JP3432085B2 - 走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置Info
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置に関
し、特に半導体レーザーより成る光源手段から放射した
光束を偏向素子で偏向させ、ｆθ特性を有した走査光学
素子（結像素子）を介して被走査面上を光走査して画像
情報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを
有するレーザービームプリンター（ＬＢＰ）やデジタル
複写機等の装置に好適な走査光学装置に関するものであ
る。
し、特に半導体レーザーより成る光源手段から放射した
光束を偏向素子で偏向させ、ｆθ特性を有した走査光学
素子（結像素子）を介して被走査面上を光走査して画像
情報を記録するようにした、例えば電子写真プロセスを
有するレーザービームプリンター（ＬＢＰ）やデジタル
複写機等の装置に好適な走査光学装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンターやデ
ジタル複写機等に用いられる走査光学装置においては画
像信号に応じて光源手段から光変調され放射した光束
を、例えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏
向器により周期的に偏向させ、ｆθ特性を有する走査光
学素子（結像素子）によって感光性の記録媒体（感光ド
ラム）面上にスポット状に集束させ、その面上を光走査
して画像記録を行っている。
ジタル複写機等に用いられる走査光学装置においては画
像信号に応じて光源手段から光変調され放射した光束
を、例えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏
向器により周期的に偏向させ、ｆθ特性を有する走査光
学素子（結像素子）によって感光性の記録媒体（感光ド
ラム）面上にスポット状に集束させ、その面上を光走査
して画像記録を行っている。
【０００３】このようなレーザービームプリンター（Ｌ
ＢＰ）等に用いられる走査光学装置としては、該ＬＢＰ
の低価格化、コンパクト化に伴い、環境変動に強く、し
かも高精細な印字に適した装置の要求が高まっている。
ＢＰ）等に用いられる走査光学装置としては、該ＬＢＰ
の低価格化、コンパクト化に伴い、環境変動に強く、し
かも高精細な印字に適した装置の要求が高まっている。
【０００４】図１１はこの種の従来の走査光学装置の要
部概略図である。
部概略図である。
【０００５】同図において光源手段２１から放射した発
散光束はコリメーターレンズ２２により略平行光束とさ
れ、絞り２３によって該光束（光量）を制限して副走査
方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ
２４に入射している。シリンドリカルレンズ２４に入射
した平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平
行光束の状態で射出する。又副走査断面内においては集
束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器
２５の偏向面（反射面）２５ａにほぼ線像として結像し
ている。
散光束はコリメーターレンズ２２により略平行光束とさ
れ、絞り２３によって該光束（光量）を制限して副走査
方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ
２４に入射している。シリンドリカルレンズ２４に入射
した平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平
行光束の状態で射出する。又副走査断面内においては集
束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器
２５の偏向面（反射面）２５ａにほぼ線像として結像し
ている。
【０００６】そして光偏向器２５の偏向面２５ａで偏向
された光束をｆθ特性を有する走査光学素子（ｆθレン
ズ）２６を介して被走査面としての感光ドラム面２８上
に導光し、該光偏向器２５を矢印Ａ方向に回転させるこ
とによって、該感光ドラム面２８上を矢印Ｂ方向に光走
査している。これにより記録媒体である感光ドラム面２
８上に画像記録を行なっている。
された光束をｆθ特性を有する走査光学素子（ｆθレン
ズ）２６を介して被走査面としての感光ドラム面２８上
に導光し、該光偏向器２５を矢印Ａ方向に回転させるこ
とによって、該感光ドラム面２８上を矢印Ｂ方向に光走
査している。これにより記録媒体である感光ドラム面２
８上に画像記録を行なっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】近年、この種の走査光
学装置における走査光学素子（ｆθレンズ）は低価格及
びコンパクト化の要求から、プラスチック材料より成る
プラスチックレンズを使用したものが主流となってい
る。しかしながらプラスチックレンズは使用環境の変化
（温度変化）に伴い屈折率が変化するという性質をもつ
ため、該プラスチックレンズを用いた走査光学装置では
環境変動による主走査方向の倍率変化やピント変化が生
じる。
学装置における走査光学素子（ｆθレンズ）は低価格及
びコンパクト化の要求から、プラスチック材料より成る
プラスチックレンズを使用したものが主流となってい
る。しかしながらプラスチックレンズは使用環境の変化
（温度変化）に伴い屈折率が変化するという性質をもつ
ため、該プラスチックレンズを用いた走査光学装置では
環境変動による主走査方向の倍率変化やピント変化が生
じる。
【０００８】図９はこの問題点を説明するための走査光
学装置の比較例の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）であり、表−１にその比較例における光学配置とｆ
θレンズの非球面係数を示す。図１０はこの走査光学装
置の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差そして像高ずれを
示した説明図であり、実線は常温での特性、点線は２５
℃昇温が生じた場合の特性を示している。尚、図９にお
いて図１１に示した要素と同一要素には同符番を付して
いる。
学装置の比較例の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）であり、表−１にその比較例における光学配置とｆ
θレンズの非球面係数を示す。図１０はこの走査光学装
置の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差そして像高ずれを
示した説明図であり、実線は常温での特性、点線は２５
℃昇温が生じた場合の特性を示している。尚、図９にお
いて図１１に示した要素と同一要素には同符番を付して
いる。
【０００９】
【表１】
図１０から解るように昇温により主走査方向のピント及
び倍率は共に変化が大きく、特に高精細な印字を行う為
の走査光学装置では、この環境変動（温度変化）による
ピント変化や倍率変化は問題となっている。
び倍率は共に変化が大きく、特に高精細な印字を行う為
の走査光学装置では、この環境変動（温度変化）による
ピント変化や倍率変化は問題となっている。
【００１０】本発明は走査光学装置の温度変動に伴なう
主走査方向の倍率変化及びピント変化を走査光学素子の
屈折部と回折部とのパワー変化と、半導体レーザーの波
長変動により補正することにより、環境変動（温度変
化）に強く、しかも高精細な印字に適したコンパクトな
走査光学装置の提供を目的とする。
主走査方向の倍率変化及びピント変化を走査光学素子の
屈折部と回折部とのパワー変化と、半導体レーザーの波
長変動により補正することにより、環境変動（温度変
化）に強く、しかも高精細な印字に適したコンパクトな
走査光学装置の提供を目的とする。
【００１１】又、本発明は走査光学装置の温度変動に伴
なう主走査方向のピント変化を光学素子の１面に付加し
た回折部のパワー変化と、半導体レーザーの波長変動に
より補正することにより、環境変動（温度変化）に強
く、しかも高精細な印字に適したコンパクトな走査光学
装置の提供を目的とする。
なう主走査方向のピント変化を光学素子の１面に付加し
た回折部のパワー変化と、半導体レーザーの波長変動に
より補正することにより、環境変動（温度変化）に強
く、しかも高精細な印字に適したコンパクトな走査光学
装置の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の走査光
学装置は半導体レーザーよりなる光源手段から放射した
光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向された光
束を被走査面上に導光する屈折部と回折部とを有する走
査光学素子と、を備えた走査光学装置において、前記走
査光学装置の屈折部の温度変動に伴う主走査方向のピン
ト変化が該温度変動による光源手段の波長変動による回
折部のパワー変化で補正されていることを特徴としてい
る。請求項２の発明は、請求項１の発明において前記走
査光学装置の屈折部の温度変動に伴う主走査方向のピン
ト変化が、温度変動で起こる前記屈折部の屈折率の変化
及び温度変動で起こる光源手段の波長変動による屈折部
の屈折率の変化による主走査方向のパワー変化により生
じることを特徴としている。請求項３の発明は、請求項
１又は２の発明において前記走査光学装置の屈折部は、
プラスチックレンズを有することを特徴としている。
学装置は半導体レーザーよりなる光源手段から放射した
光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向された光
束を被走査面上に導光する屈折部と回折部とを有する走
査光学素子と、を備えた走査光学装置において、前記走
査光学装置の屈折部の温度変動に伴う主走査方向のピン
ト変化が該温度変動による光源手段の波長変動による回
折部のパワー変化で補正されていることを特徴としてい
る。請求項２の発明は、請求項１の発明において前記走
査光学装置の屈折部の温度変動に伴う主走査方向のピン
ト変化が、温度変動で起こる前記屈折部の屈折率の変化
及び温度変動で起こる光源手段の波長変動による屈折部
の屈折率の変化による主走査方向のパワー変化により生
じることを特徴としている。請求項３の発明は、請求項
１又は２の発明において前記走査光学装置の屈折部は、
プラスチックレンズを有することを特徴としている。
【００１３】請求項４の発明の走査光学装置は半導体レ
ーザーよりなる光源手段から放射した光束を偏向する偏
向素子と、該偏向素子で偏向された光束を被走査面上に
導光する屈折部と回折部とを有する走査光学素子と、を
備えた走査光学装置において、前記走査光学素子は、温
度変動による屈折部の主走査方向のパワー変化および温
度変動による回折部の主走査方向のパワー変化が生じて
おり、前記走査光学素子の屈折部の主走査方向のパワー
と回折部の主走査方向のパワーを各々φＬ及びφＤとし
たとき、 １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴としている。 請求項５の
発明の走査光学装置は半導体レーザーよりなる光源手段
から放射した光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で
偏向された光束を被走査面上に導光する屈折部と回折部
とを有する走査光学素子と、を備えた走査光学装置にお
いて、温度変動で起こる屈折率の変化による前記走査光
学素子の屈折部の主走査方向のパワー変化及び温度変動
で起こる光源手段の波長変動による前記走査光学素子の
屈折部の主走査方向のパワー変化が、温度変動で起こる
光源手段の波長変動による前記走査光学素子の回折部の
主走査方向のパワー変化により補正されていることを特
徴としている。請求項６の発明は請求項４又は５の発明
において前記走査光学素子の屈折部は、プラスチックレ
ンズを有することを特徴としている。
ーザーよりなる光源手段から放射した光束を偏向する偏
向素子と、該偏向素子で偏向された光束を被走査面上に
導光する屈折部と回折部とを有する走査光学素子と、を
備えた走査光学装置において、前記走査光学素子は、温
度変動による屈折部の主走査方向のパワー変化および温
度変動による回折部の主走査方向のパワー変化が生じて
おり、前記走査光学素子の屈折部の主走査方向のパワー
と回折部の主走査方向のパワーを各々φＬ及びφＤとし
たとき、 １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴としている。 請求項５の
発明の走査光学装置は半導体レーザーよりなる光源手段
から放射した光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で
偏向された光束を被走査面上に導光する屈折部と回折部
とを有する走査光学素子と、を備えた走査光学装置にお
いて、温度変動で起こる屈折率の変化による前記走査光
学素子の屈折部の主走査方向のパワー変化及び温度変動
で起こる光源手段の波長変動による前記走査光学素子の
屈折部の主走査方向のパワー変化が、温度変動で起こる
光源手段の波長変動による前記走査光学素子の回折部の
主走査方向のパワー変化により補正されていることを特
徴としている。請求項６の発明は請求項４又は５の発明
において前記走査光学素子の屈折部は、プラスチックレ
ンズを有することを特徴としている。
【００１４】請求項７の発明は、請求項１〜３、５、６
のいずれか1項の発明において前記走査光学素子の主走
査方向の屈折部と主走査方向の回折部との主走査方向の
パワーを各々φＬ，φＤとしたとき １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴としている。
のいずれか1項の発明において前記走査光学素子の主走
査方向の屈折部と主走査方向の回折部との主走査方向の
パワーを各々φＬ，φＤとしたとき １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴としている。
【００１５】請求項８の発明は、請求項１〜６のいずれ
か1項の発明において前記走査光学素子の屈折部と回折
部との主走査方向のパワー比が軸上から軸外に向かい一
定であることを特徴としている。
か1項の発明において前記走査光学素子の屈折部と回折
部との主走査方向のパワー比が軸上から軸外に向かい一
定であることを特徴としている。
【００１６】請求項９の発明は、請求項１〜６のいずれ
か１項の発明において前記走査光学装置の屈折部の温度
変動に伴う主走査方向の倍率変化が該温度変動による光
源手段の波長変動による回折部のパワー変化で補正され
ていることを特徴としている。
か１項の発明において前記走査光学装置の屈折部の温度
変動に伴う主走査方向の倍率変化が該温度変動による光
源手段の波長変動による回折部のパワー変化で補正され
ていることを特徴としている。
【００１７】請求項１０の発明のレーザービームプリン
タは、請求項１〜９のいずれか１項に記載の走査光学装
置と、前記被走査面として感光ドラム面を使用したこと
を特徴としている。
タは、請求項１〜９のいずれか１項に記載の走査光学装
置と、前記被走査面として感光ドラム面を使用したこと
を特徴としている。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の主走
査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
【００１９】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から放射された発散光束（光ビー
ム）を平行光束に変換している。３は開口絞りであり、
通過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカル
レンズ（シリンダーレンズ）であり、副走査方向にのみ
所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過した光束
を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向面５ａにほ
ぼ線像として結像させている。
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から放射された発散光束（光ビー
ム）を平行光束に変換している。３は開口絞りであり、
通過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカル
レンズ（シリンダーレンズ）であり、副走査方向にのみ
所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過した光束
を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向面５ａにほ
ぼ線像として結像させている。
【００２０】５は偏向素子としての例えばポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター等
の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度
で回転している。
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター等
の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度
で回転している。
【００２１】６はｆθ特性を有する走査光学素子であ
り、屈折部６ａと回折部６ｂとを有している。屈折部６
ａはプラスチック材料より成る単レンズ（ｆθレンズ）
より成り、該単レンズ６ａの主走査方向の両レンズ面は
非球面形状より成っている。又単レンズ６ａは主走査方
向と副走査方向とで異なる屈折力を有している。回折部
６ｂは回折光学素子より成り、例えばフォトエッチング
による階段状の回折格子からなるバイナリー回折光学素
子や、表面切削による鋸歯状の回折格子からなるフレネ
ル状の回折光学素子等より成っている。本実施形態では
単レンズ６ａの両レンズ面のうち少なくとも一方（被走
査面側）のレンズ面に該回折光学素子６ｂを付加してお
り、又屈折部６ａと回折部６ｂとのパワー（屈折力）比
を軸上から軸外に向かい一定となるように構成してい
る。走査光学素子６は光偏向器５によって偏向された画
像情報に基づく光束を被走査面である感光ドラム面８上
に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面の面倒れを補正し
ている。
り、屈折部６ａと回折部６ｂとを有している。屈折部６
ａはプラスチック材料より成る単レンズ（ｆθレンズ）
より成り、該単レンズ６ａの主走査方向の両レンズ面は
非球面形状より成っている。又単レンズ６ａは主走査方
向と副走査方向とで異なる屈折力を有している。回折部
６ｂは回折光学素子より成り、例えばフォトエッチング
による階段状の回折格子からなるバイナリー回折光学素
子や、表面切削による鋸歯状の回折格子からなるフレネ
ル状の回折光学素子等より成っている。本実施形態では
単レンズ６ａの両レンズ面のうち少なくとも一方（被走
査面側）のレンズ面に該回折光学素子６ｂを付加してお
り、又屈折部６ａと回折部６ｂとのパワー（屈折力）比
を軸上から軸外に向かい一定となるように構成してい
る。走査光学素子６は光偏向器５によって偏向された画
像情報に基づく光束を被走査面である感光ドラム面８上
に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面の面倒れを補正し
ている。
【００２２】本実施形態において半導体レーザー１から
放射した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光量）を
制限してシリンドリカルレンズ４に入射している。シリ
ンドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面に
おいてはそのままの状態で射出する。又副走査断面にお
いては集束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主
走査方向に長手の線像）として結像している。そして光
偏向器５の偏向面５ａで偏向された光束は走査光学素子
６を介して感光ドラム面８上に導光され、該光偏向器５
を矢印Ａ方向に回転させることによって該感光ドラム面
８上を矢印Ｂ方向に光走査している。これにより記録媒
体である感光ドラム面８上に画像記録を行なっている。
放射した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光量）を
制限してシリンドリカルレンズ４に入射している。シリ
ンドリカルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面に
おいてはそのままの状態で射出する。又副走査断面にお
いては集束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主
走査方向に長手の線像）として結像している。そして光
偏向器５の偏向面５ａで偏向された光束は走査光学素子
６を介して感光ドラム面８上に導光され、該光偏向器５
を矢印Ａ方向に回転させることによって該感光ドラム面
８上を矢印Ｂ方向に光走査している。これにより記録媒
体である感光ドラム面８上に画像記録を行なっている。
【００２３】本実施形態における走査光学素子６を構成
する単レンズ（ｆθレンズ）６ａと該単レンズ６ａの被
走査面８側のレンズ面に付加された回折光学素子６ｂの
形状はそれぞれ、 単レンズ．．．主走査方向が１０次までの関数で表わ
せる非球面形状、単レンズ６ａと光軸との交点を原点と
し、光軸方向をｘ軸、主走査面内において光軸と直交す
る軸をｙ軸、副走査面内において光軸と直交する軸をｚ
軸としたとき、
する単レンズ（ｆθレンズ）６ａと該単レンズ６ａの被
走査面８側のレンズ面に付加された回折光学素子６ｂの
形状はそれぞれ、 単レンズ．．．主走査方向が１０次までの関数で表わ
せる非球面形状、単レンズ６ａと光軸との交点を原点と
し、光軸方向をｘ軸、主走査面内において光軸と直交す
る軸をｙ軸、副走査面内において光軸と直交する軸をｚ
軸としたとき、
【００２４】
【数１】
回折光学素子．．．主走査方向が８次までの位相関数
ｗで表わされる回折面 ｗ＝ C2Y2+C4Y4+C6Y6+C8Y8 なる式で表わされるものである。
ｗで表わされる回折面 ｗ＝ C2Y2+C4Y4+C6Y6+C8Y8 なる式で表わされるものである。
【００２５】ここで走査光学装置が、例えばｄｔだけ昇
温した場合を考える。この昇温により走査光学素子６の
屈折部６ａの屈折率ｎはｄｎ／ｄｔ変化し、これに伴う
パワー（屈折力）変化ｄφI は、 ｄφI ＝φL ／（ｎ−１）×ｄｎ／ｄｔ ｎ ：屈折部６ａの屈折率 φL ：屈折部６ａのパワー となる。
温した場合を考える。この昇温により走査光学素子６の
屈折部６ａの屈折率ｎはｄｎ／ｄｔ変化し、これに伴う
パワー（屈折力）変化ｄφI は、 ｄφI ＝φL ／（ｎ−１）×ｄｎ／ｄｔ ｎ ：屈折部６ａの屈折率 φL ：屈折部６ａのパワー となる。
【００２６】一方、昇温により半導体レーザー１の発振
波長λもｄλ／ｄｔ変化し、これに伴う屈折部６ａと回
折部６ｂとのパワー（屈折力）変化ｄφL ，ｄφD はそ
れぞれ、 ｄφL ＝−φL ／（１７０×νL ）×ｄλ／ｄｔ ｄφD ＝−φD ／（１７０×νD ）×ｄλ／ｄｔ νL ：屈折部６ａのアッベ数 νD ：回折部６ｂのアッベ数 φL ：屈折部６ａのパワー φD ：回折部６ｂのパワー となる。
波長λもｄλ／ｄｔ変化し、これに伴う屈折部６ａと回
折部６ｂとのパワー（屈折力）変化ｄφL ，ｄφD はそ
れぞれ、 ｄφL ＝−φL ／（１７０×νL ）×ｄλ／ｄｔ ｄφD ＝−φD ／（１７０×νD ）×ｄλ／ｄｔ νL ：屈折部６ａのアッベ数 νD ：回折部６ｂのアッベ数 φL ：屈折部６ａのパワー φD ：回折部６ｂのパワー となる。
【００２７】ここで昇温により主走査方向の倍率変化や
ピント変化を抑えるためには、以下の式を満足させる必
要がある。
ピント変化を抑えるためには、以下の式を満足させる必
要がある。
【００２８】ｄφI ＋ｄφL ＋ｄφD ＝０
又、回折部６ｂのアッベ数νD 、昇温に伴う変化量を、
例えば以下のように定義する。
例えば以下のように定義する。
【００２９】νD ＝−３．４５３
ｄｎ／ｄｔ＝−１．２Ｅ−４／℃
ｄλ／ｄｔ＝０．２５５ｎｍ／℃
ｄφI ＋ｄφL ＋ｄφD ＝０
φL ／(n-1) dn／dt−（φL ／(170νL)＋φD ／(170ν
D)） dλ／dt＝０ ( 1.2E-4／(n-1) ＋ 1.5E-3 ／νL ）φL ＝ 4.34E-4φ
D ここで屈折部６ａの屈折率、アッベ数の取り得る値を考
慮すると、 １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ ・・・・・・（１） φＬ：屈折部６ａのパワー φＤ：回折部６ｂのパワー となり、環境変動（昇温）による主走査方向における倍
率変化やピント変化を、半導体レーザー１の波長変化に
より補正するために必要な走査光学素子６の屈折部６ａ
と回折部６ｂとのパワー比を導くことができる。
D)） dλ／dt＝０ ( 1.2E-4／(n-1) ＋ 1.5E-3 ／νL ）φL ＝ 4.34E-4φ
D ここで屈折部６ａの屈折率、アッベ数の取り得る値を考
慮すると、 １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ ・・・・・・（１） φＬ：屈折部６ａのパワー φＤ：回折部６ｂのパワー となり、環境変動（昇温）による主走査方向における倍
率変化やピント変化を、半導体レーザー１の波長変化に
より補正するために必要な走査光学素子６の屈折部６ａ
と回折部６ｂとのパワー比を導くことができる。
【００３０】条件式（１）は走査光学素子６を構成する
屈折部６ａのパワーと回折部６ｂのパワーとの比に関す
るものであり、条件式（１）を外れると走査光学装置の
環境変動に伴なう主走査方向の倍率変化やピント変化を
補正することが難しくなってくるので良くない。
屈折部６ａのパワーと回折部６ｂのパワーとの比に関す
るものであり、条件式（１）を外れると走査光学装置の
環境変動に伴なう主走査方向の倍率変化やピント変化を
補正することが難しくなってくるので良くない。
【００３１】表−２に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯＥ）
６ｂの位相項を示す。
θレンズ６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯＥ）
６ｂの位相項を示す。
【００３２】
【表２】
本実施形態では走査光学素子６の屈折部６ａと回折部６
ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝１．３６９ とし条件式（１）を満足させている。図２は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る（尚同図では
昇温前後の差が微小なため昇温前後のグラフが重なって
いる）。
ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝１．３６９ とし条件式（１）を満足させている。図２は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る（尚同図では
昇温前後の差が微小なため昇温前後のグラフが重なって
いる）。
【００３３】このように本実施形態では上述の如く走査
光学素子６をレンズより成る屈折部６ａと回折光学素子
より成る回折部６ｂとから構成し、該屈折部６ａと回折
部６ｂとのパワー比を上記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、走査光学装置の
温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化やピント変化
を、該屈折部６ａと回折部６ｂとのパワー変化と、半導
体レーザー１の波長変動により補正している。これによ
り本実施形態では環境変動に強く、しかも高精細な印字
に適した走査光学装置をコンパクトで、かつ安価に得て
いる。
光学素子６をレンズより成る屈折部６ａと回折光学素子
より成る回折部６ｂとから構成し、該屈折部６ａと回折
部６ｂとのパワー比を上記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、走査光学装置の
温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化やピント変化
を、該屈折部６ａと回折部６ｂとのパワー変化と、半導
体レーザー１の波長変動により補正している。これによ
り本実施形態では環境変動に強く、しかも高精細な印字
に適した走査光学装置をコンパクトで、かつ安価に得て
いる。
【００３４】図３は本発明の実施形態２の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００３５】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、走査光学素子３６の屈折部（ｆθレンズ）３
６ａの材質を実施形態１に比べて屈折率の高いプラスチ
ック材料より構成した点と、これに伴い走査光学素子３
６の屈折部３６ａと回折部（回折光学素子）３６ｂとの
パワー比を異ならせた点である。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
なる点は、走査光学素子３６の屈折部（ｆθレンズ）３
６ａの材質を実施形態１に比べて屈折率の高いプラスチ
ック材料より構成した点と、これに伴い走査光学素子３
６の屈折部３６ａと回折部（回折光学素子）３６ｂとの
パワー比を異ならせた点である。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
【００３６】表−３に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ３６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯ
Ｅ）３６ｂの位相項を示す。
θレンズ３６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯ
Ｅ）３６ｂの位相項を示す。
【００３７】
【表３】
本実施形態では走査光学素子３６の屈折部３６ａと回折
部３６ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝２．０３８ とし条件式（１）を満足させている。図４は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る。
部３６ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝２．０３８ とし条件式（１）を満足させている。図４は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る。
【００３８】このように本実施形態では上述の如く屈折
部（ｆθレンズ）３６ａの材質を実施形態１に比べて屈
折率の高い材料で構成しても、該屈折部３６ａと回折部
３６ｂとのパワー比を前記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、実施形態１と同
様に走査光学装置の温度変動に伴なう主走査方向の倍率
変化やピント変化を、該屈折部３６ａと回折部３６ｂと
のパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動により補
正することができる。又本実施形態においては屈折率の
高い材料を用いて屈折部（ｆθレンズ）３６ａを構成し
ている為、該屈折部３６ａの中心肉厚を薄くすることが
でき、これにより更なる低価格化を図ることができる。
部（ｆθレンズ）３６ａの材質を実施形態１に比べて屈
折率の高い材料で構成しても、該屈折部３６ａと回折部
３６ｂとのパワー比を前記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、実施形態１と同
様に走査光学装置の温度変動に伴なう主走査方向の倍率
変化やピント変化を、該屈折部３６ａと回折部３６ｂと
のパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動により補
正することができる。又本実施形態においては屈折率の
高い材料を用いて屈折部（ｆθレンズ）３６ａを構成し
ている為、該屈折部３６ａの中心肉厚を薄くすることが
でき、これにより更なる低価格化を図ることができる。
【００３９】図５は本発明の実施形態３の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００４０】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、走査光学素子５６の屈折部（ｆθレンズ）５
６ａの材質を実施形態１に比べて屈折率の低いプラスチ
ック材料より構成した点と、これに伴い走査光学素子５
６の屈折部５６ａと回折部（回折光学素子）５６ｂとの
パワー比を異ならせた点である。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
なる点は、走査光学素子５６の屈折部（ｆθレンズ）５
６ａの材質を実施形態１に比べて屈折率の低いプラスチ
ック材料より構成した点と、これに伴い走査光学素子５
６の屈折部５６ａと回折部（回折光学素子）５６ｂとの
パワー比を異ならせた点である。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
【００４１】表−４に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ５６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯ
Ｅ）５６ｂの位相項を示す。
θレンズ５６ａの非球面係数及び回折光学素子（ＢＯ
Ｅ）５６ｂの位相項を示す。
【００４２】
【表４】
本実施形態では走査光学素子５６の屈折部５６ａと回折
部５６ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝１．０５２ とし条件式（１）を満足させている。図６は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る。
部５６ｂとのパワー比を φＬ／φＤ＝１．０５２ とし条件式（１）を満足させている。図６は本実施形態
における昇温前後の主走査方向の像面湾曲、歪曲収差
（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した説明図であり、
実線は常温での特性、点線は２５℃昇温が生じたときの
特性を示している。同図から昇温前後の主走査方向のピ
ント変化、倍率変化が殆どないことが解る。
【００４３】このように本実施形態では上述の如く屈折
部（ｆθレンズ）５６ａの材質を実施形態１に比べて屈
折率の低い材料で構成しても、該屈折部５６ａと回折部
５６ｂとのパワー比を前記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、実施形態１と同
様に走査光学装置の温度変動に伴なう主走査方向の倍率
変化やピント変化を、該屈折部５６ａと回折部５６ｂと
のパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動により補
正することができる。
部（ｆθレンズ）５６ａの材質を実施形態１に比べて屈
折率の低い材料で構成しても、該屈折部５６ａと回折部
５６ｂとのパワー比を前記の条件式（１）を満足させる
ように適当な値に設定することにより、実施形態１と同
様に走査光学装置の温度変動に伴なう主走査方向の倍率
変化やピント変化を、該屈折部５６ａと回折部５６ｂと
のパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動により補
正することができる。
【００４４】図７は本発明の実施形態４の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００４５】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、回折部としての回折光学素子７４ｂを面倒れ
補正の為のシリンドリカルレンズ７４ａの１面に付加し
て構成したことである。その他の構成及び光学的作用は
前述の実施形態１と略同様である。
なる点は、回折部としての回折光学素子７４ｂを面倒れ
補正の為のシリンドリカルレンズ７４ａの１面に付加し
て構成したことである。その他の構成及び光学的作用は
前述の実施形態１と略同様である。
【００４６】即ち、同図において７４は面倒れ補正の為
のアナモフィック光学素子であり、屈折部７４ａと回折
部７４ｂとを有しており、該屈折部７４ａはシリンドリ
カルレンズ（平凸レンズ）より成り、該回折部７４ｂは
前述した階段状の回折格子から成るバイナリー光学素子
や鋸歯状の回折格子から成るフレネル状の光学素子等の
回折光学素子より成り、該シリンドリカルレンズ７４ａ
の光偏向器５側のレンズ面に該回折光学素子７４ｂを付
加している。７６はｆθ特性を有する走査光学素子であ
り、プラスチック材料より成る単レンズ（ｆθレンズ）
より成り、該単レンズ７６の主走査方向の両レンズ面を
非球面形状より形成している。又単レンズ７６は主走査
方向と副走査方向とで異なる屈折力を有しており、光偏
向器５によって偏向された画像情報に基づく光束を被走
査面である感光ドラム面８上に結像させ、かつ光偏向器
５の偏向面の面倒れを補正している。
のアナモフィック光学素子であり、屈折部７４ａと回折
部７４ｂとを有しており、該屈折部７４ａはシリンドリ
カルレンズ（平凸レンズ）より成り、該回折部７４ｂは
前述した階段状の回折格子から成るバイナリー光学素子
や鋸歯状の回折格子から成るフレネル状の光学素子等の
回折光学素子より成り、該シリンドリカルレンズ７４ａ
の光偏向器５側のレンズ面に該回折光学素子７４ｂを付
加している。７６はｆθ特性を有する走査光学素子であ
り、プラスチック材料より成る単レンズ（ｆθレンズ）
より成り、該単レンズ７６の主走査方向の両レンズ面を
非球面形状より形成している。又単レンズ７６は主走査
方向と副走査方向とで異なる屈折力を有しており、光偏
向器５によって偏向された画像情報に基づく光束を被走
査面である感光ドラム面８上に結像させ、かつ光偏向器
５の偏向面の面倒れを補正している。
【００４７】本実施形態において半導体レーザー１から
放射した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光量）を
制限して屈折部（シリンドリカルレンズ）７４ａと回折
部（回折光学素子）７４ｂとから成るアナモフィック光
学素子７４に入射している。アナモフィック光学素子７
４に入射した光束のうち主走査断面においてはそのまま
の状態で射出する。又副走査断面においては集束して光
偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の
線像）として結像している。そして光偏向器５の偏向面
５ａで偏向された光束は主走査方向と副走査方向とで互
いに異なる屈折力を有するｆθレンズ７６を介して感光
ドラム面８上に導光され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に
回転させることによって該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方
向に光走査している。これにより記録媒体である感光ド
ラム面８上に画像記録を行なっている。
放射した発散光束はコリメーターレンズ２により略平行
光束に変換され、開口絞り３によって該光束（光量）を
制限して屈折部（シリンドリカルレンズ）７４ａと回折
部（回折光学素子）７４ｂとから成るアナモフィック光
学素子７４に入射している。アナモフィック光学素子７
４に入射した光束のうち主走査断面においてはそのまま
の状態で射出する。又副走査断面においては集束して光
偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の
線像）として結像している。そして光偏向器５の偏向面
５ａで偏向された光束は主走査方向と副走査方向とで互
いに異なる屈折力を有するｆθレンズ７６を介して感光
ドラム面８上に導光され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に
回転させることによって該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方
向に光走査している。これにより記録媒体である感光ド
ラム面８上に画像記録を行なっている。
【００４８】表−５に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ７６の非球面係数及び回折光学素子（ＢＯＥ）
７４ｂの位相項を示す。
θレンズ７６の非球面係数及び回折光学素子（ＢＯＥ）
７４ｂの位相項を示す。
【００４９】
【表５】
図８は本実施形態における昇温前後の主走査方向の像面
湾曲、歪曲収差（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した
説明図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃昇温
が生じたときの特性を示している。同図から昇温前後の
主走査方向のピント変化が殆どないことが解る。
湾曲、歪曲収差（ｆθ特性）そして像高ずれ等を示した
説明図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃昇温
が生じたときの特性を示している。同図から昇温前後の
主走査方向のピント変化が殆どないことが解る。
【００５０】このように本実施形態では上述の如くシリ
ンドリカルレンズ７４ａの１面に回折部としての回折光
学素子７４ｂを付加することにより、走査光学装置の温
度変動に伴なう主走査方向のピント変化を、該回折部７
４ｂのパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動によ
り補正している。又本実施形態においてはｆθレンズ
（走査光学素子）ではなくシリンドリカルレンズの１面
に回折光学素子を付加させたことにより、前述の実施形
態１〜３と比較してより容易な構成で効果を実現させる
ことができる。
ンドリカルレンズ７４ａの１面に回折部としての回折光
学素子７４ｂを付加することにより、走査光学装置の温
度変動に伴なう主走査方向のピント変化を、該回折部７
４ｂのパワー変化と、半導体レーザー１の波長変動によ
り補正している。又本実施形態においてはｆθレンズ
（走査光学素子）ではなくシリンドリカルレンズの１面
に回折光学素子を付加させたことにより、前述の実施形
態１〜３と比較してより容易な構成で効果を実現させる
ことができる。
【００５１】次に本発明の実施形態５について説明す
る。本実施形態において前述の実施形態４と異なる点
は、回折部としての回折光学素子をコリメーターレンズ
の１面に付加して構成したことである。その他の構成及
び光学的作用は前述の実施形態４と略同様であり、これ
により同様な効果を得ている。
る。本実施形態において前述の実施形態４と異なる点
は、回折部としての回折光学素子をコリメーターレンズ
の１面に付加して構成したことである。その他の構成及
び光学的作用は前述の実施形態４と略同様であり、これ
により同様な効果を得ている。
【００５２】即ち、本実施形態では屈折部としてのコリ
メーターレンズと、回折部としての回折光学素子とより
変換光学素子を構成し、該コリメーターレンズの両レン
ズ面のうち一方のレンズ面に回折光学素子を付加するこ
とにより、前述の実施形態４と同様に走査光学装置の温
度変動に伴なう主走査方向のピント変化を、該回折部の
パワー変化と半導体レーザーの波長変動により補正して
いる。
メーターレンズと、回折部としての回折光学素子とより
変換光学素子を構成し、該コリメーターレンズの両レン
ズ面のうち一方のレンズ面に回折光学素子を付加するこ
とにより、前述の実施形態４と同様に走査光学装置の温
度変動に伴なう主走査方向のピント変化を、該回折部の
パワー変化と半導体レーザーの波長変動により補正して
いる。
【００５３】尚、各実施形態においては回折光学素子を
光学系を構成する複数の光学素子のうち１つの光学素子
の１面に付加したが、これに限定することはなく、該回
折光学素子を光路内に独立させて配置しても本発明は前
述の各実施形態と同様な効果を得ることができる。
光学系を構成する複数の光学素子のうち１つの光学素子
の１面に付加したが、これに限定することはなく、該回
折光学素子を光路内に独立させて配置しても本発明は前
述の各実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００５４】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く走査光学装置
の温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化及びピント変
化を走査光学素子の屈折部と回折部とのパワー変化と、
半導体レーザーの波長変動により補正することにより、
環境変動（温度変化）に強く、しかも高精細な印字に適
したコンパクトな走査光学装置を達成することができ
る。
の温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化及びピント変
化を走査光学素子の屈折部と回折部とのパワー変化と、
半導体レーザーの波長変動により補正することにより、
環境変動（温度変化）に強く、しかも高精細な印字に適
したコンパクトな走査光学装置を達成することができ
る。
【００５５】又、本発明によれば前述の如く走査光学装
置の温度変動に伴なう主走査方向のピント変化を光学素
子の１面に付加した回折部のパワー変化と、半導体レー
ザーの波長変動により補正することにより、環境変動
（温度変化）に強く、しかも高精細な印字に適したコン
パクトな走査光学装置を達成することができる。
置の温度変動に伴なう主走査方向のピント変化を光学素
子の１面に付加した回折部のパワー変化と、半導体レー
ザーの波長変動により補正することにより、環境変動
（温度変化）に強く、しかも高精細な印字に適したコン
パクトな走査光学装置を達成することができる。
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向の要部断面
図
図
【図２】 本発明の実施形態１における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
【図３】 本発明の実施形態２の主走査方向の要部断面
図
図
【図４】 本発明の実施形態２における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
【図５】 本発明の実施形態３の主走査方向の要部断面
図
図
【図６】 本発明の実施形態３における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
【図７】 本発明の実施形態４の主走査方向の要部断面
図
図
【図８】 本発明の実施形態４における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
【図９】 従来の走査光学装置の主走査方向の要部断面
図
図
【図１０】 従来の走査光学装置における昇温前後の主
走査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
走査方向の像面湾曲、歪曲収差、像高ずれを示す図
【図１１】 従来例の走査光学装置の要部概略図
１ 光源手段（半導体レーザー）
２ コリメーターレンズ
３ 開口絞り
４ シリンドリカルレンズ
５ 偏向素子（ポリゴンミラー）
６，３６，５６，７６ 走査光学素子
６ａ，３６ａ，５６ａ 屈折部（ｆθレンズ）
６ｂ，３６ｂ，５６ｂ 回折部（回折光学素子）
７４ アナモフィック光学素子
７４ａ 屈折部（シリンドリカルレンズ）
７４ｂ 回折部（回折光学素子）
８ 被走査面（感光ドラム）
Claims (10)
- 【請求項１】 半導体レーザーよりなる光源手段から放
射した光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向さ
れた光束を被走査面上に導光する屈折部と回折部とを有
する走査光学素子と、を備えた走査光学装置において、 前記走査光学装置の屈折部の温度変動に伴う主走査方向
のピント変化が該温度変動による光源手段の波長変動に
よる回折部のパワー変化で補正されていることを特徴と
する走査光学装置。 - 【請求項２】 前記走査光学装置の屈折部の温度変動に
伴う主走査方向のピント変化が、温度変動で起こる前記
屈折部の屈折率の変化及び温度変動で起こる光源手段の
波長変動による屈折部の屈折率の変化による主走査方向
のパワー変化により生じることを特徴とする請求項１記
載の走査光学装置。 - 【請求項３】 前記走査光学装置の屈折部は、プラスチ
ックレンズを有することを特徴とする請求項１又は請求
項２記載の走査光学装置。 - 【請求項４】 半導体レーザーよりなる光源手段から放
射した光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向さ
れた光束を被走査面上に導光する屈折部と回折部とを有
する走査光学素子と、を備えた走査光学装置において、 前記走査光学素子は、温度変動による屈折部の主走査方
向のパワー変化および温度変動による回折部の主走査方
向のパワー変化が生じており、 前記走査光学素子の屈折部の主走査方向のパワーと回折
部の主走査方向のパワーを各々φＬ及びφＤとしたと
き、 １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴とする走査光学装置。 - 【請求項５】 半導体レーザーよりなる光源手段から放
射した光束を偏向する偏向素子と、該偏向素子で偏向さ
れた光束を被走査面上に導光する屈折部と回折部とを有
する走査光学素子と、を備えた走査光学装置において、 温度変動で起こる屈折率の変化による前記走査光学素子
の屈折部の主走査方向のパワー変化及び温度変動で起こ
る光源手段の波長変動による前記走査光学素子の屈折部
の主走査方向のパワー変化が、温度変動で起こる光源手
段の波長変動による前記走査光学素子の回折部の主走査
方向のパワー変化により補正されていることを特徴とす
る走査光学装置。 - 【請求項６】 前記走査光学素子の屈折部は、プラスチ
ックレンズを有することを特徴とする請求項４又は請求
項５記載の走査光学装置。 - 【請求項７】 前記走査光学素子の主走査方向の屈折部
と主走査方向の回折部との主走査方向のパワーを各々φ
Ｌ，φＤとしたとき １．０≦ φＬ／φＤ ≦２．６ なる条件を満足することを特徴とする請求項１〜３、
５、６のいずれか１項に記載の走査光学装置。 - 【請求項８】 前記走査光学素子の屈折部と回折部との
主走査方向のパワー比が軸上から軸外に向かい一定であ
ることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載
の走査光学装置。 - 【請求項９】 前記走査光学装置の屈折部の温度変動に
伴う主走査方向の倍率変化が該温度変動による光源手段
の波長変動による回折部のパワー変化で補正されている
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の
走査光学装置。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれか１項に記載の
走査光学装置と、 前記被走査面として感光ドラム面を使用したことを特徴
とするレーザビームプリンタ。
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