JPS63151920A - Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム - Google Patents
Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムInfo
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- JPS63151920A JPS63151920A JP29759486A JP29759486A JPS63151920A JP S63151920 A JPS63151920 A JP S63151920A JP 29759486 A JP29759486 A JP 29759486A JP 29759486 A JP29759486 A JP 29759486A JP S63151920 A JPS63151920 A JP S63151920A
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- laser light
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- hologram
- scanning
- hologram pattern
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- Pending
Links
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、火炎、噴煙等を含む悪環境下で、物体把握を
行なう場合に用いるＣαレーザー光走査用ホログラムに
関するものである。
行なう場合に用いるＣαレーザー光走査用ホログラムに
関するものである。
従来の技術
火炎、噴煙等を含む悪環境下では、現在の監視用ＴＶ等
では、物体把握ができない。一方、ＣＯ２レーザー光は
、空気伝播特性に優れ、煙等も透過する。
では、物体把握ができない。一方、ＣＯ２レーザー光は
、空気伝播特性に優れ、煙等も透過する。
通常、ＣＯル−ザー光の偏光方式としては、Ｘ、Ｙに回
転、偏位するガルバノミラ−を用いている。
転、偏位するガルバノミラ−を用いている。
発明が解決しようとする問題点
しかし、上記従来例のよう（こ、ガルバノミラ−を用い
る偏光方式では、正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越
し走査を高速で行なうことができない。一方、ＣＯ２レ
ーザー光のホログラフィックスキャナーの検討が行なわ
れているが、ＣＯ２レーザー光に適した感光材料がなく
、ホログラムパターンを形成することができない。
る偏光方式では、正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越
し走査を高速で行なうことができない。一方、ＣＯ２レ
ーザー光のホログラフィックスキャナーの検討が行なわ
れているが、ＣＯ２レーザー光に適した感光材料がなく
、ホログラムパターンを形成することができない。
そこで本発明者等は種々研究した結果、ＣＯ２レーザー
光を感光体に当てることなく、従ってＣＯ鵞レしザー光
に適した感光体を要することなく、ＣＯ鵞レしザー光走
査用ホログラムの製造方法を完成し、これに基づきＣＯ
ｊレーザー光の正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越し
走査を高速に行なうことができるＣＯ２レーザー光走査
用ホログラムを提供しようとするものである。
光を感光体に当てることなく、従ってＣＯ鵞レしザー光
に適した感光体を要することなく、ＣＯ鵞レしザー光走
査用ホログラムの製造方法を完成し、これに基づきＣＯ
ｊレーザー光の正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越し
走査を高速に行なうことができるＣＯ２レーザー光走査
用ホログラムを提供しようとするものである。
問題点を解決するための手段
そして、上記問題点を解決するだめの本発明の技術的な
手段は、ＣＯ２レーザー光の透過性を有する材料（二よ
り形成され、両面が研摩された基板と、この基板の一方
の面に形成され、薄膜よりなるＣＯ意レしザー光走査用
ホログラムパターンとを有するものである。
手段は、ＣＯ２レーザー光の透過性を有する材料（二よ
り形成され、両面が研摩された基板と、この基板の一方
の面に形成され、薄膜よりなるＣＯ意レしザー光走査用
ホログラムパターンとを有するものである。
作 用
上記技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、ＣＯ寓レしザー光の任意の走査方向、走査幅
選択、飛越し走査を高速で行なうことができ、現在の監
視用ＴＶ等で物体把握できない火炎、噴煙を含む悪環境
下において、正確で、高速な状況把握ができる。
選択、飛越し走査を高速で行なうことができ、現在の監
視用ＴＶ等で物体把握できない火炎、噴煙を含む悪環境
下において、正確で、高速な状況把握ができる。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。第１図（ａ）、（ｂｌは本発明の一実施例におけるＣ
Ｏ！レーザー光走査用ホログラムを示し、同図ｆａ）は
平面図、同図（ｂｌは正面図である。
。第１図（ａ）、（ｂｌは本発明の一実施例におけるＣ
Ｏ！レーザー光走査用ホログラムを示し、同図ｆａ）は
平面図、同図（ｂｌは正面図である。
第１図（ａｌ、（ｂｌに示すようにＣＯ３レーザー光の
透過性（二優れた材料であるＺｎ５ｅ、 Ｋｃｌｌ
ゲルマニウム等よりなる基板１はその両面が研摩され、
この基板１の一方の面にアルミ薄膜よりなるＣｏ３レー
ザ一光ｔｆ用ホログラムパターン２が形成されている。
透過性（二優れた材料であるＺｎ５ｅ、 Ｋｃｌｌ
ゲルマニウム等よりなる基板１はその両面が研摩され、
この基板１の一方の面にアルミ薄膜よりなるＣｏ３レー
ザ一光ｔｆ用ホログラムパターン２が形成されている。
次（二上記ＣＯ３レーザー光走査用ホログラムの製造方
法について説明する。
法について説明する。
第２図（ａｔに示すようにまず、用紙３（−計算機シ、
ミュレーションによりＣＯ霊レしザー光を任意の走査方
向、走査幅に偏光するためのネガとなるホログラムパタ
ーン（干渉縞）４をプロッタ出力する。
ミュレーションによりＣＯ霊レしザー光を任意の走査方
向、走査幅に偏光するためのネガとなるホログラムパタ
ーン（干渉縞）４をプロッタ出力する。
次に第２図（ｂｌに示すようにガラス基板５上に上記Ｃ
Ｏ宜レーザーホログラムパターン４を写真撮影して縮小
したホログラムパターン６を形成する。一方、ＣＯ−レ
ーザーの透過性の良いＺｎ５ｅ、 Ｋｃｌ、ゲルマニウ
ム等の材料よりなる基板１上に感光体８を塗布して乾燥
する。次にガラス基板５の上方より紫外線１０（二より
露光し、ガラス基板５の透過部（二対窓する感光部８ａ
とホログラムパターン６１：対応する未感光部８ｂを得
る。次にこの現像を行ない、第２図（Ｃ）（−示すよう
に現像液により感光部８ａを除去し、基板１上に未感光
部８ｂを残す。
Ｏ宜レーザーホログラムパターン４を写真撮影して縮小
したホログラムパターン６を形成する。一方、ＣＯ−レ
ーザーの透過性の良いＺｎ５ｅ、 Ｋｃｌ、ゲルマニウ
ム等の材料よりなる基板１上に感光体８を塗布して乾燥
する。次にガラス基板５の上方より紫外線１０（二より
露光し、ガラス基板５の透過部（二対窓する感光部８ａ
とホログラムパターン６１：対応する未感光部８ｂを得
る。次にこの現像を行ない、第２図（Ｃ）（−示すよう
に現像液により感光部８ａを除去し、基板１上に未感光
部８ｂを残す。
次に第２図（ｄｌに示すように基板１上と未感光部８ｂ
上にアルミ薄膜９を蒸着により形成し、形成後、未感光
部８ｂをその上面のアルミ薄膜９と共（二基板１より剥
離し、第２図（ｅ）に示すように基板１上（＝アルミ薄
膜（二よるＣＯｓレーザー走査用ホログラムパターン２
を形成することができる（第１１３（ａ）、（ｂｌ参照
）。
上にアルミ薄膜９を蒸着により形成し、形成後、未感光
部８ｂをその上面のアルミ薄膜９と共（二基板１より剥
離し、第２図（ｅ）に示すように基板１上（＝アルミ薄
膜（二よるＣＯｓレーザー走査用ホログラムパターン２
を形成することができる（第１１３（ａ）、（ｂｌ参照
）。
このような製造方法によりＣＯ！レーザー光を感光体に
当てることなく、従ってＣＯ２レーザー光に適した感光
体を要することなくＣＯ，レーザー光走食用ホログラム
を得ることができる。
当てることなく、従ってＣＯ２レーザー光に適した感光
体を要することなくＣＯ，レーザー光走食用ホログラム
を得ることができる。
なお、上記製造方法では、ネガとなるホログラムパター
ン４をプロッタ出力するようにしているが、リフトオフ
工法におけるレジスタの選択によリボジとなるホログラ
ムパターン４をプロッタ出力することもできる。
ン４をプロッタ出力するようにしているが、リフトオフ
工法におけるレジスタの選択によリボジとなるホログラ
ムパターン４をプロッタ出力することもできる。
発明の効果
以上述べたように本発明（＝よれば、ｃｏ！ｏ−レーザ
ー光過性を有する材料により形成され、両面が研摩され
た基板の一方の面に薄膜よりなるＣＯ８レーザー光走査
用ホログラムパターンを形成しているので、ＣＯｓレー
ザー光の正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越し走査を
高速に行なうことができ、火炎、噴煙等を含む悪環境下
での物体把握を正確に、かつ高速に行なうことができる
。
ー光過性を有する材料により形成され、両面が研摩され
た基板の一方の面に薄膜よりなるＣＯ８レーザー光走査
用ホログラムパターンを形成しているので、ＣＯｓレー
ザー光の正確な偏光、偏光幅の任意選択、飛越し走査を
高速に行なうことができ、火炎、噴煙等を含む悪環境下
での物体把握を正確に、かつ高速に行なうことができる
。
第１図（ａｌ、（ｂ）はそれぞれ本発明の一実施例にお
けるＣＯ８レーザー光走査用ホログラムを示し、同図（
ａｌは平面図、同図（ｂ）は正面図、第２図（ａ）〜（
ｅｌはその製造方法の説明図である。 １・・・基板、２・・・ＣＯ！レーザー光走査用ホログ
ラムパターン。 特許出願人 工業技術院長 飯 塚 幸 三第１図 第２１
けるＣＯ８レーザー光走査用ホログラムを示し、同図（
ａｌは平面図、同図（ｂ）は正面図、第２図（ａ）〜（
ｅｌはその製造方法の説明図である。 １・・・基板、２・・・ＣＯ！レーザー光走査用ホログ
ラムパターン。 特許出願人 工業技術院長 飯 塚 幸 三第１図 第２１
Claims (1)
- ＣＯ＿２レーザー光の透過性を有する材料により形成さ
れ、両面が研摩された基板と、この基板の一方の面に形
成され、薄膜よりなるＣＯ＿２レーザー光走査用ホログ
ラムパターンとを有することを特徴とするＣＯ＿２レー
ザー光走査用ホログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29759486A JPS63151920A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29759486A JPS63151920A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63151920A true JPS63151920A (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=17848577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29759486A Pending JPS63151920A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63151920A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524853A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-14 | Xerox Corp | Method of and apparatus for light flux scanning |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
| JPS60230650A (ja) * | 1984-04-30 | 1985-11-16 | Shimadzu Corp | 微細パタ−ンの製作法 |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP29759486A patent/JPS63151920A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524853A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-14 | Xerox Corp | Method of and apparatus for light flux scanning |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
| JPS60230650A (ja) * | 1984-04-30 | 1985-11-16 | Shimadzu Corp | 微細パタ−ンの製作法 |
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