JPH1138343A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価な回折光学素子を用いても像高によるス
ポット径の変動を抑えることができる光走査装置を得る
こと。 【解決手段】 光源ユニット１から射出された光束を入
射光学手段２を介して光偏向器３に導光し、該光偏向器
で偏向された光束を走査レンズ系１０により被走査面８
上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査装置にお
いて、該走査レンズ系は回折光学素子４を有し、該回折
光学素子は該光偏向器の偏向点から該被走査面上の像点
までの光路長を画角に関わらず一定の比率で内分するよ
うに湾曲して成ること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光走査装置に関し、
特に走査レンズ系に湾曲した回折光学素子を設けること
により、スポット径の変動を抑え、高精細な画像形成を
行なうことができる、例えばレーザービームプリンタ
（ＬＢＰ）やレーザーファクシミリ等の画像形成装置に
好適な光走査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやレー
ザーファクシミリ等の画像形成装置に用いられる光走査
装置においては画像信号に応じて光源手段から光変調さ
れ出射した光束（レーザービーム）を、例えば回転多面
鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏向器により周期的に
偏向させ、ｆθ特性を有する走査レンズ系によって感光
性の記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束さ
せ、その面上を光走査して画像記録を行なっている。

【０００３】図８は従来の光走査装置の要部概略図であ
る。

【０００４】同図において光源手段１１から射出した発
散光束はコリメーターレンズ１２により略平行光束とさ
れ、絞り（アパーチャ）１３によって該光束（光量）を
制限して副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリン
ドリカルレンズ１４に入射している。シリンドリカルレ
ンズ１４に入射した平行光束のうち主走査断面内におい
てはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査断
面内においては集束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）
から成る光偏向器１５の偏向面１５ａにほぼ線像として
結像している。

【０００５】そして光偏向器１５の偏向面で偏向反射さ
れた光束を走査レンズ系１６を介して被走査面としての
感光ドラム面１８上に導光し、該光偏向器１５を矢印Ａ
方向に回転させることによって、該感光ドラム面１８上
を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情報の記
録を行なっている。

【０００６】この種の光走査装置に用いられる走査レン
ズ系は光束を被走査面上に集光させると共に該被走査面
上の主走査方向の光スポットの走査速度を等速にする、
所謂ｆθ特性を有し、また走査線全域にわたり微小な光
スポットが形成されるよう像面湾曲が良好に補正されて
いる。

【０００７】更にほとんどの光走査装置は光偏向器の各
偏向面の加工誤差や回転軸のブレ等によって生ずる走査
位置の副走査方向（走査線と直交する方向）のズレを補
正する、所謂面倒れ補正機能を走査レンズ系に持たせて
いる。

【０００８】このため走査レンズ系は主走査方向と副走
査方向とで互いに異なった結像特性を有するアナモフィ
ックなレンズ系となり、該レンズ系を構成する複数のレ
ンズのうち少なくとも１つのレンズ面はトーリック面、
あるいはシリンドリカル面より形成され、かつ十分な光
学精度が得られるように構成されている。

【０００９】このトーリック面やシリンドリカル面は従
来、硝子加工で加工され、これを走査レンズとして用い
てきたが、これは加工が困難であり、かつコストがかか
るという問題点があった。そこで近年ではコストが低
く、かつ自由なレンズ形状で収差補正が可能なプラスチ
ックレンズを走査レンズとして多用されるようになって
きた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらプラスチ
ックレンズは周知の如くガラスレンズでは生じにくい複
屈折を有するという問題点を有しており、特にレンズの
厚みが増すにつれて、この問題点が顕著になる。

【００１１】この複屈折はプラスチック成形において高
温の樹脂が型内で冷却されるときに生じる温度分布、応
力分布によって発生する。例えば複屈折の有る媒質内を
光束が通過する場合、該光束は偏光方向の異なる２光束
に分離して伝搬する。このときそれぞれの偏光成分で位
相差が生じ、かつ光束の内部で位相差に分布が生じる
為、光束の波面が乱れ、結果として被走査面上で形成さ
れるスポットが肥大化するという問題点が生じる。この
ような光走査装置を用いた画像形成装置では高精細で、
忠実な画像の再生が困難となる。

【００１２】一方、複屈折を低減させる為に成形タクト
タイムを伸ばす方法もあるが、これは大幅なコストアッ
プや型投資の増大等につながるという問題点がある。

【００１３】本発明は走査レンズ系にアナモフィックな
光学特性を有する回折光学素子を設け、該回折光学素子
を光偏向器側に凹形状に湾曲させて形成することによ
り、安価な回折光学素子を用いても、像高によるスポッ
ト径の変動、特に副走査方向のスポット径の変動を抑え
ることができる高精細な印字に適した光走査装置の提供
を目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は (1) 光源ユニットから射出された光束を入射光学手段を
介して光偏向器に導光し、該光偏向器で偏向された光束
を走査レンズ系により被走査面上に導光し、該被走査面
上を光走査する光走査装置において、該走査レンズ系は
回折光学素子を有し、該回折光学素子は該光偏向器の偏
向点から該被走査面上の像点までの光路長を画角に関わ
らず一定の比率で内分するように湾曲して成ることを特
徴としている。

【００１５】特に(1-1) 前記回折光学素子は副走査方向
にパワーを有し、該副走査方向のパワーは画角によって
変化し、かつ該回折光学素子の有効域の中に最大値を有
することや、(1-2) 前記回折光学素子は透過型又は反射
型の回折光学素子より成ること等を特徴としている。

【００１６】(2) 光源ユニットから射出された光束を入
射光学手段を介して光偏向器に導光し、該光偏向器で偏
向された光束を走査レンズ系により被走査面上に導光
し、該被走査面上を光走査する光走査装置において、該
走査レンズ系は回折光学素子と屈折光学素子とを有し、
該回折光学素子は該光偏向器の偏向点から該屈折光学素
子を通して該被走査面上の像点までの光路長を画角に関
わらず一定の比率で内分するように湾曲して成ることを
特徴としている。

【００１７】特に(2-1) 前記回折光学素子は副走査方向
にパワーを有し、該副走査方向のパワーは画角によって
変化し、かつ該回折光学素子の有効域の中に最大値を有
することや、(2-2) 前記屈折光学素子は主走査方向に屈
折力を有するシリンドリカルレンズより成ることや、(2
-3) 前記シリンドリカルレンズはガラス材料で形成され
ていること等を特徴としている。

【００１８】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の主走
査方向の要部断面図（主走査断面図）、図２は図１に示
した回折光学素子の副走査方向（短辺方向）の一部分の
要部断面図である。

【００１９】図１において１ａは光源手段であり、例え
ば半導体レーザーより成っている。１ｂは変換光学素子
であり、例えば光源手段１ａから出射された光束（光ビ
ーム）を収束光束（もしくは平行光束もしくは発散光
束）に変換している。１ｃは絞り（アパーチャ）であ
り、通過光束（光量）を制限している。尚、半導体レー
ザー１ａ、変換光学素子ｂ、そして絞り１ｃ等の各要素
は光源ユニット１の一要素を構成している。

【００２０】２は入射光学手段としてのシリンドリカル
レンズであり、紙面とは垂直方向（副走査方向）に所定
の屈折力を有しており、絞り１ｃを通過した光束を副走
査断面内で後述する光偏向器３の偏向面にほぼ線像とし
て結像させている。

【００２１】３は光偏向器であり、例えばポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）より成っており、モータ等の駆動手段
（不図示）により矢印Ａ方向に一定速度で回転してい
る。

【００２２】４は走査レンズ系１０を構成する透過型の
回折光学素子であり、主走査方向及び副走査方向に所定
のパワー（回折パワー）を有し、特に副走査方向のパワ
ーは画角によって変化し、かつ該回折光学素子の有効域
の中に最大値を有している。また回折光学素子４は後述
するように主・副走査断面内において光偏向器３側に凹
形状に湾曲させて形成しており、該光偏向器３の偏向面
によって偏向反射された画像情報に基づく光束を被走査
面としての感光ドラム面８上に結像させている。本実施
形態ではこの回折光学素子４でｆθ特性および倒れ補正
特性を実現しており、特にｆθ特性に関しては回折光学
素子４の主走査方向のパワーと光源ユニット１から収束
光束を射出させることにより実現している。またこの回
折光学素子４は図２に示すようにプラスチック材より成
る基板４０上に回折格子４２が形成されている。

【００２３】本実施形態において半導体レーザー１ａよ
り出射した発散光束は変換光学素子１ｂにより収束光束
とされ、絞り１ｃによって該光束（光量）を制限してシ
リンドリカルレンズ２に入射している。シリンドリカル
レンズ２に入射した収束光束のうち主走査断面内におい
てはそのまま収束光束の状態で射出する。また副走査断
面内においては収束して光偏向器３の偏向面３ａにほぼ
線像（主走査方向に長手の線像）として結像している。
そして光偏向器３の偏向面で偏向反射された光束は回折
光学素子４を介して感光ドラム面８上に導光され、該光
偏向器３を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感
光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査し
ている。これにより記録媒体としての感光ドラム面８上
に画像記録を行なっている。

【００２４】本実施形態における回折光学素子４は光偏
向器３の偏向点（もしくは焦線）Ｐから回折光学素子４
までの光路長をＬａ、回折光学素子４から感光ドラム面
８上の像点Ｙｉｍｇまでの光路長をＬｂとしたとき、画
角θに関わらずＬｂ／Ｌａの値がほぼ一定の比率で内分
するように光偏向器３側に凹形状に湾曲させている。こ
れにより本実施形態においては安価な回折光学素子を用
いても、像高によるスポット径の変動、特に副走査方向
のスポット径の変動を抑えている。

【００２５】次に本実施形態における回折光学素子４の
光学位置及び各光路長等を表−１に示す。本実施形態に
おけるｆθ係数は１５０ｍｍ／ｒａｄ、光偏向器３の偏
向点から感光ドラム面８までの距離は１９５ｍｍ、焦線
と感光ドラム面８間の副走査方向の結像倍率βはβ＝−
３である。また湾曲した回折光学素子４は偏向点Ｐから
感光ドラム面８側に４８．５ｍｍの位置に配されてい
る。

【００２６】

【表１】 表−１は原点を偏向点とし、また原点に焦線が一致して
いるとして偏向角とそれに対応する光束の回折光学素子
４との交点、感光ドラム面８上の像点の位置、偏向点Ｐ
から回折光学素子４、および回折光学素子４から像点Ｙ
ｉｍｇまでの光路長、更にこれら光路長の比から算出さ
れる副走査方向の結像倍率等を示している。

【００２７】表−１においてθは光偏向器３による光線
偏向角、Ｙｉｍｇは感光ドラム面８上の像点位置、Ｘｌ
ｅｎｓ，Ｙｌｅｎｓは各々順に回折光学素子（回折板）
４上の光線通過点のＸ座標、Ｙ座標である。Ｘ軸は感光
ドラム面８の法線方向（光軸方向）、Ｙ軸は感光ドラム
面８上の走査方向に各々平行な軸であり、偏向角０°に
おける偏向点を原点としている。

【００２８】また回折光学素子４の回折面は位相関数を
φ（Ｈ）として、光軸からの高さをＨ、波長をλ、位相
係数を各々Ａ₂ ，Ａ₄ ，Ａ₆ ，Ａ₈ としたとき、

【００２９】

【数１】 成る式で表わされる。

【００３０】回折光学素子４の位相係数を表−２に示
す。

【００３１】

【表２】 尚、図１の構成においては光偏向器３の回転に伴い偏向
点Ｐが移動する現象が生じるが、本実施形態では簡便化
のため省略している。

【００３２】本実施形態においては回折光学素子４を表
−１に示すように光線座標Ｘｌｅｎｓ，Ｙｌｅｎｓで表
わされる点をつないだ形に湾曲させることにより、前述
した如く画角によらずＬｂ／Ｌａの値をほぼ一定の比率
にすることができる。この比率をβとしたとき、 β＝−Ｌｂ／Ｌａ が副走査方向の倍率となる。

【００３３】ここで比較例として図７に湾曲を持たない
回折光学素子で走査レンズ系を構成した光走査装置を示
す。同図において図１に示した要素と同一要素には同符
番を付している。同図において７４は走査レンズ系７０
を構成する平板状より成る回折光学素子である。

【００３４】次に比較例における回折光学素子７４の光
学位置及び各光路長等を表−３に示す。

【００３５】

【表３】 比較例における副走査方向の倍率β（＝−Ｌｂ／Ｌａ）
は像高によって変化し、例えば像高（Ｙimg ≒105 ）近
傍では軸上に対し１６％以上小さくなっている。これは
軸上で例えば１００μｍである副走査方向のスポット径
が像高（Ｙimg≒105 ）においてほぼ８４μｍになるこ
とを示している。通常、高画質な画像を得るにはこの値
を５％以下に抑えることが望ましい。本実施形態では表
−１に示したように倍率誤差を無くして均一なるスポッ
ト径を得ている。

【００３６】本実施形態における回折光学素子４は副走
査方向に分布を有する回折格子であるが、その回折格子
を形成する基板となる部材の副走査方向の曲率は適用例
によって適宣決めることができる。

【００３７】また本実施形態においては回折光学素子４
を図２に示すように基板凹レンズ４０を例えばプラスチ
ック材で形成し、入射面（第１面）が副走査方向に凹面
４ａである凹レンズで構成し、曲率を持たない射出面
（第２面）４ｂに正のパワーを有する回折格子４２を形
成し、全体として正のパワーを持たせている。

【００３８】本実施形態ではこの基板凹レンズ４０と回
折光学素子４のアッベ数が互いに異なる符号を持つこと
を利用して、環境変動（特に温度変化）によって生じる
ピント変化を光源の波長変動、基板凹レンズ４０のパワ
ー変化、そして回折光学素子４のパワー変化により補正
するようにしている。この作用は、所謂色消し効果を得
る場合と同様である。

【００３９】また本実施形態においては加工上の簡易性
を増し、コストの低減を図る場合には、例えば第１面、
第２面ともに曲率を有さない、即ち平板を主走査面内で
凹形状に湾曲させて用いることもできる。

【００４０】また本実施形態における回折光学素子４の
格子形状は特定の回折次数光にエネルギーが集中し、不
必要な次数の光が生じにくいようにブレーズされた形状
より構成している。

【００４１】また本実施形態においては上記表−１で示
したとおり偏向点Ｐから感光ドラム面８上の像点までの
距離（Ｌａ＋Ｌｂ）が一定ではなく、画角の絶対値が増
すに連れて増大させている。このとき画角によらず偏向
点と像点とを結像関係（共役関係）にするために回折光
学素子４の副走査方向のパワーを画角の絶対値が増すと
共に減少させている。

【００４２】また本実施形態においては厳密にはシリン
ドリカルレンズ２の焦線位置（偏向点）が光偏向器３の
回転と共に画角の正負に対し非対称に移動する為、回折
光学素子４のパワーはこれらを考慮して適切に設定する
ことによって収差が生じないようにしている。図３はこ
の回折光学素子４の副走査方向のパワーを対応する像高
（Ｙimg ）に対してグラフ化した説明図である。同図か
ら解るように軸上に比べて高画角部分でパワーが減少
し、なおかつその変化は像高の正負で非対称となってお
り、また回折光学素子４の有効域の中にパワーの最大値
が有するように構成している。

【００４３】このように本実施形態では上述の如く走査
レンズ系１０にアナモフィックな光学特性を有する回折
光学素子４を設け、該回折光学素子４を光偏向器３側に
凹形状に湾曲させて形成することにより、安価な回折光
学素子を用いても像高によるスポット径の変動、特に副
走査方向のスポット径の変動を抑えることができ、これ
により高精細な画像形成が行なえるようにしている。

【００４４】図４は本発明の実施形態２の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。

【００４５】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査レンズ系を湾曲した回折光学素子とガラス
材より成る通常の屈折光学素子（シリンドリカルレン
ズ）とで構成し、主走査方向の結像作用をほぼ通常の屈
折光学素子で実現し、副走査方向の結像作用を回折光学
素子で実現したことである。その他の構成及び光学的作
用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。

【００４６】即ち、同図において２０は走査レンズ系で
あり、透過型の回折光学素子２４と主走査方向に所定の
屈折力を有するガラス材より成る第２のシリンドリカル
レンズ２５とより構成している。回折光学素子２４は光
偏向器３側に凹形状に湾曲させて形成しており、主走査
方向及び副走査方向に所定のパワーを有し、特に副走査
方向に強い正のパワーを有しており、また副走査方向の
パワーは画角によって変化し、かつ該回折光学素子４の
有効域の中に最大値を有している。本実施形態ではこの
回折光学素子２４と第２のシリンドリカルレンズ２５と
でｆθ特性および倒れ補正特性を実現している。尚、２
２は入射光学手段としての第１のシリンドリカルレンズ
であり、副走査方向に所定の屈折力を有している。

【００４７】本実施形態において半導体レーザー１ａよ
り出射した発散光束は変換光学素子１ｂにより収束光束
とされ、絞り１ｃによって該光束（光量）を制限して第
１のシリンドリカルレンズ２２に入射している。第１の
シリンドリカルレンズ２２に入射した収束光束のうち主
走査断面内においてはそのまま収束光束の状態で射出す
る。また副走査断面内においては収束して光偏向器３の
偏向面３ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）とし
て結像している。そして光偏向器３の偏向面で偏向反射
された光束は回折光学素子２４と第２のシリンドリカル
レンズ２５を介して感光ドラム面８上に導光され、該光
偏向器３を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感
光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査し
ている。これにより記録媒体としての感光ドラム面８上
に画像記録を行なっている。

【００４８】本実施形態における回折光学素子２４は第
２のシリンドリカルレンズ２５で補正しきれない主走査
方向の像面湾曲、ｆθ特性等を補正するために主走査方
向にも回折によるパワーを有しているが、主走査方向の
パワ−の大部分は第２のシリンドリカルレンズ２５に依
存している。

【００４９】また副走査方向においては第２のシリンド
リカルレンズ２５がパワーを有さないため、回折光学素
子２４により光偏向器３の偏向点近傍の線像を像面であ
る感光ドラム面８上に結像させている。

【００５０】本実施形態における回折光学素子２４は光
偏向器３の偏向点（もしくは焦線）Ｐから回折光学素子
２４までの光路長をＬａ、回折光学素子２４から第２の
シリンドリカルレンズ２５の入射面までの光路長をＬｂ
１、第２のシリンドリカルレンズ２５の入射面から射出
面までの光路長をＬｂ２、第２のシリンドリカルレンズ
２５の射出面から被走査面８上の像点Ｙｉｍｇまでの光
路長をＬｂ３、第２のシリンドリカルレンズ２５の材質
の屈折率をｎとし、 Ｌｂ＝Ｌｂ１＋Ｌｂ２／ｎ＋Ｌｂ３ としたとき、画角θに関わらずＬｂ／Ｌａの値がほぼ一
定の比率で内分するように光偏向器３側に凹形状に湾曲
させている。これにより前述の実施形態１と同様に副走
査方向の結像倍率βを画角に関わらず一定に保つことに
よって実施形態１と同様な効果を得ている。

【００５１】また走査レンズ系２０においては副走査方
向のパワーに対し主走査方向のパワーが小さいため、上
述の如く軸対称な第２のシリンドリカルレンズ（ガラス
レンズ）２５で主走査方向のパワーの殆どを実現し、副
走査方向のパワー及び非球面効果を回折光学素子２４で
実現している。

【００５２】図５、図６は各々本発明の実施形態３の主
走査方向と副走査方向の要部断面図である。図５、図６
において図１に示した要素と同一要素には同符番を付し
ている。

【００５３】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は走査レンズ系を構成する回折光学素子を反射型
の回折光学素子より構成したことである。その他の構成
及び光学的作用は前述の実施形態１と略同様であり、こ
れにより同様な効果を得ている。

【００５４】即ち、同図において３４は走査レンズ系３
０を構成する反射型の回折光学素子であり、主走査方向
及び副走査方向に所定のパワーを有しており、光偏向器
３側に凹形状に湾曲させて形成しており、光偏向器３の
偏向面によって偏向反射された画像情報に基づく光束を
感光ドラム面８上に結像させている。本実施形態ではこ
の回折光学素子３４でｆθ特性および倒れ補正特性を実
現しており、特にｆθ特性に関しては回折光学素子３４
の主走査方向のパワーと光源ユニット１から収束光束を
射出させることにより実現している。尚、この反射型の
回折光学素子３４はプラスチック材より成る基板上に回
折格子が形成されている。

【００５５】本実施形態において半導体レーザー１ａよ
り出射した発散光束はコリメーターレンズ１ｂにより収
束光束とされ、絞り１ｃによって該光束（光量）を制限
してシリンドリカルレンズ２に入射している。シリンド
リカルレンズ２に入射した収束光束のうち主走査断面内
においてはそのまま収束光束の状態で射出する。また副
走査断面内においては収束して光偏向器３の偏向面３ａ
にほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像して
いる。そして光偏向器３の偏向面で偏向反射された光束
は回折光学素子３４を介して感光ドラム面８上に導光さ
れ、該光偏向器３を矢印Ａ方向に回転させることによっ
て、該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に
光走査している。これにより記録媒体としての感光ドラ
ム面８上に画像記録を行なっている。

【００５６】本実施形態における回折光学素子３４は光
偏向器３の偏向点（もしくは焦線）Ｐから回折光学素子
３４までの光路長をＬａ、回折光学素子３４から被走査
面８上の像点Ｙｉｍｇまでの光路長をＬｂとしたとき、
画角θに関わらずＬｂ／Ｌａの値がほぼ一定の比率で内
分するように光偏向器３側に凹形状に湾曲させている。
これにより本実施形態では前述の実施形態１と同様に副
走査方向の結像倍率βを画角に関わらず一定に保つこと
によって実施形態１と同様な効果を得ている。

【００５７】

【発明の効果】本発明によれば前述の如く走査レンズ系
にアナモフィックな光学特性を有する回折光学素子を設
け、該回折光学素子を光偏向器側に凹形状に湾曲させて
形成することにより、安価な回折光学素子を用いても、
像高によるスポット径の変動、特に副走査方向のスポッ
ト径の変動を抑えることができる高精細な印字に適した
光走査装置を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向の要部断面
図

【図２】 本発明の回折光学素子の副走査方向の要部断
面図

【図３】 本発明の回折光学素子の副走査方向のパワー
を示した説明図

【図４】 本発明の実施形態２の主走査方向の要部断面
図

【図５】 本発明の実施形態３の主走査方向の要部断面
図

【図６】 本発明の実施形態３の副走査方向の要部断面
図

【図７】 比較例の光走査装置の主走査方向の要部断面
図

【図８】 従来の光走査装置の要部概略図

【符号の説明】

１ 光源ユニット １ａ 半導体レーザー １ｂ 変換光学素子 １ｃ アパーチャ ２ 入射光学手段（シリンドリカルレンズ） ３ 光偏向器 ４，２４，３４ 回折光学素子 ８ 被走査面（感光ドラム面） ２２ 第１のシリンドリカルレンズ ２５ 第２のシリンドリカルレンズ １０，２０，３０ 走査レンズ系

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源ユニットから射出された光束を入射
   光学手段を介して光偏向器に導光し、該光偏向器で偏向
   された光束を走査レンズ系により被走査面上に導光し、
   該被走査面上を光走査する光走査装置において、 該走査レンズ系は回折光学素子を有し、該回折光学素子
   は該光偏向器の偏向点から該被走査面上の像点までの光
   路長を画角に関わらず一定の比率で内分するように湾曲
   して成ることを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 前記回折光学素子は副走査方向にパワー
   を有し、該副走査方向のパワーは画角によって変化し、
   かつ該回折光学素子の有効域の中に最大値を有すること
   を特徴とする請求項１の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記回折光学素子は透過型又は反射型の
   回折光学素子より成ることを特徴とする請求項１又は２
   の光走査装置。
4. 【請求項４】 光源ユニットから射出された光束を入射
   光学手段を介して光偏向器に導光し、該光偏向器で偏向
   された光束を走査レンズ系により被走査面上に導光し、
   該被走査面上を光走査する光走査装置において、 該走査レンズ系は回折光学素子と屈折光学素子とを有
   し、該回折光学素子は該光偏向器の偏向点から該屈折光
   学素子を通して該被走査面上の像点までの光路長を画角
   に関わらず一定の比率で内分するように湾曲して成るこ
   とを特徴とする光走査装置。
5. 【請求項５】 前記回折光学素子は副走査方向にパワー
   を有し、該副走査方向のパワーは画角によって変化し、
   かつ該回折光学素子の有効域の中に最大値を有すること
   を特徴とする請求項４の光走査装置。
6. 【請求項６】 前記屈折光学素子は主走査方向に屈折力
   を有するシリンドリカルレンズより成ることを特徴とす
   る請求項４の光走査装置。
7. 【請求項７】 前記シリンドリカルレンズはガラス材料
   で形成されていることを特徴とする請求項６の光走査装
   置。