JP2658023B2 - 平板状情報記録担体の原盤作成方法 - Google Patents

平板状情報記録担体の原盤作成方法

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、溝またはピット列を有する平板状情報記録
担体の原盤を作成する方法に関するものである。
従来の技術 基板表面に微細なパターンを形成するエッチング技術
は、半導体集積回路、プリント基板、透明電導膜、さら
に光ディスクなどの情報記録媒体の製造には欠くことの
できない技術となっている。特に最近では、パターンの
微細化、プロセスの自動化などの要求から、エッチング
プロセスのドライ化が注目を集めている。既にVLSIの製
造にはドライエッチングプロセスが実用化されている
が、これよりさらに微細なサブミクロンのパターン形成
を行なう光ディスク基板の作成にも、この技術が取り入
れられている。
以下、第２図を参照しながら、光ディスク基板上のパ
ターン形成をドライエッチングにより行なう方法を説明
する。
まず、高精度に研磨されたガラス基板１の表面に、フ
ォトレジスト２を均一に塗布する（第２図（ａ））。そ
して、ガラス基板１を回転させながら、所望のピット列
や溝の構造に対応して変調を受けたレーザー光３をフォ
トレジスト２に照射する（第２図（ｂ））。これを現像
することにより、フォトレジスト２の露光された領域が
除去されて、表面に同心円状または螺旋状の凹凸パター
ンが現われる（第２図（ｃ））。
次に、この凹凸パターン付きガラス基板に対し、気体
プラズマ４を作用させてガラス基板１のエッチングを行
なう。エッチング用のガスとしては、CHF3などが用いら
れる。
所定の深さでエッチングを進行させた後（第２図
（ｄ））、残留したフォトレジスト２をO2ガスを用いた
プラズマアッシングにより除去すれば、表面に所定の同
心円状または螺旋状の溝やピット列が刻まれたガラス基
板が得られる（第２図（ｅ））。このガラス基板の表面
にNiなどの電鋳を行ない、これを剥離することによって
光ディスク原盤５が得られる（第２図（ｆ））。光ディ
スク基板６はこの原盤をもとにして射出成型などの方法
で複製される（第２図（ｇ））。
発明が解決しようとする問題点 従来の方法ではガラス基板に溝を形成するため、射出
成型のように大きな力の加わるディスク複製工程に用い
るためにはこのガラス基板から金属の原盤を作成する工
程が必要であった。
問題点を解決するための手段 本発明は、上記問題点を解決するため、平板状金属基
板にプラズマ状の気体を作用させて溝またはピット列を
形成し、これを直接光ディスク原盤として使用するもの
である。
作用 この手段による作用は以下のようになる。
金属基板上にフォトレジストマスクを設け、これにプ
ラズマ状気体を作用させればガラス基板と同様に金属基
板のエッチングが進行し、表面に溝が形成される。これ
を用いれば従来のようなガラス基板から金属製のディス
ク原盤を作成する工程は不要になる。
実施例 本発明の実施例について第１図を参照しながら説明す
る。
まず、高精度に研磨されたCr基板７の表面に、フォト
レジスト２を均一に塗布する（第１図（ａ））。そし
て、Cr基板７を回転させながら、所望のピット列や溝の
構造に対応して変調を受けたレーザー光３をフォトレジ
スト２に照射する（第１図（ｂ））。これを現像するこ
とにより、フォトレジスト２の露光された領域が除去さ
れて、表面に同心円状または螺旋状の凹凸パターンが現
われる（第１図（ｃ））。
次に、この凹凸パターン付きCr基板７に対し、CCl4ガ
スを用いてエッチングを行なう。所定の深さまでエッチ
ングを進行させた後（第１図（ｄ））、残留したフォト
レジスト２をO2ガスを用いたプラズマアッシングにより
除去すれば、表面に所定の同心円状または螺旋状の溝や
ピット列が刻まれたCr基板７が得られる（第１図
（ｅ））。光ディスク基板６はこれをもとにして射出成
型などの方法で複製される（第１図（ｆ））。
なお、エッチング用のガスとしては本実施例のCCl4以
外に、CH2Cl2,BCl3あるいはCCl4とO2の混合ガスなどを
用いることができる。さらに基板としては本実施例のCr
の他、Ni,Al,Ti,Co,Fe,Mo,W,Si,Cu等、さらにそれらを
主成分とする合金を用いることができる。
発明の効果 以上のように、本発明は、平板状金属基板にプラズマ
状の気体を作用させて直接光ディスク原盤を作成するこ
とにより、従来あったガラス基板から金属製のディスク
原盤を作成する工程を省略することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例における平板状情報記録担体
の原盤作成方法を示した工程図、第２図は従来例の光デ
ィスクの原盤作成方法を示す工程図である。 １……ガラス基板、２……フォトレジスト、３……レー
ザー光、４……気体プラズマの入射方向、５……光ディ
スク原盤、６……光ディスク基板、７……Cr基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小深田 美恵子 門真市大字門真1006番地 松下電器産業 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−147946（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−226041（ＪＰ，Ａ)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】情報記録担体の複製用原盤に用いる平板状
    金属基板の表面に同心円状または螺旋状の開口部を有す
    るフォトレジストを設ける工程、及び前記平板状金属基
    板に対しプラズマ状態の気体を作用させて前記開口部に
    対応した溝またはピット列を形成する工程を含むことを
    特徴とする平板状情報記録担体の原盤作成方法。
  2. 【請求項２】平板状金属基板は、少なくとも溝またはピ
    ット列形成する部位がCr,Ni,Al,Ti,Co,Fe,Mo,W,Si,Cuの
    うち少なくとも一つを主成分とする材料で形成されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の平板状
    情報記録担体の原盤作成方法。
  3. 【請求項３】プラズマ状態の気体として、Ar,CCl4,CH2C
    l2,BCl3,O2のうち少なくとも一つを用いることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項記載の平板状情報記録担体の
    原盤作成方法。
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