JP3198750B2 - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JP3198750B2 JP3198750B2 JP24365793A JP24365793A JP3198750B2 JP 3198750 B2 JP3198750 B2 JP 3198750B2 JP 24365793 A JP24365793 A JP 24365793A JP 24365793 A JP24365793 A JP 24365793A JP 3198750 B2 JP3198750 B2 JP 3198750B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanned
- bessel
- bessel beam
- optical
- scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ（ＬＢＰ）等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ（ＬＢＰ）等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタ（ＬＢ
Ｐ）等の光走査装置においては集光手段（結像手段）の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
Ｐ）等の光走査装置においては集光手段（結像手段）の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
【０００３】このうちプレオブジェクティブ走査型の光
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、ｆ−θレンズ等の結像光学系（集光手段）によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、ｆ−θレンズ等の結像光学系（集光手段）によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
【０００４】又、ポストオブジェクティブ型の光走査装
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系（集光
手段）を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系（集光
手段）を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のプレオブジェク
ティブ走査型において、結像光学系としては通常ｆθレ
ンズが用いられるが、該ｆθレンズはそのｆθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
ティブ走査型において、結像光学系としては通常ｆθレ
ンズが用いられるが、該ｆθレンズはそのｆθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
【０００６】その為、レンズ口径の大きい複数枚のレン
ズを用いてｆθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
ズを用いてｆθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
【０００７】一方、ポストオブジェクティブ走査型の結
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
【０００８】しかしながら、このポストオブジェクティ
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
（点像）が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
（点像）が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
【０００９】そこで従来のポストオブジェクティブ走査
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭６３−２３９４１７号公報では結像レ
ンズ（結像光学系）を走査に同期させ光軸方向に沿って
駆動手段により単振動運動させることによって像面湾曲
を補正している。
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭６３−２３９４１７号公報では結像レ
ンズ（結像光学系）を走査に同期させ光軸方向に沿って
駆動手段により単振動運動させることによって像面湾曲
を補正している。
【００１０】しかしながら、この光走査装置では比較的
重い物体（結像レンズ）を１０μｍ程度のストロークで
数ＫＨZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段（例えばアクチュエー
タ）を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
重い物体（結像レンズ）を１０μｍ程度のストロークで
数ＫＨZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段（例えばアクチュエー
タ）を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
【００１１】本発明はベッセルビーム生成手段により生
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
ことができる光走査装置の提供を目的とする。
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
ことができる光走査装置の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して第１種０次ベッセル関数の２乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームとし、該ベッセ
ルビームを集光手段により集光して偏向手段に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面上に
導光し、該被走査面上を光走査する光走査装置におい
て、前記ベッセルビーム生成手段により生成されたベッ
セルビームの光軸方向の中心位置を前記集光手段の前側
焦点位置よりも前記光源手段側になるように各要素を設
定したことを特徴としている。
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して第１種０次ベッセル関数の２乗に略比
例する強度分布を有するベッセルビームとし、該ベッセ
ルビームを集光手段により集光して偏向手段に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面上に
導光し、該被走査面上を光走査する光走査装置におい
て、前記ベッセルビーム生成手段により生成されたベッ
セルビームの光軸方向の中心位置を前記集光手段の前側
焦点位置よりも前記光源手段側になるように各要素を設
定したことを特徴としている。
【００１３】
【００１４】
【実施例】図１は本発明の実施例１の要部概略図であ
る。
る。
【００１５】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザより成っている。２はコリメーターレンズ
であり、光源手段１から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム（光ビーム）を平行光束としてい
る。
半導体レーザより成っている。２はコリメーターレンズ
であり、光源手段１から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム（光ビーム）を平行光束としてい
る。
【００１６】３はベッセルビーム生成手段としてのアキ
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
【００１７】４は集光レンズ（集光手段）であり、単一
のレンズより成っており、ベッセルビームを集光して偏
向手段としての光偏向器５の偏向面（反射面）に入射さ
せている。該光偏向器５は４つの偏向面を有した回転多
面鏡より成っており、モータ等の駆動手段（不図示）に
より回転軸Ｏを中心に矢印Ｃ方向に等速回転している。
６は被走査面であり、例えば複写機やＬＢＰ等では感光
体ドラム面に相当している。
のレンズより成っており、ベッセルビームを集光して偏
向手段としての光偏向器５の偏向面（反射面）に入射さ
せている。該光偏向器５は４つの偏向面を有した回転多
面鏡より成っており、モータ等の駆動手段（不図示）に
より回転軸Ｏを中心に矢印Ｃ方向に等速回転している。
６は被走査面であり、例えば複写機やＬＢＰ等では感光
体ドラム面に相当している。
【００１８】本実施例の光走査装置は集光レンズ４より
も後側、即ち被走査面６側でビーム偏向を行なう、所謂
ポストオブジェクティブ走査型より構成している。
も後側、即ち被走査面６側でビーム偏向を行なう、所謂
ポストオブジェクティブ走査型より構成している。
【００１９】次にベッセルビームについて説明する。
【００２０】ベッセルビームは、例えばJ.Durnin,J,Op
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平４−１７１４１５号公
報で開示されているように第１種０次ベッセル関数の２
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平４−１７１４１５号公
報で開示されているように第１種０次ベッセル関数の２
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
【００２１】このベッセルビームの強度分布Ｉ0 は中心
強度を１に正規化したとき Ｉ0 （ｒ）＝Ｊ0 2（αｒ） ‥‥‥（１） で表わされる。ここでＪ0 は第１種０次ベッセル関数、
ｒは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
強度を１に正規化したとき Ｉ0 （ｒ）＝Ｊ0 2（αｒ） ‥‥‥（１） で表わされる。ここでＪ0 は第１種０次ベッセル関数、
ｒは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
【００２２】図５はこのベッセルビームの被走査面上に
おける断面強度分布を示した説明図である。
おける断面強度分布を示した説明図である。
【００２３】本実施例においては図１に示すように半導
体レーザ１から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ２により平面波に変換し、アキシコン３に入射さ
せている。そしてアキシコン３から出射したレーザービ
ームは互いに干渉しあい、その光路を横切る平面（位
置）Ａ近傍に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例す
る強度分布を有するベッセルビームＢを形成している。
そして該ベッセルビームＢは平面Ａから離れるに従い発
散するが集光レンズ４により収束作用を受け、回転多面
鏡５の偏向面（反射面）５ｂ近傍に略リング形状に集光
している。
体レーザ１から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ２により平面波に変換し、アキシコン３に入射さ
せている。そしてアキシコン３から出射したレーザービ
ームは互いに干渉しあい、その光路を横切る平面（位
置）Ａ近傍に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例す
る強度分布を有するベッセルビームＢを形成している。
そして該ベッセルビームＢは平面Ａから離れるに従い発
散するが集光レンズ４により収束作用を受け、回転多面
鏡５の偏向面（反射面）５ｂ近傍に略リング形状に集光
している。
【００２４】尚、本実施例においてベッセルビームＢの
光軸方向の中心位置Ａは集光レンズ４の前側焦点位置よ
りも半導体レーザー１側に位置するように設定してい
る。
光軸方向の中心位置Ａは集光レンズ４の前側焦点位置よ
りも半導体レーザー１側に位置するように設定してい
る。
【００２５】そして回転多面鏡５の偏向面５ｂで反射偏
向されたレーザービームは直接被走査面６上に集光しベ
ッセルビームＢ´を形成している。
向されたレーザービームは直接被走査面６上に集光しベ
ッセルビームＢ´を形成している。
【００２６】尚、本実施例においては被走査面６と平面
（位置）Ａとは光学的に略共役な関係に設定しているの
で、被走査面６近傍でのレーザービームはベッセルビー
ムＢ´になっている。
（位置）Ａとは光学的に略共役な関係に設定しているの
で、被走査面６近傍でのレーザービームはベッセルビー
ムＢ´になっている。
【００２７】そして回転多面鏡５を図中矢印Ｃ方向に回
転させることによって被走査面６上を主走査方向に図中
矢印Ｄの如く微小スポット径で光走査すると共に、該被
走査面６を副走査方向に移動、もしくは回動させること
により２次元的に画像を光走査（記録）するようにして
いる。
転させることによって被走査面６上を主走査方向に図中
矢印Ｄの如く微小スポット径で光走査すると共に、該被
走査面６を副走査方向に移動、もしくは回動させること
により２次元的に画像を光走査（記録）するようにして
いる。
【００２８】このように本実施例では被走査面近傍に形
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深く、図１に示す斜線部分の領域内では該ベッセルビー
ムの中心スポットの直径が殆ど変化しないという特長が
ある。
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深く、図１に示す斜線部分の領域内では該ベッセルビー
ムの中心スポットの直径が殆ど変化しないという特長が
ある。
【００２９】従って、走査ビームが被走査面６の中央部
を走査する場合でも周辺部を走査する場合でも、共にベ
ッセルビームの焦点深度内の許容値に治まっているの
で、該ベッセルビームの中心スポットの直径は殆ど変化
せず、これにより被走査面６領域全体にわたって微小ス
ポットで走査することができる。
を走査する場合でも周辺部を走査する場合でも、共にベ
ッセルビームの焦点深度内の許容値に治まっているの
で、該ベッセルビームの中心スポットの直径は殆ど変化
せず、これにより被走査面６領域全体にわたって微小ス
ポットで走査することができる。
【００３０】次に本発明の実施例１の集光レンズ４の近
軸関係について図２を用いて説明する。同図において図
１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
軸関係について図２を用いて説明する。同図において図
１に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００３１】同図においてｆは集光レンズ４の焦点距
離、Ｆ１は該集光レンズ４の前側焦点位置、Ｆ２は該集
光レンズ４の後側焦点位置、Ｆ３は後側焦点位置Ｆ２よ
りも焦点距離ｆだけ被走査面６側に離した位置である。
又ベッセルビームの中心位置Ａから集光レンズ４の前側
主点までの距離をａ、集光レンズ４の後側主点から回転
多面鏡５を介して被走査面６までの距離をｂとしてい
る。
離、Ｆ１は該集光レンズ４の前側焦点位置、Ｆ２は該集
光レンズ４の後側焦点位置、Ｆ３は後側焦点位置Ｆ２よ
りも焦点距離ｆだけ被走査面６側に離した位置である。
又ベッセルビームの中心位置Ａから集光レンズ４の前側
主点までの距離をａ、集光レンズ４の後側主点から回転
多面鏡５を介して被走査面６までの距離をｂとしてい
る。
【００３２】このとき例えばａ＞０、ｂ＞０、ｆ＞０と
したとき本実施例においては １／ａ＋１／ｂ＝１／ｆ の関係が略成立するように各要素を設定している。
したとき本実施例においては １／ａ＋１／ｂ＝１／ｆ の関係が略成立するように各要素を設定している。
【００３３】又、本実施例においては被走査面６が集光
レンズ４からあまり遠方にならないように、ａ＞ｆの関
係が満足するように各要素を設定している。
レンズ４からあまり遠方にならないように、ａ＞ｆの関
係が満足するように各要素を設定している。
【００３４】即ち、ベッセルビームの光軸方向の中心位
置Ａが集光レンズ４の前側焦点位置Ｆ１よりも光源手段
１側に位置するように設定している。
置Ａが集光レンズ４の前側焦点位置Ｆ１よりも光源手段
１側に位置するように設定している。
【００３５】更に本実施例においては中心位置Ａ近傍に
生成されるベッセルビームＢを被走査面６上に所定の倍
率で拡大結像させているので、ａ＜２ｆ（即ちｂ＞２
ｆ）の関係も同時に満足させている。これは被走査面６
が位置Ｆ３より遠方の位置にあることを意味している。
生成されるベッセルビームＢを被走査面６上に所定の倍
率で拡大結像させているので、ａ＜２ｆ（即ちｂ＞２
ｆ）の関係も同時に満足させている。これは被走査面６
が位置Ｆ３より遠方の位置にあることを意味している。
【００３６】次に具体的な数値例を挙げて本実施例の光
学的作用について説明する。
学的作用について説明する。
【００３７】図１において、例えば材質の屈折率Ｎが
１．５１１、プリズム頂角αが１７０°より成るアキシ
コンを用い、かつ波長λが７８０ｎｍの半導体レーザを
用い、ビームスポット径を４ｍｍに設定して該アキシコ
ンに入射させると、中心位置Ａ近傍に形成されるベッセ
ルビームＢの中心スポットの直径は中心強度の１／ｅ2
値で約１０μｍ、焦点深度は約４４ｍｍ（±２２ｍｍ）
となる。
１．５１１、プリズム頂角αが１７０°より成るアキシ
コンを用い、かつ波長λが７８０ｎｍの半導体レーザを
用い、ビームスポット径を４ｍｍに設定して該アキシコ
ンに入射させると、中心位置Ａ近傍に形成されるベッセ
ルビームＢの中心スポットの直径は中心強度の１／ｅ2
値で約１０μｍ、焦点深度は約４４ｍｍ（±２２ｍｍ）
となる。
【００３８】このとき、例えば結像倍率を２倍（ａ＝
１．５ｆ、ｂ＝３ｆ）にして拡大結像させたとき、該被
走査面６上に形成されるベッセルビームＢ´の中心スポ
ットの直径は約２０μｍ、焦点深度は約１７６ｍｍ（±
８８ｍｍ）となる。
１．５ｆ、ｂ＝３ｆ）にして拡大結像させたとき、該被
走査面６上に形成されるベッセルビームＢ´の中心スポ
ットの直径は約２０μｍ、焦点深度は約１７６ｍｍ（±
８８ｍｍ）となる。
【００３９】このように被走査面６上に形成されるベッ
セルビームは非常に焦点深度が深く、かつスポット径が
小さいレーザービームであるので、例えば回転多面鏡５
のビーム偏向点（レーザービームが光偏向器に入射する
点）を曲率中心とするようなポストオブジェクティブ走
査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、微小
スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことがで
き、これにより高解像度の光走査装置を得ることができ
る。
セルビームは非常に焦点深度が深く、かつスポット径が
小さいレーザービームであるので、例えば回転多面鏡５
のビーム偏向点（レーザービームが光偏向器に入射する
点）を曲率中心とするようなポストオブジェクティブ走
査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、微小
スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことがで
き、これにより高解像度の光走査装置を得ることができ
る。
【００４０】次に上記の光学的作用について図３、図４
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【００４１】図３はポストオブジェクティブ走査型の光
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
【００４２】同図において６は被走査面、７は湾曲した
円弧状の像面（結像位置）、Ｏはビーム偏向点（レーザ
ービームが光偏向器に入射する点）、Ｒはビーム偏向点
Ｏから被走査面６と光軸Ｘとが交わる点までの距離、Ｘ
は光軸、θはレーザービームの走査角、ΔＬは像面湾曲
量である。本実施例による像面７はビーム偏向点Ｏを中
心とした半径Ｒの円弧に略等しい。
円弧状の像面（結像位置）、Ｏはビーム偏向点（レーザ
ービームが光偏向器に入射する点）、Ｒはビーム偏向点
Ｏから被走査面６と光軸Ｘとが交わる点までの距離、Ｘ
は光軸、θはレーザービームの走査角、ΔＬは像面湾曲
量である。本実施例による像面７はビーム偏向点Ｏを中
心とした半径Ｒの円弧に略等しい。
【００４３】通常、像面湾曲量は光軸に沿った距離とし
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面６から像
面７までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔＬと定義する。
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面６から像
面７までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔＬと定義する。
【００４４】このときの像面湾曲量ΔＬは以下の式
（２）より ｜ΔＬ｜＝Ｒ（１／ｃｏｓθ−１） ‥‥‥（２） 求めることができる。
（２）より ｜ΔＬ｜＝Ｒ（１／ｃｏｓθ−１） ‥‥‥（２） 求めることができる。
【００４５】ここで例えばＲ＝３００ｍｍ、θ＝０°〜
３０°としたときの像面湾曲量ΔＬを計算した結果を図
４に示す。同図に示す如く像面湾曲量ΔＬの最大値は走
査角θ＝３０°のときΔＬ＝４６ｍｍとなる。
３０°としたときの像面湾曲量ΔＬを計算した結果を図
４に示す。同図に示す如く像面湾曲量ΔＬの最大値は走
査角θ＝３０°のときΔＬ＝４６ｍｍとなる。
【００４６】この像面湾曲量ΔＬは前述した焦点深度内
（±８８ｍｍ）の許容値に治まっているので実用上のス
ポットのボケは発生しない。
（±８８ｍｍ）の許容値に治まっているので実用上のス
ポットのボケは発生しない。
【００４７】従って、本実施例においては被走査面領域
全体にわたり微小スポットを形成することができ、これ
により高精度な光走査を可能としている。
全体にわたり微小スポットを形成することができ、これ
により高精度な光走査を可能としている。
【００４８】尚、上記の実施例においては走査角θが０
°のとき被走査面６と像面７とが一致するように設定し
たが、必ずしも走査角θが０°のときで一致させる必要
はなく、例えば走査角θが２０°前後の中間走査角θの
とき被走査面６と像面７とを一致させても良く、これに
より焦点深度の許容範囲に余裕を持たせることができ
る。
°のとき被走査面６と像面７とが一致するように設定し
たが、必ずしも走査角θが０°のときで一致させる必要
はなく、例えば走査角θが２０°前後の中間走査角θの
とき被走査面６と像面７とを一致させても良く、これに
より焦点深度の許容範囲に余裕を持たせることができ
る。
【００４９】又、本実施例においての集光手段は必ずし
も単一レンズで構成する必要はなく、例えば複数枚のレ
ンズから構成されるレンズ系であっても良い。
も単一レンズで構成する必要はなく、例えば複数枚のレ
ンズから構成されるレンズ系であっても良い。
【００５０】又、ベッセルビームを発生させる手段とし
てはアキシコンの代わりに、例えば細いリング開口とレ
ンズとを用いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能
を有する回折格子等を用いても良い。
てはアキシコンの代わりに、例えば細いリング開口とレ
ンズとを用いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能
を有する回折格子等を用いても良い。
【００５１】又、本実施例においては偏向器として回転
多面鏡を用いたが、例えばガルバノミラー等の単一面鏡
であっても本発明は前述の実施例と同様に適用すること
ができる。
多面鏡を用いたが、例えばガルバノミラー等の単一面鏡
であっても本発明は前述の実施例と同様に適用すること
ができる。
【００５２】
【発明の効果】本発明によれば前述の如くポストオブジ
ェクティブ走査型の光走査装置にレーザービームとして
ベッセルビームを導入することにより、焦点深度の深い
微小スポットで被走査面上を光走査することができ、こ
れにより装置の高性能化を図ることができる光走査装置
を達成することができる。
ェクティブ走査型の光走査装置にレーザービームとして
ベッセルビームを導入することにより、焦点深度の深い
微小スポットで被走査面上を光走査することができ、こ
れにより装置の高性能化を図ることができる光走査装置
を達成することができる。
【図１】 本発明の実施例１の要部概略図
【図２】 本発明の実施例１の集光手段の近軸関係を説
明する為の説明図
明する為の説明図
【図３】 本発明の実施例１の像面湾曲量を説明する為
の説明図
の説明図
【図４】 本発明の実施例１の像面湾曲を示す説明図
【図５】 ベッセルビームの断面強度分布を示す説明図
１ 光源手段 ２ コリメーターレンズ ３ ベッセルビーム生成手段（アキシコン） ４ 集光手段 ５ 偏向手段 ６ 被走査面 ７ 像面 ΔＬ 像面湾曲量 θ 走査角
Claims (1)
- 【請求項１】 光源手段から射出したレーザービームを
ベッセルビーム生成手段を介して第１種０次ベッセル関
数の２乗に略比例する強度分布を有するベッセルビーム
とし、該ベッセルビームを集光手段により集光して偏向
手段に入射させ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接
被走査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査
装置において、 前記ベッセルビーム生成手段により生成されたベッセル
ビームの光軸方向の中心位置を前記集光手段の前側焦点
位置よりも前記光源手段側になるように各要素を設定し
たことを特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24365793A JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24365793A JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772402A JPH0772402A (ja) | 1995-03-17 |
| JP3198750B2 true JP3198750B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=17107077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24365793A Expired - Fee Related JP3198750B2 (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3198750B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011055160A1 (en) | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Laboratorio Jaer, S.A. | The use of xylitol for the economic improvement of intensive pig farming production |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006215351A (ja) | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| US7876485B2 (en) | 2007-02-09 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Ltd. | Light scanning unit and image forming apparatus using the same |
| JP5170171B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2013-03-27 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 光走査装置 |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP24365793A patent/JP3198750B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011055160A1 (en) | 2009-11-06 | 2011-05-12 | Laboratorio Jaer, S.A. | The use of xylitol for the economic improvement of intensive pig farming production |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0772402A (ja) | 1995-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5181137A (en) | Light scanning apparatus | |
| JP2524567B2 (ja) | 複数ビ―ム走査光学装置 | |
| US5510826A (en) | Optical scanning apparatus | |
| JP3104618B2 (ja) | 光学走査装置及び光学レンズ | |
| JP3198750B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2830670B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2003107382A (ja) | 走査光学系 | |
| US5966232A (en) | Scanning optical system | |
| JP3514058B2 (ja) | レーザー走査装置 | |
| JPH05307151A (ja) | 偏向走査方法およびその装置 | |
| JP3320239B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH0772403A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH0618802A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH04242215A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3198752B2 (ja) | 光記録装置 | |
| JPH10260371A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3198751B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP3192537B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2817454B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JPS61126528A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3571808B2 (ja) | 光走査光学系及びそれを備えるレーザービームプリンタ | |
| JP2006251040A (ja) | マルチビーム光記録装置 | |
| JPH01200220A (ja) | 光ビーム走査光学系 | |
| JPH10246860A (ja) | マルチビーム走査光学装置 | |
| JPS6321619A (ja) | 面倒れ補正走査光学系 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |