JPH11126337A

JPH11126337A - 露光方法、露光装置および光ディスク原盤の製造方法

Info

Publication number: JPH11126337A
Application number: JP9291069A
Authority: JP
Inventors: Shingo Imanishi; 慎悟今西
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-10-23
Filing date: 1997-10-23
Publication date: 1999-05-11

Abstract

(57)【要約】【課題】複数のレーザービームによって、露光を行う
に当たり、各ビームに関して個別に変調または／および
偏向を行い、各ビームに関してその変調または／および
偏向のタイミング、各レーザースポットの相互の位置を
正確に設定することができるようにする。【解決手段】被露光面Ｓに、複数のレーザービームを
同期して変調素子１０３ＡＯＭ₁、１０３ＡＯＭ₂ によ
って光強度変調または／および偏向して、被露光面Ｓに
集光させ、この被露光面の所定領域に複数のレーザービ
ームスポットの照射を行う。そして、その複数のレーザ
ービームの光強度変調の遅延時間の差または／および被
露光面でのレーザービームスポットの位置を検出し、こ
れによって変調素子の変調時間または／および偏向を制
御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被露光面、例えば
感光剤層に対するレーザービーム照射によるパターン露
光を行う露光方法および露光装置、更に同様にパターン
露光を経て光ディスク作製に用いられるスタンパーの原
盤作製を行う、露光方法、露光装置および光ディスク原
盤の製造方法に関わる。

【０００２】

【従来の技術】例えばＣＤ（Compact Disc）−ＲＯＭ
（Read Only Memory) や、光磁気ディスク等の光ディス
クにおいては、図３にその斜視図を示すように、ディス
ク基板１上の信号記録領域２に、図４ＡおよびＢにそれ
ぞれ光ディスクの一部を断面とした要部の概略斜視図を
示すように、微細凹凸が形成される。この微細凹凸は、
例えば連続溝によるグルーブ３あるいはピット４の列
が、トラック毎に所定のトラックピッチ例えば１μｍ〜
２μｍのトラックピッチをもってスパイラル状に形成さ
れる。この微細凹凸が形成された信号記録面には、光反
射膜や保護膜、また記録可能な相変化型あるいは光磁気
記録型等の光ディスクにおいては相変化膜あるいは、磁
性膜が形成されてこれの上に上述した光反射膜や保護膜
の形成がなされる。そして、例えば上述記録可能な光デ
ィスクにおいては、一般的に、グルーブ３間のいわゆる
ランドを記録部とし、グルーブ３をトラッキング用の光
反射部として用いる。

【０００３】これら光ディスクにおいて、そのグルーブ
３やピット４の列を、半径方向に蛇行いわゆるウォブリ
ングさせた構成として、その周期の変化をアドレス情報
として用いるようになされたものもある。

【０００４】これら光ディスクに対する再生や、記録可
能な光ディスクに対する光記録は、ディスクを回転させ
ながら、一般に基板１の記録面側とは反対側の裏面から
レーザー光を照射して行う。そして、再生専用の例えば
ＣＤ−ＲＯＭにおいては、ピット４からの反射、回折光
を検出することで情報の読み出しおよびトラッキングを
行うようにしている。また、記録可能な光ディスクで
は、その照射レーザー光によって例えばそのランド部上
の記録層に光学的に情報の書き込み（記録）がなされ、
反射光によって記録情報の読み出し（再生）がなされ、
その記録または再生用のレーザー光は、常に所定のトラ
ック上に照射されるように、例えばグルーブ３からの反
射光を検出してトラッキングがなされるようにしてい
る。

【０００５】上述の微細凹凸の形成は、例えば射出成形
によってディスク基板１の成形と同時に成形するとか、
ディスク基板１上に例えば紫外線硬化樹脂層を塗布形成
してこれに微細凹凸を形成するいわゆる２Ｐ（Photo Po
lymer)法等によって作られる。

【０００６】これら射出成形法や２Ｐ法のいずれにおい
ても、ディスク基板１に形成する微細凹凸が反転したパ
ターンによる微細凹凸が形成されたスタンパーが用いら
れる。例えば射出成形においては、その成形金型のキャ
ビィティ内に、上述の反転パターンによるスタンパーが
配置されて、樹脂の射出成形によってスタンパーの凹凸
が転写されたディスク基板を成形するものであり、また
２Ｐ法による場合にはディスク基板上に塗布された例え
ば紫外線硬化型樹脂層に対しスタンパーを押圧して、微
細凹凸の形成を行い、その後、紫外線照射による硬化処
理を行ってスタンパー上の微細凹凸が転写されたディス
クを形成するという方法が採られる。

【０００７】このような微細凹凸を形成するスタンパー
の作製方法を、図５の各製造工程における斜視図を参照
して説明する。この場合、先ず図５Ａに示すように、表
面が平滑鏡面に仕上げられた円板状の基板１１例えばガ
ラス基板を用意する。図５Ｂに示すように、この基板１
１の平滑鏡面上に例えばポジティブフォトレジストによ
る感光剤層１２を回転塗布法等によって所要の厚さ、例
えば０．１μｍの厚さに塗布する。そして、この感光剤
層１２に対して所要のパターン露光を行う。すなわち、
図５Ｃに示すように、基板１１をその中心軸を中心に回
転させながら、レーザービーム２７をレンズ２８によっ
て感光剤層１２上に集光して照射し、グルーブまたはピ
ットの潜像２９を形成する。

【０００８】このようにしてパターン露光された感光剤
層１２を現像する。このようにすると、図６Ａあるいは
Ｂにそれぞれその一部の斜視図を示すように、基板１１
上に、感光剤層１２が所定の露光パターンに応じて除去
されたグルーブもしくはピットが形成されてなる微細凹
凸１３が形成されたディスク原盤１４が得られる。

【０００９】このようにして形成されたディスク原盤１
４を用いてスタンパーを作製する。このスタンパーの作
製は、図７Ａに示すように、ディスク原盤１４の微細凹
凸１３が形成された面に、金属層１５をＮｉメッキによ
って形成し、金属層１５を、ディスク原盤１４より剥離
する。このようにすると、同図Ｂに示すように、ディス
ク原盤１４の微細凹凸１３が反転したパターンの微細凹
凸１６が形成された金属層１５によるスタンパー１７が
形成される。

【００１０】このようにして形成したスタンパー１７を
用いて、図８に示すように、前述した射出成形、あるい
は２Ｐ法によってスタンパー１７の微細凹凸１６が反転
したパターンの微細凹凸１８すなわちグルーブ３やピッ
ト４が形成された光ディスク１１を得ることができる。
この場合、ディスク原盤１４からスタンパー１７をＮｉ
メッキによって形成した場合であるが、ディスク原盤１
４からＮｉメッキによっていわゆるマスターの作製を行
い、これを転写させることによっていわゆるマザーを作
製し、これからの転写によってスタンパーの作製を行う
ようにすることもできる。

【００１１】ところで、ＡＳＭＯ（Advanced Storage M
agneto Optical Disk)フォーマットによる光ディスク
は、図９にそのパターン図を示すように、グルーブ７０
間に形成されたランド７１に、外部同期信号取得用のク
ロックマークと呼ばれるピット７２が形成される。図９
において斜線を付して示す部分が凹部となる部分すなわ
ちグルーブ７０およびクロックマークピット７２部分を
示す。このクロックマークピット７２は、ディスクへの
記録再生のタイミングを決定するものであり、したがっ
て、その位置の精度は高く保つ必要がある。このクロッ
クマークピット７２の大きさは、そのスタンパーの作
製、したがって、上述した原盤の作製時の感光剤層に対
する露光におけるレーザービームの集光スポットよりも
大きいものであり、１つのレーザービームスポットでは
この形状に露光することができない。

【００１２】そこで、このフォトーマットによる光ディ
スクを作製するディスク原盤の作製における図５Ｃで説
明した感光剤層へのパターン露光に当たっては、図１０
に２つの露光ビームスポットの走査軌跡をｂ₁およびｂ
₂ として示すように、２つの露光ビームスポットを用い
て、これらを平行走査して露光することによって各グル
ーブ７０を形成するための露光潜像Ｇを形成する。そし
て各潜像Ｇ間のランド７１の形成部Ｌに対しての走査
は、潜像Ｇの形成において、クロックマークピット７２
の形成部に隣接する位置で、両ビームの走査位置を、潜
像Ｇの形成位置より矢印ｍ₁およびｍ₂ に示すように、
両側に移行、すなわちウォブリングさせる。このように
して両側への移行によって互いに接近された２つの露光
ビームスポットの走査によって１つのクロックマークピ
ット７２を形成するための潜像Ｃを形成する。

【００１３】このような露光処理を行い、前述した原盤
の作製、スタンパーの作製を行い、これを用いて光ディ
スクの作製を行えば、１つの露光ビームスポットより幅
広のピットによるクロックマークピット７２が形成され
たＡＳＭＯフォトーマットによる光ディスクを作製する
ことができる。

【００１４】しかしながら、この方法による場合、２つ
の露光ビームにわずかなタイミングのずれがあっても、
図１１に示すように、クロックマークピット７２にずれ
が生じる。

【００１５】また、図１２に示すように、２つの露光ビ
ームを用いて両側ウォブル入りのランド／グルーブ構成
によるパターンを得る場合においても、同様に、両者に
タイミングのずれが存在すれば、図１３に示すように、
Δｄのずれが生じる。

【００１６】上述した光ディスクの作製、特にそのディ
スク原盤の作製等における感光剤層に対する露光を行う
レーザービームは、露光パターンに応じた光強度変調、
具体的にはオン・オフがなされるものであるが、このレ
ーザービームの変調手段としては、例えばＡＯＭ（Acou
sto-Optic Modulator;音響光学変調素子) を用いること
ができる。すなわち、図１４に模式的に示すように、Ａ
ＯＭ２１は、その光学結晶に超音波２２を入射すること
によって光学結晶内に屈折率の粗密波を形成するもので
あり、この粗密波によって形成される回折格子に対し
て、ブラッグ条件を満たす角度で入射した入射レーザー
ビーム２３はブラッグ回折され、そのまま透過光２４と
して透過する０次光に対して所定の回折角をもって回折
される例えば１次回折光２５が得られる。この回折光の
光強度は、結晶に入射する超音波２２の強度に依存す
る。つまり、超音波２２のオン・オフにより回折光の有
無の選択を行うことができる。したがって、この１次回
折光２５を露光レーザービームとして用いることによ
り、超音波２２の制御例えばオン・オフによって露光レ
ーザービームの強度変調、すなわちオン・オフを行うこ
とができる。

【００１７】上述した複数例えば２つのレーザービーム
は、１つのレーザーからのレーザービームを光学的に分
離することによって形成できるものであり、このように
複数のビームを、各ビームに関して個別に変調と偏向を
行って後、共通の集光レンズ、すなわち対物レンズによ
って集光して露光する方法によるときは、比較的簡潔な
構成で、複雑な形状の露光を行うことができる。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したＡ
ＯＭに変調信号を入射すると、その信号を反映してＡＯ
Ｍの光学結晶内部に超音波が伝搬し、回折格子が生成さ
れるまでに時間が掛かる。この時間は、超音波発生部か
ら入射光を回折する位置までの超音波の伝搬時間に相当
する。このため、複数のレーザービームを個別のＡＯＭ
によって変調する場合、レーザービーム間の変調のタイ
ミングにずれが生じるという問題があり、このようなタ
イミングのずれによって前述した図１１もしくは図１３
で示した状態が生じる。

【００１９】このような複数のレーザービームの変調の
タイミングを合わせるには、レーザービームをＡＯＭの
光学結晶に入射させる位置を再調整する必要がある。し
かしながら、この再調整によって微小ではあるが、変調
されたビームの出射方向が変化することから、再度この
出射方向の変化による進行方法の調整等が必要になると
いう問題が生じる。

【００２０】また、ＡＯＭの変調タイミングが複数のレ
ーザービーム間で一致したとしても、これら複数のレー
ザービームを共通の対物レンズの光軸に対して同一集光
状態に集光させて、相互が所定の位置関係に、すなわ
ち、例えば互いの光軸を所定の微小間隔を保持してほぼ
一致するように各スポットを形成するとは限られない。

【００２１】また、複数のレーザービームの集光スポッ
トの位置補正は、ＡＯＭと対物レンズとの間の光路にミ
ラー等の光学部品を配置することによって行うことが考
えられるが、この集光スポット位置の調整には通常１０
ｎｍ程度の精度が要求されるものであり、この調整を手
動で行うことには無理がある。

【００２２】一方、ＡＯＭは、その光学結晶に印加する
超音波の周波数によってその回折格子の間隔が変化する
ことから、超音波の周波数を制御することによってその
回折光の出射角を偏向することができる。つまり、この
回折光を用いることによって、このＡＯＭを偏向素子と
して用いることができる。

【００２３】このように、ＡＯＭはレーザービームの変
調と偏向とを行うことができることから、共通のＡＯＭ
でこれら変調と偏向とを同時に行うようにすることがで
きる。特に、前述したように、複数例えば２つのレーザ
ービームスポットによって露光処理を行う場合、各レー
ザービームに関してそれぞれ、その光強度変調と偏向と
を必要とすることから、各ビームに関してそれぞれ１つ
のＡＯＭでこれら変調と偏向とを同時に行うようにする
ことによって構成の簡略化に大きく貢献することができ
る。

【００２４】しかしながら、このＡＯＭを偏向素子とし
て動作させるには、ＡＯＭにレーザービームが、或る程
度の広がりをもって入射させる必要があり、一方、ＡＯ
Ｍは、これに入射させるレーザービーム径が大きいと、
変調の周波数を高くすることができないことから、同一
ＡＯＭによって光強度変調と偏向とを同時に行わしめる
には問題がある。

【００２５】本発明においては、これら諸問題の解決を
はかることができるようにする。すなわち本発明におい
ては、複数のレーザービームによって、露光がなされる
ようにし、各ビームに関して個別に光強度変調を行い、
しかも各ビームに関してその変調のタイミングを正確に
一致させることができるようにする。

【００２６】また、本発明においては、複数のレーザー
ビームによって、露光がなされるようにし、各ビームに
関して個別に偏向を行い、しかも各ビームに関してその
偏向のタイミングを正確に一致させることができるよう
にする。

【００２７】更に、本発明においては、複数のレーザー
ビームに関して個別に設けた光学素子ＡＯＭによって変
調と偏向とを同時に、しかもそれぞれの変調と偏向とを
良好に行うことができるようにして、構造および操作の
簡潔化をはかる。

【００２８】

【課題を解決するための手段】本発明による露光方法に
おいては、被露光面に、複数のレーザービームを同期し
て光強度変調し、被露光面に集光させてこの被露光面の
所定領域に複数のレーザービームスポットの照射を行
う。そして、その複数のレーザービームの光強度変調の
遅延時間の差を検出し、この遅延時間の差の検出情報に
より、各レーザービームに対する光強度変調の入力信号
相互の遅延量を制御して複数のレーザービームの光強度
変調のタイミングを合せ込んで、その露光を行う。

【００２９】また、本発明による露光方法においては、
被露光面に、複数のレーザービームを同期して偏向し、
被露光面にそれぞれ集光させる。このとき、被露光面と
この被露光面に対するレーザービームスポットとは相対
的に移動させる。そして、これらレーザービームスポッ
トの相互の位置を検出し、この位置の情報によって各レ
ーザービームスポット間の距離を合せ込むようにしてそ
の露光を行う。

【００３０】本発明による露光装置は、複数のレーザー
ビームの形成手段と、複数のレーザービームを同期して
光強度変調する手段と、複数のレーザービームを、被露
光面に集光させるレンズ系と、複数のレーザービームの
光強度変調の遅延時間の差を検出する検出手段と、この
検出手段からの遅延時間の差の検出情報により、各レー
ザービームに対する光強度変調の入力信号相互の遅延量
を制御してこれら複数のレーザービームの光強度変調の
タイミングを合せ込む制御手段とが設けられた構成とす
る。

【００３１】また、本発明による露光装置は、被露光面
に、複数のレーザービームを同期して偏向する手段と、
被露光面に上記複数のレーザービームを集光する手段
と、被露光面とこの被露光面に対するレーザービームス
ポットを相対的に移動させる手段と、複数のレーザービ
ームスポットの相互の位置を検出する検出手段と、この
位置の検出手段による位置の情報により、各レーザービ
ームスポット間の距離を合せ込む制御手段とが設けられ
た構成とする。

【００３２】本発明による光ディスク原盤の製造方法に
おいては、基板上の感光剤層に対してパターン露光処理
と、現像処理とを行って上記基板上の感光剤層のパター
ン化を行い、この感光剤層のパターンによる微細凹凸が
形成された光ディスク作製用のスタンパーを形成する光
ディスク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法にお
いて、感光剤層に対するパターン露光処理を、感光剤層
による被露光面に、複数のレーザービームを同期して光
強度変調し、被露光面に集光させて被露光面の所定領域
に複数のレーザービームスポットの照射を行い、複数の
レーザービームの光強度変調の遅延時間の差を検出し、
該遅延時間の差の検出情報により、上記各レーザービー
ムに対する光強度変調の入力信号相互の遅延量を制御し
て複数のレーザービームの光強度変調のタイミングを合
せ込む露光方法によって行う。

【００３３】また、本発明による光ディスク原盤の製造
方法においては、基板上の感光剤層に対してパターン露
光処理と、現像処理とを行って基板上の感光剤層のパタ
ーン化を行い、この感光剤層のパターンによる微細凹凸
が形成された光ディスク作製用のスタンパーを形成する
光ディスク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法に
おいて、感光剤層による被露光面に、複数のレーザービ
ームを同期して偏向し、被露光面に複数のレーザービー
ムを集光させ、被露光面とこの被露光面に対するレーザ
ービームスポットを相対的に移動させ、複数のレーザー
ビームスポットの相互の位置を検出し、この位置の情報
により、各レーザービームスポット間の距離を合せ込む
露光方法によって行う。

【００３４】上述の本発明による露光方法および露光装
置によれば、その被露光面、例えば感光剤層に対する露
光を、複数のレーザービームを用いて行うことから、複
雑な形状、例えばウォブリングさせた形状のパターン露
光が可能となり、また、１つのビームスポット径より幅
広の露光パターンを形成することができるなどの効果を
奏する。また、このように複数のレーザービームに対
し、個別に変調、偏向のいずれか、あるいはその双方を
行うにもかかわらず、これら相互の遅延、位置の検出を
行いこれによって、その変調、偏向の制御、したがっ
て、補正を行うので、確実に高精度に目的とするパター
ンの露光を行うことができる。

【００３５】

【発明の実施の形態】本発明による実施の形態を説明す
る。本発明による露光方法および露光装置は、例えば感
光剤層、例えばフォトレジスト層に対してパターン露光
を行う場合に適用する。

【００３６】本発明による露光方法においては、被露光
面に、複数のレーザービームを同期して光強度変調し、
被露光面に集光させてこの被露光面の所定領域に複数の
レーザービームスポットの照射を行う。そして、その複
数のレーザービームの光強度変調の遅延時間の差を検出
し、この遅延時間の差の検出情報により、各レーザービ
ームに対する光強度変調の入力信号相互の遅延量を制御
して複数のレーザービームの光強度変調のタイミングを
合せ込んで、その露光を行う。

【００３７】また、この露光方法において、被露光面と
この被露光面に対して照射する複数のレーザービームス
ポットとを相対的に移動させ、これらレーザービームス
ポットの相互の位置を検出し、この位置の情報により、
各レーザービームに対する光強度変調のタイミングを合
せ込む。

【００３８】また、前述の露光方法いおいて、その複数
のレーザービームを同期して光強度変調を行うととも
に、複数のレーザービームを同期して偏向して、被露光
面に集光させ、被露光面とこの被露光面に対するレーザ
ービームスポットを相対的に移動させ、上記複数のレー
ザービームスポットの相互の位置を検出し、この位置の
情報により、各レーザービームスポットの偏向のタイミ
ングを合せ込む。

【００３９】更に、本発明による露光方法においては、
被露光面に、複数のレーザービームを同期して偏向し、
被露光面にそれぞれ集光させる。このとき、被露光面と
この被露光面に対するレーザービームスポットとは相対
的に移動させる。そして、これらレーザービームスポッ
トの相互の位置を検出し、この位置の情報によって各レ
ーザービームスポット間の距離を合せ込むようにしてそ
の露光を行う。

【００４０】そして、本発明による露光装置は、複数の
レーザービームの形成手段と、複数のレーザービームを
同期して光強度変調する手段と、複数のレーザービーム
を、被露光面に集光させるレンズ系と、複数のレーザー
ビームの光強度変調の遅延時間の差を検出する検出手段
と、この検出手段からの遅延時間の差の検出情報によ
り、各レーザービームに対する光強度変調の入力信号相
互の遅延量を制御してこれら複数のレーザービームの光
強度変調のタイミングを合せ込む制御手段とが設けられ
た構成とする。

【００４１】また、この露光装置において、被露光面と
この被露光面に対するレーザービームスポットを相対的
に移動させる手段と、複数のレーザービームスポットの
相互の位置を検出する手段と、この位置検出手段からの
レーザービームスポット相互の位置の検出情報により、
各レーザービームに対する光強度変調のタイミングを合
せ込む制御手段とが設けられた構成とする。

【００４２】さらに、前述の露光装置において、被露光
面とこの被露光面に対するレーザービームスポットを相
対的に移動させる手段と、複数のレーザービームを同期
して光強度変調を行うとともに、複数のレーザービーム
を同期して偏向する変調偏向手段と、複数のレーザービ
ームスポットの相互の位置を検出する手段と、この位置
検出手段からの位置の検出情報により、各レーザービー
ムに対する偏向のタイミングを合せ込む制御手段とを具
備する構成とする。

【００４３】また、本発明の露光装置は、被露光面に、
複数のレーザービームを同期して偏向する偏向手段と、
被露光面に上記複数のレーザービームを集光する手段
と、被露光面と該被露光面に対するレーザービームスポ
ットを相対的に移動させる手段と、複数のレーザービー
ムスポットの相互の位置を検出する検出手段と、この位
置の検出手段による位置の情報により、記各レーザービ
ームスポット間の距離を合せ込む制御手段とが設けられ
た構成とする。

【００４４】また、本発明による光ディスク原盤の製造
方法は、光ディスクを射出成形法、あるいは２Ｐ法等に
よって作製する場合に用いられるスタンパーを、図７で
説明したように転写して得るために、図５および図６で
説明した製造方法に適用できるものであり、上述した露
光方法、露光装置を用いて作製することができるもので
ある。

【００４５】すなわち、この本発明による光ディスク
原盤の作製方法は、基板上の感光剤層に対してパターン
露光処理と、現像処理とを行って基板上の感光剤層のパ
ターン化を行い、この感光剤層のパターンによる微細凹
凸が形成された光ディスク作製用のスタンパーを形成す
る光ディスク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法
であり、その感光剤層に対するパターン露光処理を、そ
の感光剤層による被露光面に、複数のレーザービームを
同期して光強度変調し、被露光面に集光させて被露光面
の所定領域に複数のレーザービームスポットの照射を行
い、複数のレーザービームの光強度変調の遅延時間の差
を検出し、この遅延時間の差の検出情報により、各レー
ザービームに対する光強度変調の入力信号相互の遅延量
を制御して複数のレーザービームの光強度変調のタイミ
ングを合せ込む露光方法によって行う。

【００４６】また、本発明による光ディスク原盤の製造
方法は、感光剤層に対するパターン露光処理を、この感
光剤層による被露光面とこの被露光面に対するレーザー
ビームスポットを相対的に移動させ、複数のレーザービ
ームスポットの相互の位置を検出し、この位置の情報に
より、各レーザービームに対する光強度変調のタイミン
グを合せ込む。

【００４７】また、本発明による光ディスク原盤の製造
方法は、感光剤層に対するパターン露光処理を、複数の
レーザービームを同期して光強度変調を行うとともに、
複数のレーザービームを同期して偏向して、被露光面に
集光させ、被露光面とこの被露光面に対するレーザービ
ームスポットを相対的に移動させ、複数のレーザービー
ムスポットの相互の位置を検出し、該位置の情報によ
り、各レーザービームスポットの偏向のタイミングを合
せ込む。

【００４８】更に、本発明による光ディスク原盤の製造
方法は、基板上の感光剤層に対してパターン露光処理
と、現像処理とを行って基板上の感光剤層のパターン化
を行い、この感光剤層のパターンによる微細凹凸が形成
された光ディスク作製用のスタンパーを形成する光ディ
スク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法であり、
その露光処理において、感光剤層による被露光面に、複
数のレーザービームを同期して偏向し、被露光面に上記
複数のレーザービームを集光させ、被露光面と該被露光
面に対するレーザービームスポットを相対的に移動さ
せ、複数のレーザービームスポットの相互の位置を検出
し、この位置の情報により、各レーザービームスポット
間の距離を合せ込む。

【００４９】図１は、本発明による露光装置の一例の概
略構成を示すものである。図１を参照して、この本発明
装置を詳細に説明するとともに、本発明による露光方法
の一例を説明する。この例においては、例えば図９、図
１０および図１２で説明したＡＳＭＯフォトーマットに
よる例えばランド部にクロックマークピットを有する微
細凹凸が形成される光ディスク、あるいは両側ウォブル
入りのランド／グルーブを有する微細凹凸が形成される
光ディスクを作製するスタンパーを得るための光ディス
ク原盤を作製する場合等に用いることができ、この場
合、２本のレーザービームスポットによる露光を行う例
であるが、本発明においては、２本のレーザービームに
よる場合に限られるものではない。

【００５０】そして、この場合、その露光がなされる被
露光面Ｓは、基板１１例えば表面が平滑鏡面とされた円
板状ガラス基板上に、例えばポジティブ型のフォトレジ
ストによる感光剤層１２が、例えば回転塗布法によっ
て、厚さ０．１μｍに塗布されてなる。

【００５１】そして、この例においては、レーザー１０
０、例えばアルゴンイオンレーザー、クリプトンレーザ
ー等の気体レーザー１００が設けられ、これよりのレー
ザービームＬＢを、複数のレーザービーム、この例では
第１および第２のレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ に
分離する複数のレーザービーム形成手段１０１が設けら
れる。このレーザービーム形成手段１０１は、例えばビ
ームスプリッタ１０１ＢＳと必要に応じて設けられたミ
ラー１０１Ｍによって構成することができ、ビームスプ
リッタ１０１ＢＳによってレーザービームＬＢを一部反
射させて第１のレーザービームＬＢ₁を形成し、一部を
透過させミラー１０１Ｍによって反射させてビームスプ
リッタ１０１ＢＳによって反射された第１のレーザービ
ームＬＢ₁の光軸と平行をなす光軸を有する第２のレー
ザービームＬＢ₂ を形成する。

【００５２】このレーザービーム形成手段１０１から
の、各レーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ の光路上にそ
れぞれ第１および第２の集光レンズ１０２Ｌ₁および１
０２Ｌ₂ と、この例においては各レーザービームＬＢ₁
およびＬＢ₂ の光強度変調と偏向とを行わしめる第１お
よび第２のそれぞれＡＯＭよりなる変調素子１０３ＡＯ
Ｍ₁および１０３ＡＯＭ₂ とを設ける。

【００５３】これら変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０
３ＡＯＭ₂ には、これら変調素子１０３ＡＯＭ₁および
１０３ＡＯＭ₂ からの図１４で説明した透過光すなわち
０次光を遮断し、１次回折光のみを取り出すスリット
（図示せず）を配置し、変調素子１０３ＡＯＭ₁および
１０３ＡＯＭ₂ よりの１次回折光によるＬＢ₁およびＬ
Ｂ₂を、それぞれコリメートレンズ１０４Ｌ₁および１
０４Ｌ₂ と、第１および第２のビームスプリッタ１０５
ＢＳ₁および１０５Ｂ₂ とを設ける。そして、更に、こ
れらビームスプリッタ１０５ＢＳ₁および１０５ＢＳ₂
を透過した一部のレーザービームをそれぞれ受光してそ
の受光量を検出する第１および第２の光検出素子ＰＤ₁
およびＰＤ₂ 例えばフォトダイオードとを設ける。

【００５４】一方、光強度変調の遅延時間の差を検出す
る検出手段１２４が設けられ、これら光検出素子ＰＤ₁
およびＰＤ₂ から得た変調後のレーザービームＬＢ₁お
よびＬＢ₂ の光強度信号Ｐ₁およびＰ₂ を入力し、この
検出手段１２４によって、両レーザービームの変調の遅
延時間の差すなわちタイミング差Δｔ₁を検出する。

【００５５】また、第１のビームスプリッタ１０５ＢＳ
₁で反射されたレーザービームＬＢ₁の反射ビームの光
軸上に、順次１／２波長板１０６、偏光ビームスプリッ
タ１０７ＰＢＳ、１／４波長板１０８、ミラー１０９Ｍ
を配置する。

【００５６】また、第２のビームスプリッタ１０５ＢＳ
₂ で反射されたレーザービームＬＢ₂ の途上にはミラー
１１１Ｍを設け、レーザービームＬＢ₂を、上述の偏光
ビームスプリッタ１０７ＰＢＳに入射させる。

【００５７】偏光ビームスプリッタ１０７ＰＢＳは、例
えばＰ波を効率良く透過し、Ｓ波を効率良く反射するも
ののＳ波に対しても幾分の透過率を示す構成とされる。

【００５８】被露光面Ｓと、これに照射される上述の第
１および第２のビームスポットとは相対的に移動される
ように移動手段が設けられる。この移動手段としては、
被露光面Ｓすなわちこの例では円板状の基板１１が、そ
の中心軸を中心として回転するように、図示しないが、
回転台に配置される。

【００５９】また、上述の第１のビームスプリッタ１０
５ＢＳ₁の背部に、このビームスプリッタ１０５ＢＳ₁
によるレーザービームＬＢ₁の反射光軸の延長上に、ミ
ラー１１８Ｍを配置し、このミラー１１８Ｍによって被
露光面Ｓからの反射光、すなわち戻り光の一部を反射さ
せて、集光レンズ１１９Ｌによって、例えばＣＣＤ（チ
ャージ・カプルド・デバイス）型の撮像素子１２０によ
って撮像し、その撮像信号を、レーザービームスポット
相互の位置を検出する位置検出手段１２３に入力する。
この位置検出手段は、例えば被露光面Ｓ上の両レーザー
ビームスポットの映像ＳＰ₁およびＳＰ₂ を映出する画
像モニターを有し、画像処理によって基板１１の半径方
向の間隔Δｒと、これと直交する方向、すなわち回転方
向の間隔Δｘを検出する。

【００６０】そして、変調遅延時間検出手段１２４と、
位置検出手段１２３からの各検出情報によって第１およ
び第２の変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂
の変調、偏向のタイミング、および偏向量の制御を行う
制御手段１２５を設ける。

【００６１】上述の構成において、１／２波長板１０６
と、１／４波長板１０８とは、被露光面Ｓに照射され、
これから反射されたレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂
のレーザー１００への戻り光を減少させるために設けら
れたものである。

【００６２】上述の本発明装置においては、レーザー１
００からのレーザービームＬＢをレーザービーム形成手
段１０１のビームスプリッタ１０１ＢＳによってその一
部を反射させ、一部を透過することによって２つのレー
ザービームに分離するものであり、さらにこのビームス
プリッタ１０１ＢＳの透過レーザービームをミラー１０
１Ｍによって反射させて、それぞれ所定の光軸方向、例
えば互いに平行の光軸方向とされた第１および第２のレ
ーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ を得る。そして、これ
らレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ の光軸上に集光レ
ンズ１０２Ｌ_１および１０２Ｌ_２が配置されるもので
あるが、これら集光レンズ１０２Ｌ₁および１０２Ｌ₂
と、変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂ の位
置関係は、図２に示すように、第１および第２の集光レ
ンズ１０２Ｌ₁および１０２Ｌ₂ の焦点位置Ｆが、それ
ぞれ第１および第２の変調素子１０３ＡＯＭ₁および１
０３ＡＯＭ₂ よりわずかにずれた例えば手前に位置する
ように選定する。このずれの量は、ＡＯＭによる変調を
損なうことがない程度に、ＡＯＭに対する入射光が集光
され、しかもＡＯＭによって偏向効果が得られる程度の
ビームの広がりが得られるようにする。例えば第１およ
び第２の各集光レンズ１０２Ｌ₁および１０２Ｌ₂ の焦
点距離が８０ｍｍのとき、この焦点位置ＦとＡＯＭによ
る第１および第２の変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０
３ＡＯＭ₂ との間隔は１０ｍｍとすることができる。

【００６３】第１および第２の変調素子１０３ＡＯＭ₁
および１０３ＡＯＭ₂ は、相互に同期させて、第１およ
び第２のレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ に対する光
強度変調と偏向とを行う変調信号と偏向信号とを供給す
る。

【００６４】そして、これら第１および第２の変調素子
１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂ によってそれぞれ
光強度変調がなされるとともに、偏向されたビーム、す
なわち１次回折光のみを、スリット（図示せず）を透過
してコリメートレンズ１０４Ｌ₁および１０４Ｌ₂ に導
入して平行光とする。このレーザービームＬＢ₁および
ＬＢ₂の各一部は、それぞれ第１および第２のビームス
プリッタ１０５ＢＳ₁および１０５ＢＳ₂ を透過して、
光検出素子ＰＤ₁およびＰＤ₂ に向かい、これらの出力
が、変調遅延時間検出手段１２４に入力されて、これに
よって両者の変調の遅延量Δｔ₁が検出される。

【００６５】一方、第１のビームスプリッタ１０５ＢＳ
₁で反射されたレーザービームＬＢ₁は、１／２波長板
１０６、ビームスプリッタ１０７ＰＢＳ、１／４波長板
１０８、ミラー１０９Ｍ、対物レンズ１１０を通過して
被露光面Ｓ、すなわち感光剤層１２に集光されて、被露
光面Ｓ、すなわち感光剤層１２に対して露光がなされ
る。

【００６６】また、第２のビームスプリッタ１０５ＢＳ
₂で反射されたレーザービームＬＢ₂ は、ミラー１１１
Ｍで反射されて偏光ビームスプリッタ１０７ＰＢＳに入
射し、ここで反射されて、レーザービームＬＢ₁と互い
の光軸が所定の微小間隔をもってほぼ一致させ、同様
に、１／４波長板１０８、ミラー１０９Ｍ、対物レンズ
１１０を通過して被露光面Ｓ、すなわち感光剤層１２に
集光されて、被露光面Ｓの感光剤層１２に対して露光が
なされる。

【００６７】したがって、これら第１および第２のレー
ザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ を、第１および第２の変
調素子１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂ で、それぞ
れ所要の関係をもって同期させて変調するともに、偏向
させてそれぞれのビームスポットをウォブリングさせる
ことができ、これによって、例えば図１０および図１２
で説明したパターン露光を行うことができる。

【００６８】そして、このとき、ビームスプリッタ１０
５ＢＳ₁および１０５ＢＳ₂ を反射した第１および第２
のレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ がＳ波であるとす
ると、１／２波長板１０６、偏光ビームスプリッタ１０
７ＰＢＳ、１／４波長板１０８の存在によって、各第１
および第２のレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ の戻り
光を減少させることができる。すなわち、１／２波長板
１０６に到来した第１のレーザービームＬＢ₁は、この
１／２波長板１０６によってＰ波となり、偏光ビームス
プリッタ１０７ＰＢＳを効率良く透過し、１／４波長板
１０８を通じて被露光面Ｓに向かう。そして、これより
反射したレーザービームは、再び１／４波長板１０８を
通過することによってＳ波となり、その大部分は、ビー
ムスプリッタ１０７ＰＢＳによって反射され往路に戻る
ことが回避される。しかしながら、偏光ビームスプリッ
タ１０７ＰＢＳにおいて、Ｓ波も幾分の透過がなされて
いることから、この透過した光は、ミラー１１８Ｍ、集
光レンズＬを通じて撮像素子１２０に入射する。また、
ビームスプリッタ１０７ＰＢＳに入射したＳ波の第２の
レーザービームＬＢ₂ は、偏光ビームスプリッタ１０７
ＰＢＳで効率良く反射し、１／４波長板１０８を通じて
被露光面Ｓに向かう。そして、これより反射したレーザ
ービームは、再び１／４波長板１０８を通過することに
よってＰ波となり、その大部分は、ビームスプリッタ１
０７ＰＢＳを透過することから往路に戻ることが回避さ
れ、これがミラー１１８Ｍ、集光レンズ１１９Ｌを通じ
て撮像素子１２０に入射する。

【００６９】このようにして、被露光面Ｓから第１およ
び第２のレーザービームＬＢ₁およびＬＢ₂ は、ともに
その少なくとも一部が撮像素子１２０に入射することか
ら、位置検出手段１２３によって、両ビームＬＢ₁およ
びＬＢ₂ の位置のずれ、すなわち半径方向成分Δｒと回
転方向成分Δｘの検出、すなわち位置の情報を得る。

【００７０】上述のようにして得た、変調のタイミング
の差の情報（Δｔ₁）によって、この時間差Δｔ₁を打
ち消すように、制御手段１２５によって、各変調素子１
０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂ の入力信号を入力す
るタイミングの調整を行って、Δｔ₁をゼロとする。こ
れによって変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ
₂ 自体の微調整を行うことなく相互のタイミングを一致
させることができる。

【００７１】また、被露光面Ｓでのレーザービームスポ
ットの位置の情報によって回転方向成分Δｘを持つ場合
には、制御手段１２５において、まず、その露光位置で
の回転による線速度ｖでΔｘを割る演算を行い、この制
御手段１２５によって、位置の情報から、露光タイミン
グ補正時間Δｔ₂ を求める。そして、この時間差Δｔ₂
だけ、それぞれ第１および第２の変調素子１０３ＡＯＭ
₁および１０３ＡＯＭ₂ の変調信号を入力するタイミン
グをずらすために、Δｔ₁を常にΔｔ₂ とする制御を行
い、かつこのとき、同時に偏光のタイミングもΔｔ₂ だ
けずらす制御を制御手段１２５によって行う。その結
果、被露光面Ｓ上の２つのスポットを、ウォブリングさ
せる位置のタイミングを一致させることができる。この
ようにして、回転方向のタイミングが正確に合った露光
が可能となるものである。

【００７２】さらに、被露光面Ｓ上のスポットの間隔の
半径方向成分Δｒを持つ場合には、その大きさに対応し
た間隔だけ、スポットが離れた状態で露光が行われるの
で、この場合、まず、条件出しによって所望の露光間隔
を得るめに必要な半径方向成分Δｒ₀を予め決定してお
く。そしてΔｒが、常にΔｒ₀となるように、制御手段
１２５によって第１および第２の変調素子１０３ＡＯＭ
₁および１０３ＡＯＭ₂ の偏向を制御する。このように
することによって、常に安定したランド／グルーブ幅の
比を設定して露光することが可能となる。

【００７３】上述の本発明装置および本発明方法によれ
ば、２つのレーザービームスポットを相互に正確に制御
することができ、正確に所定パターン例えばウォブリン
グされた露光パターンの形成ができる。

【００７４】そして、このようにして、パターン露光し
た感光剤層１２に対し現像処理を行えば、図６で示した
微細凹凸１３を有する原盤はもとよりウォブリングされ
たグルーブないしはランドを有する原盤、さらに、図９
および図１０、図１２で説明したパターンの光ディスク
を得るスタンパーを作製するディスク原盤を得ることが
できる。

【００７５】尚、上述した構成では、第１および第２の
変調素子１０３ＡＯＭ₁および１０３ＡＯＭ₂ に対する
レーザービームの集光レンズ１０２Ｌ₁および１０２Ｌ
₂ の焦点位置を第１および第２のレザービームＬＢ₁お
よびＬＢ₂ からわずかにずらしたことから、その変調と
偏向とを共通に行うことができるようにしたので、構造
の簡潔化とともに、よりパターン露光を正確に制御する
ことができるものである。しかしながら、ある場合は、
これら光強度変調と偏向とを独立に行う構成とすことも
できる。

【００７６】また、上述した例では、パターン露光を２
つのレーザービームスポットによって行う場合について
説明したが、３つ以上スポットすなわち３本以上のレー
ザービームによって行う場合に適用することもできる。

【００７７】上述したように、本発明においては複数の
レーザービームによる露光によるものであるが、１つの
レーザービームスポットへの適用も容易に考えうるとこ
ろである。

【００７８】

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、複数
のレーザービームによって、露光がなされるようにし、
各ビームに関して個別に光強度変調を行い、しかも各ビ
ームに関してその変調のタイミングを正確に一致させる
ことができるものである。

【００７９】また、本発明によれば、複数のレーザービ
ームによって、露光がなされるようにし、各ビームに関
して個別に偏向を行い、しかも各ビームに関してその偏
向のタイミングを正確に一致させることができるもので
ある。

【００８０】更に、本発明によれば、複数のレーザービ
ームに関して個別に設けた光学素子ＡＯＭによって変調
と偏向とを同時に、しかもそれぞれの変調と偏向とを良
好に行うことができることから、露光装置の構造および
操作の簡潔化をはかることができるものであり、その工
業的利益は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による露光装置の一例の構成図でる。

【図２】本発明の説明に供する光路図である。

【図３】光ディスクの一例の斜視図である。

【図４】ＡおよびＢは、それぞれ光ディスクの例の一部
の斜視図である。

【図５】Ａ、ＢおよびＣは、光ディスク原盤を作製する
露光作業の工程図である。

【図６】ＡおよびＢは、それぞれ光ディスク原盤の例の
一部の斜視図である。

【図７】ＡおよびＢは、それぞれスタンパーの作製の工
程図である。

【図８】ＡおよびＢは、それぞれ光ディスクの作製の工
程図でる。

【図９】光ディスクの一例のフォーマットのパターン図
である。

【図１０】図９のパターンを得る露光方法の説明図であ
る。

【図１１】露光パターンのずれを示す図である。

【図１２】光ディスクの他のパターンを示す図である。

【図１３】露光パターンのずれを示す図である。

【図１４】光学変調素子の動作説明図である。

【符号の説明】

ＬＢ・・・レーザービーム、ＬＢ₁およびＬＢ₂ ・・・
第１および第２のレーザービーム、１００・・・レーザ
ー、１０１・・・複数レーザービーム形成手段、１０１
ＢＳ・・・ビームスプリッタ、１０１Ｍ・・・ミラー、
１０２Ｌ₁および１０２₁および１０２Ｌ₂ ・・・第１
および第２のの集光レンズ、１０３ＡＯＭ₁および１０
３ＡＯＭ₂ ・・・第１および第２の変調素子、１０４Ｌ
₁および１０４Ｌ₂ ・・・第１および第２のコレメート
レンズ、１０５ＢＳ₁および１０５ＢＳ₂ ・・・第１お
よび第２のビームスプリッタ、ＰＤ₁およびＰＤ₂ ・・
・光検出素子、１０６・・・１／２波長板、１０７ＰＢ
Ｓ・・・偏向ビームスプリッタ、１０８・・・１／４波
長板、１０９Ｍ，１１１Ｍ，１１８Ｍ・・・ミラー、１
１０・・・対物レンズ、１２３・・・位置検出手段、１
２４・・・変調遅延時間検出手段、１２５・・・制御手
段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被露光面に、複数のレーザービームを同
期して光強度変調し、上記被露光面に集光させて上記被
露光面の所定領域に複数のレーザービームスポットの照
射を行い、上記複数のレーザービームの光強度変調の遅延時間の差
を検出し、該遅延時間の差の検出情報により、上記各レ
ーザービームに対する光強度変調の入力信号相互の遅延
量を制御して上記複数のレーザービームの光強度変調の
タイミングを合せ込むことを特徴とする露光方法。
【請求項２】上記請求項１に記載の露光方法におい
て、上記被露光面と該被露光面に対する上記レーザービーム
スポットを相対的に移動させ、上記複数のレーザービー
ムスポットの相互の位置を検出し、該位置の情報によ
り、上記各レーザービームに対する光強度変調のタイミ
ングを合せ込むことを特徴とする露光方法。
【請求項３】上記請求項１に記載の露光方法におい
て、上記複数のレーザービームを同期して光強度変調を行う
とともに、上記複数のレーザービームを同期して偏向し
て、上記被露光面に集光させ、上記被露光面と該被露光
面に対する上記レーザービームスポットを相対的に移動
させ、上記複数のレーザービームスポットの相互の位置
を検出し、該位置の情報により、上記各レーザービーム
スポットの偏向のタイミングを合せ込むことを特徴とす
る露光方法。
【請求項４】被露光面に、複数のレーザービームを同
期して偏向し、上記被露光面に上記複数のレーザービー
ムを集光させ、上記被露光面と該被露光面に対するレー
ザービームスポットを相対的に移動させ、上記複数のレ
ーザービームスポットの相互の位置を検出し、該位置の
情報により、上記各レーザービームスポット間の距離を
合せ込むことを特徴とする露光方法。
【請求項５】複数のレーザービームの形成手段と、上記複数のレーザービームを同期して光強度変調する変
調手段と、上記複数のレーザービームを、被露光面に集光させるレ
ンズ系と、上記複数のレーザービームの光強度変調の遅延時間の差
を検出する検出手段と、該検出手段からの上記遅延時間の差の検出情報により、
上記各レーザービームに対する光強度変調の入力信号相
互の遅延量を制御して上記複数のレーザービームの光強
度変調のタイミングを合せ込む制御手段とを具備するこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項６】上記請求項５に記載の露光装置におい
て、上記被露光面と該被露光面に対する上記レーザービーム
スポットを相対的に移動させる手段と、上記複数のレーザービームスポットの相互の位置を検出
する手段と、該位置検出手段からの上記位置の検出情報により、上記
各レーザービームに対する光強度変調のタイミングを合
せ込む制御手段とを具備することを特徴とする露光装
置。
【請求項７】上記請求項５に記載の露光装置におい
て、上記被露光面と該被露光面に対する上記レーザービーム
スポットを相対的に移動させる手段と、上記複数のレーザービームを同期して光強度変調を行う
とともに、上記複数のレーザービームを同期して偏向す
る変調偏向手段と、上記複数のレーザービームスポットの相互の位置を検出
する手段と、該位置検出手段からの上記位置の検出情報により、上記
各レーザービームに対する偏向のタイミングを合せ込む
制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項８】被露光面に、複数のレーザービームを同
期して偏向する偏向手段と、上記被露光面に上記複数のレーザービームを集光する手
段と、上記被露光面と該被露光面に対するレーザービームスポ
ットを相対的に移動させる手段と、上記複数のレーザービームスポットの相互の位置を検出
する検出手段と、該位置の検出手段による位置の情報により、上記各レー
ザービームスポット間の距離を合せ込む制御手段とを具
備することを特徴とする露光装置。
【請求項９】上記変調手段が、音響光学変調素子より
なることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項１０】上記変調偏向手段が、音響光学変調素
子よりなり、該音響光学変調素子に対して、集光レンズ
により上記レーザービームを集光入射するようになさ
れ、上記音響光学変調素子は、上記集光レンズの焦点距
離より、移動させて配置して、上記音響光学変調素子に
より、上記レーザービームの光強度変調効果を保持した
状態で、偏向動作がなされるようにしたことを特徴とす
る請求項７に記載の露光装置。
【請求項１１】上記偏向手段が、音響光学変調素子よ
りなることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１２】基板上の感光剤層に対してパターン露
光処理と、現像処理とを行って上記基板上の感光剤層の
パターン化を行い、該感光剤層のパターンによる微細凹
凸が形成された光ディスク作製用のスタンパーを形成す
る光ディスク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法
において、上記感光剤層に対するパターン露光処理を、上記感光剤
層による被露光面に、複数のレーザービームを同期して
光強度変調し、上記被露光面に集光させて上記被露光面
の所定領域に複数のレーザービームスポットの照射を行
い、上記複数のレーザービームの光強度変調の遅延時間の差
を検出し、該遅延時間の差の検出情報により、上記各レ
ーザービームに対する光強度変調の入力信号相互の遅延
量を制御して上記複数のレーザービームの光強度変調の
タイミングを合せ込む露光方法によって行うことを特徴
とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項１３】上記請求項９に記載の光ディスク原盤
の製造方法において、上記感光剤層に対するパターン露光処理を、上記感光剤
層による被露光面と該被露光面に対する上記レーザービ
ームスポットを相対的に移動させ、上記複数のレーザー
ビームスポットの相互の位置を検出し、該位置の情報に
より、上記各レーザービームに対する光強度変調のタイ
ミングを合せ込むことを特徴とする光ディスク原盤の製
造方法。
【請求項１４】上記請求項１２に記載の光ディスクの
原盤の製造方法において、上記感光剤層に対するパターン露光処理を、上記複数の
レーザービームを同期して光強度変調を行うとともに、
上記複数のレーザービームを同期して偏向して、上記被
露光面に集光させ、上記被露光面と該被露光面に対する
上記レーザービームスポットを相対的に移動させ、上記
複数のレーザービームスポットの相互の位置を検出し、
該位置の情報により、上記各レーザービームスポットの
偏向のタイミングを合せ込むことを特徴とする光ディス
ク原盤の製造方法。
【請求項１５】基板上の感光剤層に対してパターン露
光処理と、現像処理とを行って上記基板上の感光剤層の
パターン化を行い、該感光剤層のパターンによる微細凹
凸が形成された光ディスク作製用のスタンパーを形成す
る光ディスク原盤を作製する光ディスク原盤の製造方法
において、上記感光剤層による被露光面に、複数のレーザービーム
を同期して偏向し、上記被露光面に上記複数のレーザー
ビームを集光させ、上記被露光面と該被露光面に対する
レーザービームスポットを相対的に移動させ、上記複数
のレーザービームスポットの相互の位置を検出し、該位
置の情報により、上記各レーザービームスポット間の距
離を合せ込むことを特徴とする光ディスク原盤の製造方
法。