JPS58168076A - 位相型ホログラムの作成方法 - Google Patents
位相型ホログラムの作成方法Info
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- JPS58168076A JPS58168076A JP5149782A JP5149782A JPS58168076A JP S58168076 A JPS58168076 A JP S58168076A JP 5149782 A JP5149782 A JP 5149782A JP 5149782 A JP5149782 A JP 5149782A JP S58168076 A JPS58168076 A JP S58168076A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03H2001/2605—Arrangement of the sub-holograms, e.g. partial overlapping
- G03H2001/261—Arrangement of the sub-holograms, e.g. partial overlapping in optical contact
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- G03H2250/00—Laminate comprising a hologram layer
- G03H2250/12—Special arrangement of layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、走査に適したブラッグ角ｔ−持つ２層構造の
位相量、ホログラムの作成方法に関する。
位相量、ホログラムの作成方法に関する。
技術の背景
位相型ホログラム社感光剤層に２方向から可干渉光を投
射し、生じた干渉縞に感光させ、現像し出来だ白黒縞を
銀白して透明Ｃはるるが屈折率が販白黒ｒｃ応じて変る
ものにしてなる。透過、屈折ｙｃついての一般的性質を
第１図で説明すると、同図において１０は位相！、ドロ
グラムであシ、１１゜は干渉縞（今は屈折率変化＃）の
ホログラム縦断間におけるパターンを、ま九１４は同表
面におけるバター／を示す。１２は再生光、１５は回折
光である。波長λの再生光１２枦面１１に対し角度＃ｉ
で入射するとき、面１１のピッチをｄとすれば回折光１
３０向１１に対する角度θｄは次の関係にるる。
射し、生じた干渉縞に感光させ、現像し出来だ白黒縞を
銀白して透明Ｃはるるが屈折率が販白黒ｒｃ応じて変る
ものにしてなる。透過、屈折ｙｃついての一般的性質を
第１図で説明すると、同図において１０は位相！、ドロ
グラムであシ、１１゜は干渉縞（今は屈折率変化＃）の
ホログラム縦断間におけるパターンを、ま九１４は同表
面におけるバター／を示す。１２は再生光、１５は回折
光である。波長λの再生光１２枦面１１に対し角度＃ｉ
で入射するとき、面１１のピッチをｄとすれば回折光１
３０向１１に対する角度θｄは次の関係にるる。
５ｉｎ１９ｄ ＝λ／ｄ土１１１１ ｅｉ ”・
・会・（１）＃ｄ＝ ａＳ （ブラッグ条件）であると
回折光１６のＡ度は最も高い。つまりこのホログラムは
面１１が―直になっているが、これは後述のように入射
点に正てた法線に対して左右から同じ角度（０ｉ）で可
干渉光を入射して作ったものということであり、＃１＝
１４ということはホログラム作成光の一方で他を再生し
たということに相尚し、このときの回折光が蝋も強度大
である。ｅｉとＯｄが等しくないなら、か＼る関係が成
立せず回折梯強縦社低い。例えば再生光１２ｆ：ホログ
ラム１００面１０にに垂直に入射させると（θ１＝０）
回折光１６の強度は相当に低下し、且つ角Ｉｔ ｔｌａ
は増大する。再生光１２は作成光の一方と尋し７い入射
角とすることが好ましいが、場合ｙｃよってはそれがで
きないこともある。例えばホログラムスキャナである。
・会・（１）＃ｄ＝ ａＳ （ブラッグ条件）であると
回折光１６のＡ度は最も高い。つまりこのホログラムは
面１１が―直になっているが、これは後述のように入射
点に正てた法線に対して左右から同じ角度（０ｉ）で可
干渉光を入射して作ったものということであり、＃１＝
１４ということはホログラム作成光の一方で他を再生し
たということに相尚し、このときの回折光が蝋も強度大
である。ｅｉとＯｄが等しくないなら、か＼る関係が成
立せず回折梯強縦社低い。例えば再生光１２ｆ：ホログ
ラム１００面１０にに垂直に入射させると（θ１＝０）
回折光１６の強度は相当に低下し、且つ角Ｉｔ ｔｌａ
は増大する。再生光１２は作成光の一方と尋し７い入射
角とすることが好ましいが、場合ｙｃよってはそれがで
きないこともある。例えばホログラムスキャナである。
位相型のホログラムを回転させて直線走査するスキャナ
はバーコードの読取９などに使用されるが、後述の理由
で光線はホログラムに＃１ぼ垂直に入射する必要があり
、入射角がずれると所望の直４１１走査が得られない。
はバーコードの読取９などに使用されるが、後述の理由
で光線はホログラムに＃１ぼ垂直に入射する必要があり
、入射角がずれると所望の直４１１走査が得られない。
ホログラムスキャナの原理は＃１２図のように向１１の
ピッチに粗密を持たせた位相臘ホログラム１０′を＄励
させ、入射光１２は不動にしたｔまで回折光１６のＰ４
ｔ ｌｌａ ｔ＆化させるというものである。角ｆ＃ａ
は面１１のピッチｄが狭くなるほど・１大するのＣ１端
部を密、中火部を祖としたホログラム１０′に入射光１
２を照射し、丘、右に禰動すると、回折光１５は１５′
”と１６＃の関で層状にスキャンされる。実用例として
はホログラムを円板とし、円周に沿って同じパターンの
小ログラムを複数個形成し、円板を回転させることによ
シ繰り返し走査を行なう。か＼るホログラムスキャナで
入射光１２を垂直に入射し、しかも回折光１６０強度を
常に＾く保つためには干渉縞の縦断面１１が傾斜してい
るとよい。ところが、この傾斜角は表曲パターン１４に
よ）決定され、表面パターン１４は所望の走査要領（円
板を回転させて直線走査する等の）により定まってしま
うという問題かめる。これを蕗３図で説明する。
ピッチに粗密を持たせた位相臘ホログラム１０′を＄励
させ、入射光１２は不動にしたｔまで回折光１６のＰ４
ｔ ｌｌａ ｔ＆化させるというものである。角ｆ＃ａ
は面１１のピッチｄが狭くなるほど・１大するのＣ１端
部を密、中火部を祖としたホログラム１０′に入射光１
２を照射し、丘、右に禰動すると、回折光１５は１５′
”と１６＃の関で層状にスキャンされる。実用例として
はホログラムを円板とし、円周に沿って同じパターンの
小ログラムを複数個形成し、円板を回転させることによ
シ繰り返し走査を行なう。か＼るホログラムスキャナで
入射光１２を垂直に入射し、しかも回折光１６０強度を
常に＾く保つためには干渉縞の縦断面１１が傾斜してい
るとよい。ところが、この傾斜角は表曲パターン１４に
よ）決定され、表面パターン１４は所望の走査要領（円
板を回転させて直線走査する等の）により定まってしま
うという問題かめる。これを蕗３図で説明する。
従来技術と問題点
第６図は従来の位相臘ホログラムの作成法で、銀塩プリ
ーチを例としたものである。先ず（ａ）のようにガラス
基板２上に銀塩系のホログラム感光剤１１に塗布し、こ
れに一方が情報光で他方が参照光の関係ｆＣある２つの
可干渉光（例えば光源を同じとする２つのレーザ光）６
，４を照射する。次にこの基板を現倫、定層して（ｂ）
のように層１′中による白黒の明暗縞を形成する（これ
が振幅量ホログラム）。その後これを橡白（プリーチ）
すると銀は透明かつ屈折事大の塩化−に変シ層１′には
（ｅ）のように屈折率変化を示す縞（縦断面）１１が形
成される。これが位相ホログラムである。位相ホログラ
ムに再生光５を照射すると透過光（０次光）６、および
±１次回折光７，８が生じる。ホログラムスキャナでは
回折光７または８を利用するが、これらの光量は入射光
５に比べて著しく小でないととが望まれる。しかし第３
図（、）のように再生光５が作成光３，４と異なる波面
であると、回折光−゛７の強度は小さいという問題があ
る。一般にホログラムスキャナでは作成波と再生波は異
なることが憂いから、異なっても充分強い回折光が得ら
れるようにする必要がある。
ーチを例としたものである。先ず（ａ）のようにガラス
基板２上に銀塩系のホログラム感光剤１１に塗布し、こ
れに一方が情報光で他方が参照光の関係ｆＣある２つの
可干渉光（例えば光源を同じとする２つのレーザ光）６
，４を照射する。次にこの基板を現倫、定層して（ｂ）
のように層１′中による白黒の明暗縞を形成する（これ
が振幅量ホログラム）。その後これを橡白（プリーチ）
すると銀は透明かつ屈折事大の塩化−に変シ層１′には
（ｅ）のように屈折率変化を示す縞（縦断面）１１が形
成される。これが位相ホログラムである。位相ホログラ
ムに再生光５を照射すると透過光（０次光）６、および
±１次回折光７，８が生じる。ホログラムスキャナでは
回折光７または８を利用するが、これらの光量は入射光
５に比べて著しく小でないととが望まれる。しかし第３
図（、）のように再生光５が作成光３，４と異なる波面
であると、回折光−゛７の強度は小さいという問題があ
る。一般にホログラムスキャナでは作成波と再生波は異
なることが憂いから、異なっても充分強い回折光が得ら
れるようにする必要がある。
前述の回転板製直線走査ホログラムスキャナ社球面波と
収束球面波を等角度で入射させて作り、再生光は垂直に
入射する。従って作成波と再成波は入射角が異なる。こ
のような場合に第４図のように、第３図の要領で作成し
たホログラム１０をマスクとして、これを入射光５によ
り別のホログラム感光材２０に転写し、後者の干渉縞縦
断面ノ１を傾斜させると、作成波と異なる再生波でろり
ても彊い回折光を得ることができる。このホログラムコ
ピー法による干渉縞縦断面２１の傾斜角は再生光５の透
過光６と回折光７の中間１ｉ２２に沿う。
収束球面波を等角度で入射させて作り、再生光は垂直に
入射する。従って作成波と再成波は入射角が異なる。こ
のような場合に第４図のように、第３図の要領で作成し
たホログラム１０をマスクとして、これを入射光５によ
り別のホログラム感光材２０に転写し、後者の干渉縞縦
断面ノ１を傾斜させると、作成波と異なる再生波でろり
ても彊い回折光を得ることができる。このホログラムコ
ピー法による干渉縞縦断面２１の傾斜角は再生光５の透
過光６と回折光７の中間１ｉ２２に沿う。
コピーされ九ホログラム２０の干渉縞はその縦断面２１
の傾斜がマスク側の縦断面１１のそれと異なるだけで、
平面パターン、はホログラム１０．２０閣が密着してい
る＠９変らない。従って、この位相型ホログラム２０を
スキャナとして用いれば光１２を面に画ｌ［に入射して
、強度の高い回折光１６で直線走査することが可能であ
る。。
の傾斜がマスク側の縦断面１１のそれと異なるだけで、
平面パターン、はホログラム１０．２０閣が密着してい
る＠９変らない。従って、この位相型ホログラム２０を
スキャナとして用いれば光１２を面に画ｌ［に入射して
、強度の高い回折光１６で直線走査することが可能であ
る。。
しかしながらこのコピーに際しては小ログラム１０．２
０間の摺着性を良好に保つことが必要で、微小間隙があ
るとパターンが不鮮明になって回折効率がはくなり、ま
た転写ホログラム２０側に不便な縞（コピー縞）が形成
される欠点がある。
０間の摺着性を良好に保つことが必要で、微小間隙があ
るとパターンが不鮮明になって回折効率がはくなり、ま
た転写ホログラム２０側に不便な縞（コピー縞）が形成
される欠点がある。
発明の目的
＋発明は、位相型ホログラムを２層構造として再生時の
ブラッグ角を任意に設定可能とするものでるる。
ブラッグ角を任意に設定可能とするものでるる。
発明の構成
本発明の２層構造位相型ホログラムの作成方法は、低回
折効率の基本ホログラムの上層にホログラム感光剤を塗
布し、そして該基本ホログラムを通して該ホログラム感
光剤を３１元し現像、定着して、核感光剤を該基本ホロ
グラム仁は異なるブラッグ角のかつ高回折効率の位相型
小口グラムに転化することを特徴とするものでめるが、
以下図示の実施例を参照しながらこれを詳細に説明する
。
折効率の基本ホログラムの上層にホログラム感光剤を塗
布し、そして該基本ホログラムを通して該ホログラム感
光剤を３１元し現像、定着して、核感光剤を該基本ホロ
グラム仁は異なるブラッグ角のかつ高回折効率の位相型
小口グラムに転化することを特徴とするものでめるが、
以下図示の実施例を参照しながらこれを詳細に説明する
。
発明の実施例
第５図は本発明方法の概略説明図である。先ず（＆）の
ようにガラス基板２上にブラッグ角０１の低回折効率の
位相型ホログラム（効率５〜１０チ）１′または振幅型
ホログラム（効率１〜２チ）１′を第６図と同様の方法
でそして干渉縞が所望のパターンになるように形成する
。露光を充分性なうとコントラストの強いパターンが得
ら扛、（ロ）折光も強くなり、露光を不足ぎみに行なう
とこの逆になるから、低効率ホログラムは露光を調節し
て作るのが一方法である。次に、このホログラム１′（
１′ニついても同様）を基体としてその上層に別のホロ
グラム感光剤７を塗布する。その後、ガラス基板２ｉ１
４１から適当な光３０を照射して感光剤７を露光する。
ようにガラス基板２上にブラッグ角０１の低回折効率の
位相型ホログラム（効率５〜１０チ）１′または振幅型
ホログラム（効率１〜２チ）１′を第６図と同様の方法
でそして干渉縞が所望のパターンになるように形成する
。露光を充分性なうとコントラストの強いパターンが得
ら扛、（ロ）折光も強くなり、露光を不足ぎみに行なう
とこの逆になるから、低効率ホログラムは露光を調節し
て作るのが一方法である。次に、このホログラム１′（
１′ニついても同様）を基体としてその上層に別のホロ
グラム感光剤７を塗布する。その後、ガラス基板２ｉ１
４１から適当な光３０を照射して感光剤７を露光する。
このとき感光剤７は透過光６１と回折光５２の中間！Ｉ
３３に沿って干渉縞の縦断面が形成される。露光後の処
理により（ｂ）に示すようにフラッグ角＆ｚ（’ｉθｌ
）の位相型ホログラム７′を形成する。
３３に沿って干渉縞の縦断面が形成される。露光後の処
理により（ｂ）に示すようにフラッグ角＆ｚ（’ｉθｌ
）の位相型ホログラム７′を形成する。
このホログラム７′の縦断面４１は基本ホログラム１１
の縦断１ｊｉｉ１１とは異なるので、ホログラム７′の
効率を大にしておけば実質的に基本ホログラム１″の存
在は無視でき、全率としてブラッグ角０２０反相型ホロ
グラムとして機能する。（ｃ）はこの状惑を示すもので
ある。つまり再生光３４を作成光６０と同じ角度θ雪で
入射すればブラッグ条件が満たされて回折光６５は最大
強度となる。６６は透過光でろる。尚、基本ホログラム
が振−製ホログ上述した２層構造の位相型ホログラムで
あれば、（１）層１＃、７が塗布によシ密層しているの
で前述した像不鮮明、コピー縞などは生じない。また（
２）感光剤７を迩ミすることにより露光時の回折光６１
と透過光６２の強度を等しくすることができるので、ホ
ログラム７′の干渉ＩＰＩ４４１を鮮明に形成できる。
の縦断１ｊｉｉ１１とは異なるので、ホログラム７′の
効率を大にしておけば実質的に基本ホログラム１″の存
在は無視でき、全率としてブラッグ角０２０反相型ホロ
グラムとして機能する。（ｃ）はこの状惑を示すもので
ある。つまり再生光３４を作成光６０と同じ角度θ雪で
入射すればブラッグ条件が満たされて回折光６５は最大
強度となる。６６は透過光でろる。尚、基本ホログラム
が振−製ホログ上述した２層構造の位相型ホログラムで
あれば、（１）層１＃、７が塗布によシ密層しているの
で前述した像不鮮明、コピー縞などは生じない。また（
２）感光剤７を迩ミすることにより露光時の回折光６１
と透過光６２の強度を等しくすることができるので、ホ
ログラム７′の干渉ＩＰＩ４４１を鮮明に形成できる。
従って、この位相型ホログラムをスキャナとして用いれ
ば、者直に近い角度で入射するレープビーム等を効率よ
く直線走査させることかで番る（回折光３５として）。
ば、者直に近い角度で入射するレープビーム等を効率よ
く直線走査させることかで番る（回折光３５として）。
また、ホログラムコピーのマスク（第４図の１０）とし
て用いる場合（ヒは回折光５５の強度を充分に高めるこ
とができる。
て用いる場合（ヒは回折光５５の強度を充分に高めるこ
とができる。
次に詳細な実施例を説明する。
実施列１
これｙｉ基本ホログラムとして振幅型ホログラムを用い
る場合である。■乾板としてｋｏｄａｋ １２０−０１
（商品名）を用い、これをＡｒレーザで２光束篇九する
。２光束の入射角は±１５０で、交角は５０’である。
る場合である。■乾板としてｋｏｄａｋ １２０−０１
（商品名）を用い、これをＡｒレーザで２光束篇九する
。２光束の入射角は±１５０で、交角は５０’である。
この後、現像、定着処理ｔして４光量（ＯＤ）０．４ｇ
ｇの低効率の振幅型ホログラム１′を作成する。このホ
ログラムのブラッグ角は±１５°（＝ｆ’ｔ ）である
。■この畿＝ｇホログラム１′上に感光剤７としてムク
ロム酸ゼラチンを４〜５μ襲の厚みに塗布する。■しか
る後Ａｒレーザ（第５図の光６ｏに相当する）を振幅型
ホログラム１′側から入射角５０’で照射し、ムクロム
酸ゼラチン膜７を露光する。。
ｇの低効率の振幅型ホログラム１′を作成する。このホ
ログラムのブラッグ角は±１５°（＝ｆ’ｔ ）である
。■この畿＝ｇホログラム１′上に感光剤７としてムク
ロム酸ゼラチンを４〜５μ襲の厚みに塗布する。■しか
る後Ａｒレーザ（第５図の光６ｏに相当する）を振幅型
ホログラム１′側から入射角５０’で照射し、ムクロム
酸ゼラチン膜７を露光する。。
■−元後の電りロム酸ゼラチン展を現像、定着する。こ
の段階で層７ｒｉブラッグ角５０°、効率７゜チ以上の
位相型ホログラム７′に転化している。■全体をｎｒガ
スに浸すと振幅型ホログラム１′は漂白され位相型にな
る。しかし、この位相型ホロ゛グラムはＯＤがα４と小
さいので効率は数−程度であり、実質的に無視される。
の段階で層７ｒｉブラッグ角５０°、効率７゜チ以上の
位相型ホログラム７′に転化している。■全体をｎｒガ
スに浸すと振幅型ホログラム１′は漂白され位相型にな
る。しかし、この位相型ホロ゛グラムはＯＤがα４と小
さいので効率は数−程度であり、実質的に無視される。
以上により全体としてブラッグ角６０°（＝０２）、効
率７（１以上の位相型ホログラムが形成される。
率７（１以上の位相型ホログラムが形成される。
実施例２
これは基本ホログラムとして位相型を用いる場合である
。■位相型ホログラム１′は次の手順′で作成される。
。■位相型ホログラム１′は次の手順′で作成される。
乾板としてガラス基板２上に感光剤ｐｖｃ。
を１〜２μ＋ｌ＋塗布したものを用い、Ａｒレーザで２
光東露光する（入射角±１５°、交角６０°）。これを
ｉｔｓ、足麿してブラッグ角θ１＝±１５°、効率５〜
１０ｑｂ（Ｄ位相型ホログラム１′を得る。■この基本
ホログラム１の上ｌ−に史に感光剤７としてＰＶＣｚを
４〜５μ属塗布する。（杢）そして、基本ホログラム１
′側からＡｒレーザ（光３・口に相当する）を入射角６
０°で照射し、ｐｖｃ、層７を露光する。■これを現像
、定着するとＰＶＣＳ層７はブラッグ角θｍ−６０°、
効率７０チ程度の位相型ホログラム７′に転化する。こ
の状態で下層のＰＶＣｚ層、つまり基本ホログラム１′
はその効率が低いために実質的に無祝さｆＬ、全４とし
ては実施例１と同様の２層構造の位相屋ホログラムが得
られる。
光東露光する（入射角±１５°、交角６０°）。これを
ｉｔｓ、足麿してブラッグ角θ１＝±１５°、効率５〜
１０ｑｂ（Ｄ位相型ホログラム１′を得る。■この基本
ホログラム１の上ｌ−に史に感光剤７としてＰＶＣｚを
４〜５μ属塗布する。（杢）そして、基本ホログラム１
′側からＡｒレーザ（光３・口に相当する）を入射角６
０°で照射し、ｐｖｃ、層７を露光する。■これを現像
、定着するとＰＶＣＳ層７はブラッグ角θｍ−６０°、
効率７０チ程度の位相型ホログラム７′に転化する。こ
の状態で下層のＰＶＣｚ層、つまり基本ホログラム１′
はその効率が低いために実質的に無祝さｆＬ、全４とし
ては実施例１と同様の２層構造の位相屋ホログラムが得
られる。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、位相製ホログラムの
ブラッグ角を記録時と異なる任意の値に変更でき、再生
光に対してホログラムブラッグ角を合せることができて
甚だ有用である利点がある。
ブラッグ角を記録時と異なる任意の値に変更でき、再生
光に対してホログラムブラッグ角を合せることができて
甚だ有用である利点がある。
ｆｉｇ１図は位相型ホログラムの説明図、第２図は（
ホログラムスキャナの説明図、第５図は従来の位相型ホ
ログラムの作成方法をボす説明図、第４図はホログラム
コピーの説明図、第５図は本発明方法の概略説明図であ
る。 図中 １１は基本ホログラム、７はホログラム感光剤、
７′は位相型ホログラムである。 出 願 人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔
ログラムの作成方法をボす説明図、第４図はホログラム
コピーの説明図、第５図は本発明方法の概略説明図であ
る。 図中 １１は基本ホログラム、７はホログラム感光剤、
７′は位相型ホログラムである。 出 願 人 富士通株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔
Claims (1)
- 低回折効率の基本ホログラムの上層にホログラム感光剤
を塗布し、そして鎮基本ホログラムを通して該ホログラ
ム感光剤を４光し現像、定着して、該感光剤を該基本ホ
ログラムとは異なるブラッグ角のかつ高回折効率の位相
量ホログラムに転化することを％愼とする２層構造の位
相製ホログラムの作成方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5149782A JPS58168076A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 位相型ホログラムの作成方法 |
| EP83300833A EP0087281B1 (en) | 1982-02-23 | 1983-02-18 | Method of constructing holograms |
| DE8383300833T DE3367470D1 (en) | 1982-02-23 | 1983-02-18 | Method of constructing holograms |
| CA000422051A CA1292631C (en) | 1982-02-23 | 1983-02-21 | Method for constructing holograms |
| US07/196,754 US4904033A (en) | 1982-02-23 | 1988-05-18 | Method for constructing holograms |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5149782A JPS58168076A (ja) | 1982-03-30 | 1982-03-30 | 位相型ホログラムの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58168076A true JPS58168076A (ja) | 1983-10-04 |
| JPH0445831B2 JPH0445831B2 (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=12888606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5149782A Granted JPS58168076A (ja) | 1982-02-23 | 1982-03-30 | 位相型ホログラムの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58168076A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0430981U (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-12 | ||
| JPH0453271U (ja) * | 1990-09-13 | 1992-05-07 | ||
| JP2003525472A (ja) * | 2000-03-02 | 2003-08-26 | フィジィカル オプティクス コーポレーション | 拡散体を有する光導体を用いたスキャナ |
| KR20220121883A (ko) | 2020-02-25 | 2022-09-01 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 저항 스폿 용접 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5766467A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of relief hologram |
| JPS57173872A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of relief hologram |
-
1982
- 1982-03-30 JP JP5149782A patent/JPS58168076A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5766467A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of relief hologram |
| JPS57173872A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of relief hologram |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0430981U (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-12 | ||
| JPH0453271U (ja) * | 1990-09-13 | 1992-05-07 | ||
| JP2003525472A (ja) * | 2000-03-02 | 2003-08-26 | フィジィカル オプティクス コーポレーション | 拡散体を有する光導体を用いたスキャナ |
| KR20220121883A (ko) | 2020-02-25 | 2022-09-01 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 저항 스폿 용접 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0445831B2 (ja) | 1992-07-28 |
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