JPS63288439A - 光デイスク用スタンパの製造方法 - Google Patents
光デイスク用スタンパの製造方法Info
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- JPS63288439A JPS63288439A JP12132287A JP12132287A JPS63288439A JP S63288439 A JPS63288439 A JP S63288439A JP 12132287 A JP12132287 A JP 12132287A JP 12132287 A JP12132287 A JP 12132287A JP S63288439 A JPS63288439 A JP S63288439A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、金属およびそれらの酸化物、窒化物等から
なる基板に形状制御されたプレグルーブを直接形成する
光ディスク用スタンパの製造方法に関するものである。
なる基板に形状制御されたプレグルーブを直接形成する
光ディスク用スタンパの製造方法に関するものである。
従来の光ディスク用スタンパの製造方法については、例
えば特開昭６０−１７３７３６号公報に示されており、
これを第２図を用いて説明すると、同図（ω、 （ｂｌ
・・・・・・の順に、基板（１）にフォトレジスト（２
）を塗り、Ｖ−ザ光で露光し、感光部分（３）を形成後
、現像してフォトレジスト（２）のパターンヲ作ル。
えば特開昭６０−１７３７３６号公報に示されており、
これを第２図を用いて説明すると、同図（ω、 （ｂｌ
・・・・・・の順に、基板（１）にフォトレジスト（２
）を塗り、Ｖ−ザ光で露光し、感光部分（３）を形成後
、現像してフォトレジスト（２）のパターンヲ作ル。
次に、プラズマエツチングで基板（１）に溝（プレグル
ーブ）（４）を形成した後、フォトレジスト（２）を除
去する。
ーブ）（４）を形成した後、フォトレジスト（２）を除
去する。
以上の工程なさらに詳しく説明すると、金属やそれらの
酸化物、窒化物からなる基板（１）の片面に、フォトレ
ジスト（２）をスピンコートする。次Ｋ、レーザ光で幅
約１μ属程度で同心円状、またはスパイラル状Ｋ１４光
して感光部分（３）を形成する。感光部分（３）を現像
で除去した後、プラズマエツチングで基板（１）に溝（
プレグルーブ）（４）を形成する。残りたフォトレジス
ト（２）をＭ素ガス（０２） Ｋよるアッシングで除去
し、プレグルーブ（４）付きのスタンパが、形成される
。なお、断面矩形のプレグルーブ（４）は溝形状として
好ましくない。
酸化物、窒化物からなる基板（１）の片面に、フォトレ
ジスト（２）をスピンコートする。次Ｋ、レーザ光で幅
約１μ属程度で同心円状、またはスパイラル状Ｋ１４光
して感光部分（３）を形成する。感光部分（３）を現像
で除去した後、プラズマエツチングで基板（１）に溝（
プレグルーブ）（４）を形成する。残りたフォトレジス
ト（２）をＭ素ガス（０２） Ｋよるアッシングで除去
し、プレグルーブ（４）付きのスタンパが、形成される
。なお、断面矩形のプレグルーブ（４）は溝形状として
好ましくない。
〔発明が解決しようとする問題点３
以上のような従来のエツチングによる光ディスク用スタ
ンバの製造方法では、プレグルーブ形成に要求される制
御された溝形状が得られないという問題点があった。
ンバの製造方法では、プレグルーブ形成に要求される制
御された溝形状が得られないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、プラズマエツチングで形状制御されたプレグ
ルーブを形成したものをグラスチック基板への転写用ス
タンバとして用いることができる光ディスク用スタンパ
の製造方法を得ることを目的とする。
たもので、プラズマエツチングで形状制御されたプレグ
ルーブを形成したものをグラスチック基板への転写用ス
タンバとして用いることができる光ディスク用スタンパ
の製造方法を得ることを目的とする。
この発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法は、フ
ォトレジストの厚み分布を制御するとともに、フォトレ
ジストと基板の両方をプラズマエツチングできるようＫ
したものである。
ォトレジストの厚み分布を制御するとともに、フォトレ
ジストと基板の両方をプラズマエツチングできるようＫ
したものである。
この発明においては、フォトレジストの厚み分布の制御
と、フオ）Ｌ／シストと基板の両方をエツチングするこ
とにより、基板のプレグルーブの形状制御を可能にする
。
と、フオ）Ｌ／シストと基板の両方をエツチングするこ
とにより、基板のプレグルーブの形状制御を可能にする
。
以下、この発明の一実施例を第２図を参照して説明する
。同図（（至）、（ｂ）・・・・・・の順に、金属およ
びそれらの酸化物、窒化物からなる基板（１）にフオ）
Ｌ／シスト（２）を約１０００Ａ程度スピンコートし同
図（ω。
。同図（（至）、（ｂ）・・・・・・の順に、金属およ
びそれらの酸化物、窒化物からなる基板（１）にフオ）
Ｌ／シスト（２）を約１０００Ａ程度スピンコートし同
図（ω。
（ｂｌ、レーザ光で幅約１μｍ程度で同心円状またはス
パイラル状に露光し、感光部分（３）を形成するが。
パイラル状に露光し、感光部分（３）を形成するが。
露光条件を適当に選ぶと、同図（ｃ）に示すように、傾
斜をもつ感光部分（３）が得られる。現像後、同様に、
傾斜をもつフォトレジスト層（２）が得られる同図（ｄ
ｌ、次に、基板（１）をエツチングするガスとフォトレ
ジスト（２）をエツチングするガスを混合した状態でプ
ラズマエツチングを行うと、フォトレジスト層の薄い部
分から基板（１１がエツチングされ同図外 （ｅ）、最ｙ的にはフォトＬ／シスト層の厚み分布に対
応した形状の溝（４）が基板（１）Ｋ形成される同図（
０゜例えば、基板（１）にＮｂを用いると、Ｎｂのエツ
チングガスであるＣＦ４と０２の混合ガスの比率と、ガ
ス圧力等を適当に選んで溝（４）の形状制御を行う。
斜をもつ感光部分（３）が得られる。現像後、同様に、
傾斜をもつフォトレジスト層（２）が得られる同図（ｄ
ｌ、次に、基板（１）をエツチングするガスとフォトレ
ジスト（２）をエツチングするガスを混合した状態でプ
ラズマエツチングを行うと、フォトレジスト層の薄い部
分から基板（１１がエツチングされ同図外 （ｅ）、最ｙ的にはフォトＬ／シスト層の厚み分布に対
応した形状の溝（４）が基板（１）Ｋ形成される同図（
０゜例えば、基板（１）にＮｂを用いると、Ｎｂのエツ
チングガスであるＣＦ４と０２の混合ガスの比率と、ガ
ス圧力等を適当に選んで溝（４）の形状制御を行う。
上記のように溝（４）の断面形状がＶ形、Ｕ形であると
、光学的に好特性のものが得られる。
、光学的に好特性のものが得られる。
以上のように、この発明によれば、基板とフォトレジス
トをプラズマエツチングするようにしたので、溝の形状
制御が可能なプレグルーブをもつスタンパが形成でき、
また、スタンパの製造が一貫してドライプロセスで行え
る効果がある。
トをプラズマエツチングするようにしたので、溝の形状
制御が可能なプレグルーブをもつスタンパが形成でき、
また、スタンパの製造が一貫してドライプロセスで行え
る効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を工程順に説明するための
要部断面図、第２図は従来の光ディスク用スタンパの製
造方法を工程順に説明するための要部断面図である。 （１１・・基板、（２）・・フォトレジスト、（３）・
・感光部分、（４）・−エツチングにより形成された溝
。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 尾１図 （Ｃ１） １ ■ ２ ７オトＬ！；スト ３ ° ｇ楚節分 ４ 、 ；鼠 昂２図
要部断面図、第２図は従来の光ディスク用スタンパの製
造方法を工程順に説明するための要部断面図である。 （１１・・基板、（２）・・フォトレジスト、（３）・
・感光部分、（４）・−エツチングにより形成された溝
。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 尾１図 （Ｃ１） １ ■ ２ ７オトＬ！；スト ３ ° ｇ楚節分 ４ 、 ；鼠 昂２図
Claims (3)
- （１）金属およびそれらの酸化物、窒化物のいずれかで
なる基板の片面にフォトレジストをスピンコートし、レ
ーザ光で露光、現像後、プラズマエッチングにより形状
制御されたプレグルーブを形成する光ディスク用スタン
パの製造方法。 - （２）レーザ光の露光条件により、フォトレジスト層に
傾斜をもつ感光部分を形成する特許請求の範囲第１項記
載の光ディスク用スタンパの製造方法。 - （３）基板をエッチングするガスとフォトレジストをエ
ッチングするガスとを混合してプラズマエッチングを行
う特許請求の範囲第１項記載の光ディスク用スタンパの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12132287A JPS63288439A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 光デイスク用スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12132287A JPS63288439A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 光デイスク用スタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63288439A true JPS63288439A (ja) | 1988-11-25 |
Family
ID=14808381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12132287A Pending JPS63288439A (ja) | 1987-05-20 | 1987-05-20 | 光デイスク用スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63288439A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02204023A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学式ディスク用スタンパー及びその製造方法 |
| JPH05198016A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Sharp Corp | 光メモリ素子用原盤及びその製造方法 |
| US7548505B2 (en) | 2001-07-18 | 2009-06-16 | Sony Corporation | Optical recording medium having a relationship between groove width and track pitch |
-
1987
- 1987-05-20 JP JP12132287A patent/JPS63288439A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02204023A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 光学式ディスク用スタンパー及びその製造方法 |
| JPH05198016A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Sharp Corp | 光メモリ素子用原盤及びその製造方法 |
| US7548505B2 (en) | 2001-07-18 | 2009-06-16 | Sony Corporation | Optical recording medium having a relationship between groove width and track pitch |
| US8110343B2 (en) | 2001-07-18 | 2012-02-07 | Sony Corporation | Manufacturing method for optical recording and reproducing medium stamper |
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