JPS63151919A - Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 - Google Patents
Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法Info
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- JPS63151919A JPS63151919A JP29759386A JP29759386A JPS63151919A JP S63151919 A JPS63151919 A JP S63151919A JP 29759386 A JP29759386 A JP 29759386A JP 29759386 A JP29759386 A JP 29759386A JP S63151919 A JPS63151919 A JP S63151919A
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- hologram
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Links
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、火炎、噴煙等を含む悪環境下で、物体把握を
行なう場合に用いるＣＯ，レーザー光走査用ホログラム
の製造方法て関するものである。
行なう場合に用いるＣＯ，レーザー光走査用ホログラム
の製造方法て関するものである。
従来の技術
ＣＯ，レーザー光走査用ホログラムの製造方法について
は、他のレーザー光走査用ホログラムと同様に、感光体
に２方向からＣＯ，レーザー光を当て、発生する干渉縞
パターンを感光体に記録させる方法が考えられている。
は、他のレーザー光走査用ホログラムと同様に、感光体
に２方向からＣＯ，レーザー光を当て、発生する干渉縞
パターンを感光体に記録させる方法が考えられている。
発明が解決しようとする問題点
しかし、上記従来の製造方法では、ＣＯ，レーザーに適
した感光体が必要であるが、現在のところ、それは無く
、ＣＯ，レーザー光のホログラムパターンを形成するこ
とができな（・。
した感光体が必要であるが、現在のところ、それは無く
、ＣＯ，レーザー光のホログラムパターンを形成するこ
とができな（・。
本発明は、上記従来例の問題点を解決するものであり、
ＣＯ，レーザー光を感光体に当てることなく、従ってＣ
Ｏ２レーザー光に適した感光体を要することなく製造す
ることができるようにしたＣＯ。
ＣＯ，レーザー光を感光体に当てることなく、従ってＣ
Ｏ２レーザー光に適した感光体を要することなく製造す
ることができるようにしたＣＯ。
レーザー光走査用ホログラムの製造方法を提供しようと
するものである。
するものである。
問題点を解決するための手段
そして、上記問題点を解決するための本発明の技術的な
手段は、計算機シミュレーションによりＣＯ，レーザー
光を任意の走置方向、走査幅に偏光するためのホログラ
ムパターンをプロッタ出力し、このホログラムパターン
を写真撮影により縮小し。
手段は、計算機シミュレーションによりＣＯ，レーザー
光を任意の走置方向、走査幅に偏光するためのホログラ
ムパターンをプロッタ出力し、このホログラムパターン
を写真撮影により縮小し。
この縮小したホログラムパターンに基づきＣＯ，レーザ
ー光の透過性を有する材料よりなり、その両面が研摩さ
れた基板の一方の面にリフトオフ工法により薄膜を用い
てホログラムパターンを形成するものである。
ー光の透過性を有する材料よりなり、その両面が研摩さ
れた基板の一方の面にリフトオフ工法により薄膜を用い
てホログラムパターンを形成するものである。
作 用
上記技術的手段による作用は次のようになる。
すなわち、ＣＯ，レーザー光を感光体に当てることなく
、ＣＯ２レーザー光走査用ホログラムを製造することが
でき、これを使用することにより、ＣＯ，レーザー光の
任意の走査方向、走査幅選択、飛越し走査を高速で行な
うことが可能となり、現在の監視用ＴＶ等で物体把握で
きない、火炎、噴煙を含む悪環境下において、正確で高
速な状況把握ができる。
、ＣＯ２レーザー光走査用ホログラムを製造することが
でき、これを使用することにより、ＣＯ，レーザー光の
任意の走査方向、走査幅選択、飛越し走査を高速で行な
うことが可能となり、現在の監視用ＴＶ等で物体把握で
きない、火炎、噴煙を含む悪環境下において、正確で高
速な状況把握ができる。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。第１図（ａｌ〜（６１は本発明の一実施例におけるＣ
Ｏ，レーザー光走査用ホログラムの製造方法を示し、第
２図（ａｌ、（ｂｌは本発明の製造方法により製造した
ＣＯ２レーザー光走査用ホログラムを示す。
。第１図（ａｌ〜（６１は本発明の一実施例におけるＣ
Ｏ，レーザー光走査用ホログラムの製造方法を示し、第
２図（ａｌ、（ｂｌは本発明の製造方法により製造した
ＣＯ２レーザー光走査用ホログラムを示す。
第１［Ｐｌ（ａｌに示すように、まず、用紙１に計算機
シミュレーションによりＣＯ，レーザー光を任意の走査
方向、走査幅に偏光するためのネガとなるホロクラムパ
ターン（干渉縞）２をプロッタ出カスる。次に第１図（
ｂ）〜ｔｅ＋に示すように上記ホログラムパターン２を
写真撮影して縮小したネガとなるホログラムパターンに
基づき、ＣＯ，レーザー光の透過性に優れた材料よりな
り、その両面を研摩した基板の一方に面にリフトオフ工
法により薄膜を甲いてホログラムパターンを形成する。
シミュレーションによりＣＯ，レーザー光を任意の走査
方向、走査幅に偏光するためのネガとなるホロクラムパ
ターン（干渉縞）２をプロッタ出カスる。次に第１図（
ｂ）〜ｔｅ＋に示すように上記ホログラムパターン２を
写真撮影して縮小したネガとなるホログラムパターンに
基づき、ＣＯ，レーザー光の透過性に優れた材料よりな
り、その両面を研摩した基板の一方に面にリフトオフ工
法により薄膜を甲いてホログラムパターンを形成する。
このリフトオフ工法の詳細について説明すると、まず、
第１図ｆｂｌに示すようにガラス基板３上に上記ＣＯｔ
レーザーホログラムパターン２を写真撮影して縮小した
ホログラムパターン４を形成する。一方、ＣＯ，レーザ
ー光の透過性の良いＺｎ５ｅ ％Ｋｃｔ１ゲルマニウム
等の材料よりなる基板５上に感光体６を塗布して乾燥す
る。次にガラス基板３の上方よシ紫外線８によ如露光し
、ガラス基板３の透過部に対応する感光部６ａとホログ
ラムパターン４に対応する未感光部６ｂを得る。次にこ
の現像を行ない、第１図（ｃ）に示すように現像液によ
り露光部６ａを除去し、基板５上に未感光部６ｂを残す
。
第１図ｆｂｌに示すようにガラス基板３上に上記ＣＯｔ
レーザーホログラムパターン２を写真撮影して縮小した
ホログラムパターン４を形成する。一方、ＣＯ，レーザ
ー光の透過性の良いＺｎ５ｅ ％Ｋｃｔ１ゲルマニウム
等の材料よりなる基板５上に感光体６を塗布して乾燥す
る。次にガラス基板３の上方よシ紫外線８によ如露光し
、ガラス基板３の透過部に対応する感光部６ａとホログ
ラムパターン４に対応する未感光部６ｂを得る。次にこ
の現像を行ない、第１図（ｃ）に示すように現像液によ
り露光部６ａを除去し、基板５上に未感光部６ｂを残す
。
次に第７図（ｄ）に示すように基板５上と未感光部６ｂ
上にアルミ薄膜７を蒸着によシ形成し、形成後、未感光
部６ｂをその上面のアルミ薄膜７と共に基板５より剥離
し、第１図（ｅ）に示すように基板５上にアルミ薄膜に
よるＣＯ□レーザー光走査用ホログラムパターン７ａを
形成することができる。第２図（ａ）、（ｂ）はそれぞ
れ基板５上にアルミ薄膜によるＣＯ２レーザー光走査用
ホログラム・くターｙ７ａが形成された状態を示す平面
図、正面図を示しつるｇなお、上記実施例では、ネガと
なるホログラムパターン２をプロッタ出力するようにし
ているが、リフトオフ工法におけるレジスタの選択によ
シポジとなるホログラムパターン２をプロッタ出力する
こともできる０ 発明の効果 以上述べたように、本発明によれば、計算機シミュレー
ションによりＣＯ，レーザー光を任意の走査方向走査幅
に偏光するためのホログラムパターンをプロッタ出力し
、このホログラムパターンを写真撮影により縮小し、こ
の縮小したホログラムパターンに基づきＣＯ２レーザー
光の透過性を有する材料よりなり、その両面が研摩され
た基板の一方の面にリフトオフ工法により薄膜を用いて
ホログラムパターンを形成するようにしているので。
上にアルミ薄膜７を蒸着によシ形成し、形成後、未感光
部６ｂをその上面のアルミ薄膜７と共に基板５より剥離
し、第１図（ｅ）に示すように基板５上にアルミ薄膜に
よるＣＯ□レーザー光走査用ホログラムパターン７ａを
形成することができる。第２図（ａ）、（ｂ）はそれぞ
れ基板５上にアルミ薄膜によるＣＯ２レーザー光走査用
ホログラム・くターｙ７ａが形成された状態を示す平面
図、正面図を示しつるｇなお、上記実施例では、ネガと
なるホログラムパターン２をプロッタ出力するようにし
ているが、リフトオフ工法におけるレジスタの選択によ
シポジとなるホログラムパターン２をプロッタ出力する
こともできる０ 発明の効果 以上述べたように、本発明によれば、計算機シミュレー
ションによりＣＯ，レーザー光を任意の走査方向走査幅
に偏光するためのホログラムパターンをプロッタ出力し
、このホログラムパターンを写真撮影により縮小し、こ
の縮小したホログラムパターンに基づきＣＯ２レーザー
光の透過性を有する材料よりなり、その両面が研摩され
た基板の一方の面にリフトオフ工法により薄膜を用いて
ホログラムパターンを形成するようにしているので。
ＣＯｔレーザー光を感光体に当てることなく、従ってＣ
ｏｔｏ−レーザー光した感光体を要することな（製造す
ることができる。そしてこのようにした製造したＣＯ！
レーザー光走査用ホログラムを使用することにより従来
の監視用ＴＶで困難であった火炎、噴煙を含む悪環境下
においても、正確で高速な物体把拶が可能になる。
ｏｔｏ−レーザー光した感光体を要することな（製造す
ることができる。そしてこのようにした製造したＣＯ！
レーザー光走査用ホログラムを使用することにより従来
の監視用ＴＶで困難であった火炎、噴煙を含む悪環境下
においても、正確で高速な物体把拶が可能になる。
第１図（ａｌ〜（ｅｌは本発明の一実施例におけるＣＯ
ｔレーザー光走査用ホログラムの製造方法を示し、第ｘ
ｌｌＵｌ（ａｌは計算様シミュレーションにより用紙に
Ｃｏ２レーザーホログラムパターンをプロッタ出力した
状態を示す平面図、第１図山）〜（ｅ）はリフトオフ工
法によりホログラムパターンを基板上に形成する工程を
示す断面図、第２図（ａ）、（ｂ）はそれぞれ基板上に
ホログラムパターンを形成したＣＯ□レーザー走査用ホ
ログラムの平面図、正面図である。 １・・・用紙、２・・・ホログラムパターン、３・・・
ガラス基板、４・・・縮小したホログラムパターン、５
・・・基板、６・・・感光体、６ａ・・・感光部、６ｂ
・・・未感光部、７・・・アルミ薄膜、７ａ・・・ＣＯ
□レーザー光走査用ホロクラムパターン、８・・・紫外
線。 特許出願人 工業技術院長 飯 塚 幸 三第１図
ｔレーザー光走査用ホログラムの製造方法を示し、第ｘ
ｌｌＵｌ（ａｌは計算様シミュレーションにより用紙に
Ｃｏ２レーザーホログラムパターンをプロッタ出力した
状態を示す平面図、第１図山）〜（ｅ）はリフトオフ工
法によりホログラムパターンを基板上に形成する工程を
示す断面図、第２図（ａ）、（ｂ）はそれぞれ基板上に
ホログラムパターンを形成したＣＯ□レーザー走査用ホ
ログラムの平面図、正面図である。 １・・・用紙、２・・・ホログラムパターン、３・・・
ガラス基板、４・・・縮小したホログラムパターン、５
・・・基板、６・・・感光体、６ａ・・・感光部、６ｂ
・・・未感光部、７・・・アルミ薄膜、７ａ・・・ＣＯ
□レーザー光走査用ホロクラムパターン、８・・・紫外
線。 特許出願人 工業技術院長 飯 塚 幸 三第１図
Claims (1)
- 計算機シミュレーションによりＣＯ＿２レーザー光を任
意の走査方向、走査幅に偏光するためのホログラムパタ
ーンをプロッタ出力し、このホログラムパターンを写真
撮影により縮小し、この縮小したホログラムパターンに
基づき、ＣＯ＿２レーザー光の透過性を有する材料より
なり、その両面が研摩された基板の一方の面にリフトオ
フ工法により薄膜を用いてホログラムパターンを形成す
ることを特徴とするＣＯ＿２レーザー光走査用ホログラ
ムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29759386A JPS63151919A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29759386A JPS63151919A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63151919A true JPS63151919A (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=17848563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29759386A Pending JPS63151919A (ja) | 1986-12-16 | 1986-12-16 | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63151919A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0274916A (ja) * | 1988-09-12 | 1990-03-14 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524853A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-14 | Xerox Corp | Method of and apparatus for light flux scanning |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
-
1986
- 1986-12-16 JP JP29759386A patent/JPS63151919A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS524853A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-14 | Xerox Corp | Method of and apparatus for light flux scanning |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0274916A (ja) * | 1988-09-12 | 1990-03-14 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
| JPH0664256B2 (ja) * | 1988-09-12 | 1994-08-22 | 工業技術院長 | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
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