JPS60230650A - 微細パタ−ンの製作法 - Google Patents
微細パタ−ンの製作法Info
- Publication number
- JPS60230650A JPS60230650A JP8735984A JP8735984A JPS60230650A JP S60230650 A JPS60230650 A JP S60230650A JP 8735984 A JP8735984 A JP 8735984A JP 8735984 A JP8735984 A JP 8735984A JP S60230650 A JPS60230650 A JP S60230650A
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- Japan
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- layer
- resist
- light
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ・産業上の利用分野
本発明はホログラフィック露光により作成した断面形状
が正弦波状の微細レジストパターンを断ものに変換する
方法に関するもので、ラメラ−回折格子、透過型回折格
子、フレネルゾーンプレート等を作成する上で重要でか
つ広い応用が考えられる。
が正弦波状の微細レジストパターンを断ものに変換する
方法に関するもので、ラメラ−回折格子、透過型回折格
子、フレネルゾーンプレート等を作成する上で重要でか
つ広い応用が考えられる。
口・従来技術
ラメラ−回折格子を作成する場合、機械切りと化学エツ
チングを用いた方法（Ａ、Ｆｒａｎｋ ｅｔｃ。
チングを用いた方法（Ａ、Ｆｒａｎｋ ｅｔｃ。
Ｐｈ１１． Ｐｒａｎｓ、 Ｒｏｙ、 Ｂｏｃ、 ２７
’７．５０３． （”７５））及びホログラフィック露
光法とリフトオフプロセスを用いた方法（Ｇ、Ｓｃｈｍ
ａｈｌ Ｊ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ２４．３． （”７４
））等があるが、前者は機械切りの為周期誤差によるゴ
ーストや迷光が多く、又作成に要する時間が桁違いに長
いだめ製造コストが高くなる。又、後者はホログラフィ
ック露光法によシ、これら機械切りの欠点を改善してい
るがリストオフが非常に困：難である。
’７．５０３． （”７５））及びホログラフィック露
光法とリフトオフプロセスを用いた方法（Ｇ、Ｓｃｈｍ
ａｈｌ Ｊ、Ｓｏｃ、Ｊａｐａｎ２４．３． （”７４
））等があるが、前者は機械切りの為周期誤差によるゴ
ーストや迷光が多く、又作成に要する時間が桁違いに長
いだめ製造コストが高くなる。又、後者はホログラフィ
ック露光法によシ、これら機械切りの欠点を改善してい
るがリストオフが非常に困：難である。
軟Ｘ線用透過型回折格子、軟Ｘ線用フレネルゾーンフレ
ートを作成する場合、ホログラフィク露光法で作成した
レジストパターンをマスクにしてイオンエツチングで第
２層のＡｕの薄膜層に置キ換える方法があるが、この場
合、Ａｕ薄膜に転写されたパターンの断面形状が矩形状
にならず、又Ａｕ−膜を厚く出来ないことが欠点として
上げられる。又、Ｘ線を利用してＡｕのパターンをマス
クとし断面形状が矩形状のものに転写する方法では、マ
スクの製造自体が非常に難しいと同時に大規模なＸ線露
光装置が必要である。又電子ビームでレジストにパター
ンを直接描画し、リフトオフした後、それをマスクとし
て第２層をイオンエツチングニよりアスペクト比の高い
パターンに変換する方法では、電子ビームの位置合せ精
り描画時間、製作工程の複雑さなどに多くの間題がある
。
ートを作成する場合、ホログラフィク露光法で作成した
レジストパターンをマスクにしてイオンエツチングで第
２層のＡｕの薄膜層に置キ換える方法があるが、この場
合、Ａｕ薄膜に転写されたパターンの断面形状が矩形状
にならず、又Ａｕ−膜を厚く出来ないことが欠点として
上げられる。又、Ｘ線を利用してＡｕのパターンをマス
クとし断面形状が矩形状のものに転写する方法では、マ
スクの製造自体が非常に難しいと同時に大規模なＸ線露
光装置が必要である。又電子ビームでレジストにパター
ンを直接描画し、リフトオフした後、それをマスクとし
て第２層をイオンエツチングニよりアスペクト比の高い
パターンに変換する方法では、電子ビームの位置合せ精
り描画時間、製作工程の複雑さなどに多くの間題がある
。
八日的
本発明はラメラ−回折格子、透過型回折格子。
フレネルゾーンプレート等を作成するに要する時間を短
縮させると同時に、製作に必要な装置を単純化し、よシ
低コストでしかも高い性能をもった上記各素子を作成す
る方法に関する。
縮させると同時に、製作に必要な装置を単純化し、よシ
低コストでしかも高い性能をもった上記各素子を作成す
る方法に関する。
二・構成
本発明は基板上に波長感度の異なる２層のレジスト層を
形成し、表層側の第１層のレジストに第２層のレジスト
には感光しない波長の光を用い、ホログラフィック露光
を行って、断面形状が正弦波の正の部分だけからなるよ
うなパターンを形成し、次にこのパターンを上記第１層
のレジストヲ透過しない波長の光で第２層に転写し、断
面形状が所要の矩形状のパターンを形成することを特徴
とする微細ノミターンの製造方法である。
形成し、表層側の第１層のレジストに第２層のレジスト
には感光しない波長の光を用い、ホログラフィック露光
を行って、断面形状が正弦波の正の部分だけからなるよ
うなパターンを形成し、次にこのパターンを上記第１層
のレジストヲ透過しない波長の光で第２層に転写し、断
面形状が所要の矩形状のパターンを形成することを特徴
とする微細ノミターンの製造方法である。
ホ・実施例
以下図面に基づいて説明する。
代表的なりＥＥＰＵＶ（波長２０００ ＡＯ以下の紫外
線）レジス） ＰＭＭＡは波長２５０ｎｍ以下の短波長
の紫外線によシ感光するが、それより長波長側の光に対
しては全く感光しない。他方第１図は代表的なフオトレ
ジス）ＡＺ１３５０Ｊの分光透過率を示している。これ
によるとＡＺ１３５０Ｊの場合２４Ｏｎｍ付近から５０
０ｎｍ付近まで感度を持ってい谷が、２４０ｎｍ以下の
波長の光は全く透過しないことがわかる。これらの特性
を利用して第２図ａに示すように、第２層２にＰＭＭＡ
を用いその上の第１層にＡＺ１３５０Ｊをスピナーで塗
布した基板３にたとえばＨｅ−Ｃｄレーザの光（波長人
−４４１・６層ｍ）によりホログラフィック露光で第１
層のＡＺ１３５０Ｊのレジスト上に必要なパターンを作
成する（第２図ｂ）っこのパターンの断面は露光量及び
現像処理を適当にして正弦波の正の部分だけからなるよ
うな形状にしであるがこのレジストパターンをマスクと
して波長２４０ｎｍ以下の光、たとえば水銀ランプなど
を光源に用いて一様に照射することによシ、ＰＭＭＡＣ
Ｉ第２層２Ｃ１上ＫＡ Ｚ １３５ ＯＪ上ニ形成され
たパターンを転写することができる。この工程によシ波
長２４０ｎｍ以下の先はＡＺ１３５ＪＯＪの部分は透過
せず、又、ＰＭＭＡとＡＺ１３５０Ｊの間は完全な密着
状態であるため、回折の影響は小さくなシ第２層ＰＭＭ
Ａの薄膜上に矩形断面形状を持ったパターンが正しく転
写される。
線）レジス） ＰＭＭＡは波長２５０ｎｍ以下の短波長
の紫外線によシ感光するが、それより長波長側の光に対
しては全く感光しない。他方第１図は代表的なフオトレ
ジス）ＡＺ１３５０Ｊの分光透過率を示している。これ
によるとＡＺ１３５０Ｊの場合２４Ｏｎｍ付近から５０
０ｎｍ付近まで感度を持ってい谷が、２４０ｎｍ以下の
波長の光は全く透過しないことがわかる。これらの特性
を利用して第２図ａに示すように、第２層２にＰＭＭＡ
を用いその上の第１層にＡＺ１３５０Ｊをスピナーで塗
布した基板３にたとえばＨｅ−Ｃｄレーザの光（波長人
−４４１・６層ｍ）によりホログラフィック露光で第１
層のＡＺ１３５０Ｊのレジスト上に必要なパターンを作
成する（第２図ｂ）っこのパターンの断面は露光量及び
現像処理を適当にして正弦波の正の部分だけからなるよ
うな形状にしであるがこのレジストパターンをマスクと
して波長２４０ｎｍ以下の光、たとえば水銀ランプなど
を光源に用いて一様に照射することによシ、ＰＭＭＡＣ
Ｉ第２層２Ｃ１上ＫＡ Ｚ １３５ ＯＪ上ニ形成され
たパターンを転写することができる。この工程によシ波
長２４０ｎｍ以下の先はＡＺ１３５ＪＯＪの部分は透過
せず、又、ＰＭＭＡとＡＺ１３５０Ｊの間は完全な密着
状態であるため、回折の影響は小さくなシ第２層ＰＭＭ
Ａの薄膜上に矩形断面形状を持ったパターンが正しく転
写される。
その後、このパターンのＡＺ１３５０Ｊ部分を適当な溶
剤（アセトン）や、ｏ２プラズマで除去し蒸着すること
により、ラメラ−回折格子が作成する。その溝の深さは
、ＰＭＭＡを塗布する際のスピナーの回転数を調節する
ことで容易に行える。
剤（アセトン）や、ｏ２プラズマで除去し蒸着すること
により、ラメラ−回折格子が作成する。その溝の深さは
、ＰＭＭＡを塗布する際のスピナーの回転数を調節する
ことで容易に行える。
又Ａｕ軟Ｘ線用透過型回折格子、Ａｕ軟Ｘ線用フレネル
ゾーンプレートを作成する場合、Ａｕの膜厚を厚くする
ことが、必要である。この場合第３図の様にＳｉ基板３
上にＡｕ５を蒸着した後、第２層のｐＭＭＡ層２を厚く
塗布した上に第２層のＡＺ１３５ＯＪ層ｌを塗布する（
第３図ａ）。
ゾーンプレートを作成する場合、Ａｕの膜厚を厚くする
ことが、必要である。この場合第３図の様にＳｉ基板３
上にＡｕ５を蒸着した後、第２層のｐＭＭＡ層２を厚く
塗布した上に第２層のＡＺ１３５ＯＪ層ｌを塗布する（
第３図ａ）。
これをラメラ−回折格子の場合と同様にし、ＰＭメッキ
した後ＰＭＭＡをトリクロルエチレンで除去することに
よシ、Ａｕ層の厚いパターンが作成できる（第３図ｄ）
。最後にＡｒイオンビームエツチングで全体にＡｕをけ
ずった後Ｓｉ基板３をＨＦ＋ＨＮ、０３あるいはＫＯＨ
で除去する（第。
した後ＰＭＭＡをトリクロルエチレンで除去することに
よシ、Ａｕ層の厚いパターンが作成できる（第３図ｄ）
。最後にＡｒイオンビームエツチングで全体にＡｕをけ
ずった後Ｓｉ基板３をＨＦ＋ＨＮ、０３あるいはＫＯＨ
で除去する（第。
図ｅ）。
もちろんラメラ−回折格子を軟Ｘ線用透過型回折格子、
軟Ｘ線用及びフレネルゾーンプレート以外の場合であっ
てもホログラフィック露光法で作成された正弦波状のパ
ターンを矩形断面状に変換する場合には同じ効果が期待
できる。
軟Ｘ線用及びフレネルゾーンプレート以外の場合であっ
てもホログラフィック露光法で作成された正弦波状のパ
ターンを矩形断面状に変換する場合には同じ効果が期待
できる。
へ・効果
以上、説明した様に本発明によれば、ホログラフィック
露光法を用いて、Ａｕの厚みが厚く、断面形状が矩形型
の微細パターンを持った効率の高いラメラ−回折格子、
軟Ｘ線用透過型回折格子。
露光法を用いて、Ａｕの厚みが厚く、断面形状が矩形型
の微細パターンを持った効率の高いラメラ−回折格子、
軟Ｘ線用透過型回折格子。
軟Ｘ線用フレネルゾーンプレー１・等を性能を損う−こ
となく安価に製作できるメリットがある。
となく安価に製作できるメリットがある。
第１図は代表的ガフオドレジストの分光透過率曲線、第
２図は本発明をラメラ−回折格子に応用した実施例の工
程各段の試料断面図、第３図３は本発明を軟Ｘ線用透過
型回折格子、軟Ｘ線用フレネルゾーンプレートに応用し
た実施例の工程各段の試料断面図である。 １・・・第１層、２・・・第２層、３・・・基板。 代理人 弁理士 軽 浩 介 皆１図 ２６“− 究３凶
２図は本発明をラメラ−回折格子に応用した実施例の工
程各段の試料断面図、第３図３は本発明を軟Ｘ線用透過
型回折格子、軟Ｘ線用フレネルゾーンプレートに応用し
た実施例の工程各段の試料断面図である。 １・・・第１層、２・・・第２層、３・・・基板。 代理人 弁理士 軽 浩 介 皆１図 ２６“− 究３凶
Claims (1)
- （１）基板上に波長感度の異なる２層のレジストを形成
シ、第一層のレジストに、第２層のレジストには感光し
ない波長の光を用い、ホログラフインク露光を行い、断
面形状が正弦波の正の部分だけからなるような〜パター
ンを形成し、次にこのパターンを第一層のレジストを透
過しない波長の光で（２）上記第１項で第２層のレジス
トを厚く塗布することにより第１項の断面形状を特徴に
持ち、かつアスペクト比の大きいパターンに交換するこ
とを特徴とする微細パターンの製作法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8735984A JPS60230650A (ja) | 1984-04-30 | 1984-04-30 | 微細パタ−ンの製作法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8735984A JPS60230650A (ja) | 1984-04-30 | 1984-04-30 | 微細パタ−ンの製作法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60230650A true JPS60230650A (ja) | 1985-11-16 |
Family
ID=13912692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8735984A Pending JPS60230650A (ja) | 1984-04-30 | 1984-04-30 | 微細パタ−ンの製作法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60230650A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63151920A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム |
| US6727046B1 (en) * | 2000-07-29 | 2004-04-27 | Zbd Displays Limited | Process for making a periodic profile |
| US7479354B2 (en) * | 1992-11-27 | 2009-01-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram recording sheet, holographic optical element using said sheet, and its production process |
| CN107678172A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学器件的热压式制作方法 |
| CN107678174A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学微结构及其履带式运动方法 |
| CN107678173A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 用于激光散斑抑制的柔性变角度阵列衍射光学器件 |
| CN107678171A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种基于柔性变角度阵列衍射光学器件的激光散斑抑制方法 |
| CN107678170A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学器件的实现系统 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53122441A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-25 | Canon Inc | Real image observation method of total reflection hologram |
| JPS5651738A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | Minute pattern forming method |
| JPS58153932A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 写真蝕刻方法 |
-
1984
- 1984-04-30 JP JP8735984A patent/JPS60230650A/ja active Pending
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| JPS53122441A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-25 | Canon Inc | Real image observation method of total reflection hologram |
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| JPS58153932A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 写真蝕刻方法 |
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| JPS63151920A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム |
| US7479354B2 (en) * | 1992-11-27 | 2009-01-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram recording sheet, holographic optical element using said sheet, and its production process |
| US7727680B2 (en) * | 1992-11-27 | 2010-06-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram recording sheet, holographic optical element using said sheet, and its production process |
| US6727046B1 (en) * | 2000-07-29 | 2004-04-27 | Zbd Displays Limited | Process for making a periodic profile |
| CN107678172A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学器件的热压式制作方法 |
| CN107678174A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学微结构及其履带式运动方法 |
| CN107678173A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 用于激光散斑抑制的柔性变角度阵列衍射光学器件 |
| CN107678171A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种基于柔性变角度阵列衍射光学器件的激光散斑抑制方法 |
| CN107678170A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-09 | 浙江工业大学 | 一种柔性变角度阵列衍射光学器件的实现系统 |
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