JP2000002848A - 走査光学装置 - Google Patents

走査光学装置

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JP2000002848A JP18169798A JP18169798A JP2000002848A JP 2000002848 A JP2000002848 A JP 2000002848A JP 18169798 A JP18169798 A JP 18169798A JP 18169798 A JP18169798 A JP 18169798A JP 2000002848 A JP2000002848 A JP 2000002848A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 環境変動(温度変化)によるピント変化に強
く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の
走査光学装置を得ること。 【解決手段】 光源手段1から射出された光束の状態を
変換光学素子2により他の状態に変換して偏向手段5に
導光し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手
段6により被走査面7上にスポット状に結像させ、該被
走査面上を光走査する走査光学装置において、該走査光
学手段は屈折系よりなる第1の光学素子6aと、回折系
よりなる第2の光学素子6bとを有し、該走査光学手段
の副走査方向の横倍率をβとしたとき、 1<|β|<5 なる条件を満足すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置に関
し、特に光源手段から射出される光束(光ビーム)を回
転多面鏡等の光偏向器を介して記録媒体面である被走査
面上に導光し、該被走査面上を該光束で走査することに
より、文字や情報等を記録するようにした、例えばレー
ザービームプリンタやデジタル複写機等の装置に好適な
走査光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやデジ
タル複写機等に用いられている走査光学装置は、光源手
段から射出された光束を偏向手段で偏向し、該偏向され
た光ビーム(光束)を走査光学手段により被走査面であ
る感光ドラム面上にスポット状に結像させ、該被走査面
上を走査している。
【0003】図13は従来の走査光学装置の要部概略図
である。同図において半導体レーザー等より成る光源手
段11から射出した光束はコリメーターレンズ12によ
って略平行光束に変換され、該変換された略平行光束は
開口絞り13によって最適なビーム形状に整形され、シ
リンドリカルレンズ14に入射する。該シリンドリカル
レンズ14は副走査方向にパワーを有し、回転多面鏡等
より成る光偏向器15の偏向面15a近傍に主走査方向
に長手の線状光束として結像する。ここで主走査方向と
は偏向走査方向に平行な方向、副走査方向とは偏向走査
方向に垂直な方向であり、以後同様とする。そして線状
光束は光偏向器15により等角速度で反射偏向され、f
θ特性を有する走査光学手段としてのfθレンズ系16
により、被走査面である感光ドラム面(記録媒体面)1
8上にスポット状に結像され、該感光ドラム面18上を
等速度で光走査している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、走査光学手段で
あるfθレンズには低コスト化のためプラスチック材料
で成形されたものが多く用いられている。プラスチック
材料によるモールド成形が可能になったことにより、特
に製造コストの高いトーリックレンズの低コスト化が実
現する。かつ非球面形状で成形することが容易なため、
収差補正において大きな利点を有する。
【0005】しかしながらプラスチックレンズはレンズ
の厚みが成形時間に大きく影響する。例えばレンズ厚が
厚い場合、成形にかかる時間は長くなるため、コスト高
の要因になる。ところがプラスチックの屈折率が小さい
ために、またその条件下で良好なる収差補正を実現する
ために非球面形状を用いたとしてもレンズ厚は厚くなっ
てしまう傾向にある。また光偏向器よりも被走査面に近
い位置にレンズを配置すると、該レンズの主走査方向の
外形が大きくなり、成型バラツキの要因となる。プラス
チックレンズはガラスレンズに比べて成形によるバラツ
キが大きいため、それを抑えるためにはレンズ厚を薄く
し、外形を小さくすることが望ましい。
【0006】また別の問題点としてプラスチック材料は
温度変化等における環境変動によって屈折率が変化し、
光学性能が大きく劣化することが挙げられる。例えばプ
ラスチック材料の屈折率が変化することによりピント位
置が変動し、感光ドラム面上におけるスポットが肥大し
ピーク強度が減少し、画像形成に影響を及ぼす。特に走
査光学手段においてパワーの大きい副走査方向での影響
は顕著であり、更にはより高精度な画像を得ようとする
場合、主走査方向におけるピント移動も無視できなくな
る。
【0007】上記問題点を解決するため、例えば特開平
7-128604号公報で提案されている走査光学装置では光束
を光偏向器近傍の主走査方向に線状に結像させる為のシ
リンドリカルレンズを正のパワーを有するガラスレンズ
と負のパワーを有するプラスチックレンズの2枚で構成
している。例えば環境温度が昇温した場合、プラスチッ
ク材料の屈折率は小さくなる。走査光学手段であるfθ
レンズのパワーは該走査光学手段全系において主走査方
向、副走査方向ともに正であるため、レンズの材質の屈
折率が小さくなるとパワーが弱くなり、ピント位置が光
偏向器より遠ざかる方向に移動する。このピント移動を
補正する為に上記負のパワーを有するシリンドリカルレ
ンズを配置している。プラスチック材料の屈折率が小さ
くなると負のパワーが弱くなるため、ピント位置は光偏
向器の方向に移動する。したがってシリンドリカルレン
ズにおけるピント移動と走査光学手段におけるピント移
動の方向が逆になることにより、それぞれのパワーを適
切に設定することにより、走査光学装置全系としてピン
ト移動が補正される構成になっている。
【0008】しかしながらシリンドリカルレンズを2枚
系にすることにより高コスト化になるのみならず、レン
ズ精度及び取り付け公差が厳しくなり、複雑、かつコス
ト高の要因となる傾向にある。
【0009】本発明は走査光学手段を屈折系よりなる第
1の光学素子と、回折系もしくは屈折系と回折系との両
方よりなる第2の光学素子とより構成し、かつ該走査光
学手段の副走査方向の横倍率を適切に設定することによ
り、環境変動(温度変化)によるピント変化に強く、か
つ簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型の走査光
学装置の提供を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の走査光学装置
は、(1) 光源手段から射出された光束の状態を変換光学
素子により他の状態に変換して偏向手段に導光し、該偏
向手段により偏向された光束を走査光学手段により被走
査面上にスポット状に結像させ、該被走査面上を光走査
する走査光学装置において、該走査光学手段は屈折系よ
りなる第1の光学素子と、回折系よりなる第2の光学素
子とを有し、該走査光学手段の副走査方向の横倍率をβ
としたとき、 1<|β|<5 なる条件を満足することを特徴としている。
【0011】特に(1-1) 前記第1の光学素子は主走査方
向、副走査方向ともに異なる正のパワーを有するアナモ
フィックレンズより成ることや、(1-2) 前記第1の光学
素子は主走査方向において少なくとも1面が非球面形状
より成ることや、(1-3) 前記第1の光学素子は副走査方
向において少なくとも1面の曲率半径が光軸から離れる
に従い連続的に変化することや、(1-4) 前記第1の光学
素子はプラスチック材で成形されていることや、(1-5)
前記第2の光学素子は回折系によるパワーが主走査方
向、副走査方向ともに異なる正になるように、少なくと
も1面に回折格子が形成されていることや、(1-6) 前記
第2の光学素子は主走査方向、副走査方向ともに平面で
形成されていることや、(1-7) 前記第2の光学素子は主
走査方向、副走査方向ともに各々両面に同一の曲率半径
を有することや、(1-8) 前記第2の光学素子はプラスチ
ック材で成形されていることや、(1-9) 前記走査光学手
段は装置の環境変動に伴なう主走査方向と副走査方向と
のピント移動を、前記光源手段の波長変動に起因する前
記第2の光学素子の回折パワーの変化によって補正する
ことや、(1-10)前記第1、第2の光学素子のうち、少な
くとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内におい
て、その中心軸を光軸に対し垂直な方向にシフトしてい
ることや、(1-11)前記第1、第2の光学素子のうち、少
なくとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内にお
いて、その中心軸が光軸に対して傾いていることや、(1
-12)前記変換光学素子は前記光源手段から射出された光
束を略平行光束に変換していることや、(1-13)前記変換
光学素子は前記光源手段から射出された光束を収束光束
に変換していること、等を特徴としている。
【0012】(2) 光源手段から射出された光束の状態を
変換光学素子により他の状態に変換して偏向手段に導光
し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段に
より被走査面上にスポット状に結像させ、該被走査面上
を光走査する走査光学装置において、該走査光学手段は
屈折系よりなる第1の光学素子と、屈折系と回折系の両
方を有する第2の光学素子とを有し、該走査光学手段の
副走査方向の横倍率をβとしたとき、 1<|β|<5 なる条件を満足することを特徴としている。
【0013】特に(2-1) 前記第1の光学素子は正のパワ
ーを有する回転対称レンズより成ることや、(2-2) 前記
第1の光学素子は少なくとも1面が非球面形状より成る
ことや、(2-3) 前記第1の光学素子はプラスチック材で
成形されていることや、(2-4) 前記第2の光学素子は回
折系によるパワーが主走査方向、副走査方向ともに異な
る正になるように、少なくとも1面に回折格子が形成さ
れていることや、(2-5) 前記第2の光学素子は副走査方
向に正のパワーを有するシリンドリカルレンズより成る
ことや、(2-6) 前記第2の光学素子は副走査方向におい
て屈折系によるパワーと回折系によるパワーの両方を有
することや、(2-7) 前記第2の光学素子はプラスチック
材で成形されていることや、(2-8) 前記走査光学手段は
装置の環境変動に伴なう主走査方向と副走査方向とのピ
ント移動を、前記光源手段の波長変動に起因する前記第
2の光学素子の回折パワーの変化によって補正すること
や、(2-9) 前記第1、第2の光学素子のうち、少なくと
も1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内において、
その中心軸を光軸に対し垂直な方向にシフトしているこ
とや、(2-10)前記第1、第2の光学素子のうち、少なく
とも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内におい
て、その中心軸が光軸に対して傾いていることや、(2-1
1)前記変換光学素子は前記光源手段から射出された光束
を略平行光束に変換していることや、(2-12)前記変換光
学素子は前記光源手段から射出された光束を収束光束に
変換していること、等を特徴としている。
【0014】
【発明の実施の形態】[実施形態1]図1は本発明の実
施形態1の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)で
ある。
【0015】同図において1は光源手段であり、例えば
半導体レーザーより成っている。2はコリメーターレン
ズであり、光源手段1から射出した発散光束を略平行光
束に変換している。3は開口絞りであり、コリメーター
レンズ2から射出した光束(光ビーム)を所望の最適な
ビーム形状に形成している。4はシリンドリカルレンズ
であり、副走査方向に所定のパワーを有し、開口絞り3
から射出した光束を後述する偏向手段5の偏向面5a近
傍に副走査断面内において結像(主走査断面においては
長手の線像)させている。5は偏向手段としての光偏向
器であり、例えば回転多面鏡より成り、モーター等の駆
動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速度で回
転している。
【0016】6はfθ特性を有する走査光学手段であ
り、屈折系よりなる第1の光学素子(fθレンズ系)
と、回折系よりなる第2の光学素子(fθレンズ系)と
を有している。屈折系より成る第1の光学素子6aは主
走査方向、副走査方向ともに異なる正(凸)のパワーを
有するアナモフィックレンズより成り、第1面(光線入
射面)6a1は球面、第2面(光線射出面)6a2はト
ーリック面で構成されている。さらに第2面6a2に関
し主走査方向は非球面形状であり、副走査方向は曲率半
径が光軸から離れるに従い連続的に変化している。回折
系より成る第2の光学素子6bは主走査方向、副走査方
向ともに平面である透明平板で形成され、回折系による
パワーが主走査方向、副走査方向ともに異なる正(凸)
になるように第2面(光線射出面)6b2に回折格子8
が形成されている。第1、第2の光学素子6a,6bは
共にプラスチック材料で成形されている。さらに走査光
学手段6は副走査断面内において偏向面5aと被走査面
7との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を
有している。7は被走査面としての感光ドラム面であ
る。
【0017】本実施形態において半導体レーザー1より
射出した発散光束はコリメーターレンズ2により略平行
光束に変換され、開口絞り3によって所望のビーム形状
に整形してシリンドリカルレンズ4に入射する。シリン
ドリカルレンズ4に入射した光束のうち主走査断面内に
おいてはそのままの状態で射出する。また副走査断面内
においては収束して光偏向器5の偏向面5a近傍にほぼ
線像(主走査方向に長手の線像)として結像する。そし
て光偏向器5の偏向面5aで反射偏向された光束は走査
光学手段6により被走査面7(感光ドラム面)上にスポ
ット形状に結像され、該光偏向器5を矢印A方向に回転
させることによって、該感光ドラム面7上を矢印B方向
(主走査方向)に等速度で光走査している。これにより
記録媒体である感光ドラム面7上に画像記録を行なって
いる。
【0018】本実施形態における走査光学手段6を構成
する第1の光学素子6aの屈折系及び第2の光学素子6
bの回折系の形状は各光学素子面と光軸との交点を原点
とし、光軸方向をX軸、主走査断面内において光軸に垂
直な方向をY軸、副走査断面内において光軸に垂直な方
向をZ軸とすると、各々次のように表わせる。
【0019】屈折系 主走査方向…下式の10次まで
の関数で表される非球面形状
【0020】
【数1】 (但し、Rは曲率半径、B4 ,B6 ,B8 ,B10は非球
面係数) 副走査方向…曲率半径がY軸方向に連続的に変化する球
面形状 r’=r(1+D22 +D44 +D66 +D8
8 +D1010) (但し、rは曲率半径、D2 ,D4 ,D6 ,D8 ,D10
は非球面係数) 回折系 Y、Zの10次までの巾多項式の位相関数で
表される回折面 W=C12 +C24 +C36 +C48 +C5
10 +E12 +E222 +E342 +E46
2 +E582 (C1 〜C5 、E1 〜E5 は位相係数) 本実施形態では走査光学手段6の副走査方向の横倍率を
βとしたとき、 1<|β|<5 ……(1) なる条件を満足するように第1の光学素子6a及び第2
の光学素子6bを配置している。
【0021】条件式(1)は走査光学手段6の副走査方
向の横倍率に関するものであり、条件式(1)の下限値
を越えると光学素子が被走査面8に近くなるため、主走
査方向における該光学素子の外形の大型化、さらには走
査光学装置全体の大型化の要因となり良くない。また条
件式(1)の上限値を越えると光学素子が光偏向器5に
近くなりすぎるため、走査幅全域に渡ってfθ特性及び
像面湾曲を良好に補正することが困難になり良くない。
【0022】表−1に本実施形態における光学配置を示
し、表−2に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【0023】ここでθ1は偏向手段前後の光学系の、各
々の光軸の成す角、θmaxは最軸外を走査したときの
光束と走査光学手段の光軸との成す角、fは像高をY、
走査角をθとしたときにY=fθで与えられる定数であ
る。
【0024】
【表1】 本実施形態では走査光学手段6の副走査方向の横倍率β
は、 |β|=3.562 であり、条件式(1)を満足している。
【0025】さらに走査光学手段6は装置の環境変動に
よるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査方向と副走
査方向とのピント移動を半導体レーザー1の波長変動に
起因する第2の光学素子6bの回折パワーの変化によっ
て補正している。
【0026】図2は本実施形態における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲を示した図、図3は本実施形態におけ
る昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図4は
本実施形態における歪曲収差(fθ特性)及び像高ずれ
等を示した図である。図2、図3に示した像面湾曲にお
いて点線は常温25℃での像面湾曲、実線は25℃昇温
した50℃ときの像面湾曲を示している。ここで25℃
昇温したときの第1の光学素子6a及び第2の光学素子
6bの屈折率n*、及び光源手段1の波長λ*は各々、 n*=1.5212 λ*=786.4nm である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【0027】さらに本実施形態においては第1、第2の
光学素子6a,6bの両方を偏向面内において、その中
心軸を光軸に対し光源手段1から遠ざかる垂直な方向に
0.45mmだけシフトさせている。これにより像面湾
曲の傾きを良好に補正してる。
【0028】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段6を屈折系よりなる第1の光学素子6aと、回
折系よりなる第2の光学素子6bとより構成し、かつ該
走査光学手段6の副走査方向の横倍率を適切に設定する
ことにより、環境変動(温度変化)によるピント変化に
強く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得られる小型
の走査光学装置を得ている。
【0029】[実施形態2]図5は本発明の実施形態2
の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。同
図において図1に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
【0030】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は回折系より成る第2の光学素子の形状を異なら
せて形成したことである。その他の構成及び光学的作用
は実施形態1と略同様であり、これにより同様な効果を
得ている。
【0031】即ち、同図において26はfθ特性を有す
る走査光学手段であり、屈折系より成る第1の光学素子
(fθレンズ系)26aと、回折系より成る第2の光学
素子(fθレンズ系)26bとを有している。屈折系よ
り成る第1の光学素子26aは主走査方向、副走査方向
ともに異なる正(凸)のパワーを有するアナモフィック
レンズより成り、第1面(光線入射面)26a1は球
面、第2面(光線射出面)26a2はトーリック面で構
成されている。さらに第2面26a2に関し主走査方向
は非球面形状であり、副走査方向は曲率半径が光軸から
離れるに従い連続的に変化している。回折系より成る第
2の光学素子26bは主走査方向において両面26a
1,26a2ともに同じ曲率半径を有し、副走査方向に
おいては両面26a1,26a2ともに曲率半径は無限
(∞)である。即ち前述の実施形態1における第2の光
学素子6bを主走査方向においてペンディングさせた形
状になっている。ペンディングさせることにより主走査
方向の外形の短縮化が可能になる。さらに副走査方向に
おいて像高による倍率のバラツキを抑えることに寄与さ
れる。ここで回折系によるパワーは主走査方向、副走査
方向ともに異なる正(凸)になるように、第2面(光線
射出面)26b2に回折格子28が形成されている。こ
れらの第1、第2の光学素子26a,26bは共にプラ
スチック材料で成形されている。さらに走査光学手段2
6は副走査断面内において偏向面5aと被走査面7との
間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を有して
いる。
【0032】表−3に本実施形態における光学配置を有
し、表−4に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【0033】
【表2】 本実施形態では走査光学手段26の副走査方向の横倍率
βは、 |β|=3.511 であり、条件式(1)を満足している。
【0034】さらに走査光学手段26は装置の環境変動
によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査方向と副
走査方向のピント移動を半導体レーザー1の波長変動に
起因する第2の光学素子26bの回折パワーの変化によ
って補正している。
【0035】図6は本実施形態における昇温前後の主走
査方向の像面湾曲を示した図、図7は本実施形態におけ
る昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図8は
本実施形態における歪曲収差(fθ特性)及び像高ずれ
等を示した図である。図6、図7に示した像面湾曲にお
いて点線は常温25℃での像面湾曲、実線は25℃昇温
した50℃ときの像面湾曲を示している。ここで25℃
昇温したときの第1の光学素子26a及び第2の光学素
子26bの屈折率n*、及び光源手段1の波長λ*は各
々、 n*=1.5212 λ*=786.4nm である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【0036】さらに本実施形態においては第1、第2の
光学素子26a,26bの両方を偏向面内において、そ
の中心軸を光軸に対し光源手段1から遠ざかる垂直な方
向に0.45mmだけシフトさせている。これにより像
面湾曲の傾きを良好に補正してる。
【0037】このように本実施形態では上述の如く走査
光学手段26を屈折系よりなる第1の光学素子26a
と、回折系よりなる第2の光学素子26bとより構成
し、かつ該走査光学手段26の副走査方向の横倍率を適
切に設定することにより、環境変動(温度変化)による
ピント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が
得られる小型の走査光学装置を得ている。
【0038】[実施形態3]図9は本発明の実施形態3
の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。同
図において図1に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
【0039】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は走査光学手段を屈折系よりなる第1の光学素子
と、屈折系と回折系の両方を有する第2の光学素子とよ
り構成したことである。その他の構成及び光学的作用は
実施形態1と略同様であり、これにより同様な効果を得
ている。
【0040】即ち、同図において36はfθ特性を有す
る走査光学手段であり、屈折系よりなる第1の光学素子
(fθレンズ系)36aと、屈折系と回折系の両方を有
する第2の光学素子(fθレンズ系)36bとを有して
いる。屈折系よりなる第1の光学素子36aは正(凸)
のパワーを有する回転対称レンズより成り、第1面(光
線入射面)36a1は球面、第2面(光線射出面)36
a2は非球面で構成されている。ここで第1の光学素子
36aの屈折系の形状は該光学素子面と光軸との交点を
原点とし、光軸方向をX軸、主走査断面内において光軸
に垂直な方向をY軸、副走査断面内において光軸に垂直
な方向をZ軸とすると、次のように表わせる。
【0041】
【数2】 (ここで、h=(Y2 +Z21/2 ) 屈折系と回折系の両方を有する第2の光学素子36bは
第1面(光線入射面)36b1が副走査方向にシリンド
リカル面を有し、第2面(光線射出面)36b2が平面
のシリンドリカルレンズであり、副走査方向に正(凸)
のパワーを有する。また回折系によるパワーは主走査方
向、副走査方向ともに異なる正(凸)になるように第2
面36b2に回折格子38が形成されている。即ち第2
の光学素子36bは副走査方向において屈折系による正
のパワーと回折系による正のパワーの両方を有してい
る。これらの第1、第2の光学素子36a,36bは共
にプラスチック材料で成形されている。さらに走査光学
手段36は副走査断面内において偏向面5aと被走査面
7との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を
有している。
【0042】表−5に本実施形態における光学配置を示
し、表−6に屈折系の非球面係数及び回折系の位相係数
を示す。
【0043】
【表3】 本実施形態では走査光学手段36の副走査方向の横倍率
βは、 |β|=2.938 であり、条件式(1)を満足している。
【0044】さらに走査光学手段36は装置の環境変動
によるレンズ材質の屈折率変化で生じる主走査方向と副
走査方向のピント移動を、半導体レーザー1の波長変動
に起因する第2の光学素子36bの回折パワーの変化に
よって補正している。
【0045】図10は本実施形態における昇温前後の主
走査方向の像面湾曲を示した図、図11は本実施形態に
おける昇温前後の副走査方向の像面湾曲を示した図、図
12は本実施形態における歪曲収差(fθ特性)及び像
高ずれ等を示した図である。図10、図11に示した像
面湾曲において点線は常温25℃での像面湾曲、実線は
25℃昇温した50℃ときの像面湾曲を示している。こ
こで25℃昇温したときの第1の光学素子36a及び第
2の光学素子36bの屈折率n*、及び光源手段1の波
長λ*は各々、 n*=1.5212 λ*=786.4nm である。同図より主走査方向、副走査方向ともにピント
移動が良好に補正されていることが解る。
【0046】さらに本実施形態においては第1、第2の
光学素子36a,36bの両方を偏向面内において、そ
の中心軸を光軸に対し光源手段1から遠ざかる垂直な方
向に0.45mmだけシフトさせている。これにより像
面湾曲の傾きを良好に補正してる。
【0047】このように本実施形態では上述のごとく走
査光学手段36を屈折系よりなる第1の光学素子36a
と、屈折系と回折系との両方よりなる第2の光学素子3
6bとより構成し、かつ該走査光学手段36の副走査方
向の横倍率を適切に設定することにより、環境変動(温
度変化)によるピント変化に強く、かつ簡易な構成で、
高精細な印字が得られる小型の走査光学装置を得てい
る。
【0048】尚、各実施形態では変換光学素子2により
光源手段1から射出された光束を略平行光束に変換した
が、光偏向器5の偏向面5aと被走査面8との間の距離
を短縮するために収束光束に変換してもよい。
【0049】また各実施形態では像面湾曲の傾きを補正
するために第1、第2の光学素子を偏向面内において、
その中心軸を光軸に対して垂直な方向にシフトさせた
が、像面湾曲及びfθ特性の補正のために第1、第2の
光学素子を偏向面内において、その中心軸を光軸に対し
て傾けてもよい。
【0050】また各実施形態では回折系によるパワーが
主走査方向、副走査方向ともに異なる正になるように構
成したが、該回折系によるパワーはどちらか一方向のみ
であっても良い。
【0051】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く走査光学手段
を屈折系よりなる第1の光学素子と、回折系もしくは屈
折系と回折系との両方よりなる第2の光学素子とより構
成し、かつ該走査光学手段の副走査方向の横倍率を適切
に設定することにより、環境変動(温度変化)によるピ
ント変化に強く、かつ簡易な構成で、高精細な印字が得
られる小型の走査光学装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態1の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)
【図2】 本発明の実施形態1の昇温前後の主走査方向
の像面湾曲を示す図
【図3】 本発明の実施形態1の昇温前後の副走査方向
の像面湾曲を示す図
【図4】 本発明の実施形態1の歪曲収差(fθ特性)
及び像高ずれを示す図
【図5】 本発明の実施形態2の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)
【図6】 本発明の実施形態2の昇温前後の主走査方向
の像面湾曲を示す図
【図7】 本発明の実施形態2の昇温前後の副走査方向
の像面湾曲を示す図
【図8】 本発明の実施形態2の歪曲収差(fθ特性)
及び像高ずれを示す図
【図9】 本発明の実施形態3の主走査方向の要部断面
図(主走査断面図)
【図10】 本発明の実施形態3の昇温前後の主走査方
向の像面湾曲を示す図
【図11】 本発明の実施形態3の昇温前後の副走査方
向の像面湾曲を示す図
【図12】 本発明の実施形態3の歪曲収差(fθ特
性)及び像高ずれを示す図
【図13】 従来の走査光学装置の主走査方向の要部断
面図(主走査断面図)
【符号の説明】
1 光源手段(半導体レーザー) 2 変換光学素子 3 開口絞り 4 シリンドリカルレンズ 5 偏向手段(光偏向器) 6,26,36 走査光学手段 6a,26a,36a 第1の光学素子 6b,26b,36b 第2の光学素子 7 被走査面(感光ドラム面) 8,28,38 回折格子

Claims (27)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源手段から射出された光束の状態を変
    換光学素子により他の状態に変換して偏向手段に導光
    し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段に
    より被走査面上にスポット状に結像させ、該被走査面上
    を光走査する走査光学装置において、 該走査光学手段は屈折系よりなる第1の光学素子と、回
    折系よりなる第2の光学素子とを有し、該走査光学手段
    の副走査方向の横倍率をβとしたとき、 1<|β|<5 なる条件を満足することを特徴とする走査光学装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の光学素子は主走査方向、副走
    査方向ともに異なる正のパワーを有するアナモフィック
    レンズより成ることを特徴とする請求項1記載の走査光
    学装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の光学素子は主走査方向におい
    て少なくとも1面が非球面形状より成ることを特徴とす
    る請求項1又は2記載の走査光学装置。
  4. 【請求項4】 前記第1の光学素子は副走査方向におい
    て少なくとも1面の曲率半径が光軸から離れるに従い連
    続的に変化することを特徴とする請求項1又は2記載の
    走査光学装置。
  5. 【請求項5】 前記第1の光学素子はプラスチック材で
    成形されていることを特徴とする請求項1乃至4のいず
    れか1項記載の走査光学装置。
  6. 【請求項6】 前記第2の光学素子は回折系によるパワ
    ーが主走査方向、副走査方向ともに異なる正になるよう
    に、少なくとも1面に回折格子が形成されていることを
    特徴とする請求項1記載の走査光学装置。
  7. 【請求項7】 前記第2の光学素子は主走査方向、副走
    査方向ともに平面で形成されていることを特徴とする請
    求項1又は6記載の走査光学装置。
  8. 【請求項8】 前記第2の光学素子は主走査方向、副走
    査方向ともに各々両面に同一の曲率半径を有することを
    特徴とする請求項1、6又は7記載の走査光学装置。
  9. 【請求項9】 前記第2の光学素子はプラスチック材で
    成形されていることを特徴とする請求項1、6、7又は
    8記載の走査光学装置。
  10. 【請求項10】 前記走査光学手段は装置の環境変動に
    伴なう主走査方向と副走査方向とのピント移動を、前記
    光源手段の波長変動に起因する前記第2の光学素子の回
    折パワーの変化によって補正することを特徴とする請求
    項1、6、7、8又は9記載の走査光学装置。
  11. 【請求項11】 前記第1、第2の光学素子のうち、少
    なくとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内にお
    いて、その中心軸を光軸に対し垂直な方向にシフトして
    いることを特徴とする請求項1記載の走査光学装置。
  12. 【請求項12】 前記第1、第2の光学素子のうち、少
    なくとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内にお
    いて、その中心軸が光軸に対して傾いていることを特徴
    とする請求項1記載の走査光学装置。
  13. 【請求項13】 前記変換光学素子は前記光源手段から
    射出された光束を略平行光束に変換していることを特徴
    とする請求項1記載の走査光学装置。
  14. 【請求項14】 前記変換光学素子は前記光源手段から
    射出された光束を収束光束に変換していることを特徴と
    する請求項1記載の走査光学装置。
  15. 【請求項15】 光源手段から射出された光束の状態を
    変換光学素子により他の状態に変換して偏向手段に導光
    し、該偏向手段により偏向された光束を走査光学手段に
    より被走査面上にスポット状に結像させ、該被走査面上
    を光走査する走査光学装置において、該走査光学手段は
    屈折系よりなる第1の光学素子と、屈折系と回折系の両
    方を有する第2の光学素子とを有し、該走査光学手段の
    副走査方向の横倍率をβとしたとき、 1<|β|<5 なる条件を満足することを特徴とする走査光学装置。
  16. 【請求項16】 前記第1の光学素子は正のパワーを有
    する回転対称レンズより成ることを特徴とする請求項1
    5記載の走査光学装置。
  17. 【請求項17】 前記第1の光学素子は少なくとも1面
    が非球面形状より成ることを特徴とする請求項15又は
    16記載の走査光学装置。
  18. 【請求項18】 前記第1の光学素子はプラスチック材
    で成形されていることを特徴とする請求項15、16又
    は17記載の走査光学装置。
  19. 【請求項19】 前記第2の光学素子は回折系によるパ
    ワーが主走査方向、副走査方向ともに異なる正になるよ
    うに、少なくとも1面に回折格子が形成されていること
    を特徴とする請求項15記載の走査光学装置。
  20. 【請求項20】 前記第2の光学素子は副走査方向に正
    のパワーを有するシリンドリカルレンズより成ることを
    特徴とする請求項15又は19記載の走査光学装置。
  21. 【請求項21】 前記第2の光学素子は副走査方向にお
    いて屈折系によるパワーと回折系によるパワーの両方を
    有することを特徴とする請求項15、19又は20記載
    の走査光学装置。
  22. 【請求項22】 前記第2の光学素子はプラスチック材
    で成形されていることを特徴とする請求項15、19、
    20又は21記載の走査光学装置。
  23. 【請求項23】 前記走査光学手段は装置の環境変動に
    伴なう主走査方向と副走査方向とのピント移動を、前記
    光源手段の波長変動に起因する前記第2の光学素子の回
    折パワーの変化によって補正することを特徴とする請求
    項15、19、20、21又は22記載の走査光学装
    置。
  24. 【請求項24】 前記第1、第2の光学素子のうち、少
    なくとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内にお
    いて、その中心軸を光軸に対し垂直な方向にシフトして
    いることを特徴とする請求項15記載の走査光学装置。
  25. 【請求項25】 前記第1、第2の光学素子のうち、少
    なくとも1つの光学素子は前記偏向手段の偏向面内にお
    いて、その中心軸が光軸に対して傾いていることを特徴
    とする請求項15記載の走査光学装置。
  26. 【請求項26】 前記変換光学素子は前記光源手段から
    射出された光束を略平行光束に変換していることを特徴
    とする請求項15記載の走査光学装置。
  27. 【請求項27】 前記変換光学素子は前記光源手段から
    射出された光束を収束光束に変換していることを特徴と
    する請求項15記載の走査光学装置。
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