JP2779179B2 - ホログラムの作製方法 - Google Patents

ホログラムの作製方法

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ホログラムの作製方法に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
ホログラムは情報を帯びた光の波面を記録する技術で
あり、通常は板、フィルム等の基板上に設けられたホロ
グラム記録層に情報光と参照光との干渉縞を透過率、屈
折率もしくは凹凸の分布の形で記録している。
従来のホログラムの作製方法は第3図に示すように、
記録層2に対して照射された2つの光束5,6が干渉縞を
形成し、ホログラム記録層2に記録される。同時にホロ
グラム記録層2を透過した光は基材3を透過し、反射防
止層13により吸収される。
次にこうして撮影されたホログラム記録材料1の反射
防止層13を取り除いて現像し、第4図に示すように記録
層2と反対側の面から参照光6と平行な再生用の光10を
照射し、情報光5と平行な再生光11が得られる。
〔発明が解決すべき課題〕
ところで、上記反射防止層13は一般的に2種類に分け
ることができる。
一つは光吸収材料を有する反射防止層であり、材料を
うまく選択すれば第3図に示すような裏面での反射はほ
とんど発生しない。
もう一つは光透過性を有する反射防止層すなわちホロ
グラム記録材料の基材3の屈折率と外気の屈折率との中
間程度の屈折率を有する光透過性の高い材質を一層ない
し多層被着させた反射防止層であり、この場合は記録及
び再生段階で同じ反射防止層が利用でき、後述するよう
なレーザー再生段階で発生する不要な干渉縞の軽減に役
立つものの、記録段階に発生する裏面反射を充分に防止
することが困難であるため不要な干渉縞が記録され、そ
れが再生像に現れてしまう。
また、従来は反射防止層13が不完全なものが多く、そ
の場合第3図に示すように入射光束5,6の裏面反射が発
生し、それらの裏面反射光束と入射光束5,6が干渉して
不要な干渉縞が再生像中に表れ、再生像の質を低下させ
てしまうという問題があった。
そこで記録段階において、光吸収材料を有する反射防
止層を設けて不要な干渉縞の発生を抑えたとしても、こ
のホログラムをレーザ再生するときは前記反射防止層を
除去する必要があり、その場合、第4図に示されるよう
にホログラム記録層と基材間で生ずる繰り返し反射光14
と入射光10により不要な干渉縞が発生し、これが再生像
中に表れて再生像の質を低下させてしまうという問題が
あった。また裏面において反射光15が生じ、照明光が有
効利用できず再生像が暗くなるという問題もあった。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、ホログ
ラムを記録する段階と、再生する段階で異なる反射防止
層を用いることにより、再生像に不要な干渉縞が発生す
ることを防止し、再生像を明るくすることができるホロ
グラムの作製方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
そのために本発明は、ホログラムの記録段階と再生段
階の2つの工程において異なる反射防止層を設けること
により、最終的なホログラム再生像から不要な干渉縞を
除去して再生像を明るくするようにしたものである。
ホログラムの記録段階においては、第1図に示すよう
に、記録層が形成された基材の反対面に、基材と同程
度、具体的には違いが基材の屈折率に対して±3%以内
の屈折率を有する光吸収材料を有する反射防止層4を施
すことによって基材3と反射防止層4間の界面の反射を
極力抑え、ここを透過した光を光吸収材料で吸収して記
録時における不要な干渉縞の発生を防止する。
次に現像されたホログラム記録材料から反射防止層4
を取り除き、再生段階においては、第2図に示すよう
に、接着層7により光透過性材料8及び光透過性の高い
反射防止層9を設けることによって、第4図に示される
ようなレーザ光の繰り返し反射光14と照明光10により形
成される不要な干渉縞を除去し、また裏面での反射光15
を少なくして再生像を明るくしている。
〔作用〕
本発明は、ホログラム記録段階において、基材3と反
射防止層4とで屈折率の差がほとんどないためそれらの
間の反射が極めて少なく透過した光は光吸収材料により
吸収され、記録層2への不要な干渉縞の記録が抑制され
る。また、再生段階において光透過性の高い反射防止層
9を少なくとも基材の一面に施すことにより、第4図に
おける反射光14のような不要な反射が生ぜず、透過光12
となって不要な干渉縞の再生が抑制される。また、第4
図に示すような裏面での反射光15が少なくなるため照明
光を有効に利用でき再生像を明るくすることができる。
〔実施例〕
以下、図面を参照しつつ本発明の実施例について説明
する。
第1図は本発明の一実施例に係るホログラムの作製方
法の記録段階を説明するための図である。
本実施例では、ホログラム記録材料1にアグファーゲ
バルト社製ホロテスト8E75HDNAHを、光吸収材料を有す
る反射防止層4に塩化ビニル系と酢酸ビニル系の共重合
体の樹脂を、光吸収材料として青色の染料を樹脂に分散
させて使用した。
このような光吸収材料を有する反射防止層4を塗布し
たホログラム記録材料1に対し、He−Neレーザーにより
記録層側から面の法線に対して45゜の角度をなす互いに
逆の方向から平行光5,6を入射することにより、回折格
子をホログラム記録層2に形成した。ホログラム記録層
2、基材3を透過した光は光吸収材料によって吸収され
るため不要な干渉を生じることはない。実際にコダック
社製19現像液で現像することにより、不要な干渉縞のな
い回折格子を得ることができた。
なお、上記実施例では光吸収材料を有する反射防止層
4に塩化ビニル系と酢酸ビニル系の共重合体の樹脂を用
い、該樹脂に光吸収材料を分散させたが、光吸収材料を
樹脂に対して層状に設けるようにしてもよく、また光吸
収材料を有する反射防止層4に塩化ビニル系または酢酸
ビニル系の樹脂を用い、これらの樹脂に光吸収材料を分
散させるか、あるいは層状に設けるようにしてもよい。
また、反射防止層4は露光後、除去する必要があるの
で、基材に対して剥離しやすい光吸収材料を用いるよう
にすることが望ましい。
第2図は、本発明の一実施例に係るホログラムの作成
方法の再生段階を説明するための図で、本実施例では光
透過性材料8に平板ガラスを、接着層7に純正化学社製
カナダバルサムを使用し、光透過性の高い反射防止層9
にMgF2を平板ガラスに被着させた。
このような光透過性の高い反射防止層9を設けた現像
済のホログラム記録材料に対してHe−Neレーザーにより
反射防止層9側から法線に対して45゜の角度から平行光
を照明し、平行光を再生させた。照明した光10は再生光
11となって回折されるが、不要な反射は光透過性の高い
反射防止層9のため透過光12となって再生像中に不要な
干渉縞が現れることはない。また裏面での反射光15が少
なくなるため再生像が明るくなる。実際、光透過性の高
い反射防止層9がないときと比較して、不要な干渉縞が
ほとんどない明るい再生像を得ることができた。また基
材3、接着層7、光透過性材料8の屈折率を±3%以内
に抑えることによってこれらの間の界面反射を極力抑え
る必要がある。
なお、光透過性の高い反射防止層9としては、第2図
の例では一層であるが、二層、三層あるいはそれ以上の
多層の反射防止層を被着させて反射防止効果を向上させ
ることができる。
また、反射防止層9の材質としては、MgF2,SiO,SiO2,
ZnS,水晶石,Cr,LiF等がよく用いられるが、これらに限
定されるわけではなく、要するに反射防止効果のあるも
のであれば何でもかまわない。なお、反射防止層9の被
着方法については、吹付け法、蒸着法、スパッタリング
法等が用いられるが、この他の方法で被着してもよい。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、ホログラムの作成方法
において、ホログラム記録過程で、光吸収材料を有する
反射防止層を設けるようにしたので、不要な干渉縞の記
録を低減化させることができ、ホログラム再生過程にお
いては光透過性の高い反射防止層を設けるようにしたの
で不要な干渉縞の再生を低減化させるとともに、裏面で
の反射を減少させることができるため再生像が明るくな
りS/N比の極めて高い再生像を得ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のホログラム作製方法の記録
段階を説明するための図、第2図は本発明の一実施例の
ホログラム作製方法の再生段階を説明するための図、第
3図はホログラム記録段階における不要な干渉縞を生ず
る反射光を説明するための図、第4図はホログラム再生
段階における不要な干渉縞を生ずる反射光、及び裏面で
の反射光を説明するための図である。 1……ホログラム記録材料、2……ホログラム記録層、
3……基材、4……反射防止層、5……情報光、6……
参照光、7……接着層、8……光透過性材料、9……反
射防止層、10……照明光、11……再生光、12……裏面反
射透過光。

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】情報光、参照光を記録層側から入射させて
    干渉縞を記録するホログラムの作製方法において、記録
    層が形成された基材の反対面に光吸収材料を有する反射
    防止層を設けて露光する段階と、露光後、該反射防止層
    を除去し、光透過性の高い反射防止層を設ける段階とか
    らなるホログラムの作製方法。
  2. 【請求項2】光吸収材料を有する反射防止層の屈折率が
    基材の屈折率にたいして±3%以内である請求項1記載
    のホログラムの作製方法。
  3. 【請求項3】基材に対して剥離しやすい光吸収材料を有
    する反射防止層を使用した請求項1記載のホログラムの
    作製方法。
  4. 【請求項4】光吸収材料を有する反射防止層は、塩化ビ
    ニル系の樹脂に光吸収材料を分散状ないし層状に設けた
    請求項1記載のホログラムの作製方法。
  5. 【請求項5】光吸収材料を有する反射防止層は、酢酸ビ
    ニル系の樹脂に光吸収材料を分散状ないし層状に設けた
    請求項1記載のホログラムの作製方法。
  6. 【請求項6】光吸収材料を有する反射防止層は、塩化ビ
    ニル系と酢酸ビニル系の共重合体の樹脂に光吸収材料を
    分散状ないし層状に設けた請求項1記載のホログラムの
    作製方法。
  7. 【請求項7】光透過性材料に光透過性の高い反射防止層
    を形成し、基材と光透過性材料を接着層で貼り合わせた
    請求項1記載のホログラムの作製方法。
  8. 【請求項8】光透過性材料及び接着層の屈折率が基材の
    屈折率に対して±3%以内である請求項7記載のホログ
    ラムの作製方法。
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