JPS63298728A - 光学式データ記憶部材のフォーマッティングの改良 - Google Patents
光学式データ記憶部材のフォーマッティングの改良Info
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- JPS63298728A JPS63298728A JP63044063A JP4406388A JPS63298728A JP S63298728 A JPS63298728 A JP S63298728A JP 63044063 A JP63044063 A JP 63044063A JP 4406388 A JP4406388 A JP 4406388A JP S63298728 A JPS63298728 A JP S63298728A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
-
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、組織化された表面の使用を伴う技術による光
学式データ記憶部材のフォーマツティングに関する。
学式データ記憶部材のフォーマツティングに関する。
光学式データ記憶部材は、ディスク又はカードの形態を
なしているのが一般的である。本発明は、ディスク及び
カードの形態の光学式データ記憶部材に対する使用に限
定されるものではないが、後述するように、これらの記
憶部材を対象とするのが便利である。本発明はその他の
記憶部材にも拡張して使用することができることが理解
されよう。
なしているのが一般的である。本発明は、ディスク及び
カードの形態の光学式データ記憶部材に対する使用に限
定されるものではないが、後述するように、これらの記
憶部材を対象とするのが便利である。本発明はその他の
記憶部材にも拡張して使用することができることが理解
されよう。
カード及びディスクのような光学式データ記憶部材(以
下、rODsMJという)をフォーマットする比較的簡
単な方法を提供する必要がある。
下、rODsMJという)をフォーマットする比較的簡
単な方法を提供する必要がある。
従来、フォーマツティングは、媒体表面に1ステツプの
λ/n(但し、λ:読み取り放射の波長、n:全体数)
を必要とするいわゆるODSMを横切る線に沿って位相
コントラストを発生させることによって達成されてきた
。この位相コントラスト線は、はぼ軸線方向に整合した
一連のピントとして作り出されるのが普通である。ディ
スクからデータを読み取るのに使用される光のスポット
は、媒体表面のこのピントの境界線とオーバーラツプし
なければならず、ピント領域からの反射とこれのいずれ
かの側の領域からの反射との間の位相差により有害な干
渉を受け、従って、反射率がきわめて低くなる。
λ/n(但し、λ:読み取り放射の波長、n:全体数)
を必要とするいわゆるODSMを横切る線に沿って位相
コントラストを発生させることによって達成されてきた
。この位相コントラスト線は、はぼ軸線方向に整合した
一連のピントとして作り出されるのが普通である。ディ
スクからデータを読み取るのに使用される光のスポット
は、媒体表面のこのピントの境界線とオーバーラツプし
なければならず、ピント領域からの反射とこれのいずれ
かの側の領域からの反射との間の位相差により有害な干
渉を受け、従って、反射率がきわめて低くなる。
その他のデータ記憶媒体ではなく、ディスクと関連する
特別の問題として、ディスクをたどる際、時間の同期を
維持することが必要である。これはフォーマツティング
が、上述のような狭い位相コントラスト線の代わりに、
低反射率を表示する必要があるセクターの生成を伴うこ
とを意味する。
特別の問題として、ディスクをたどる際、時間の同期を
維持することが必要である。これはフォーマツティング
が、上述のような狭い位相コントラスト線の代わりに、
低反射率を表示する必要があるセクターの生成を伴うこ
とを意味する。
多くの媒体では、低反射率の比較的大きな領域の生成は
時間がかかり、従って、光学式ディスクの製造コストの
主要部分となる。これは、特に、OD S’ Mについ
ての場合であり、この場合には、光学式データ記憶処理
に含まれる「活性」物質が半金属のテルルである。
時間がかかり、従って、光学式ディスクの製造コストの
主要部分となる。これは、特に、OD S’ Mについ
ての場合であり、この場合には、光学式データ記憶処理
に含まれる「活性」物質が半金属のテルルである。
1986年10月7日付けの米国特許
第4616237号は、表面又は表面の一部領域に書き
込みができるように少なくとも一定のバンドの波長の電
磁波を強く吸収するデータ記憶媒体又は表面領域を開示
している。この表面は、感熱材料でできた層を含み、該
層は、溝又は隆起の配列からなる規則正しいパターンで
ある模様付き表面パターンを有する。パターンのピッチ
は前記一定のバンド内の最も短い波長よりも小さく、パ
ターンの(山から谷までの)深さは少なくとも1100
nである。前記パターンは、成形したり、注型したり、
成形型に型押ししたりすることによって製造したり複製
したりするのに適するようにアンダーカットをなくしで
ある。更に、前記模様付き表面パターンは、高い不透明
度をもつ材料、例えば金属の薄膜で覆われている。この
米国特許で説明され、特許請求されている光学データ記
tα部材に伴う基本表面位相は、この表面位相が、夜行
性の昆虫、特に鱗し目の多くの種に特有の角膜突起配列
に似ているため「モスアイ」と呼ばれてきた。天然に発
生するこの構造は、「昆虫の複眼における角膜突起配列
(A Corneal N1pplePattern
in In5ect Compound Eyes )
j (アクタフィジオロジカ スカンジナビ力(A
ctaPhisiologica 5canndina
vica) 、第56巻 、385−6頁)と題する論
文において、パーナート(Barnhard) 、C,
G、およびミラー(Miller)、W、H,によって
最初に記載された。
込みができるように少なくとも一定のバンドの波長の電
磁波を強く吸収するデータ記憶媒体又は表面領域を開示
している。この表面は、感熱材料でできた層を含み、該
層は、溝又は隆起の配列からなる規則正しいパターンで
ある模様付き表面パターンを有する。パターンのピッチ
は前記一定のバンド内の最も短い波長よりも小さく、パ
ターンの(山から谷までの)深さは少なくとも1100
nである。前記パターンは、成形したり、注型したり、
成形型に型押ししたりすることによって製造したり複製
したりするのに適するようにアンダーカットをなくしで
ある。更に、前記模様付き表面パターンは、高い不透明
度をもつ材料、例えば金属の薄膜で覆われている。この
米国特許で説明され、特許請求されている光学データ記
tα部材に伴う基本表面位相は、この表面位相が、夜行
性の昆虫、特に鱗し目の多くの種に特有の角膜突起配列
に似ているため「モスアイ」と呼ばれてきた。天然に発
生するこの構造は、「昆虫の複眼における角膜突起配列
(A Corneal N1pplePattern
in In5ect Compound Eyes )
j (アクタフィジオロジカ スカンジナビ力(A
ctaPhisiologica 5canndina
vica) 、第56巻 、385−6頁)と題する論
文において、パーナート(Barnhard) 、C,
G、およびミラー(Miller)、W、H,によって
最初に記載された。
今、「モスアイ」型表面構造を使用することによって光
学データ記憶媒体にフォマソトラインおよびフォマット
セクタを効果的に設けることができることがわかった。
学データ記憶媒体にフォマソトラインおよびフォマット
セクタを効果的に設けることができることがわかった。
従って、・1つの局面では、本発明はフォマフト化した
光学データ記憶部材を提供し、該フォマソト化した光学
データ記憶部材では、フォマット区域は、光学媒体の表
面に溝又は隆起を配列した形態の規則正しい表面パター
ンを設けることによって作られ、パターンのピッチおよ
び深さは、前記フォマソト区域が、所定の光学特性の照
明で照射されたとき、光学記憶部材の残りの区域の反射
率よりも実質的に小さい反射率を示すようにできている
。
光学データ記憶部材を提供し、該フォマソト化した光学
データ記憶部材では、フォマット区域は、光学媒体の表
面に溝又は隆起を配列した形態の規則正しい表面パター
ンを設けることによって作られ、パターンのピッチおよ
び深さは、前記フォマソト区域が、所定の光学特性の照
明で照射されたとき、光学記憶部材の残りの区域の反射
率よりも実質的に小さい反射率を示すようにできている
。
フォーマット区域以外のODSMの部分(たとえば、ラ
インまたはセクター)は、モスアイ型の表面組織を持っ
ていても、持っていなくともよい。
インまたはセクター)は、モスアイ型の表面組織を持っ
ていても、持っていなくともよい。
従って、一実施態様においてODSMの残部はほぼ平坦
な光に敏感な材料(たとえば、テルリウム)を備えいる
。他の実施B様においてはOD S Mの残部はフォー
マットラインおよび/またはフォーマットセクターを構
成する構造に比べて比較的浅いモスアイ構造を備えてい
る。
な光に敏感な材料(たとえば、テルリウム)を備えいる
。他の実施B様においてはOD S Mの残部はフォー
マットラインおよび/またはフォーマットセクターを構
成する構造に比べて比較的浅いモスアイ構造を備えてい
る。
フォーマット区域は非常に低い反射率を有するので、以
下においてこの区域をブラック領域と呼ぶ。
下においてこの区域をブラック領域と呼ぶ。
(実施例)
本発明はODSM上にブラック領域を形成するための多
くの技術を提供する。一つの方法においては、光学式記
憶部材を非直線性のフォトレジストで被覆し、次いで二
つの露光ステップを受けさせる。第一ステップにおいて
、比較的低い出力の交番輝度の照明を採用し、その輝度
の最大値は入射照明光に抗して除去される物質の特性曲
線の急勾配の部分よりも下にある。第二露光ステップに
おいて、安定した比較的高い出力の一定(CD)の照明
光を使用し、ディスクのブラック領域を形成すべき領域
のみを照明する。その後、カードまたはディスクの全体
を現像し、ブラック領域と17て指示された領域のみに
モスアイ構造を生成する。
くの技術を提供する。一つの方法においては、光学式記
憶部材を非直線性のフォトレジストで被覆し、次いで二
つの露光ステップを受けさせる。第一ステップにおいて
、比較的低い出力の交番輝度の照明を採用し、その輝度
の最大値は入射照明光に抗して除去される物質の特性曲
線の急勾配の部分よりも下にある。第二露光ステップに
おいて、安定した比較的高い出力の一定(CD)の照明
光を使用し、ディスクのブラック領域を形成すべき領域
のみを照明する。その後、カードまたはディスクの全体
を現像し、ブラック領域と17て指示された領域のみに
モスアイ構造を生成する。
第1図は非直線性のレジストの典型的な特性を示し、上
述の方法に含まれる二つの露光ステップを図形的に示す
。
述の方法に含まれる二つの露光ステップを図形的に示す
。
第2の方法では、ODSMの感光媒体をマスク、例えば
クロムマスクにブラック領域として指示された領域を除
く領域の全体に亘って被覆する。その後、所望のモスア
イ構造をつくりだすため、フォトレジストをクロムマス
ク全体に亘って付着させ、通常の方法で(たとえば、レ
ーザー干渉縞に)露光させる。この方法では、フォトレ
ジストは直線性のものであってもよいし、非直線性のも
のであってもよい。露光は、−Cにはガラスでできた基
質の後方から行われる。
クロムマスクにブラック領域として指示された領域を除
く領域の全体に亘って被覆する。その後、所望のモスア
イ構造をつくりだすため、フォトレジストをクロムマス
ク全体に亘って付着させ、通常の方法で(たとえば、レ
ーザー干渉縞に)露光させる。この方法では、フォトレ
ジストは直線性のものであってもよいし、非直線性のも
のであってもよい。露光は、−Cにはガラスでできた基
質の後方から行われる。
第3の方法では、マスク(例えばクロムマスク)をガラ
ス基質上のブランク8N 34として指示された領域の
みに付着させる。次いで、このマスク及び露光したガラ
ス基質を、レジスト側がら干渉計の露光を受けるフォト
レジストで被覆する。次に、マスクの透明なjI if
fを除去するためにOD S Mの反対側に定常的な照
明を当てる。次いで、フォトレジストが現像され、これ
によって、モスアイ構造がマスクを付着させた領域のみ
に生じる。
ス基質上のブランク8N 34として指示された領域の
みに付着させる。次いで、このマスク及び露光したガラ
ス基質を、レジスト側がら干渉計の露光を受けるフォト
レジストで被覆する。次に、マスクの透明なjI if
fを除去するためにOD S Mの反対側に定常的な照
明を当てる。次いで、フォトレジストが現像され、これ
によって、モスアイ構造がマスクを付着させた領域のみ
に生じる。
第4の技術では、表面全体に亘ってモスアイ構造を支持
するマスター〇DSM例えばディスクをフォトレジスト
で被覆し、これは、次いで、最終製品においてブラック
領域として指示されていない領域に対応するマスクの領
域で覆われる。このようにして構成した構造は、マスク
を通してレジスト側から照らされ、マスク間に位置する
レジストの領域は現像の際に除去されて下方にあるモス
アイ構造を初めのマスターから露呈させる。
するマスター〇DSM例えばディスクをフォトレジスト
で被覆し、これは、次いで、最終製品においてブラック
領域として指示されていない領域に対応するマスクの領
域で覆われる。このようにして構成した構造は、マスク
を通してレジスト側から照らされ、マスク間に位置する
レジストの領域は現像の際に除去されて下方にあるモス
アイ構造を初めのマスターから露呈させる。
第2図は、ODSMの表面全体に亘ってモスアイ構造が
あり、ブラック領域のモスアイ構造は深<、ODSMの
残りの領域にあるモスアイ構造は浅い、本発明の実施例
を図示する。
あり、ブラック領域のモスアイ構造は深<、ODSMの
残りの領域にあるモスアイ構造は浅い、本発明の実施例
を図示する。
以上に説明した技術は、チルミニラムで被覆した基質、
ダイ−ポリマー材料、或いは光学式データ記憶部材用の
他の従来の基質でも使用することができる。
ダイ−ポリマー材料、或いは光学式データ記憶部材用の
他の従来の基質でも使用することができる。
第1図は非直線性のレジストの典型的な特性を示すグラ
フ図であり、第2図はODSMの概略図である。 1A面の注出(内容に嬰更なし) FIG、 2
フ図であり、第2図はODSMの概略図である。 1A面の注出(内容に嬰更なし) FIG、 2
Claims (6)
- (1)フォーマット区域を、光学式媒体の表面にパター
ンのピッチと深さを溝または隆起の配列の形式でつくり
、所定の光学的特性の照明で照らすと、上記フォーマッ
ト区域が光学式記憶部材の他の部分よりも実質的に低い
反射率を示すことを特徴とするフォーマッティングした
光学式データ記憶部材。 - (2)上記フォーマット区域がラインまたはセクターで
ある請求項(1)記載の光学式データ記憶部材。 - (3)光学式データ記憶部材のフォーマット区域でない
領域が、通常の表面パターンを溝または隆起の配列の形
式で支持し、上記フォーマット区域のパターンの深さが
上記非フォーマット領域の深さより深い請求項(1)ま
たは(2)記載の光学式データ記憶部材のフォーマッチ
インク方法。 - (4)光学式記憶部材を非直線性のフォトレジストで基
質を被覆すること、 第一露光ステップとしてフォトレジストを比較的出力の
小さく交番式の強度のものを露光し、最大の輝度が入射
照明光に抗して除去される物質の特性曲線の急勾配部分
の下側であり、 第二露光ステップとしてフォトレジストを安定して高出
力の一定(DC)の照明光で光学式データ記憶部材のフ
ォーマット区域となるべき領域のみを照明し、さらに フォトレジストを現像して、フォーマット区域に所望の
構造を生成し光学式データ記憶部材の平面部の残余の部
分を残す ことを特徴とする光学式データ記憶部材のフォーマッテ
ィング方法。 - (5)光学式データ記憶部材をフォーマッティング方法
であって、 マスクをもったフォーマット区域になるべき所定の領域
以外の光学式データ記憶部材の領域の全てを被覆し、 光学式データ記憶部材の全体にわたってフォトレジスト
を付着させ、 該フォトレジストを前記マスクの背後から、フォーマッ
ト区域で発生させるのが望ましい所望のパターンに対応
するパターンに露光し、フォトレジストを現像してその
非露光領域を取り除くことを含むフォーマッティング方
法。 - (6)光学式データ記憶部材をフォーマッティング方法
であって、 マスクをもったフォーマット区域になるべき光学式デー
タ記憶部材の所定の領域だけを被覆し、 光学式データ記憶部材の全体にわたってフォトレジスト
を付着させ、 該フォトレジストを前記マスクの前から、フォーマット
区域で発生する所望のパターンに対応するパターンに露
光させ、 フォトレジストを現像してその非露光領域を取り除くこ
とを含むフォーマッティング方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB878704512A GB8704512D0 (en) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | Formatting of optical data storage members |
GB8704512 | 1987-02-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63298728A true JPS63298728A (ja) | 1988-12-06 |
Family
ID=10612982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63044063A Pending JPS63298728A (ja) | 1987-02-26 | 1988-02-26 | 光学式データ記憶部材のフォーマッティングの改良 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4866696A (ja) |
EP (1) | EP0288140B1 (ja) |
JP (1) | JPS63298728A (ja) |
DE (1) | DE3853645D1 (ja) |
GB (1) | GB8704512D0 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0628958B1 (en) * | 1993-06-10 | 1998-09-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical record carrier |
US8003425B2 (en) | 2008-05-14 | 2011-08-23 | International Business Machines Corporation | Methods for forming anti-reflection structures for CMOS image sensors |
US7759755B2 (en) * | 2008-05-14 | 2010-07-20 | International Business Machines Corporation | Anti-reflection structures for CMOS image sensors |
EP2417910B1 (de) | 2010-08-11 | 2013-06-26 | Roche Diagnostics GmbH | Analytische Testeinheit und Testsystem |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1588370A (en) * | 1978-05-11 | 1981-04-23 | Standard Telephones Cables Ltd | Infra-red transmitting elements |
US4316279A (en) * | 1978-09-04 | 1982-02-16 | Rca Corporation | Optical recording in thin photoresist |
JPS5690437A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Hitachi Ltd | Optical disc |
US4402061A (en) * | 1981-10-15 | 1983-08-30 | Burroughs Corporation | Preformatted optical media for use in an optical memory system |
DE3277512D1 (en) * | 1981-12-01 | 1987-11-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical recording and reproducing disc |
JPS5911551A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Toshiba Corp | 光学式情報記憶媒体 |
EP0100995A3 (en) * | 1982-08-10 | 1985-10-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical disk |
EP0147945A1 (en) * | 1983-11-21 | 1985-07-10 | Comtech Research Unit Limited | Data storage medium |
EP0155000B1 (en) * | 1984-03-16 | 1991-08-14 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing optical memory element |
EP0197256A3 (en) * | 1985-02-11 | 1989-02-22 | Arthur M. Gerber | System and method for recording digital information |
AU607943B2 (en) * | 1987-01-24 | 1991-03-21 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Optical recording members and production thereof |
-
1987
- 1987-02-26 GB GB878704512A patent/GB8704512D0/en active Pending
-
1988
- 1988-02-26 DE DE3853645T patent/DE3853645D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-26 EP EP88301671A patent/EP0288140B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-26 US US07/160,819 patent/US4866696A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-02-26 JP JP63044063A patent/JPS63298728A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0288140A3 (en) | 1991-10-02 |
DE3853645D1 (de) | 1995-06-01 |
GB8704512D0 (en) | 1987-04-01 |
EP0288140A2 (en) | 1988-10-26 |
US4866696A (en) | 1989-09-12 |
EP0288140B1 (en) | 1995-04-26 |
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