JPH1144854A - 光走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スポット径の変動を抑え、かつ環境変動（特
に温度変化）が生じてもピント変動が生じない高精度な
光学性能を維持することができる光走査光学装置を得る
こと。 【解決手段】 光源手段１ａから射出された光束の状態
を変換光学素子１ｂにより他の状態に変換し、該変換さ
れた光束を入射光学手段２により偏向手段３の偏向面上
において主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向手
段で偏向された光束を走査光学手段１０により被走査面
８上にスポット状に結像させ、該被走査面上を光走査す
る光走査光学装置において、該入射光学手段はプラスチ
ック材料で形成されたシリンドリカルレンズを有し、該
走査光学手段は副走査方向に屈折力を有する回折光学素
子４を有していること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光走査光学装置に関
し、特に走査光学手段（走査レンズ系）に湾曲した回折
光学素子を設け、入射光学手段としてのシリンドリカル
レンズをプラスチック材料で形成することにより、スポ
ット径の変動を抑え、かつ装置に環境変動（特に温度変
化）が生じてもピント変動が生じない、高精度な光学性
能を維持することができる、例えばレーザービームプリ
ンタ（ＬＢＰ）やディジタル複写機等の画像形成装置に
好適な光走査光学装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやディ
ジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査光学
装置においては画像信号に応じて光源手段から光変調さ
れ出射した光束（レーザービーム）を、例えば回転多面
鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏向器により周期的に
偏向させ、ｆθ特性を有する走査レンズ系によって感光
性の記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束さ
せ、その面上を光走査して画像記録を行なっている。

【０００３】図５は従来の光走査光学装置の要部概略図
である。

【０００４】同図において光源手段１１から射出した発
散光束はコリメーターレンズ１２により略平行光束とさ
れ、絞り（アパーチャ）１３によって該光束（光量）を
制限して副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリン
ドリカルレンズ１４に入射している。シリンドリカルレ
ンズ１４に入射した平行光束のうち主走査断面内におい
てはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査断
面内においては集束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）
から成る光偏向器１５の偏向面１５ａにほぼ線像として
結像している。

【０００５】そして光偏向器１５の偏向面で偏向反射さ
れた光束を走査レンズ系１６を介して被走査面としての
感光ドラム面１８上に導光し、該光偏向器１５を矢印Ａ
方向に回転させることによって、該感光ドラム面１８上
を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情報の記
録を行なっている。

【０００６】この種の光走査光学装置に用いられる走査
レンズ系は光束を被走査面上に集光させると共に該被走
査面上の主走査方向の光スポットの走査速度を等速にす
る、所謂ｆθ特性を有し、また走査線全域にわたり微小
な光スポットが形成されるよう像面湾曲が良好に補正さ
れている。

【０００７】更にほとんどの光走査光学装置は光偏向器
の各偏向面の加工誤差や回転軸のブレ等によって生ずる
走査位置の副走査方向（走査線と直交する方向）のズレ
を補正する、いわゆる面倒れ補正機能を走査レンズ系に
持たせている。

【０００８】このため走査レンズ系は主走査方向と副走
査方向とで互いに異なった結像特性を有するアナモフィ
ックなレンズ系となり、該レンズ系を構成する複数のレ
ンズのうち少なくとも１つのレンズ面はトーリック面、
あるいはシリンドリカル面より形成され、かつ十分な光
学精度が得られるように構成されている。

【０００９】このトーリック面やシリンドリカル面は従
来、硝子加工で加工され、これを走査レンズとして用い
てきたが、これは加工が困難であり、かつコストがかか
るという問題点があった。そこで近年ではコストが低
く、かつ自由なレンズ形状で収差補正が可能なプラスチ
ックレンズを走査レンズとして多用されるようになって
きた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらプラスチ
ックレンズは周知の如くガラスレンズでは生じにくい複
屈折を有するという問題点を有しており、特にレンズの
厚みが増すにつれて、この問題点が顕著になる。

【００１１】この複屈折はプラスチック成形において高
温の樹脂が型内で冷却されるときに生じる温度分布、応
力分布によって発生する。例えば複屈折の有る媒質内を
光束が通過する場合、該光束は偏光方向の異なる２光束
に分離して伝搬する。このときそれぞれの偏光成分で位
相差が生じ、かつ光束の内部で位相差に分布が生じる
為、光束の波面が乱れ、結果として被走査面上で形成さ
れるスポットが肥大化するという問題点が生じる。この
ような光走査光学装置を用いた画像形成装置では高精細
で、忠実な画像の再生が困難となる。

【００１２】一方、複屈折を低減させる為に成形タクト
タイムを伸ばす方法もあるが、これは大幅なコストアッ
プや型投資の増大等につながるという問題点がある。

【００１３】また複屈折を低減させる手段として、例え
ば走査光学手段（走査レンズ系）を構成するレンズの少
なくとも１つのレンズ面に、例えば副走査方向に屈折力
（回折パワー）を有する回折光学素子を付加する方法が
ある。これはこの回折光学素子に副走査方向の屈折力を
分担させることにより、レンズ自身の屈折力を小さく
し、これによりレンズの厚みを薄くすることで複屈折の
影響を低減させている。

【００１４】しかしながら回折光学素子における光束の
回折角は、該光束の波長に大きく依存するため、例えば
環境変動（特に温度変化）によって光源の波長変動が生
じた場合、回折角もそれに伴ない変化し、この結果ピン
トずれが生じて光学性能を劣化させるという問題点があ
った。

【００１５】本発明は走査光学手段に副走査方向及び主
走査方向に適切なる屈折力を有する回折光学素子を設
け、該回折光学素子を光偏向器側に凹形状に湾曲させて
形成し、かつ入射光学手段としてのシリンドリカルレン
ズをプラスチック材料で形成することにより、安価な回
折光学素子を用いても像高によるスポット径の変動を抑
えることができ、かつ装置に環境変動が生じてもピント
変動が生じない、高精度な光学性能を維持することがで
きる光走査光学装置の提供を目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の光走査光学装置
は (1) 光源手段から射出された光束の状態を変換光学素子
により他の状態に変換し、該変換された光束を入射光学
手段により偏向手段の偏向面上において主走査方向に長
手の線状に結像させ、該偏向手段で偏向された光束を走
査光学手段により被走査面上にスポット状に結像させ、
該被走査面上を光走査する光走査光学装置において、該
入射光学手段はプラスチック材料で形成されたシリンド
リカルレンズを有し、該走査光学手段は副走査方向に屈
折力を有する回折光学素子を有していることを特徴とし
ている。

【００１７】特に(1-1) 前記光走査光学装置の温度変動
に伴なう前記シリンドリカルレンズの屈折力変化による
ピント変動を、前記光源手段の波長変動と、前記回折光
学素子の屈折力変化とで補償するようにしていること
や、(1-2) 前記光走査光学装置が基準温度状態のときの
前記光源手段の波長をλ１、前記回折光学素子の副走査
方向の焦点距離をｆ、前記偏向手段から該回折光学素子
までの距離をｂ、該回折光学素子から前記被走査面まで
の距離をａとし、基準温度がΔｔ変動したときの前記シ
リンドリカルレンズの屈折力変化によるピント変動量を
Δｐ、該光源手段の波長をλ２としたとき

【００１８】

【数３】 なる関係が±１０％以内で成り立つことや、(1-3) 前記
回折光学素子は前記偏向手段の偏向点から前記被走査面
上の像点までの光路長を画角に関わらず一定の比率で内
分するように湾曲して成ることや、(1-4) 前記シリンド
リカルレンズは副走査方向に屈折力を有することや、(1
-5) 前記変換光学素子は前記光源手段から射出した光束
の状態を略平行光束もしくは収束光束もしくは発散光束
に変換していること、等を特徴としている。

【００１９】(2) 光源手段から射出された光束の状態を
変換光学素子により他の状態に変換し、該変換された光
束を入射光学手段により偏向素子の偏向面上において主
走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で偏向さ
れた光束を走査光学手段により被走査面上にスポット状
に結像させ、該被走査面上を光走査する光走査光学装置
において、該入射光学手段はプラスチック材料で形成さ
れた第１のシリンドリカルレンズを有し、該走査光学手
段は副走査方向に屈折力を有する回折光学素子と、主走
査方向に屈折力を有する第２のシリンドリカルレンズと
を有していることを特徴としている。

【００２０】特に(2-1) 前記光走査光学装置の温度変動
に伴なう前記第１のシリンドリカルレンズの屈折力変化
によるピント変動を、前記光源手段の波長変動と、前記
回折光学素子の屈折力変化とで補償するようにしている
ことや、(2-2) 前記光走査光学装置が基準温度状態のと
きの前記光源手段の波長をλ１、前記回折光学素子の副
走査方向の焦点距離をｆ、前記偏向手段から該回折光学
素子までの距離をｂ、該回折光学素子から前記第２のシ
リンドリカルレンズを介して前記被走査面までの距離を
ａとし、基準温度がΔｔ変動したときの前記第１のシリ
ンドリカルレンズの屈折力変化によるピント変動量をΔ
ｐ、該光源手段の波長をλ２としたとき

【００２１】

【数４】 なる関係が±１０％以内で成り立つことや、(2-3) 前記
回折光学素子は前記偏向手段の偏向点から前記第２のシ
リンドリカルレンズを通して前記被走査面上の像点まで
の光路長を画角に関わらず一定の比率で内分するように
湾曲して成ることや、(2-4) 前記第１のシリンドリカル
レンズは副走査方向に屈折力を有することや、(2-5) 前
記変換光学素子は前記光源手段から射出した光束の状態
を略平行光束もしくは収束光束に変換していること、等
を特徴としている。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の主走
査方向の要部断面図（主走査断面図）、図２は本発明の
実施形態１の副走査方向の主要部分の要部断面図（副走
査断面図）である。

【００２３】図中、１ａは光源手段（光源）であり、例
えば半導体レーザーより成っている。１ｂは変換光学素
子であり、例えば光源手段１ａから出射された光束（光
ビーム）を収束光束（もしくは略平行光束もしくは発散
光束）に変換している。１ｃは絞り（アパーチャ）であ
り、通過光束（光量）を制限している。尚、半導体レー
ザー１ａ、変換光学素子１ｂ、そして絞り１ｃ等の各要
素は光源ユニット１の一要素を構成している。

【００２４】２は入射光学手段としてのシリンドリカル
レンズであり、プラスチック材料で形成されており、紙
面とは垂直方向（副走査方向）に所定の屈折力を有して
おり、絞り１ｃを通過した光束を副走査断面内で後述す
る光偏向器の偏向面にほぼ線像として結像させている。

【００２５】３は偏向手段としての光偏向器であり、例
えばポリゴンミラー（回転多面鏡）より成っており、モ
ータ等の駆動手段（不図示）により矢印Ａ方向に一定速
度で回転している。

【００２６】４は走査光学手段（走査レンズ系）１０を
構成する回折光学素子であり、主走査方向と副走査方向
に所定の屈折力（回折パワー）を有しており、主走査断
面内において光偏向器３側に凹形状に湾曲させて形成し
ており、該光偏向器３の偏向面によって偏向反射された
画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面
８上に結像させている。本実施形態ではこの回折光学素
子４でｆθ特性および倒れ補正特性を実現しており、特
にｆθ特性に関しては回折光学素子４の主走査方向の屈
折力と光源ユニット１から収束光束を射出させることに
より実現している。

【００２７】本実施形態において半導体レーザー１ａよ
り出射した光束は変換光学素子１ｂにより収束光束とさ
れ、絞り１ｃによって該光束（光量）を制限してシリン
ドリカルレンズ２に入射している。シリンドリカルレン
ズ２に入射した収束光束のうち主走査断面内においては
そのまま収束光束の状態で射出する。また副走査断面内
においては収束して光偏向器３の偏向面３ａにほぼ線像
（主走査方向に長手の線像）として結像している。そし
て光偏向器３の偏向面３ａで偏向反射された光束は回折
光学素子４を介して感光ドラム面８上に導光され、該光
偏向器３を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感
光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査し
ている。これにより記録媒体としての感光ドラム面８上
に画像記録を行なっている。

【００２８】本実施形態における回折光学素子４は光偏
向器３の偏向点（もしくは焦線）Ｐから回折光学素子４
までの光路長をＬａ、回折光学素子４から感光ドラム面
８上の像点までの光路長をＬｂとしたとき、画角θに関
わらずＬｂ／Ｌａの値がほぼ一定の比率で内分するよう
に光偏向器３側に凹形状に湾曲させている。これにより
本実施形態では安価な回折光学素子を用いても、像高に
よるスポット径の変動を抑えている。

【００２９】また回折光学素子４の副走査方向の屈折力
は光偏向器３の偏向面と被走査面８との間が共役結像関
係になるように適切に設定されており、これにより光偏
向器３の偏向面が回転軸に対して倒れているときの角度
誤差、即ち面倒れを補正して走査線のピッチにムラが生
じないようにしている。

【００３０】また本実施形態では本装置の環境変動（特
に温度変化）に伴なうシリンドリカルレンズ２の屈折力
変化によるピント変動を、半導体レーザー１ａの波長変
動と、回折光学素子４の屈折力変化とで補償するように
している。

【００３１】例えば図２において本装置が基準温度状態
のときの半導体レーザー１ａの波長をλ１、回折光学素
子４の副走査方向の焦点距離をｆ、光偏向器３の偏向面
から回折光学素子４までの距離をｂ、回折光学素子４か
ら被走査面８までの距離をａとしたとき、該光偏向器３
の偏向面から被走査面８間において結像関係より １／ａ＝１／ｆ−１／ｂ ‥‥‥（１） が成り立つ。

【００３２】ここで基準温度がΔｔ変動したときのシリ
ンドリカルレンズ２の屈折力変化によるピント変動量を
Δｐ、シリンドリカルレンズ２のピント面Ｐ´から回折
光学素子４までの距離をｂ´、回折光学素子４の副走査
方向の焦点距離をｆ´、半導体レーザー１ａの波長をλ
２としたとき １／ａ＝１／ｆ´−１／ｂ´ ‥‥‥（２） の関係式が成り立つ。

【００３３】ここで ｆ´＝ｆ×λ１／λ２ ‥‥‥（３） ｂ´＝ｂ−Δｐ ‥‥‥（４） であるので上記式（３），（４）を関係式（２）に代入
すると

【００３４】

【数５】 となる。

【００３５】即ち、回折光学素子４の副走査方向の焦点
距離（１／パワー）及び配置等を適切に設定することに
より温度変動によるピント変動を補償することができ
る。

【００３６】一般に光走査光学装置において光偏向器
（ポリゴンミラー）の偏向面上に焦線を結ばせるための
シリンドリカルレンズをプラスチック材で成形した場
合、環境変動（特に温度変化）によりその材質の屈折率
が変動するため焦線位置（結像位置）が移動し、結果と
して被走査面上でピント変動が生じる。このピント変動
を補償するために本実施形態では回折光学素子を利用し
ている。

【００３７】例えば本装置が昇温したとき、プラスチッ
ク材の屈折率は小さくなるので焦線位置が被走査面側に
ズレ、また光源である半導体レーザーは波長が長波長側
にシフトするため、回折光学素子の屈折力が強くなり焦
点距離が短くなる。従って回折光学素子４の焦点距離及
び配置等を適切に設定することにより、温度補償効果を
得ることができる。つまり図２中の回折光学素子４から
被走査面８までの距離ａを一定に保つことができる。上
記関係式（５）はそのためのものである。

【００３８】また温度変動に伴なう半導体レーザー１ａ
の波長変動が生じたとき、その他の光学部材の屈折力も
若干変化するが、回折光学素子４の屈折力変化あるいは
プラスチック材料より成るシリンドリカルレンズ２の屈
折力変化に比べて非常に小さいので、殆ど無視すること
ができる。

【００３９】本実施形態における回折光学素子４の回折
面は位相関数をφ（Ｈ）として、光軸からの高さをＨ、
波長をλ、位相係数をＡ₂ としたとき、

【００４０】

【数６】 成る式で表わされる。

【００４１】回折光学素子４の位相係数を以下に示す。

【００４２】Ａ₂＝−１．５６２４８×１０^-2 このとき、 ここで、ΔＰ＝０．３２になるようにシリンドリカルレ
ンズ２の焦点距離を設定する。

【００４３】このように本実施形態においては上述の如
く副走査方向及び主走査方向に適切なる屈折力を有する
回折光学素子４を光偏向器３側に凹形状に湾曲させて形
成し、かつ入射光学手段としてのシリンドリカルレンズ
２をプラスチック材料で形成することにより、安価な回
折光学素子を用いても像高によるスポット径の変動を抑
えることができ、かつ装置に環境変動が生じてもピント
変動が生じない、高精度な光学性能を維持することがで
きる。

【００４４】尚、上記関係式（５）は厳密に成立する必
要はなく、例えば±１０％以内で成立していれば、略本
発明の目的を達成することができる。

【００４５】図３は本発明の実施形態２の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）、図４は本発明の実施形態
２の副走査方向の主要部分の要部断面図（副走査断面
図）である。図３、図４において図１に示した要素と同
一要素には同符番を付している。

【００４６】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査光学手段を湾曲した回折光学素子とガラス
材料で形成された屈折型レンズ（シリンドリカルレン
ズ）とで構成し、主走査方向の結像作用をほぼ屈折型レ
ンズで実現し、副走査方向の結像作用を回折光学素子で
実現したことである。その他の構成及び光学的作用は前
述の実施形態１と略同様であり、これにより同様な効果
を得ている。

【００４７】即ち、同図において２０は走査光学手段
（走査レンズ系）であり、回折光学素子２４と主走査方
向に所定の屈折力を有するガラス材料より成る第２のシ
リンドリカルレンズ２５とより構成している。回折光学
素子２４は光偏向器３側に凹形状に湾曲させて形成して
おり、主走査方向と副走査方向に所定の屈折力（回折パ
ワー）を有し、特に副走査方向に強い正の屈折力を有し
ている。本実施形態ではこの回折光学素子２４と第２の
シリンドリカルレンズ２５とでｆθ特性及び倒れ補正特
性を実現している。２２は入射光学手段としての第１の
シリンドリカルレンズであり、プラスチック材料で形成
されており、副走査方向に所定の屈折力を有している。

【００４８】本実施形態において半導体レーザー１ａよ
り出射した光束は変換光学素子１ｂにより収束光束（も
しくは略平行光束もしくは発散光束）とされ、絞り１ｃ
によって該光束（光量）を制限して第１のシリンドリカ
ルレンズ２２に入射している。第１のシリンドリカルレ
ンズ２２に入射した収束光束のうち主走査断面内におい
てはそのまま収束光束の状態で射出する。また副走査断
面内においては収束して光偏向器３の偏向面３ａにほぼ
線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。
そして光偏向器３の偏向面３ａで偏向反射された光束は
回折光学素子２４と第２のシリンドリカルレンズ２５と
を介して感光ドラム面８上に導光され、該光偏向器３を
矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム面
８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査している。こ
れにより記録媒体としての感光ドラム面８上に画像記録
を行なっている。

【００４９】本実施形態における回折光学素子２４は第
２のシリンドリカルレンズ２５で補正しきれない主走査
方向の像面湾曲、ｆθ特性等を補正するために主走査方
向にも回折によるパワーを有しているが、主走査方向の
パワーの大部分は第２のシリンドリカルレンズ２５に依
存している。

【００５０】また副走査方向においては第２のシリンド
リカルレンズ２５がパワーを有さないため、回折光学素
子２４により光偏向器３の偏向面３ａ近傍に形成された
線像を像面である感光ドラム面８上に結像させている。

【００５１】本実施形態における回折光学素子２４は光
偏向器３の偏向点（もしくは焦線）Ｐから回折光学素子
２４までの光路長をＬａ、回折光学素子２４から第２の
シリンドリカルレンズ２５の入射面までの光路長をＬｂ
１、第２のシリンドリカルレンズ２５の入射面から射出
面までの光路長をＬｂ２、第２のシリンドリカルレンズ
２５の射出面から被走査面８上の像点までの光路長をＬ
ｂ３、第２のシリンドリカルレンズ２５の材質の屈折率
をｎとし、 Ｌｂ＝Ｌｂ１＋Ｌｂ２／ｎ＋Ｌｂ３ としたとき、画角θに関わらずＬｂ／Ｌａの値がほぼ一
定の比率で内分するように光偏向器３側に凹形状に湾曲
させている。これにより前述の実施形態１と同様に副走
査方向の結像倍率βを画角に関わらず一定に保つことに
よって実施形態１と同様な効果を得ている。

【００５２】また回折光学素子２４の副走査方向の屈折
力は光偏向器３の偏向面と被走査面８との間が共役結像
関係になるように適切に設定されており、これにより光
偏向器３の偏向面が回転軸に対して倒れているときの角
度誤差、即ち面倒れを補正して走査線のピッチにムラが
生じないようにしている。

【００５３】また走査光学手段２０においては副走査方
向のパワーに対し主走査方向のパワーが小さい為、上述
の如く軸対称な第２のシリンドリカルレンズ（ガラスレ
ンズ）２５で主走査方向のパワーの殆どを実現し、副走
査方向のパワー及び非球面効果を回折光学素子２４で実
現している。

【００５４】また本実施形態においては本装置の環境変
動（特に温度変化）に伴なう第１のシリンドリカルレン
ズ２２の屈折力変化によるピント変動を図４に示す如く
前述の実施形態１と同様に半導体レーザー（不図示）の
波長変動と、回折光学素子２４の屈折力変化とで補償す
るようにしている。

【００５５】

【発明の効果】本発明によれば前述の如く走査光学手段
に副走査方向及び主走査方向に適切なる屈折力を有する
回折光学素子を設け、該回折光学素子を光偏向器側に凹
形状に湾曲させて形成し、かつ入射光学手段としてのシ
リンドリカルレンズをプラスチック材料で形成すること
により、安価な回折光学素子を用いても像高によるスポ
ット径の変動を抑えることができ、かつ装置に環境変動
が生じてもピント変動が生じない、高精度な光学性能を
維持することができる光走査光学装置を達成することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態１の主走査断面図

【図２】 本発明の実施形態１の副走査断面図

【図３】 本発明の実施形態２の主走査断面図

【図４】 本発明の実施形態２の副走査断面図

【図５】 従来の光走査光学装置の要部概略図

【符号の説明】

１ 光源ユニット １ａ 光源手段（半導体レーザー） １ｂ 変換光学素子 １ｃ アパーチャ ２ 入射光学手段（シリンドリカルレンズ） ３ 偏向手段（光偏向器） ４，２４ 回折光学素子 ８ 被走査面 １０，２０ 走査光学手段 ２２ 第１のシリンドリカルレンズ ２５ 第２のシリンドリカルレンズ

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源手段から射出された光束の状態を変
   換光学素子により他の状態に変換し、該変換された光束
   を入射光学手段により偏向手段の偏向面上において主走
   査方向に長手の線状に結像させ、該偏向手段で偏向され
   た光束を走査光学手段により被走査面上にスポット状に
   結像させ、該被走査面上を光走査する光走査光学装置に
   おいて、 該入射光学手段はプラスチック材料で形成されたシリン
   ドリカルレンズを有し、該走査光学手段は副走査方向に
   屈折力を有する回折光学素子を有していることを特徴と
   する光走査光学装置。
2. 【請求項２】 前記光走査光学装置の温度変動に伴なう
   前記シリンドリカルレンズの屈折力変化によるピント変
   動を、前記光源手段の波長変動と、前記回折光学素子の
   屈折力変化とで補償するようにしていることを特徴とす
   る請求項１の光走査光学装置。
3. 【請求項３】 前記光走査光学装置が基準温度状態のと
   きの前記光源手段の波長をλ１、前記回折光学素子の副
   走査方向の焦点距離をｆ、前記偏向手段から該回折光学
   素子までの距離をｂ、該回折光学素子から前記被走査面
   までの距離をａとし、基準温度がΔｔ変動したときの前
   記シリンドリカルレンズの屈折力変化によるピント変動
   量をΔｐ、該光源手段の波長をλ２としたとき 【数１】 なる関係が±１０％以内で成り立つことを特徴とする請
   求項１又は２の光走査光学装置。
4. 【請求項４】 前記回折光学素子は前記偏向手段の偏向
   点から前記被走査面上の像点までの光路長を画角に関わ
   らず一定の比率で内分するように湾曲して成ることを特
   徴とする請求項１の光走査光学装置。
5. 【請求項５】 前記シリンドリカルレンズは副走査方向
   に屈折力を有することを特徴とする請求項１の光走査光
   学装置。
6. 【請求項６】 前記変換光学素子は前記光源手段から射
   出した光束の状態を略平行光束もしくは収束光束もしく
   は発散光束に変換していることを特徴とする請求項１の
   光走査光学装置。
7. 【請求項７】 光源手段から射出された光束の状態を変
   換光学素子により他の状態に変換し、該変換された光束
   を入射光学手段により偏向素子の偏向面上において主走
   査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で偏向され
   た光束を走査光学手段により被走査面上にスポット状に
   結像させ、該被走査面上を光走査する光走査光学装置に
   おいて、 該入射光学手段はプラスチック材料で形成された第１の
   シリンドリカルレンズを有し、該走査光学手段は副走査
   方向に屈折力を有する回折光学素子と、主走査方向に屈
   折力を有する第２のシリンドリカルレンズとを有してい
   ることを特徴とする光走査光学装置。
8. 【請求項８】 前記光走査光学装置の温度変動に伴なう
   前記第１のシリンドリカルレンズの屈折力変化によるピ
   ント変動を、前記光源手段の波長変動と、前記回折光学
   素子の屈折力変化とで補償するようにしていることを特
   徴とする請求項７の光走査光学装置。
9. 【請求項９】 前記光走査光学装置が基準温度状態のと
   きの前記光源手段の波長をλ１、前記回折光学素子の副
   走査方向の焦点距離をｆ、前記偏向手段から該回折光学
   素子までの距離をｂ、該回折光学素子から前記第２のシ
   リンドリカルレンズを介して前記被走査面までの距離を
   ａとし、基準温度がΔｔ変動したときの前記第１のシリ
   ンドリカルレンズの屈折力変化によるピント変動量をΔ
   ｐ、該光源手段の波長をλ２としたとき 【数２】 なる関係が±１０％以内で成り立つことを特徴とする請
   求項７又は８の光走査光学装置。
10. 【請求項１０】 前記回折光学素子は前記偏向手段の偏
    向点から前記第２のシリンドリカルレンズを通して前記
    被走査面上の像点までの光路長を画角に関わらず一定の
    比率で内分するように湾曲して成ることを特徴とする請
    求項７の光走査光学装置。
11. 【請求項１１】 前記第１のシリンドリカルレンズは副
    走査方向に屈折力を有することを特徴とする請求項７の
    光走査光学装置。
12. 【請求項１２】 前記変換光学素子は前記光源手段から
    射出した光束の状態を略平行光束もしくは収束光束に変
    換していることを特徴とする請求項７の光走査光学装
    置。