６の形成時において、第１の側壁４ａのガラス原盤１
０の半径方向における振幅が約±５０〜１００ｎｍ程度
となるようにウォブリングスポット４５をウォブルさせ
るようにＡＯＤ４０に入力される。

【００８６】このとき、ファインクロックマーク６が形
成される周辺においては、Ｃｈ−Ａの光学系により露光
を行わないので、グルーブ４の幅が減少する。したがっ
て、このファインクロックマーク６が形成される周辺に
おいては、記録再生する信号の乱れが生じるので情報信
号を記録しないことが望ましい。

【００８７】このような情報信号が記録されない部分
は、高密度記録の観点から可能な限り少なくすることが
望ましい。しかしながら、光学系の調整時にずれが生じ
るので、光ビームの露光時において、実際には、直行ス
ポット４４とウォブリングスポット４５とが、ガラス原
盤１０の半径方向と垂直する方向においてずれが生じて
しまう。なお、このガラス原盤１０の半径方向と垂直す
る方向のずれは、約０．３μｍ以内に調整されている。

【００８８】また、Ｃｈ−Ａの変調部２３Ａの変調タイ
ミングとＣｈ−Ｂの変調部２３Ｂの変調タイミングとの
ずれが生じてしまう場合がある。なお、この変調タイミ
ングによるずれは、同一変調信号をＣｈ−Ａの音響光学
変調器３５Ａ及びＣｈ−Ｂの音響光学変調器３５Ｂに入
力してもＣｈ−ＡとＣｈ−Ｂとの変調信号の立ち上がり
時間が最大で約０．２μｓｅｃ程度ずれてしまう。

【００８９】このような光学系の調整、変調部２３Ａ，
２３Ｂの変調タイミングによるずれは、ファインクロッ
クマーク６の形成時において、直行スポット４４とウォ
ブリングスポット４５とが重なってしまうことを生じさ
せる。これを回避するために、ファインクロックマーク
６を形成する時間よりも長い時間だけ、直行スポット４
４により露光を行わないようなマージン時間Ｔ₂をＣｈ
−Ａ記録信号を音響光学変調器２３Ａに入力する。

【００９０】したがって、露光時におけるガラス原盤１
０の半径方向と垂直する方向における線速度が最小で約
１ｍ／ｓ程度であるので、光学系の調整によるずれ０．
３μｍ以内のスポットずれに関しては、０．３μｓｅｃ
のマージンがあれば対処することが可能である。そし
て、この０．３μｓｅｃのマージンと変調タイミングの
ずれの最大値０．２μｓｅｃを加算した０．５μｓｅｃ
をファインクロックマーク６を形成する時間の前後に付
加した時間だけＣｈ−Ａの光学系の変調器３５Ａをオフ
とすれば良い。また、このマージン時間Ｔ₂は、光学系
の調整によって少なくすることが可能である。

【００９１】すなわち、Ｃｈ−Ａ記録信号は、図１２
（ａ）に示すように、ファインクロックマーク６の形成
前においては、光オンレベルでＣｈ−Ａの光学系の音響
光学変調器３５Ａに入力する。次に、ファインクロック
マーク６の形成時及びこのファインクロックマーク６の
形成前後のマージン時間Ｔ₂においては、光オフレベル
でＣｈ−Ａの音響光学変調器３５Ａに入力する。次に、
ファインクロックマーク６の形成のマージン時間Ｔ₂の
後においては、再び光オンレベルでＣｈ−Ａの音響光学
変調器３５Ａに入力する。

【００９２】一方、Ｃｈ−Ｂ記録信号は、図１２（ｂ）
に示すように、ファインクロックマーク６の形成時にお
いても光オンレベルでＣｈ−Ｂの音響光学変調器３５Ｂ
に入力する。

【００９３】また、ウォブリング信号は、図１２（ｃ）
に示すように、ファインクロックマーク６の形成前のマ
ージン時間Ｔ₂の前及びファインクロックマーク６の形
成後のマージン時間Ｔ₂の後において、Ｃｈ−Ｂによる
スポットを振幅が約±３０ｎｍ程度にウォブルするよう
な信号をＡＯＤ４０に入力させる。また、ファインクロ
ックマーク６の形成時においては、ウォブリングスポッ
ト４５の振幅が約±５０〜１００ｎｍ程度となるような
信号をＡＯＤ４０に入力させる。

【００９４】このように、Ｃｈ−Ａ記録信号及びＣｈ−
Ｂ記録信号を光オンレベルとし、振幅が±３０ｎｍ程度
ウォブルさせるようなウォブリング信号とすることによ
って、第１の側壁４ａがウォブルされ、第２の側壁４ｂ
が直線状に形成されたグルーブ４を形成するような潜像
をレジスト層１１に形成することができる。

【００９５】このような製造方法によって製造されたデ
ィスク原盤は、ファインクロックマーク６が記録される
領域を記録する際において、Ｃｈ−Ａの光学系を通過し
た光ビームを光オフ状態とし、Ｃｈ−Ｂの光学系を通過
した光ビームを光オン状態とするので、直行スポット４
４とウォブリングスポット４５とが重なりあうようなこ
となく、ファインクロックマーク６を記録することが可
能である。したがって、このディスク原盤の製造方法に
よれば、一方の側壁のみが蛇行しているグルーブ４を形
成する際においても、形状歪のないファインクロックマ
ーク６を形成することが可能である。また、このディス
ク原盤の製造方法は、ファインクロックマーク６の形成
時の前後にマージン時間Ｔ₂を設定しているので、光学
系のずれや変調タイミングのずれが生じても、直行スポ
ット４４とウォブリングスポット４５とが重なりあうよ
うなことがなく、形状歪のないファインクロックマーク
６を形成することが可能である。

【００９６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる記録媒体原盤の製造方法によれば、少なくともグル
ーブが形成されるように、上記感光層の所定領域を露光
する露光工程において、同期信号が記録される領域以外
の領域を露光する際には、グルーブの一方の側壁が形成
されるように第１の光ビームによって露光するととも
に、少なくともアドレス信号に応じてウォブルさせなが
ら、グルーブの他方の側壁が形成されるように第２の光
ビームによって露光し、同期信号が記録される領域を露
光する際には、グルーブに対応する部分を第２の光ビー
ムだけによって露光し、第２の光ビームを同期信号に応
じてウォブルさせるので、第１の光ビームにより形成さ
れるグルーブと、第２のビームにより形成されるグルー
ブとが重なりあうようなことがない。したがって、この
記録媒体原盤の製造方法によれば、波形歪のない同期信
号を記録することが可能である。

【００９７】また、本発明に係る記録媒体によれば、記
録面上に少なくともグルーブが形成されており、同期信
号が記録されていない領域では、グルーブの一方の側壁
が直線状に形成され、グルーブの他方の側壁の少なくと
も一部がアドレス信号に応じて蛇行しており、同期信号
が記録された領域では、グルーブの両側壁が同期信号に
応じて蛇行しているので、情報信号の記録再生時におい
て、同期信号の再生出力を大きくすることが可能であ
る。したがって、この記録媒体によれば、同期信号を単
発で挿入することが可能なので、情報信号を記録する領
域を大きくすることが可能であり、記録媒体の高密度化
を図ることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ディスクの一例を示す図である。

【図２】本発明を適用した光ディスクの一例を示す要部
拡大平面図である。

【図３】ガラス原盤の一例を示す図である。

【図４】ガラス原盤上にレジスト層を形成した状態の一
例を示す図である。

【図５】光ビームによりレジスト層に対してグルーブを
潜像する様子を示す図である。

【図６】ガラス原盤上にグルーブ及びランドを形成した
状態の一例を示す図である。

【図７】ガラス原盤上にメッキを形成した状態の一例を
示す断面図である。

【図８】スタンパによりプラスチック材に凹凸パターン
を転写する様子を示す断面図である。

【図９】本発明を適用したディスク基板の製造方法の露
光工程で使用されるレーザーカッティング装置の光学系
の一例を示す図である。

【図１０】ガラス原盤上に集光されるスポットがウォブ
ルされる様子を示す図である。

【図１１】本発明を適用したディスク基板の製造方法に
よりファインクロックマークを形成した状態の一例を示
す図である。

【図１２】Ｃｈ−Ａの音響光学変調器に入力するＣｈ−
Ａ記録信号、Ｃｈ−Ｂの音響光学変調器に入力するＣｈ
−Ｂ記録信号、ＡＯＤに入力するウォブリング信号と、
時間との関係を示す図である。

【図１３】従来の記録再生可能な光ディスクの要部拡大
断面を示す斜視図である。

【図１４】従来の再生専用の光ディスクの要部拡大断面
を示す斜視図である。

【図１５】エンボスピットによりアドレス信号が記録さ
れた光ディスクの要部拡大平面図である。

【図１６】グルーブの両側壁にウォブルを施すことによ
りアドレス信号が記録された光ディスクの要部拡大平面
図である。

【図１７】ランド／グルーブ記録における片側ウォブル
方式によりアドレス信号が記録された光ディスクの要部
拡大平面図である。

【図１８】片側ウォブル方式によりアドレス信号が記録
され、ファインクロックマークが記録された光ディスク
の要部拡大平面図である。

【図１９】片側ウォブル方式によりアドレス信号が記録
され、ファインクロックマークが記録された光ディスク
において、ファインクロックマークの振幅が塗りつぶさ
れた状態と、ファインクロックマークの振幅が一方の側
壁からはみ出た状態のを示す図である。

【符号の説明】

１ 光ディスク、２ ディスク基板、４ グルーブ、４
ａ 第１の側壁、４ｂ第２の側壁、５ ランド、６ フ
ァインクロックマーク、４４ 直行スポット、４５ ウ
ォブリングスポット

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に感光層を形成する工程と、 少なくともグルーブが形成されるように、上記感光層の
   所定領域を露光する露光工程と、 上記露光工程で露光された感光層を現像する現像工程
   と、 上記現像工程で現像された感光層上に記録媒体原盤を形
   成する原盤形成工程とを有し、 上記露光工程において、同期信号が記録される領域以外
   の領域を露光する際には、グルーブの一方の側壁が形成
   されるように第１の光ビームによって露光するととも
   に、少なくともアドレス信号に応じてウォブルさせなが
   ら、グルーブの他方の側壁が形成されるように第２の光
   ビームによって露光し、 上記露光工程において、同期信号が記録される領域を露
   光する際には、グルーブに対応する部分を第２の光ビー
   ムだけによって露光し、第２の光ビームを同期信号に応
   じてウォブルさせることを特徴とする記録媒体原盤の製
   造方法。
2. 【請求項２】 上記露光工程において、同期信号が記録
   される領域を露光する際に、第２の光ビームだけによっ
   て露光する時間を、 ０μｓｅｃ≦ｔ≦０．５μｓｅｃで表される時間ｔを、
   同期信号に対応させて第２の光ビームをウォブルさせる
   時間の前後に付加した時間とすることを特徴とする請求
   項１記載の記録媒体原盤の製造方法。
3. 【請求項３】 記録面上に少なくともグルーブが形成さ
   れており、 同期信号が記録されていない領域では、グルーブの一方
   の側壁が直線状に形成され、グルーブの他方の側壁の少
   なくとも一部がアドレス信号に応じて蛇行しており、 同期信号が記録された領域では、グルーブの両側壁が同
   期信号に応じて蛇行していることを特徴とする記録媒
   体。