JPS58172679A - ホログラム作成方法 - Google Patents
ホログラム作成方法Info
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- JPS58172679A JPS58172679A JP5471082A JP5471082A JPS58172679A JP S58172679 A JPS58172679 A JP S58172679A JP 5471082 A JP5471082 A JP 5471082A JP 5471082 A JP5471082 A JP 5471082A JP S58172679 A JPS58172679 A JP S58172679A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホログラム作成方法に関する。
ホログラムはホログラフィ技術において広く使用され、
光学像の記録、再生のみならず、光ビーム走査などにも
多く使用されている。
光学像の記録、再生のみならず、光ビーム走査などにも
多く使用されている。
ホログラムによる光ビーム走査は２次元走査パターンの
みならず、３次元走査パターンも得られることのほかに
、回転多面鏡による光走査に比較して装置の機械加工が
簡単であり、同じ系ログラムをコピーすることによって
多数のホログラムを生産できるなどの利点がある。
みならず、３次元走査パターンも得られることのほかに
、回転多面鏡による光走査に比較して装置の機械加工が
簡単であり、同じ系ログラムをコピーすることによって
多数のホログラムを生産できるなどの利点がある。
従来、ホログラムは銀塩材料、フォトレジスト、サーモ
プラスチック、重クロム酸ゼラチンなどを用いた様々な
作成方法によって作成されているが、光、湿度、機械的
外力などに対する耐性、すなわち耐候性と回折効率とを
ともに良化させる方法に難があった。たとえば銀塩材料
を漂白処理して形成したホログラムの回折効率は実用上
問題はないが、銀化合物を含有しているので使用中に光
の影響で変色し回折効率が低下してしまう欠点がある。
プラスチック、重クロム酸ゼラチンなどを用いた様々な
作成方法によって作成されているが、光、湿度、機械的
外力などに対する耐性、すなわち耐候性と回折効率とを
ともに良化させる方法に難があった。たとえば銀塩材料
を漂白処理して形成したホログラムの回折効率は実用上
問題はないが、銀化合物を含有しているので使用中に光
の影響で変色し回折効率が低下してしまう欠点がある。
まだ、重クロム酸ゼラチンによるものは回折効率を８０
チ程度まで向上させることができるが、ホログラムを形
成しているゼラチン層が湿気によって膨潤し、回折効率
が低下したり最適再生条件が変化してし捷う欠点がある
。
チ程度まで向上させることができるが、ホログラムを形
成しているゼラチン層が湿気によって膨潤し、回折効率
が低下したり最適再生条件が変化してし捷う欠点がある
。
したがって本発明は、このような従来技術の欠点を解消
し、耐候性に優れ、かつ回折効率の比較的高いホログラ
ムを作成する方法を提供することを目的とする。
し、耐候性に優れ、かつ回折効率の比較的高いホログラ
ムを作成する方法を提供することを目的とする。
この目的は次のよう・な：本発明によるホログラム作成
方法によって達成される。すなわち、この方法は、ガラ
ス基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、フォト
レジスト層を露光してホログラムパターンをこれに焼き
付ける工程と、フォトレジスト層を現像してホログラム
パターンに対応したフォトレジスト層の部分を残留させ
る工程と、残留したフォトレジスト層の部分および基板
の上にガラス材料層を形成する工程と、残留したフォト
レジスト層の部分を、その上にあるガラス材料層の部分
とともに除去する工程とを含み、ホログラムパターンを
有するホログラムを形成するものである。
方法によって達成される。すなわち、この方法は、ガラ
ス基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、フォト
レジスト層を露光してホログラムパターンをこれに焼き
付ける工程と、フォトレジスト層を現像してホログラム
パターンに対応したフォトレジスト層の部分を残留させ
る工程と、残留したフォトレジスト層の部分および基板
の上にガラス材料層を形成する工程と、残留したフォト
レジスト層の部分を、その上にあるガラス材料層の部分
とともに除去する工程とを含み、ホログラムパターンを
有するホログラムを形成するものである。
次に添付図面を参照して本発明によるホログラム作成方
法を詳細に説明する。
法を詳細に説明する。
第１図〜第４図は本発明によるホログラム作成方法の実
施例を経時的に示すホログラムの断面図である。これら
の図では、説明の便宜上、寸法比率や要素の数が現実と
はかけ離れて誇張して描かれている。まず、第１図に示
すように、一方の面にフォトレジスト層２を形成したガ
ラス基板１を準備し、２光束のレーザ光３ａおよび３ｂ
を照射する。たとえば、レーザ光３ａは信号波としての
球面波であり、レーザ光３ｂは平面波であるとすると、
フォトレジスト層２上には回折格子ノ（ターンが感光さ
れる。次にこれを現像すると、第２図に示すように回折
格子パターンに対応したレジスト層２の部分２ａが残留
する。
施例を経時的に示すホログラムの断面図である。これら
の図では、説明の便宜上、寸法比率や要素の数が現実と
はかけ離れて誇張して描かれている。まず、第１図に示
すように、一方の面にフォトレジスト層２を形成したガ
ラス基板１を準備し、２光束のレーザ光３ａおよび３ｂ
を照射する。たとえば、レーザ光３ａは信号波としての
球面波であり、レーザ光３ｂは平面波であるとすると、
フォトレジスト層２上には回折格子ノ（ターンが感光さ
れる。次にこれを現像すると、第２図に示すように回折
格子パターンに対応したレジスト層２の部分２ａが残留
する。
そこで第３図に示すように、残留レジスト層２ａをマス
クとして、たとえば５ｉＯ１Ｓｉ０２などの低融点ガラ
スをこれに蒸着し、低融点ガラス層４ａおよび４ｂを形
成する。
クとして、たとえば５ｉＯ１Ｓｉ０２などの低融点ガラ
スをこれに蒸着し、低融点ガラス層４ａおよび４ｂを形
成する。
この低融点ガラスの形成工程は蒸着技法によっているだ
め、形成されるガラス層４ａおよび４ｂの厚さは蒸着時
間によってたやすく制御することができる。とくに、後
に回折格子の一部となるガラス層４ｂの厚さに対する制
御性が良いことは、所望の値の回折効率を有するホログ
ラムをたやすく作成することができるという本発明の利
点につながる。
め、形成されるガラス層４ａおよび４ｂの厚さは蒸着時
間によってたやすく制御することができる。とくに、後
に回折格子の一部となるガラス層４ｂの厚さに対する制
御性が良いことは、所望の値の回折効率を有するホログ
ラムをたやすく作成することができるという本発明の利
点につながる。
次に、リフトオフ法により残留フォトレジスト層２ａ１
およびその層２ａの上にある低融点ガラス層の一部４ａ
をともに除去すると、第４図に示すように、フォトレジ
スト層の開口部分に対応する部分４ｂのガラス層が残り
、ホログラムが完成する。
およびその層２ａの上にある低融点ガラス層の一部４ａ
をともに除去すると、第４図に示すように、フォトレジ
スト層の開口部分に対応する部分４ｂのガラス層が残り
、ホログラムが完成する。
第４図に示すガラスホログラムはガラス基板１および低
融点ガラス層４ｂともに光に対して透明であるので、透
過型ガラスホログラムとして機能する。
融点ガラス層４ｂともに光に対して透明であるので、透
過型ガラスホログラムとして機能する。
反射型ガラスホログラムとして機能させたい場合には、
第５図に示すように第４図のホログラムの回折格子パタ
ーン面に、たとえばＣｒ、 ＡＩなどの金属材料による
光反射膜５を蒸着などの方法によって薄く形成させても
よい。
第５図に示すように第４図のホログラムの回折格子パタ
ーン面に、たとえばＣｒ、 ＡＩなどの金属材料による
光反射膜５を蒸着などの方法によって薄く形成させても
よい。
本発明によるホログラム作成方法で作成したホログラム
は、ガラス材料で構成、されているため非常に安定で良
好な耐候性を呈する。
は、ガラス材料で構成、されているため非常に安定で良
好な耐候性を呈する。
また、この作成方法は、回折格子形成における低融点ガ
ラス層の厚さの制御性が優れているので深い回折格子を
形成することができる。
ラス層の厚さの制御性が優れているので深い回折格子を
形成することができる。
したがって、たとえば屡なくとも５０チ以上の回折効率
のホログラムを提供することができる。
のホログラムを提供することができる。
第１図ないし５第４図は本発明によるホログラム作成方
法を説明するだめの実施例としてホログラム形成工程を
経時的に示す断面図、第５図は本発明を適用した反射型
ホログラムの例を示す断面図である。 主要部分の符号の説明 １・・・ガラス基板 ２．２ａ・・・フォトレジスト層 ３ａ、３ｂ・・・レーザ光 ４ａ、４ｂ・・・低融点ガラス層
法を説明するだめの実施例としてホログラム形成工程を
経時的に示す断面図、第５図は本発明を適用した反射型
ホログラムの例を示す断面図である。 主要部分の符号の説明 １・・・ガラス基板 ２．２ａ・・・フォトレジスト層 ３ａ、３ｂ・・・レーザ光 ４ａ、４ｂ・・・低融点ガラス層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ガラス基板上にフォトレジスト層を形成する工程
と、該フォトレジスト層を露光してホログラムパターン
を該フォトレジスト層に焼き付ける工程と、 該フォトレジスト層を現像して前記ホログラムパターン
に対応した該フォトレジスト層の部分を残留させる工程
と、 該残留したフォトレジスト層の部分および前記基板の上
にガラス材料層を形成する主程と、 該残留したフォトレジスト層の部分を、該部分の上にあ
る前記ガラス材料層の部分とともに除去する工程とを含
み、前記ホログラムパターンを有するホログラムを形成
することを特徴とするホログラム作成方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の方法において、前記除
去する工程は、除去した後に残留した前記ガラス材料の
部分および前記ガラス基板の上に光反射層を形成する段
階を含み、反射型ホログラムを形成することを特徴とす
るホログラム作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5471082A JPS58172679A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | ホログラム作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5471082A JPS58172679A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | ホログラム作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172679A true JPS58172679A (ja) | 1983-10-11 |
Family
ID=12978354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5471082A Pending JPS58172679A (ja) | 1982-04-01 | 1982-04-01 | ホログラム作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172679A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003088340A3 (de) * | 2002-04-15 | 2004-05-27 | Schott Glas | Verfahren zur herstellung strukturierter schichten auf substraten |
| CN100359653C (zh) * | 2002-04-15 | 2008-01-02 | 肖特股份公司 | 用于连结基片的处理和复合元件 |
| US20100201115A1 (en) * | 2007-09-20 | 2010-08-12 | Agfa-Gevaert Nv | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram |
| US20110204616A1 (en) * | 2007-09-20 | 2011-08-25 | Agfa-Gevaert N.V. | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram |
| US8741550B2 (en) | 2004-06-09 | 2014-06-03 | Schott Ag | Building up diffractive optics by structured glass coating |
-
1982
- 1982-04-01 JP JP5471082A patent/JPS58172679A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003088340A3 (de) * | 2002-04-15 | 2004-05-27 | Schott Glas | Verfahren zur herstellung strukturierter schichten auf substraten |
| CN100359653C (zh) * | 2002-04-15 | 2008-01-02 | 肖特股份公司 | 用于连结基片的处理和复合元件 |
| CN100397593C (zh) * | 2002-04-15 | 2008-06-25 | 肖特股份公司 | 在衬底上形成图案层的方法 |
| US7825029B2 (en) | 2002-04-15 | 2010-11-02 | Schott Ag | Method for the production of structured layers on substrates |
| US8741550B2 (en) | 2004-06-09 | 2014-06-03 | Schott Ag | Building up diffractive optics by structured glass coating |
| EP1754083B1 (en) * | 2004-06-09 | 2020-08-05 | Schott AG | A process for fabricating a multilayer fresnel lens |
| US20100201115A1 (en) * | 2007-09-20 | 2010-08-12 | Agfa-Gevaert Nv | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram |
| CN101815610A (zh) * | 2007-09-20 | 2010-08-25 | 爱克发-格法特公司 | 具有层间层压透明模压聚合物全息图的安全层压材料 |
| US20110204616A1 (en) * | 2007-09-20 | 2011-08-25 | Agfa-Gevaert N.V. | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram |
| US8435725B2 (en) * | 2007-09-20 | 2013-05-07 | Agfa-Gevaert Nv | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram |
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