JP2822554B2 - 検出装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば光学ディスクのマスタリングディス
クの現像装置等に適用して好適な検出装置に関する。

〔発明の概要〕

本発明は、基板表面に形成したフォトレジスト層にレ
ーザ光を照射して記録したフォトレジスト層を現像する
ことによりこの基板表面に形成したトラックよりなる回
折面に対してレーザ光を照射して得る回折光に基づきこ
のトラックを検知する検知装置において、この回折光上
に配されたレンズと、このレンズからの光の強度を検知
する検出器を有し、この回折面からレンズまでの距離を
ａとし、このレンズから検出器までの距離をｂとし、こ
のレンズの焦点距離をｆとしたときに、 となるようにこれらレンズ及び検出器を配置することに
よりこの回折光を検出器の検出面に集光し、このトラッ
クをこの検出器で検知するときのレンズ位置に対する回
折光の誤差の影響を軽減するようにしたことにより、例
えばマスタリングディスクの露光時にトラックピッチに
多少の誤差があっても、またマスタリングディスクの設
置位置の多少の誤差により生じるマスタリングディスク
の偏心があってもレンズが検出器の検出面に回折レーザ
ー光を集光するので、光量の検出を良好に行うことがで
き、良好に現像をすることができるようにしたものであ
る。

〔従来の技術〕

従来、光学ディスクのマスタリングディスクの現像装
置による現像処理は、第２図に示す如き製造過程を持っ
て行われる。

即ち、この第２図において、（１）はガラス原盤で、
このガラス原盤（１）上にはレジスト層（２）が塗布さ
れて形成される。このレジスト層（２）の材料は感光材
料で、その厚さは略1000Å程度である。このレジスト層
（２）及びガラス原盤（１）によって、マスタリングデ
ィスクの原盤が形成される。

このマスタリングディスクのレジスト層（２）の露光
は第２図Ｂに示す如く行われる。即ち、マスタリングデ
ィスクのレジスト層（２）に露光用レーザー光（３）が
記録しようとする信号に応じて照射され、このレジスト
層（２）のこの信号に応じたピット又はグルーブ（４）
の形成される部分が感光されるようになされる。

この後、第２図Ｃに示すように、露光が終了した後
に、マスタリングディスクが回転せしめられると共に、
このマスタリングディスクのレジスト層（２）に現像液
（５）が噴霧され、レジスト層（２）が現像される。こ
の場合レジスト層（２）は現像されたときはこのピット
又はグルーブ（４）のトラックピッチは略等間隔に形成
されるので回折格子を形成することとなる。

この現像過程においては、現像の過、不足により、ピ
ット又はグルーブ（４）の形状が大又は小となるので、
これを制御する必要が生じる。このため、第2D図に示す
ように、レジスト層（２）に現像液（５）が噴霧されて
いる現像状態のままで、検出用レーザー光（６）をレジ
スト層（２）に照射し、この照射されたレーザー光
（６）がレジスト層（２）が現像されることによって形
成される回折格子によって回折し、フォトディテクタ
（８）が、その回折レーザー光（７）の強度を検出し、
この検出した値によって、現像の停止又は続行を制御す
るようになされていた。このとき検出用レーザー光
（６）の光軸及びフォトディテクタ（８）間の角度θは とされる。ここでλは検出用レーザー光（６）の波長、
Ｐはトラックピッチ（通常は略1.5〜1.7μｍである）で
ある。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述の検出装置では、検出用レーザー光（６）の光軸
及びフォトディテクタ（８）間の角度θは であり、このθはこの検出用レーザー光（６）の波長λ
及びマスタリングディスクのレジスト層（２）のピット
又はグルーブ（４）のトラックピッチＰにより予め決め
られ、このフォトディテクタ（８）の位置が決定されて
いる。

しかしながら、レジスト層（２）の露光時に多少のト
ラックピッチＰの誤差があると、現像過程で、予め予定
されているトラックピッチＰと異なるトラックピッチＰ
となったときには、上述の角度θが変わり、フォトディ
テクタ（８）に回折レーザー光（７）が十分に入射され
なかったり、又は全く入射されないという問題が生じ
る。また、マスタリングディスクの設定の仕方によって
は、マスタリングディスクの偏心によって、上述の角度
θが異なることとなり、フォトディテクタ（８）に回折
レーザー光（７）が入射されなかったり、また、回折レ
ーザー光（７）が十分に入射されなかったりするという
問題が生じ、マスタリングディスクが良好に現像されな
い不都合があった。

また、フォトディテクタ（８）を回折面を中心とした
円周内に複数設けることも考えられるが、現像液（５）
の噴霧による汚れを取る手間がかかるだけでなく、回路
規模等が大となる不都合がある。

本発明はかかる点で鑑みてなされたもので、露光時に
トラックピッチに多少の誤差があっても、またマスタリ
ングディスクの設置位置の多少の誤差により生じるマス
タリングディスクの偏心があっても光量の検出を良好に
行うことができるようにしたものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明検出装置は、例えば第１図に示す如く、基板表
面に形成したフォトレジスト層（２）にレーザー光
（３）を照射して記録したフォトレジスト層（２）を現
像することによりこの基板表面に形成したピット又はグ
ルーブ（４）で形成したトラックよりなる回折面（10）
に対してレーザー光（６）を照射して得る回折光（７）
に基づきトラック（４）を検知する検知装置において、
この回折光上に配されたレンズ（９）と、レンズ（９）
からの光の強度を検出する検出器（８）を有し、回折面
（10）からレンズ（９）までの距離をａとし、レンズ
（９）から検出器（８）までの距離をｂとし、レンズ
（９）の焦点距離をｆとしたときに、 となるようにレンズ（９）及び検出器（８）を配置した
ものである 〔作用〕 かかる本発明によれば、回折面（10）からレンズ
（９）までの距離をａとし、レンズ（９）から検出器
（８）までの距離をｂとし、レンズ（９）の焦点距離を
ｆとしたときに、 となるように、レンズ（９）及び検出器（８）を配置し
たので、露光時にトラックピッチに多少の誤差があって
もまたマスタリングディスクの設置位置の多少の誤差に
より生じるマスタリングディスクの偏心があってもレン
ズ（９）が検出器（８）の検出面に回折レーザー光
（７）を集光するので光量の検出を良好に行うことがで
きる。

〔実施例〕

以下に、第１図を参照して、本発明の検出装置の一実
施例について詳細に説明する。この第１図において第２
図と対応する部分には同一符号を付して、その詳細説明
は省略する。

この第１図例は本発明検出装置を光学ディスクのマス
タリングディスクの現像装置に適用したもので、このマ
スタリングディスクの露光処理は第２図と同様にして行
う。

即ち、ガラス原盤（１）上に感光材料より成るレジス
ト層（２）が厚さ例えば1000Å程度塗布されて形成され
たマスタリングディスクの原盤（第２図Ａ）のこのマス
タリングディスクのレジスト層（２）に露光用レーザー
光（３）が記録しようとする信号に応じて照射され、こ
のレジスト層（２）のこの信号に応じたピット又はグル
ーブ（４）の形成される部分が感光されるようになされ
る（第２図Ｂ）。

この後、マスタリングディスクが回転せしめられると
共に、このマスタリングディスクのレジスト層（２）に
現像液（５）が噴霧され、レジスト層（２）が現像され
る。この場合レジスト層（２）は現像されたときはこの
ピット又はグルーブ（４）のトラックピッチは略等間隔
に形成されるので回折格子を形成することとなる。

本例においてはこの現像過程において現像の過、不足
により、ピット又はグルーブ（４）の形状が大又は小と
なるので、これを制御するのに第１図に示す如くして行
う。

即ち、本例では第１図に示すように、レジスト層
（２）に現像液（５）が噴霧されている現像状態のまま
で、検出用レーザー光（６）をレジスト層（２）に照射
し、この照射されたレーザー光（６）がレジスト層
（２）が現像されることによって形成される回折格子に
よって回折し、フォトディテクタ（８）がその回折レー
ザー光（７）の強度を検出するようにする。このとき検
出用レーザー光（６）の光軸及びフォトディテクタ
（８）間の角度θは とされる。ここでλは検出用レーザー光（６）の波長、
Ｐはトラックピッチ（通常は略1.5〜1.7μｍである）で
ある。

そして、更に本例においては検出用レーザー光（６）
を回折する回折面（10）及びフォトディテクタ（８）間
に、凸レンズ（９）を設ける。この凸レンズ（９）を設
ける位置は、この凸レンズ（９）の焦点距離をｆとし、
回折面（10）から凸レンズ（９）までの距離をａとし、
この凸レンズ（９）からフォトディテクタ（８）までの
距離をｂとしたときに、 となる位置にこの凸レンズを設ける。本例においては、
このフォトディテクタ（８）の回折レーザー光（７）の
強度の検出レベルに応じて現像装置の現像液（５）の噴
霧を制御し、現像を制御する如く構成する。その他は、
従来と同様に構成する。

本例は上例の如く構成されているので、マスタリング
ディスクを現像するときに、この現像により形成される
ピット又はグルーブ（４）のトラックピッチＰにより形
成される回折格子に照射される検出用レーザー光（６）
は、回折面（10）で回折され、凸レンズ（９）に、この
回折された回折レーザー光（例えば１次回折光）（７）
が入射され、この凸レンズ（９）により、この回折レー
ザー光（７）がフォトディテクタ（８）の検出面に集光
される。この場合に、レンズ（９）及びフォトディテク
タ（８）を回折面（10）、レンズ（９）及びフォトディ
テクタ（８）の関係が となる位置に設置しているので、露光時にトラックピッ
チＰに多少の誤差があっても、また、マスタリングディ
スクの設置位置の多少の誤差により生じるマスタリング
ディスクの偏心であってもレンズ（９）がフォトディテ
クタ（８）の検出面に回折レーザー光（７）を集光す
る。従って、良好に回折レーザー光（７）の強度を検出
することができ、これにより、マスタリングディスクの
現像を良好に制御でき、良好なピット又はグルーブ
（４）を得ることができる。

尚、上述の実施例においては、マスタリングディスク
の現像装置に適用した例について説明したが、本発明検
出装置をその他の現像装置に適用できることは容易に理
解できよう。

また、本発明は上述の実施例に限ることなくその要旨
を逸脱することなくその他種々の構成が取る得ることは
勿論である。

〔発明の効果〕

かかる本発明によれば、回折面からレンズまでの距離
をａとし、レンズから検出器までの距離をｂとし、レン
ズの焦点距離をｆとしたときに、 となるように、レンズ及び検出器を配置したことによ
り、例えばマスタリングディスクの露光時にトラックピ
ッチに多少の誤差があっても、またマスタリングディス
クの設置位置の多少の誤差により生じるマスタリングデ
ィスクの偏心があってもレンズが検出器の検出面に回折
レーザー光を集光するので、光量の検出を良好に行うこ
とができ、これによって、良好な現像をすることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は従来
例を示す断面図である。 （７）は回折レーザー光、（８）はフォトディテクタ、
（９）は凸レンズ、（10）は回折面である。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板表面に形成したフォトレジスト層にレ
   ーザ光を照射して記録したフォトレジスト層を現像する
   ことにより上記基板の表面に形成したトラックよりなる
   回折面に対してレーザ光を照射して得る回折光に基づき
   上記トラックを検知する検出装置において、上記回折光
   上に配されたレンズと、該レンズからの光の強度を検出
   する検出器を有し、上記回折面から上記レンズまでの距
   離をａとし、上記レンズから上記検出器までの距離をｂ
   とし、上記レンズの焦点距離をｆとしたときに、 となるように上記レンズ及び上記検出器を配置すること
   により、上記回折光を上記検出器の検出面に集光して、
   上記回折光の光量の検出を良好におこなうことができる
   ようにしたことを特徴とする検出装置。