JPH0772403A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPH0772403A JPH0772403A JP24365893A JP24365893A JPH0772403A JP H0772403 A JPH0772403 A JP H0772403A JP 24365893 A JP24365893 A JP 24365893A JP 24365893 A JP24365893 A JP 24365893A JP H0772403 A JPH0772403 A JP H0772403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bessel
- scanned
- bessel beam
- laser beam
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 焦点深度の深いレーザービームを導入して高
精度な光走査を行なうことができる光走査装置を得るこ
と。 【構成】 光源手段１から射出したレーザービームをベ
ッセルビーム生成手段３を介して偏向手段４に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面５上
に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布
を有するベッセルビームを形成し、該ベッセルビームで
該被走査面上を光走査するようにしたこと。
精度な光走査を行なうことができる光走査装置を得るこ
と。 【構成】 光源手段１から射出したレーザービームをベ
ッセルビーム生成手段３を介して偏向手段４に入射さ
せ、該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面５上
に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布
を有するベッセルビームを形成し、該ベッセルビームで
該被走査面上を光走査するようにしたこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ（ＬＢＰ）等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
レーザービームとして微小スポットでかつ焦点深度の深
いベッセルビームを用いて被走査面上を光走査し、画像
の記録等を高精度に行なうようにした、例えばレーザー
ビームプリンタ（ＬＢＰ）等に好適なポストオブジェク
ティブ走査型の光走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタ（ＬＢ
Ｐ）等の光走査装置においては集光手段（結像手段）の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
Ｐ）等の光走査装置においては集光手段（結像手段）の
前側、即ち光源手段側でビーム偏向を行なう、所謂プレ
オブジェクティブ走査型と、該集光手段の後側、即ち被
走査面側でビーム偏向を行なう、所謂ポストオブジェク
ティブ走査型とがある。
【０００３】このうちプレオブジェクティブ走査型の光
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、ｆ−θレンズ等の結像光学系（集光手段）によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
走査装置は画像信号に応じて光源手段から射出されたレ
ーザービームを光変調し、該光変調されたレーザービー
ムをポリゴンミラー等の光偏向器により周期的に偏向さ
せ、ｆ−θレンズ等の結像光学系（集光手段）によって
感光性の記録媒体面上にスポット状に収束させ光走査し
て画像記録を行なっている。
【０００４】又、ポストオブジェクティブ型の光走査装
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系（集光
手段）を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
置は光源手段から射出されたレーザービームを光変調
し、該光変調されたレーザービームを結像光学系（集光
手段）を介して光偏向器に入射させ、該光偏向器で反射
偏向されたレーザービームを直接被走査面上に導光し、
該被走査面上を光走査して画像記録を行なっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のプレオブジェク
ティブ走査型において、結像光学系としては通常ｆθレ
ンズが用いられるが、該ｆθレンズはそのｆθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
ティブ走査型において、結像光学系としては通常ｆθレ
ンズが用いられるが、該ｆθレンズはそのｆθ特性や像
面湾曲収差等の補正をはじめとして、例えばスポット径
が小さい高解像度の場合には球面収差やコマ収差等も同
時に良好に補正する必要があった。
【０００６】その為、レンズ口径の大きい複数枚のレン
ズを用いてｆθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
ズを用いてｆθレンズ系を構成しなければならない為、
装置全体が大型化になり易く、しかもレンズ間の光学調
整も難しくなり、又部品点数が増えることから低コスト
化を図るのが難しいという問題点があった。
【０００７】一方、ポストオブジェクティブ走査型の結
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
像光学系は前述のプレオブジェクティブ走査型の結像光
学系に比べて軸上性能だけを良好に補正すれば良いの
で、レンズ構成が容易となり、又レンズ口径も小さなレ
ンズで良いので、装置全体の小型化及び低コスト化を図
るのには有利である。
【０００８】しかしながら、このポストオブジェクティ
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
（点像）が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
ブ走査型を用いたとき、該走査型特有の円弧状の像面湾
曲が発生してしまう為、例えばスポット径が小さい高解
像度の場合には被走査面上に形成される一部のスポット
（点像）が焦点深度内から外れてしまい、スポットのボ
ケが発生してくるという問題点があった。
【０００９】そこで従来のポストオブジェクティブ走査
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭６３−２３９４１７号公報で提案され
ているように結像レンズ（結像光学系）を走査に同期さ
せ光軸方向に沿って駆動手段により単振動運動させるこ
とによって像面湾曲を補正している。
型の光走査装置においては、この問題点を解決する為
に、例えば特開昭６３−２３９４１７号公報で提案され
ているように結像レンズ（結像光学系）を走査に同期さ
せ光軸方向に沿って駆動手段により単振動運動させるこ
とによって像面湾曲を補正している。
【００１０】しかしながら、この光走査装置では比較的
重い物体（結像レンズ）を１０μｍ程度のストロークで
数ＫＨZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段（例えばアクチュエー
タ）を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
重い物体（結像レンズ）を１０μｍ程度のストロークで
数ＫＨZ 以上の高速度で振動させなければならないの
で、その目的に合致した駆動手段（例えばアクチュエー
タ）を実現させるのが大変難しく、又装置全体が複雑化
し又低コストの装置を得るのが非常に難しいという問題
点があった。
【００１１】本発明はベッセルビーム生成手段により生
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
と共に装置全体の小型化を図ることができる光走査装置
の提供を目的とする。
成されたベッセルビームを用いて被走査面を光走査する
ことにより、簡易な構成で記録画像の画質の向上を図る
と共に装置全体の小型化を図ることができる光走査装置
の提供を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して偏向手段に入射させ、該偏向手段で反
射偏向させた後、直接被走査面上に第１種０次ベッセル
関数の２乗に略比例する強度分布を有するベッセルビー
ムを形成し、該ベッセルビームで該被走査面上を光走査
するようにしたことを特徴としている。
光源手段から射出したレーザービームをベッセルビーム
生成手段を介して偏向手段に入射させ、該偏向手段で反
射偏向させた後、直接被走査面上に第１種０次ベッセル
関数の２乗に略比例する強度分布を有するベッセルビー
ムを形成し、該ベッセルビームで該被走査面上を光走査
するようにしたことを特徴としている。
【００１３】又本発明の光走査装置は、光源手段から射
出したレーザービームを偏向手段とベッセルビーム生成
手段とを一体化した光学部材を介して偏向させた後、直
接被走査面上に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例
する強度分布を有するベッセルビームを形成し、該ベッ
セルビームで該被走査面上を光走査するようにしたこと
を特徴としている。
出したレーザービームを偏向手段とベッセルビーム生成
手段とを一体化した光学部材を介して偏向させた後、直
接被走査面上に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例
する強度分布を有するベッセルビームを形成し、該ベッ
セルビームで該被走査面上を光走査するようにしたこと
を特徴としている。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の実施例１の要部概略図であ
る。
る。
【００１５】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザより成っている。２はコリメーターレンズ
であり、光源手段１から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム（光ビーム）を平行光束としてい
る。
半導体レーザより成っている。２はコリメーターレンズ
であり、光源手段１から画像情報に基づき光変調し射出
したレーザービーム（光ビーム）を平行光束としてい
る。
【００１６】３はベッセルビーム生成手段としてのアキ
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
シコンであり、焦点深度の深いビームスポットを持つ第
１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有
するベッセルビームを生成している。
【００１７】４は偏向手段としての公知の回転単面鏡で
ある。この回転単面鏡４は反射鏡が入射光に対して傾き
を有し、この入射光の中心を回転中心として回転する一
つの反射面４ａで構成しており、モータ等の駆動手段
（不図示）により図中矢印Ｃの如く回転させることによ
り被走査面上を光走査している。
ある。この回転単面鏡４は反射鏡が入射光に対して傾き
を有し、この入射光の中心を回転中心として回転する一
つの反射面４ａで構成しており、モータ等の駆動手段
（不図示）により図中矢印Ｃの如く回転させることによ
り被走査面上を光走査している。
【００１８】５は被走査面であり、例えば複写機やＬＢ
Ｐ等では感光体ドラム面に相当している。
Ｐ等では感光体ドラム面に相当している。
【００１９】次にベッセルビームについて説明する。
【００２０】ベッセルビームは、例えばJ.Durnin,J,Op
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平４−１７１４１５号公
報で開示されているように第１種０次ベッセル関数の２
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
t,Soc,Am.A4(1987)651.や特開平４−１７１４１５号公
報で開示されているように第１種０次ベッセル関数の２
乗に略比例する強度分布を有しており、極めて焦点深度
の深いレーザービームであり、かつスポット径が比較的
小さいという特長を有している。
【００２１】このベッセルビームの強度分布Ｉ0 は中心
強度を１に正規化したとき Ｉ0 （ｒ）＝Ｊ0 2（αｒ） ‥‥‥（１） で表わされる。ここでＪ0 は第１種０次ベッセル関数、
ｒは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
強度を１に正規化したとき Ｉ0 （ｒ）＝Ｊ0 2（αｒ） ‥‥‥（１） で表わされる。ここでＪ0 は第１種０次ベッセル関数、
ｒは光軸に直交する断面内での光軸からの距離である。
又パラメータαはベッセルビームを形成する光線が光軸
となす角度とレーザービームの波長とで決るパラメータ
である。
【００２２】図５はこのベッセルビームの被走査面５上
における断面強度分布を示した説明図である。
における断面強度分布を示した説明図である。
【００２３】本実施例においては図１に示すように半導
体レーザ１から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ２により平面波に変換しアキシコン３に入射さ
せ、該アキシコン３から出射するレーザービームを互い
に干渉させ回転単面鏡４の反射面４ａを介して直接被走
査面５上に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する
強度分布を有するベッセルビームを形成し、該ベッセル
ビームで被走査面５上を光走査している。
体レーザ１から射出したレーザービームをコリメーター
レンズ２により平面波に変換しアキシコン３に入射さ
せ、該アキシコン３から出射するレーザービームを互い
に干渉させ回転単面鏡４の反射面４ａを介して直接被走
査面５上に第１種０次ベッセル関数の２乗に略比例する
強度分布を有するベッセルビームを形成し、該ベッセル
ビームで被走査面５上を光走査している。
【００２４】このように本実施例では被走査面５上に形
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深いビームであり、図１に示す斜線部分の領域Ａ内では
ベッセルビームの中心スポットの直径が殆ど変化しない
という特長がある。
成されるレーザービームがベッセルビームとなってお
り、このベッセルビームは前述の如く焦点深度が非常に
深いビームであり、図１に示す斜線部分の領域Ａ内では
ベッセルビームの中心スポットの直径が殆ど変化しない
という特長がある。
【００２５】従って、例えばその光学系の像面湾曲が大
きかったり、あるいは光学部品の配置位置の誤差や変動
があったりしても画像の劣化が起きることはなく、常に
高画質の画像を得ることができる。又ベッセルビーム生
成手段３により形成されたベッセルビームをレンズ（結
像レンズ）を介することなく被走査面上に直接導光して
いる為、該被走査面を含めた装置全体の小型化を図るこ
とができる。
きかったり、あるいは光学部品の配置位置の誤差や変動
があったりしても画像の劣化が起きることはなく、常に
高画質の画像を得ることができる。又ベッセルビーム生
成手段３により形成されたベッセルビームをレンズ（結
像レンズ）を介することなく被走査面上に直接導光して
いる為、該被走査面を含めた装置全体の小型化を図るこ
とができる。
【００２６】次に具体的な数値例を挙げて本実施例の光
学的作用について説明する。
学的作用について説明する。
【００２７】図１において、例えば材質の屈折率Ｎが
１．５１１、プリズム頂角αが１７０°より成るアキシ
コン３を用い、かつ波長λが７８０ｎｍの半導体レーザ
１を用い、ビームスポット径を１０ｍｍに設定して該ア
キシコン３に入射させると、領域Ａ内で形成されるベッ
セルビームの中心スポットの直径は中心強度の１／ｅ2
値で約１０μｍ、焦点深度は約１１１ｍｍとなる。
１．５１１、プリズム頂角αが１７０°より成るアキシ
コン３を用い、かつ波長λが７８０ｎｍの半導体レーザ
１を用い、ビームスポット径を１０ｍｍに設定して該ア
キシコン３に入射させると、領域Ａ内で形成されるベッ
セルビームの中心スポットの直径は中心強度の１／ｅ2
値で約１０μｍ、焦点深度は約１１１ｍｍとなる。
【００２８】このようにベッセルビームは非常に焦点深
度が深く、かつスポット径が小さいレーザービームであ
るので、例えば回転単面鏡４のビーム偏向点（レーザー
ビームが回転単面鏡に入射する点）を曲率中心とするよ
うなポストオブジェクティブ走査型特有の円弧状の大き
な像面湾曲が発生しても、微小スポット径の強度分布は
変化せず一定に保つことができ、これにより高解像度の
光走査装置を得ることができる。
度が深く、かつスポット径が小さいレーザービームであ
るので、例えば回転単面鏡４のビーム偏向点（レーザー
ビームが回転単面鏡に入射する点）を曲率中心とするよ
うなポストオブジェクティブ走査型特有の円弧状の大き
な像面湾曲が発生しても、微小スポット径の強度分布は
変化せず一定に保つことができ、これにより高解像度の
光走査装置を得ることができる。
【００２９】次に上記の光学的作用について図２、図３
を用いて説明する。
を用いて説明する。
【００３０】図２はポストオブジェクティブ走査型の光
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
走査装置の光学系の像面湾曲を示す為の説明図である。
【００３１】同図において５は被走査面、７は湾曲した
円弧状の像面（結像位置）、Ｏはビーム偏向点（レーザ
ービームが回転単面鏡に入射する点）、Ｒはビーム偏向
点Ｏから被走査面５と光軸Ｘとが交わる点までの距離、
Ｘは光軸、θはレーザービームの走査角、ΔＬは像面湾
曲量である。本実施例による像面７はビーム偏向点Ｏを
中心とした半径Ｒの円弧に略等しい。
円弧状の像面（結像位置）、Ｏはビーム偏向点（レーザ
ービームが回転単面鏡に入射する点）、Ｒはビーム偏向
点Ｏから被走査面５と光軸Ｘとが交わる点までの距離、
Ｘは光軸、θはレーザービームの走査角、ΔＬは像面湾
曲量である。本実施例による像面７はビーム偏向点Ｏを
中心とした半径Ｒの円弧に略等しい。
【００３２】通常、像面湾曲量は光軸に沿った距離とし
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面５から像
面７までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔＬと定義する。
て定義されているが、ここでは便宜上被走査面５から像
面７までの走査ビームに沿って測った距離を像面湾曲量
ΔＬと定義する。
【００３３】このときの像面湾曲量ΔＬは以下の式
（２）より ｜ΔＬ｜＝Ｒ（１／ｃｏｓθ−１） ‥‥‥（２） 求めることができる。
（２）より ｜ΔＬ｜＝Ｒ（１／ｃｏｓθ−１） ‥‥‥（２） 求めることができる。
【００３４】ここで例えばＲ＝３００ｍｍ、θ＝０°〜
３０°の間で光走査を行なうと像面湾曲量ΔＬの最大値
は走査角θ＝３０°のとき｜ΔＬ｜＝４６ｍｍとなる。
３０°の間で光走査を行なうと像面湾曲量ΔＬの最大値
は走査角θ＝３０°のとき｜ΔＬ｜＝４６ｍｍとなる。
【００３５】そこで図１においてベッセルビームが形成
される領域Ａの光軸方向の被走査面５側の一端を点Ｂと
し、走査角θ＝３０°のとき、この点Ｂを被走査面５に
一致させると焦点深度と像面湾曲との関係は図３に示す
如くになる。
される領域Ａの光軸方向の被走査面５側の一端を点Ｂと
し、走査角θ＝３０°のとき、この点Ｂを被走査面５に
一致させると焦点深度と像面湾曲との関係は図３に示す
如くになる。
【００３６】同図から分かるように最大の像面湾曲量Δ
Ｌは４６ｍｍ、ベッセルビームの焦点深度は前述の如く
１１１ｍｍであるので、これより焦点深度の余裕値は
（１１１−４６）＝６５ｍｍとなり、アキシコン３側に
できる。本実施例ではこの間（余裕値６５ｍｍ）に回転
単面鏡４を設置することにより、該回転単面鏡４のビー
ム偏向点を曲率中心とするようなポストオブジェクティ
ブ走査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、
微小スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことが
できる。
Ｌは４６ｍｍ、ベッセルビームの焦点深度は前述の如く
１１１ｍｍであるので、これより焦点深度の余裕値は
（１１１−４６）＝６５ｍｍとなり、アキシコン３側に
できる。本実施例ではこの間（余裕値６５ｍｍ）に回転
単面鏡４を設置することにより、該回転単面鏡４のビー
ム偏向点を曲率中心とするようなポストオブジェクティ
ブ走査型特有の円弧状の大きな像面湾曲が発生しても、
微小スポット径の強度分布は変化せず一定に保つことが
できる。
【００３７】又、例えば回転単面鏡が大型化する場合に
はアキシコン３の頂角を１７０°以上に設定してベッセ
ルビームの焦点深度を１１１ｍｍ以上と長くすれば良
い。あるいはアキシコン３へ入射するレーザービームの
ビーム径を１０ｍｍ以上に設定すれば良い。
はアキシコン３の頂角を１７０°以上に設定してベッセ
ルビームの焦点深度を１１１ｍｍ以上と長くすれば良
い。あるいはアキシコン３へ入射するレーザービームの
ビーム径を１０ｍｍ以上に設定すれば良い。
【００３８】このように本実施例においてはポストオブ
ジェクティブ走査型の光走査装置においても簡単な構成
で高精細な光走査装置を得ている。
ジェクティブ走査型の光走査装置においても簡単な構成
で高精細な光走査装置を得ている。
【００３９】尚、本実施例においてはベッセルビームを
発生させる手段としてアキシコンを用いたが、該アキシ
コンの代わりに、例えば細いリング開口とレンズとを用
いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能を有する回
折格子等を用いても良い。
発生させる手段としてアキシコンを用いたが、該アキシ
コンの代わりに、例えば細いリング開口とレンズとを用
いた光学系や、アキシコンと同等の光学性能を有する回
折格子等を用いても良い。
【００４０】又、本実施例においては偏向手段として回
転単面鏡を用いたが、該回転単面鏡の代わりに、例えば
回転多面鏡やガルバノミラー等を用いても本発明は前述
の実施例と同様に適用することができる。
転単面鏡を用いたが、該回転単面鏡の代わりに、例えば
回転多面鏡やガルバノミラー等を用いても本発明は前述
の実施例と同様に適用することができる。
【００４１】図４は本発明の実施例２の要部概略図であ
る。同図において図１に示した要素と同一要素には同符
番を付している。
る。同図において図１に示した要素と同一要素には同符
番を付している。
【００４２】本実施例において前述の実施例１と異なる
点はベッセルビーム生成手段と偏向手段とを一体化に構
成したことである。その他の構成及び光学的作用を実施
例１と略同様である。
点はベッセルビーム生成手段と偏向手段とを一体化に構
成したことである。その他の構成及び光学的作用を実施
例１と略同様である。
【００４３】即ち、同図において８は透明体であり、回
転単面鏡４の反射面４ａ上に設けられている。９はベッ
セルビーム生成手段としての同心回折格子であり、透明
体８の射出側の面に密着している。
転単面鏡４の反射面４ａ上に設けられている。９はベッ
セルビーム生成手段としての同心回折格子であり、透明
体８の射出側の面に密着している。
【００４４】本実施例においては前述の実施例１と同様
に半導体レーザ１から射出したレーザービームをコリメ
ーターレンズ２により平面波に変換し透明体８に入射さ
せ、平行状態を保ちつつ回転単面鏡４の反射面４ａによ
り反射偏向させて同心回折格子９に入射させている。そ
して同心回折格子９から出射したレーザービームは互い
に干渉しあい、図中斜線の領域Ａで第１種０次ベッセル
関数の２乗に略比例する強度分布を有するベッセルビー
ムを形成し被走査面５上を光走査している。
に半導体レーザ１から射出したレーザービームをコリメ
ーターレンズ２により平面波に変換し透明体８に入射さ
せ、平行状態を保ちつつ回転単面鏡４の反射面４ａによ
り反射偏向させて同心回折格子９に入射させている。そ
して同心回折格子９から出射したレーザービームは互い
に干渉しあい、図中斜線の領域Ａで第１種０次ベッセル
関数の２乗に略比例する強度分布を有するベッセルビー
ムを形成し被走査面５上を光走査している。
【００４５】このように本実施例においてはベッセルビ
ーム生成手段としての同心回折格子９と偏向手段として
の回転単面鏡４とを一体化にして構成したことにより、
装置全体の小型化を図ることができ、しかもレーザービ
ームを回転単面鏡４で反射偏向させた後に干渉を行なう
為、前述の実施例１に比べ実質的なベッセルビームの焦
点深度の余裕を更に大きくとることができる。
ーム生成手段としての同心回折格子９と偏向手段として
の回転単面鏡４とを一体化にして構成したことにより、
装置全体の小型化を図ることができ、しかもレーザービ
ームを回転単面鏡４で反射偏向させた後に干渉を行なう
為、前述の実施例１に比べ実質的なベッセルビームの焦
点深度の余裕を更に大きくとることができる。
【００４６】尚、本実施例においてはベッセルビームを
発生させる手段として同心回折格子を用いたが、該同心
回折格子の代わりに、例えば細いリング開口とレンズと
を用いた光学系や、該同心回折格子と同等の光学性能を
有するアキシコン等を用いても良い。
発生させる手段として同心回折格子を用いたが、該同心
回折格子の代わりに、例えば細いリング開口とレンズと
を用いた光学系や、該同心回折格子と同等の光学性能を
有するアキシコン等を用いても良い。
【００４７】又、前述の実施例１と同様に偏向手段とし
ての回転単面鏡の代わりに、例えば回転多面鏡やガルバ
ノミラー等を用いても良い。
ての回転単面鏡の代わりに、例えば回転多面鏡やガルバ
ノミラー等を用いても良い。
【００４８】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く光走査装置に
レーザービームとしてベッセルビームを導入することに
より、焦点深度の深い微小スポットで被走査面上を光走
査することができ、これにより装置全体の小型化及び高
性能化を図ることができる光走査装置を達成することが
できる。
レーザービームとしてベッセルビームを導入することに
より、焦点深度の深い微小スポットで被走査面上を光走
査することができ、これにより装置全体の小型化及び高
性能化を図ることができる光走査装置を達成することが
できる。
【図１】 本発明の実施例１の要部概略図
【図２】 本発明の実施例１の像面湾曲量を説明する為
の説明図
の説明図
【図３】 本発明の実施例１の像面湾曲を示す説明図
【図４】 本発明の実施例２の要部概略図
【図５】 ベッセルビームの断面強度分布を示す説明図
１ 光源手段 ２ コリメーターレンズ ３ ベッセルビーム生成手段（アキシコン） ４，１４ 偏向手段 ５ 被走査面 ７ 像面 ８ 透明体 ９ ベッセルビーム生成手段（同心回折格子） ΔＬ 像面湾曲量 θ 走査角
Claims (2)
- 【請求項１】 光源手段から射出したレーザービームを
ベッセルビーム生成手段を介して偏向手段に入射させ、
該偏向手段で反射偏向させた後、直接被走査面上に第１
種０次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有す
るベッセルビームを形成し、該ベッセルビームで該被走
査面上を光走査するようにしたことを特徴とする光走査
装置。 - 【請求項２】 光源手段から射出したレーザービームを
偏向手段とベッセルビーム生成手段とを一体化した光学
部材を介して偏向させた後、直接被走査面上に第１種０
次ベッセル関数の２乗に略比例する強度分布を有するベ
ッセルビームを形成し、該ベッセルビームで該被走査面
上を光走査するようにしたことを特徴とする光走査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24365893A JPH0772403A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24365893A JPH0772403A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0772403A true JPH0772403A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=17107089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24365893A Pending JPH0772403A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0772403A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227869A (ja) * | 2016-06-16 | 2017-12-28 | 日本電信電話株式会社 | 波長掃引光源 |
| JP2020063930A (ja) * | 2018-10-15 | 2020-04-23 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 | 基準ビーム出射装置 |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP24365893A patent/JPH0772403A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227869A (ja) * | 2016-06-16 | 2017-12-28 | 日本電信電話株式会社 | 波長掃引光源 |
| JP2020063930A (ja) * | 2018-10-15 | 2020-04-23 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 | 基準ビーム出射装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2584224B2 (ja) | 光ビ−ム記録装置 | |
| US5510826A (en) | Optical scanning apparatus | |
| JP2830670B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP3198750B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP3514058B2 (ja) | レーザー走査装置 | |
| JPH0772403A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH08248345A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH04242215A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH0618802A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH05307151A (ja) | 偏向走査方法およびその装置 | |
| JPH09211366A (ja) | 光学走査装置 | |
| JP3198752B2 (ja) | 光記録装置 | |
| JP3320239B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3164553B2 (ja) | マルチビーム走査装置 | |
| JP3571736B2 (ja) | ホログラム走査光学系 | |
| KR100246445B1 (ko) | 멀티빔레이저스캐너 | |
| JP3460440B2 (ja) | マルチビーム走査光学装置 | |
| JP3434153B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JPH11271655A (ja) | レーザー走査光学装置 | |
| JP3192537B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2817454B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3198751B2 (ja) | 光走査装置 | |
| JP2757308B2 (ja) | 光束走査光学装置 | |
| JPH04289814A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH06265807A (ja) | 光ビーム走査光学系 |