JPH0274916A - Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 - Google Patents
Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法Info
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- JPH0274916A JPH0274916A JP63226494A JP22649488A JPH0274916A JP H0274916 A JPH0274916 A JP H0274916A JP 63226494 A JP63226494 A JP 63226494A JP 22649488 A JP22649488 A JP 22649488A JP H0274916 A JPH0274916 A JP H0274916A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、火焔、噴煙等を含む悪環境下で、物体を探索
するレーザ視覚センサ等に用いるＣＯ２レーザ光走査用
ホログラムスキャナのＣＯｚ レ−ザ光走査用ホログラ
ムおよびその装填方法に関するものである。
するレーザ視覚センサ等に用いるＣＯ２レーザ光走査用
ホログラムスキャナのＣＯｚ レ−ザ光走査用ホログラ
ムおよびその装填方法に関するものである。
従来の技術
従来、ＣＯｔ レーザ光走査用ホログラムを製作するに
は、計算機シミュレーションによりＣ（ｈレーザを任意
の走査方向に偏向するためのホログラムパターンをブロ
ック出力し、それを写真縮少してフォトマスクを作り、
このフォトマスクを用いてＧｅ、Ｚｎ５ｅ、ＫＣＩ等の
ＣＯ，レーザの透過性の高い材料からなる基板の一方の
面にリフトオフ法により０．１μｍ程度の薄膜で平面的
なホログラムパターンを形成している。
は、計算機シミュレーションによりＣ（ｈレーザを任意
の走査方向に偏向するためのホログラムパターンをブロ
ック出力し、それを写真縮少してフォトマスクを作り、
このフォトマスクを用いてＧｅ、Ｚｎ５ｅ、ＫＣＩ等の
ＣＯ，レーザの透過性の高い材料からなる基板の一方の
面にリフトオフ法により０．１μｍ程度の薄膜で平面的
なホログラムパターンを形成している。
発明が解決しようとする課題
しかし、上記従来の平面的なＣＯ２レーザ光走査用ホロ
グラムでは、ＣＯ２レーザ光の偏向後の利用効率がおよ
そ５％程度と低く、火焔、噴煙を含む悪環境下において
、レーザ光量が不足し、正確に、かつ高速に物体を把握
することが困難であった。
グラムでは、ＣＯ２レーザ光の偏向後の利用効率がおよ
そ５％程度と低く、火焔、噴煙を含む悪環境下において
、レーザ光量が不足し、正確に、かつ高速に物体を把握
することが困難であった。
本発明は、上記従来例の課題を解決するもので、ＣＯ□
レーザ光の利用効率を向上させることができるようにし
たＣＯ□レーザ光走査用ホログラム及びこのＧＯＺ レ
ーザ光走査用ホログラムを容易に製造することができる
ようにした製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
レーザ光の利用効率を向上させることができるようにし
たＣＯ□レーザ光走査用ホログラム及びこのＧＯＺ レ
ーザ光走査用ホログラムを容易に製造することができる
ようにした製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために、本発明のＣ０２レーザ光走
査用ホログラムにおいては、ＣＯ２レーザ光の透過性の
高い材料からなる基板にＣＯ２レーザ光の波長の１／１
０より深い立体的なホログラムパターンを形成したもの
である。
査用ホログラムにおいては、ＣＯ２レーザ光の透過性の
高い材料からなる基板にＣＯ２レーザ光の波長の１／１
０より深い立体的なホログラムパターンを形成したもの
である。
また、本発明によるＣｏ２レーザ光走査用ホログラムの
製造方法においては、ＣＯｚ レーザ光の透過性の高い
材料から成る基板の一方の面にホログラムパターンに対
応して金属薄膜を形成し、この金属薄膜をマスクとして
基板をドライエツチングにより加工して、加工後金属薄
膜マスクを除去して立体的なホログラムパターンを形成
するようにしたものである。
製造方法においては、ＣＯｚ レーザ光の透過性の高い
材料から成る基板の一方の面にホログラムパターンに対
応して金属薄膜を形成し、この金属薄膜をマスクとして
基板をドライエツチングにより加工して、加工後金属薄
膜マスクを除去して立体的なホログラムパターンを形成
するようにしたものである。
また、本発明によるＣＯ□レーザ光走光走査用プロダラ
ムに他の製造方法においては、ＣＯｚレーザ光の透過性
の高い材料から成る基板の一方の面にレジスト膜を形成
し、このレジスト膜をホログラムパターンに対応して制
御された電子ビーム又はイオンビームで走査してレジス
ト膜に直接ホログラムパターンを形成し、その後ドライ
エツチングして立体的なホログラムパターンを形成する
ようにしたものである。
ムに他の製造方法においては、ＣＯｚレーザ光の透過性
の高い材料から成る基板の一方の面にレジスト膜を形成
し、このレジスト膜をホログラムパターンに対応して制
御された電子ビーム又はイオンビームで走査してレジス
ト膜に直接ホログラムパターンを形成し、その後ドライ
エツチングして立体的なホログラムパターンを形成する
ようにしたものである。
作用
本発明のＣＯ□レーザ光走査用ホログラムは、上記のよ
うにＣＯ２レーザ光の波長の１／１０より深い立体的な
ホログラムパターンを形成することにより、Ｃｏｔ レ
ーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善することができ
る。
うにＣＯ２レーザ光の波長の１／１０より深い立体的な
ホログラムパターンを形成することにより、Ｃｏｔ レ
ーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善することができ
る。
また、本発明のＣＯ，レーザ光走査用ホログラムの製造
方法は、金属薄膜マスクによるドライエツチング法、ま
たはビーム加工とドライエツチング法を用いることによ
り、ｃｏ！レーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善し
たＣＯ□レーザ光走査用ホログラムを容易に製造するこ
とができる。
方法は、金属薄膜マスクによるドライエツチング法、ま
たはビーム加工とドライエツチング法を用いることによ
り、ｃｏ！レーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善し
たＣＯ□レーザ光走査用ホログラムを容易に製造するこ
とができる。
実施例
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第１図（ａ）〜（ｅ）は各々本発明の実施例におけるＣ
Ｏ２レーザ光走査用ホログラムを示す断面側面図、第２
図は第１図（ａ）〜（Ｃ）に示したＣＯ□レーザ光走査
用ホログラムの作成に使用されるフォトマスクの平面図
、第３図は本発明におけるＣＯ２レーザ光走査用ホログ
ラムの製造工程図である。
Ｏ２レーザ光走査用ホログラムを示す断面側面図、第２
図は第１図（ａ）〜（Ｃ）に示したＣＯ□レーザ光走査
用ホログラムの作成に使用されるフォトマスクの平面図
、第３図は本発明におけるＣＯ２レーザ光走査用ホログ
ラムの製造工程図である。
先ず、第２図に示すようにガラス基板１上に゛計算機に
より求めたＣＯ２レーザ光走査用ホログラムパターン２
を形成してフォトマスク３を作成する。つぎに、第３図
（ａ）に示すように基板４として、ＣＯ２レーザ光の透
過性の高い材料であるＧｅ。
より求めたＣＯ２レーザ光走査用ホログラムパターン２
を形成してフォトマスク３を作成する。つぎに、第３図
（ａ）に示すように基板４として、ＣＯ２レーザ光の透
過性の高い材料であるＧｅ。
Ｚｎ５ｅ、ＫＣＩ等のうち、例えば、Ｇｅを用い、この
基板４の上にフォトレジスト５を塗布して乾燥させ、そ
の上方に第２図に説明したフォトマスク３を配置して、
フォトマスク３の上方より紫外線６により露光する。露
光後、第３図ら）に示すようにフォトレジスト５の現像
を行い、その後、基板４およびフォトレジスト５の上に
金属薄膜としてアルミ薄膜７を蒸着により形成する。蒸
着後、第３図（Ｃ）に示すようにリフトオフ法によりフ
ォトレジスト５およびその上のアルミ薄膜７を除去する
。これにより、基板４上にアルミ薄膜７によるＣＯ□レ
ーザ光走査用ホログラムパターンを形成することができ
る。このアルミ薄膜７をマスクとして、第３図（ｄ）に
示すように基板４にプラズマ若しくはイオン８によるド
ライエツチング加工、例えばりアクティブイオンエツチ
ング（以下ｔＥと記す）加工を行う。ＲＩＥ加工後、第
３図（ｅ）に示すようにアルミ薄膜７をリン酸により除
去する。
基板４の上にフォトレジスト５を塗布して乾燥させ、そ
の上方に第２図に説明したフォトマスク３を配置して、
フォトマスク３の上方より紫外線６により露光する。露
光後、第３図ら）に示すようにフォトレジスト５の現像
を行い、その後、基板４およびフォトレジスト５の上に
金属薄膜としてアルミ薄膜７を蒸着により形成する。蒸
着後、第３図（Ｃ）に示すようにリフトオフ法によりフ
ォトレジスト５およびその上のアルミ薄膜７を除去する
。これにより、基板４上にアルミ薄膜７によるＣＯ□レ
ーザ光走査用ホログラムパターンを形成することができ
る。このアルミ薄膜７をマスクとして、第３図（ｄ）に
示すように基板４にプラズマ若しくはイオン８によるド
ライエツチング加工、例えばりアクティブイオンエツチ
ング（以下ｔＥと記す）加工を行う。ＲＩＥ加工後、第
３図（ｅ）に示すようにアルミ薄膜７をリン酸により除
去する。
そして、基板４には矩形状等の溝９を形成し、立体的な
ホログラムパターンを形成することができる。
ホログラムパターンを形成することができる。
第１図（ａ）、 （ｂ）、 （Ｃ）に示す実施例では、
それぞれ上記製造法により基板４に立体的ホログラムパ
ターンの断面形状が矩形状（深溝形状）、台形状、三角
形状になるように形成している。そして、パターンのピ
ンチＰを９μｍ、深さｄをＣＯ２レーザ光の波長１０．
６μｍの１／１０以上、好ましくは５〜１０μｍに設定
している。このようにパターンの深さｄをＣＯ□レーザ
光の波長のｌ／１０以上に設定して立体的なパターンと
することにより、ＣＯ□レーザ光偏向後の利用効率を数
１０％以上に大幅に向上させることができる。深さｄが
ＣＯ□レーザ光波長の１．／１０以下であると、ホログ
ラムパターンが平面的になってＣＯ□レーザ光偏向後の
使用効率が１０％以下と小さくなり好ましくない。第１
図（ａ）の断面矩形状に加工するときのＲＩＥ加工条件
は、エツチングガスとして、ＣＦ４ ＋５％０□を３０
ＳＣＣＭ （Ｓｔａｎｄａｒｄ ＣＣｐｅｒ Ｍｉｎｕ
ｔｅの略、１分間当りの流量をＣＣで表したもの。）、
ＣＨＦ：ｌを１１０５ＣＣ用い、真空度７０＋＋＋ｔｏ
ｒｒ、 ＲＦパワー２００Ｗ、加工時間３０分程度であ
る。また、第１図（ｂ）、 （Ｃ）に示すように断面台
形状、三角形状に加工する場合には、主に０２ガス量を
Ｉ ＳＣＣＭ程度ずつ増加させながら形状をコントロー
ルする。
それぞれ上記製造法により基板４に立体的ホログラムパ
ターンの断面形状が矩形状（深溝形状）、台形状、三角
形状になるように形成している。そして、パターンのピ
ンチＰを９μｍ、深さｄをＣＯ２レーザ光の波長１０．
６μｍの１／１０以上、好ましくは５〜１０μｍに設定
している。このようにパターンの深さｄをＣＯ□レーザ
光の波長のｌ／１０以上に設定して立体的なパターンと
することにより、ＣＯ□レーザ光偏向後の利用効率を数
１０％以上に大幅に向上させることができる。深さｄが
ＣＯ□レーザ光波長の１．／１０以下であると、ホログ
ラムパターンが平面的になってＣＯ□レーザ光偏向後の
使用効率が１０％以下と小さくなり好ましくない。第１
図（ａ）の断面矩形状に加工するときのＲＩＥ加工条件
は、エツチングガスとして、ＣＦ４ ＋５％０□を３０
ＳＣＣＭ （Ｓｔａｎｄａｒｄ ＣＣｐｅｒ Ｍｉｎｕ
ｔｅの略、１分間当りの流量をＣＣで表したもの。）、
ＣＨＦ：ｌを１１０５ＣＣ用い、真空度７０＋＋＋ｔｏ
ｒｒ、 ＲＦパワー２００Ｗ、加工時間３０分程度であ
る。また、第１図（ｂ）、 （Ｃ）に示すように断面台
形状、三角形状に加工する場合には、主に０２ガス量を
Ｉ ＳＣＣＭ程度ずつ増加させながら形状をコントロー
ルする。
第４図は本発明の他の実施例におけるＣＯ□レーザ光走
査用ホログラムの製造工程を示す。まず、第４図（ａ）
に示すようにＣＯ□レーサー光の透過性の高い材料とし
て例えばＧｅの基板４の上に、フォトレジスト５を塗布
し、乾燥して、必要な厚さ（５〜１０μｍ）に形成する
。次に、第４図（ｂ）に示すように、フォトレジスト５
が形成された基板４を電子ビーム描画装置内に入れ、電
子ビーム光源１０からの電子ビーム１１を計算機制御し
ながら基板４上のフォトレジスト５を走査し、現像して
、鋸歯状のレジストパターン１２を形成する。つぎに第
４図（Ｃ）に示すように、鋸歯状のレジストパターン１
２を有する基板４に、ＲＩＥやイオンシーリング等のド
ライエツチングを行い、プラズマ又はイオン８のビーム
で、鋸歯状のレジストパターン１２と基板４を加工して
ゆく。こうしてドライエツチング加工によりすべてのレ
ジストパターン１２が除去されるまで加工してゆくと、
第４図（ｄ）に示すように、鋸歯状の立体的なホログラ
ムパターン１３が形成された基板４が得られる。
査用ホログラムの製造工程を示す。まず、第４図（ａ）
に示すようにＣＯ□レーサー光の透過性の高い材料とし
て例えばＧｅの基板４の上に、フォトレジスト５を塗布
し、乾燥して、必要な厚さ（５〜１０μｍ）に形成する
。次に、第４図（ｂ）に示すように、フォトレジスト５
が形成された基板４を電子ビーム描画装置内に入れ、電
子ビーム光源１０からの電子ビーム１１を計算機制御し
ながら基板４上のフォトレジスト５を走査し、現像して
、鋸歯状のレジストパターン１２を形成する。つぎに第
４図（Ｃ）に示すように、鋸歯状のレジストパターン１
２を有する基板４に、ＲＩＥやイオンシーリング等のド
ライエツチングを行い、プラズマ又はイオン８のビーム
で、鋸歯状のレジストパターン１２と基板４を加工して
ゆく。こうしてドライエツチング加工によりすべてのレ
ジストパターン１２が除去されるまで加工してゆくと、
第４図（ｄ）に示すように、鋸歯状の立体的なホログラ
ムパターン１３が形成された基板４が得られる。
第１図（ｄ）はこのようにして得られたＣＯ□レーザ光
走査用ホログラムの横断面図である。
走査用ホログラムの横断面図である。
加工形状は鋸歯状に限らず、第１図（ｅ）のような三角
形状あるいは第３図（ｅ）のような矩形状など種々の形
状が加工可能である。これらはレジストパターン、エツ
チングガスや加工条件を制御して行われる。
形状あるいは第３図（ｅ）のような矩形状など種々の形
状が加工可能である。これらはレジストパターン、エツ
チングガスや加工条件を制御して行われる。
発明の効果
以上述べたように本発明のＣＯｚ レーザ光走査用ホロ
グラムによれば、ＣＯ□レーザ光の透過性の高い材料か
らなる基板にＣＯ２レーザ光の波長の１／１０より深い
立体的なホログラムパターンを形成しているので、ＣＯ
２レーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善することが
できる。したがって、火焔、噴煙を含む悪環境下におい
ても正確に、かつ高速な物体把握が可能になる。
グラムによれば、ＣＯ□レーザ光の透過性の高い材料か
らなる基板にＣＯ２レーザ光の波長の１／１０より深い
立体的なホログラムパターンを形成しているので、ＣＯ
２レーザ光の偏向後の利用効率を大幅に改善することが
できる。したがって、火焔、噴煙を含む悪環境下におい
ても正確に、かつ高速な物体把握が可能になる。
また、本発明のＣＯ□レーザ光走査用ホログラムの製造
方法によれば、リフトオフ法とドライエツチング加工法
を用いることにより、またはビーム加工とドライエツチ
ング加工法を用いることによりＣＯ□レーザ光の偏向後
の利用効率を大幅に改善したＣＯ□レーザ光走査用ホロ
グラムを容易に製造することができる。
方法によれば、リフトオフ法とドライエツチング加工法
を用いることにより、またはビーム加工とドライエツチ
ング加工法を用いることによりＣＯ□レーザ光の偏向後
の利用効率を大幅に改善したＣＯ□レーザ光走査用ホロ
グラムを容易に製造することができる。
第１図（ａ）は本発明の一実施例におけるＣＯｔレーザ
光走査用ホログラムを示す一部断面図、第１図（ｂ）な
いしくｅ）はそれぞれ本発明の他の実施例を示す断面図
、第２図は本発明の一実施例におけるＣｏ２レーザ光走
査用ホログラムの製造方法に使用されるＣＯ□レーザ光
走査用ホログラムパターンを形成したフォトマスクを示
す平面図、第３図（ａ）ないしくｅ）は上記フォトマス
クより立体的なホログラムパターンを形成、する工程を
示す断面図、第４図（ａ）ないしくｄ）は本発明の他の
実施例における立体的なホログラムパターンを形成する
工程を示す断面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・ＣＯ２レー
ザ光走査用ホログラムパターン、３・・・・・・フォト
マスク、４・・・・・・基板、５・・・・・・フォトレ
ジスト、６・・・・・・紫外線、７・・・・・・アルミ
薄膜、８・・・・・・プラズマ若しくはイオン、９・・
・・・・溝、１０・・・・・・電子ビーム光源、１１・
・・・・・電子ビーム、１２・・・・・・レジストパタ
ーン、１３・・・・・・ホログラムパターン。 特許出願人 工業技術院長 飯塚幸三 第 １ 図 第 ２ 図
光走査用ホログラムを示す一部断面図、第１図（ｂ）な
いしくｅ）はそれぞれ本発明の他の実施例を示す断面図
、第２図は本発明の一実施例におけるＣｏ２レーザ光走
査用ホログラムの製造方法に使用されるＣＯ□レーザ光
走査用ホログラムパターンを形成したフォトマスクを示
す平面図、第３図（ａ）ないしくｅ）は上記フォトマス
クより立体的なホログラムパターンを形成、する工程を
示す断面図、第４図（ａ）ないしくｄ）は本発明の他の
実施例における立体的なホログラムパターンを形成する
工程を示す断面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・ＣＯ２レー
ザ光走査用ホログラムパターン、３・・・・・・フォト
マスク、４・・・・・・基板、５・・・・・・フォトレ
ジスト、６・・・・・・紫外線、７・・・・・・アルミ
薄膜、８・・・・・・プラズマ若しくはイオン、９・・
・・・・溝、１０・・・・・・電子ビーム光源、１１・
・・・・・電子ビーム、１２・・・・・・レジストパタ
ーン、１３・・・・・・ホログラムパターン。 特許出願人 工業技術院長 飯塚幸三 第 １ 図 第 ２ 図
Claims (7)
- （１）ＣＯ＿２レーザ光の透過性の高い材料からなる基
板にＣＯ＿２レーザ光の波長の１／１０より深い立体的
なホログラムパターンを形成したことを特徴とするＣＯ
＿２レーザ光走査用ホログラム。 - （２）立体的なホログラムパターンの断面形状が矩形状
である請求項１記載のＣＯ＿２レーザ光走査用ホログラ
ム。 - （３）立体的なホログラムパターンの断面形状が台形状
である請求項１記載のＣＯ＿２レーザ光走査用ホログラ
ム。 - （４）立体的なホログラムパターンの断面形状が鋸歯形
状である請求項１記載のＣＯ＿２レーザ光走査用ホログ
ラム。 - （５）立体的なホログラムパターンの断面形状が三角形
状である請求項１記載のＣＯ＿２レーザ光走査用ホログ
ラム。 - （６）ＣＯ＿２レーザ光の透過性の高い材料からなる基
板の一方の面にホログラムパターンに対応した金属薄膜
を形成し、前記金属薄膜をマスクとして前記基板をドラ
イエッチングにより加工し、加工後、前記金属薄膜のマ
スクを除去し、立体的なホログラムパターンを形成する
ことを特徴とするＣＯ＿２レーザ光走査用ホログラムの
製造方法。 - （７）ＣＯ＿２レーザ光の透過性の高い材料からなる基
板の一方の面にレジスト膜を形成し、このレジスト膜を
ホログラムパターンに対応して計算制御された電子ビー
ム又はイオンビームにより走査してレジストに立体的な
ホログラムパターンを形成した後ドライエッチングする
ことを特徴とするＣＯ＿２レーザ光走査用ホログラムの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63226494A JPH0664256B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63226494A JPH0664256B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0274916A true JPH0274916A (ja) | 1990-03-14 |
| JPH0664256B2 JPH0664256B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=16845986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63226494A Expired - Lifetime JPH0664256B2 (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | Ｃｏ２レーザ光走査用ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0664256B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912403A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 局所的グレ−テイング作製方法 |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
| JPS6127507A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-07 | Canon Inc | カラ−フイルタ− |
| JPS63150984A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-23 | Sharp Corp | 回折格子の形成方法 |
| JPS63151919A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 |
-
1988
- 1988-09-12 JP JP63226494A patent/JPH0664256B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5912403A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 局所的グレ−テイング作製方法 |
| JPS60146282A (ja) * | 1984-01-10 | 1985-08-01 | Nec Corp | ホログラムの製造方法 |
| JPS6127507A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-07 | Canon Inc | カラ−フイルタ− |
| JPS63150984A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-23 | Sharp Corp | 回折格子の形成方法 |
| JPS63151919A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Agency Of Ind Science & Technol | Ｃｏ↓２レ−ザ−光走査用ホログラムの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0664256B2 (ja) | 1994-08-22 |
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| Date | Code | Title | Description |
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