JPH11119133A - 光走査光学系 - Google Patents
光走査光学系Info
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- JPH11119133A JPH11119133A JP29328397A JP29328397A JPH11119133A JP H11119133 A JPH11119133 A JP H11119133A JP 29328397 A JP29328397 A JP 29328397A JP 29328397 A JP29328397 A JP 29328397A JP H11119133 A JPH11119133 A JP H11119133A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 環境変動が生じてもピント変動が生じない、
高精細印字（高解像力化）に適したコンパクトな光走査
光学系を得ること。 【解決手段】 光源手段１から射出された光束を光偏向
器５に導光し、該光偏向器で偏向された光束を走査レン
ズ系６により被走査面８上に導光し、該被走査面上を光
走査する光走査光学系において、該走査レンズ系は少な
くとも２つの回折光学素子１１，１２を有し、該２つの
回折光学素子のうち少なくとも一方の回折光学素子は主
走査方向と副走査方向のうち、いずれか一方向に回折作
用を有すること。
高精細印字（高解像力化）に適したコンパクトな光走査
光学系を得ること。 【解決手段】 光源手段１から射出された光束を光偏向
器５に導光し、該光偏向器で偏向された光束を走査レン
ズ系６により被走査面８上に導光し、該被走査面上を光
走査する光走査光学系において、該走査レンズ系は少な
くとも２つの回折光学素子１１，１２を有し、該２つの
回折光学素子のうち少なくとも一方の回折光学素子は主
走査方向と副走査方向のうち、いずれか一方向に回折作
用を有すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光走査光学系に関
し、特に走査レンズ系に少なくとも２つの回折光学素子
を設けることにより、該光走査光学系に環境変動（特に
温度変化）が生じてもピント変化（収差変動）が生じな
い高精細印字に適した、例えばレーザビームプリンター
（ＬＢＰ）やデジタル複写機等の装置に好適な光走査光
学系に関するものである。
し、特に走査レンズ系に少なくとも２つの回折光学素子
を設けることにより、該光走査光学系に環境変動（特に
温度変化）が生じてもピント変化（収差変動）が生じな
い高精細印字に適した、例えばレーザビームプリンター
（ＬＢＰ）やデジタル複写機等の装置に好適な光走査光
学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より回転多面鏡より成る光偏向器の
各偏向面（反射面）で偏向反射された光束（光ビーム）
を使用して被走査面上を光走査するようにした光走査光
学系が種々と提案されている。
各偏向面（反射面）で偏向反射された光束（光ビーム）
を使用して被走査面上を光走査するようにした光走査光
学系が種々と提案されている。
【０００３】これらで提案されている光走査光学系にお
いては光偏向器の各偏向面の面倒れを補正する為、又ｆ
θ特性を得る為や像面湾曲等を補正する為、更には高解
像力化を図る為にシリンドリカルレンズやトーリックレ
ンズ等に回転非対称なガラス材料で形成された光学素子
（ガラスレンズ）を用いて光学系を構成している。
いては光偏向器の各偏向面の面倒れを補正する為、又ｆ
θ特性を得る為や像面湾曲等を補正する為、更には高解
像力化を図る為にシリンドリカルレンズやトーリックレ
ンズ等に回転非対称なガラス材料で形成された光学素子
（ガラスレンズ）を用いて光学系を構成している。
【０００４】しかしながら上記に示したガラス材料より
成るシリンドリカルレンズやトーリックレンズ等の光学
素子は一般に重量があり、しかも非常に高価である為、
装置全体の軽量化及び低コスト化を図るのが非常に難し
かった。
成るシリンドリカルレンズやトーリックレンズ等の光学
素子は一般に重量があり、しかも非常に高価である為、
装置全体の軽量化及び低コスト化を図るのが非常に難し
かった。
【０００５】そこで近年ではこのような回転非対称な光
学素子を安価で生産性の良いプラスチック材料の型成形
で製作することにより、装置全体の軽量化及び低コスト
化を図り、更には高解像力化にも寄与している。
学素子を安価で生産性の良いプラスチック材料の型成形
で製作することにより、装置全体の軽量化及び低コスト
化を図り、更には高解像力化にも寄与している。
【０００６】しかしながらこのプラスチック材料より成
る光学素子（プラスチックレンズ）はガラス材料より成
る光学素子に比べて周囲の環境変化（特に温度変化）に
より、その光学的特性が大きく変化するという問題点が
あった。
る光学素子（プラスチックレンズ）はガラス材料より成
る光学素子に比べて周囲の環境変化（特に温度変化）に
より、その光学的特性が大きく変化するという問題点が
あった。
【０００７】例えば温度変化に対してその材質の屈折率
や膨張率が大きく変化し、これにより光学素子の光学的
屈折力（パワー）が変化し、ピント変化や像面湾曲変化
等が生じる。特に高解像力、即ち高解像度を有するレー
ザービームプリンター等の光走査光学系では温度変化に
伴なうピント変化をより正確に補正する為に走査レンズ
系を構成する少なくとも一部のレンズを、その温度変化
に伴なって光軸上移動させている。
や膨張率が大きく変化し、これにより光学素子の光学的
屈折力（パワー）が変化し、ピント変化や像面湾曲変化
等が生じる。特に高解像力、即ち高解像度を有するレー
ザービームプリンター等の光走査光学系では温度変化に
伴なうピント変化をより正確に補正する為に走査レンズ
系を構成する少なくとも一部のレンズを、その温度変化
に伴なって光軸上移動させている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このようにプラスチッ
クレンズを用いた従来の走査光学系では高解像力化が進
行するほど環境変動（特に温度変化）に対するピント調
整に、より正確さが求められ、これが装置全体を複雑化
し、更には大型化になる傾向にあった。又コストの面か
らしてもコスト高になる等の問題点があった。そのため
プラスチックレンズを使用する光走査光学系では高解像
力化を追求するには、ある程度限界があった。
クレンズを用いた従来の走査光学系では高解像力化が進
行するほど環境変動（特に温度変化）に対するピント調
整に、より正確さが求められ、これが装置全体を複雑化
し、更には大型化になる傾向にあった。又コストの面か
らしてもコスト高になる等の問題点があった。そのため
プラスチックレンズを使用する光走査光学系では高解像
力化を追求するには、ある程度限界があった。
【０００９】本発明は上記の問題点を解決する為に走査
レンズ系に互いに異なる回折作用を有する少なくとも２
つの回折光学素子を設けることにより、該走査レンズ系
にプラスチックレンズ（走査レンズ）を用いても、環境
変動に伴なうピント変動（収差変動）を良好に補正する
ことができる、高精細印字（高解像力化）に適したコン
パクトな光走査光学系の提供を目的とする。
レンズ系に互いに異なる回折作用を有する少なくとも２
つの回折光学素子を設けることにより、該走査レンズ系
にプラスチックレンズ（走査レンズ）を用いても、環境
変動に伴なうピント変動（収差変動）を良好に補正する
ことができる、高精細印字（高解像力化）に適したコン
パクトな光走査光学系の提供を目的とする。
【００１０】更に本発明は上記の回折光学素子を容易に
製作することができる光走査光学系の提供を目的とす
る。
製作することができる光走査光学系の提供を目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査光学系
は、 (1) 光源手段から射出された光束を光偏向器に導光し、
該光偏向器で偏向された光束を走査レンズ系により被走
査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査光学
系において、該走査レンズ系は少なくとも２つの回折光
学素子を有し、該２つの回折光学素子のうち少なくとも
一方の回折光学素子は主走査方向と副走査方向のうち、
いずれか一方向に回折作用を有することを特徴としてい
る。
は、 (1) 光源手段から射出された光束を光偏向器に導光し、
該光偏向器で偏向された光束を走査レンズ系により被走
査面上に導光し、該被走査面上を光走査する光走査光学
系において、該走査レンズ系は少なくとも２つの回折光
学素子を有し、該２つの回折光学素子のうち少なくとも
一方の回折光学素子は主走査方向と副走査方向のうち、
いずれか一方向に回折作用を有することを特徴としてい
る。
【００１２】特に(1-1) 前記２つの回折光学素子のうち
一方の回折光学素子は主走査方向に回折作用を有し、他
方の回折光学素子は副走査方向に回折作用を有すること
や、(1-2) 前記２つの回折光学素子のうち他方の回折光
学素子は光軸に対し回転対称に回折作用を有すること
や、(1-3) 前記２つの回折光学素子は前記走査レンズ系
を構成する単一の光学素子の光学面に各々重畳されてい
ることや、(1-4) 前記単一の光学素子はプラスチック材
料で形成されたレンズより成ることや、(1-5) 前記光走
査光学系の温度変化によって生じるピント変化を前記２
つの回折光学素子のパワー変化と、前記光源手段の波長
変動とで補正するようにしていることや、(1-6) 前記光
偏向器の偏向面と前記被走査面とは副走査断面内におい
て、前記走査レンズ系によって光学的共役関係にあるこ
と、等を特徴としている。
一方の回折光学素子は主走査方向に回折作用を有し、他
方の回折光学素子は副走査方向に回折作用を有すること
や、(1-2) 前記２つの回折光学素子のうち他方の回折光
学素子は光軸に対し回転対称に回折作用を有すること
や、(1-3) 前記２つの回折光学素子は前記走査レンズ系
を構成する単一の光学素子の光学面に各々重畳されてい
ることや、(1-4) 前記単一の光学素子はプラスチック材
料で形成されたレンズより成ることや、(1-5) 前記光走
査光学系の温度変化によって生じるピント変化を前記２
つの回折光学素子のパワー変化と、前記光源手段の波長
変動とで補正するようにしていることや、(1-6) 前記光
偏向器の偏向面と前記被走査面とは副走査断面内におい
て、前記走査レンズ系によって光学的共役関係にあるこ
と、等を特徴としている。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の主走
査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
査方向の要部断面図（主走査断面図）である。
【００１４】同図において１は光源手段であり、例えば
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から射出された発散光束（光ビー
ム）を略平行光束に変換している。３は開口絞りであ
り、通過光束（光量）を制限している。
半導体レーザーより成っている。２はコリメーターレン
ズであり、光源手段１から射出された発散光束（光ビー
ム）を略平行光束に変換している。３は開口絞りであ
り、通過光束（光量）を制限している。
【００１５】４はシリンドリカルレンズであり、副走査
方向に所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過し
た光束を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向面５
ａのほぼ線像として結像させている。従って光偏向器５
に入射する光束は主走査方向に長手の線像となる。
方向に所定の屈折力を有しており、開口絞り３を通過し
た光束を副走査断面内で後述する光偏向器５の偏向面５
ａのほぼ線像として結像させている。従って光偏向器５
に入射する光束は主走査方向に長手の線像となる。
【００１６】５は光偏向器であり、例えばポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）より成っており、モーター等の駆動手
段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転し
ている。
ー（回転多面鏡）より成っており、モーター等の駆動手
段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転し
ている。
【００１７】６は走査レンズ系を構成するｆθレンズで
あり、プラスチック材料で形成された非球面形状の単レ
ンズ（光学素子）より成り、その単レンズ６の入射側
（光偏向器側）の光学面としてのレンズ面（第１面）６
ａに副走査方向に回折パワーを有する第１の回折光学素
子１１を重畳しており、射出側（被走査面側）の光学面
としてのレンズ面（第２面）６ｂに主走査方向に回折パ
ワーを有する第２の回折光学素子１２を重畳している。
あり、プラスチック材料で形成された非球面形状の単レ
ンズ（光学素子）より成り、その単レンズ６の入射側
（光偏向器側）の光学面としてのレンズ面（第１面）６
ａに副走査方向に回折パワーを有する第１の回折光学素
子１１を重畳しており、射出側（被走査面側）の光学面
としてのレンズ面（第２面）６ｂに主走査方向に回折パ
ワーを有する第２の回折光学素子１２を重畳している。
【００１８】本実施形態におけるｆθレンズ６は光偏向
器５によって偏向された画像情報に基づく光束を被走査
面である感光ドラム面８上に結像させる機能を有し、例
えば主走査方向は光偏向器５で偏向された光束を感光ド
ラム面８上に結像させる作用を有し、副走査方向は光偏
向器５の偏向面５ａ近傍に結像された線像を感光ドラム
面８上に再結像させる作用を有している。更にｆθレン
ズ６は光偏向器５の回転角にリニアに比例して光束が感
光ドラム面８上を走査する、所謂ｆθ特性を有してい
る。
器５によって偏向された画像情報に基づく光束を被走査
面である感光ドラム面８上に結像させる機能を有し、例
えば主走査方向は光偏向器５で偏向された光束を感光ド
ラム面８上に結像させる作用を有し、副走査方向は光偏
向器５の偏向面５ａ近傍に結像された線像を感光ドラム
面８上に再結像させる作用を有している。更にｆθレン
ズ６は光偏向器５の回転角にリニアに比例して光束が感
光ドラム面８上を走査する、所謂ｆθ特性を有してい
る。
【００１９】尚、副走査方向の光束に対して再結像系に
するのは光偏向器５の回転軸に対する倒れが光ビーム像
に及ぼす位置ずれを除去する、所謂倒れ補正を行なうた
めである。即ち、光偏向器５の偏向面５ａと感光ドラム
面８とは副走査断面内において、ｆθレンズ６によって
光学的共役関係にある。
するのは光偏向器５の回転軸に対する倒れが光ビーム像
に及ぼす位置ずれを除去する、所謂倒れ補正を行なうた
めである。即ち、光偏向器５の偏向面５ａと感光ドラム
面８とは副走査断面内において、ｆθレンズ６によって
光学的共役関係にある。
【００２０】本実施形態における第１、第２の回折光学
素子１１，１２は通常の硝材（ガラス材）で形成された
レンズ（屈折型レンズ）とは異なり、波長に対する屈折
率の変化率の度合いが１桁上で、かつアッベ数の符号が
逆となる光学特性を有している。図５は硝材で形成され
たレンズと回折光学素子との屈折率の分散の違いを示す
説明図である。同図においてＡが通常の硝材で形成され
たレンズの光学特性、Ｂが本実施形態で用いる回折光学
素子の光学特性である。
素子１１，１２は通常の硝材（ガラス材）で形成された
レンズ（屈折型レンズ）とは異なり、波長に対する屈折
率の変化率の度合いが１桁上で、かつアッベ数の符号が
逆となる光学特性を有している。図５は硝材で形成され
たレンズと回折光学素子との屈折率の分散の違いを示す
説明図である。同図においてＡが通常の硝材で形成され
たレンズの光学特性、Ｂが本実施形態で用いる回折光学
素子の光学特性である。
【００２１】また第１、第２の回折光学素子１１，１２
は、所謂マルチ位相レベルと呼ばれるものであり、フォ
トマスクを用いてエッチングを繰り返して製作しても良
く、又は切除して製作しても良い。いずれにしても一方
のみの格子パターンなので製作は容易である。
は、所謂マルチ位相レベルと呼ばれるものであり、フォ
トマスクを用いてエッチングを繰り返して製作しても良
く、又は切除して製作しても良い。いずれにしても一方
のみの格子パターンなので製作は容易である。
【００２２】本実施形態において半導体レーザー１から
射出した発散光束はコリメーターレンズ２により主走査
方向において略平行光束に変換され、開口絞り３によっ
て該光束（光量）を制限してシリンドリカルレンズ４に
入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した光束
のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出す
る。又副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向
面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結
像している。そして光偏向器５の偏向面５ａで偏向され
た光束はｆθレンズ６を介して感光ドラム面８上に導光
され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転させることによ
って、該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）
に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラ
ム面８上に画像記録を行なっている。
射出した発散光束はコリメーターレンズ２により主走査
方向において略平行光束に変換され、開口絞り３によっ
て該光束（光量）を制限してシリンドリカルレンズ４に
入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した光束
のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出す
る。又副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向
面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結
像している。そして光偏向器５の偏向面５ａで偏向され
た光束はｆθレンズ６を介して感光ドラム面８上に導光
され、該光偏向器５を矢印Ａ方向に回転させることによ
って、該感光ドラム面８上を矢印Ｂ方向（主走査方向）
に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラ
ム面８上に画像記録を行なっている。
【００２３】本実施形態ではｆθレンズ６のレンズ形状
を主走査方向は８次までの関数で表わされる非球面形状
とし、副走査方向は主走査方向（像高方向）に連続的に
変化する球面より構成している。そのレンズ形状は、例
えばｆθレンズ６のレンズ面と光軸との交点を原点と
し、光軸方向をＸ軸、主走査面内において光軸と直交す
る軸をＹ軸、副走査面内において光軸と直交する軸をＺ
軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、
を主走査方向は８次までの関数で表わされる非球面形状
とし、副走査方向は主走査方向（像高方向）に連続的に
変化する球面より構成している。そのレンズ形状は、例
えばｆθレンズ６のレンズ面と光軸との交点を原点と
し、光軸方向をＸ軸、主走査面内において光軸と直交す
る軸をＹ軸、副走査面内において光軸と直交する軸をＺ
軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、
【００２４】
【数１】 （但し、Ｒは曲率半径、Ｋ，Ｂ4 ，Ｂ6 ，Ｂ8 は非球面
係数）なる式で表わされるものであり、また副走査方向
（光軸を含む主走査方向に対して直交する方向）と対応
する子線方向が
係数）なる式で表わされるものであり、また副走査方向
（光軸を含む主走査方向に対して直交する方向）と対応
する子線方向が
【００２５】
【数２】 なる式で表わされるものである。
【００２６】また本実施形態における回折光学素子の回
折面は位相関数を各々φ1 ，φ2 ，φ3 として光軸から
の高さをＨ、発振波長をλ、位相係数を各々Ｃ2 ，Ｃ
3 ，Ｃ4 ，Ｃ5 ，Ｃ8 ，Ｃ14，Ｃ27としたとき主走査方
向に回折作用を有する場合は
折面は位相関数を各々φ1 ，φ2 ，φ3 として光軸から
の高さをＨ、発振波長をλ、位相係数を各々Ｃ2 ，Ｃ
3 ，Ｃ4 ，Ｃ5 ，Ｃ8 ，Ｃ14，Ｃ27としたとき主走査方
向に回折作用を有する場合は
【００２７】
【数３】 副走査方向に回折作用を有する場合は
【００２８】
【数４】 また後述するように光軸に回転対称に回折作用を有する
場合は
場合は
【００２９】
【数５】 但し、Ｈ2 ＝Ｙ2 ＋Ｚ2 なる式で表わされる。
【００３０】ここで光走査光学系が環境変動（特に温度
変化）の影響で、例えば温度がｄｔだけ変化した場合を
考える。この昇温によってｆθレンズ６の屈折率ｎがｄ
ｎ／ｄｔ変化し、該ｆθレンズ６の屈折パワーが変化す
る。またこの昇温によって半導体レーザー１の発振波長
λもｄλ／ｄｔ変化し、第１、第２の回折光学素子１
１，１２の回折パワーが変化する。
変化）の影響で、例えば温度がｄｔだけ変化した場合を
考える。この昇温によってｆθレンズ６の屈折率ｎがｄ
ｎ／ｄｔ変化し、該ｆθレンズ６の屈折パワーが変化す
る。またこの昇温によって半導体レーザー１の発振波長
λもｄλ／ｄｔ変化し、第１、第２の回折光学素子１
１，１２の回折パワーが変化する。
【００３１】尚、本実施形態ではｆθレンズ６の屈折率
変化及び半導体レーザー１の波長変化を以下のように定
義する。
変化及び半導体レーザー１の波長変化を以下のように定
義する。
【００３２】 ｄｎ／ｄｔ＝−１．２ｅ−４／℃ ｄλ／ｄｔ＝０．２５５ｎｍ／℃ 本実施形態ではこの温度変化によって生じるピント変動
（収差変動）を２つの回折光学素子１１，１２のパワー
変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的に補正
するようにしている。
（収差変動）を２つの回折光学素子１１，１２のパワー
変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的に補正
するようにしている。
【００３３】この際、主走査方向と副走査方向とのピン
トの補正量が互いに異なるので本実施形態では各々独立
に補正できるように副走査方向に回折パワーを有する第
１の回折光学素子１１をｆθレンズ６の第１面６ａに重
畳し、また主走査方向に回折パワーを有する第２の回折
光学素子１２をｆθレンズ６の第２面６ｂに重畳するこ
とによって、上記の温度変化によって生ずるピント変動
を補正している。
トの補正量が互いに異なるので本実施形態では各々独立
に補正できるように副走査方向に回折パワーを有する第
１の回折光学素子１１をｆθレンズ６の第１面６ａに重
畳し、また主走査方向に回折パワーを有する第２の回折
光学素子１２をｆθレンズ６の第２面６ｂに重畳するこ
とによって、上記の温度変化によって生ずるピント変動
を補正している。
【００３４】表−１に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ６の非球面係数及び第１、第２の回折光学素子
（ＤＯＥ）１１，１２の位相項を示す。
θレンズ６の非球面係数及び第１、第２の回折光学素子
（ＤＯＥ）１１，１２の位相項を示す。
【００３５】
【表１】 図２は本実施形態における昇温前後の主走査方向及び副
走査方向の像面湾曲と、歪曲収差（ｆθ特性）等を示し
た諸収差図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃
昇温が生じたときの特性を示している。同図から分かる
ように温度上昇が生じても光学性能は実用上、問題のな
いレベルに維持することができる。
走査方向の像面湾曲と、歪曲収差（ｆθ特性）等を示し
た諸収差図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃
昇温が生じたときの特性を示している。同図から分かる
ように温度上昇が生じても光学性能は実用上、問題のな
いレベルに維持することができる。
【００３６】このように本実施形態においては上述の如
く互いに異なる方向に回折パワーを有する２つの回折光
学素子１１，１２をｆθレンズ６の両レンズ面６ａ，６
ｂに各々重畳することにより、該ｆθレンズ６をプラス
チック材料で形成しても、温度変化に伴なうピント変動
（収差変動）を該２つの回折光学素子１１，１２の回折
パワー変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的
に補正することができる。また第１、第２の回折光学素
子１１，１２をｆθレンズ６の両レンズ面６ａ，６ｂに
各々分離させて重畳することによって、該回折光学素子
１１，１２の回折面の形状が簡単になり、これにより第
１、第２の回折光学素子１１，１２の製作を容易にして
安価な加工ができ、かつ光学性能の調整を各走査方向に
分離して行なうこともできる。
く互いに異なる方向に回折パワーを有する２つの回折光
学素子１１，１２をｆθレンズ６の両レンズ面６ａ，６
ｂに各々重畳することにより、該ｆθレンズ６をプラス
チック材料で形成しても、温度変化に伴なうピント変動
（収差変動）を該２つの回折光学素子１１，１２の回折
パワー変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的
に補正することができる。また第１、第２の回折光学素
子１１，１２をｆθレンズ６の両レンズ面６ａ，６ｂに
各々分離させて重畳することによって、該回折光学素子
１１，１２の回折面の形状が簡単になり、これにより第
１、第２の回折光学素子１１，１２の製作を容易にして
安価な加工ができ、かつ光学性能の調整を各走査方向に
分離して行なうこともできる。
【００３７】尚、本実施形態では第１、第２の回折光学
素子１１，１２を走査レンズ系を構成するｆθレンズ６
の両レンズ面に各々重畳したが、これに限定されること
はなく、各々光路内に独立に設けて構成しても良く、ま
たどちらか一方のみをｆθレンズ６のレンズ面に重畳
し、他方を独立に設けても良い。
素子１１，１２を走査レンズ系を構成するｆθレンズ６
の両レンズ面に各々重畳したが、これに限定されること
はなく、各々光路内に独立に設けて構成しても良く、ま
たどちらか一方のみをｆθレンズ６のレンズ面に重畳
し、他方を独立に設けても良い。
【００３８】図３は本発明の実施形態２の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
要部断面図（主走査断面図）である。同図において図１
に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００３９】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点はｆθレンズの入射側のレンズ面に副走査方向に
回折パワーを有する第１の回折光学素子を重畳し、射出
側のレンズ面に光軸に対して回転対称に回折パワーを有
する第２の回折光学素子を重畳したことである。その他
の構成及び光学的作用は前述の実施形態１と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
なる点はｆθレンズの入射側のレンズ面に副走査方向に
回折パワーを有する第１の回折光学素子を重畳し、射出
側のレンズ面に光軸に対して回転対称に回折パワーを有
する第２の回折光学素子を重畳したことである。その他
の構成及び光学的作用は前述の実施形態１と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
【００４０】即ち、同図において２６は走査レンズ系を
構成するｆθレンズであり、プラスチック材料で形成さ
れた非球面形状の単レンズ（光学素子）より成り、その
単レンズ２６の入射側（光偏向器側）のレンズ面（第１
面）２６ａに副走査方向に回折パワーを有する第１の回
折光学素子２１を重畳し、射出側（被走査面側）のレン
ズ面（第２面）２６ｂに光軸に対して回転対称に回折パ
ワーを有する第２の回折光学素子２２を重畳している。
構成するｆθレンズであり、プラスチック材料で形成さ
れた非球面形状の単レンズ（光学素子）より成り、その
単レンズ２６の入射側（光偏向器側）のレンズ面（第１
面）２６ａに副走査方向に回折パワーを有する第１の回
折光学素子２１を重畳し、射出側（被走査面側）のレン
ズ面（第２面）２６ｂに光軸に対して回転対称に回折パ
ワーを有する第２の回折光学素子２２を重畳している。
【００４１】走査レンズ系においてｆθレンズ２６は副
走査方向に屈折力が強いので回折光学素子による補正力
も強くしなければならない。そこで本実施形態では上述
の如く第２の回折光学素子２２を光軸に対して回転対称
に回折パワーを有するように構成することにより、第１
の回折光学素子２１の副走査方向の補正力を弱めること
ができ、更にこのように構成することによって第１、第
２の回折光学素子２１，２２の回折面の形状が簡単にな
り、これにより該回折光学素子の製作を容易にすること
ができる。
走査方向に屈折力が強いので回折光学素子による補正力
も強くしなければならない。そこで本実施形態では上述
の如く第２の回折光学素子２２を光軸に対して回転対称
に回折パワーを有するように構成することにより、第１
の回折光学素子２１の副走査方向の補正力を弱めること
ができ、更にこのように構成することによって第１、第
２の回折光学素子２１，２２の回折面の形状が簡単にな
り、これにより該回折光学素子の製作を容易にすること
ができる。
【００４２】本実施形態では光走査光学系の温度変化に
よって生じる主走査方向及び副走査方向のピント変動を
上述した第１、第２の回折光学素子２１，２２のパワー
変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的に補正
するようにしている。
よって生じる主走査方向及び副走査方向のピント変動を
上述した第１、第２の回折光学素子２１，２２のパワー
変化と、半導体レーザー１の波長変動とで効果的に補正
するようにしている。
【００４３】表−２に本実施形態における光学配置とｆ
θレンズ２６の非球面係数及び第１、第２の回折光学素
子（ＤＯＥ）２１，２２の位相項を示す。
θレンズ２６の非球面係数及び第１、第２の回折光学素
子（ＤＯＥ）２１，２２の位相項を示す。
【００４４】
【表２】 図４は本実施形態における昇温前後の主走査方向及び副
走査方向の像面湾曲と、歪曲収差（ｆθ特性）等を示し
た諸収差図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃
昇温が生じたときの特性を示している。同図から分かる
ように温度上昇が生じても光学性能は実用上、問題のな
いレベルに維持することができる。
走査方向の像面湾曲と、歪曲収差（ｆθ特性）等を示し
た諸収差図であり、実線は常温での特性、点線は２５℃
昇温が生じたときの特性を示している。同図から分かる
ように温度上昇が生じても光学性能は実用上、問題のな
いレベルに維持することができる。
【００４５】このように本実施形態では上述の如く副走
査方向に回折パワーを有する第１の回折光学素子２１
と、光軸に対して回転対称に回折パワーを有する第２の
回折光学素子２２とをｆθレンズ２６の両レンズ面２６
ａ，２６ｂに各々重畳することにより、該ｆθレンズ２
６をプラスチック材料で形成しても、温度変化に伴なう
ピント変動（収差変動）を２つの回折光学素子２１，２
２の回折パワー変化と、半導体レーザー１の波長変動と
で効果的に補正することができ、また該２つの回折光学
素子２１，２２の製作も容易にすることができる。
査方向に回折パワーを有する第１の回折光学素子２１
と、光軸に対して回転対称に回折パワーを有する第２の
回折光学素子２２とをｆθレンズ２６の両レンズ面２６
ａ，２６ｂに各々重畳することにより、該ｆθレンズ２
６をプラスチック材料で形成しても、温度変化に伴なう
ピント変動（収差変動）を２つの回折光学素子２１，２
２の回折パワー変化と、半導体レーザー１の波長変動と
で効果的に補正することができ、また該２つの回折光学
素子２１，２２の製作も容易にすることができる。
【００４６】本実施形態で用いている回折光学素子の構
成としては図６に示す１層のキノフォーム形状の１層構
成のものや、図８に示すような格子厚の異なる（又は同
一の）２つの層を積層した２層構成のもの等が適用可能
である。
成としては図６に示す１層のキノフォーム形状の１層構
成のものや、図８に示すような格子厚の異なる（又は同
一の）２つの層を積層した２層構成のもの等が適用可能
である。
【００４７】図７は図６に示す回折光学素子１０１の１
次回折光の回折効率の波長依存特性である。実際の回折
光学素子１０１の構成は、基材１０２の表面に紫外線硬
化樹脂を塗布し、樹脂部に波長５３０ｎｍで１次回折光
の回折効率が１００％となるような格子厚ｄの層１０３
を形成している。
次回折光の回折効率の波長依存特性である。実際の回折
光学素子１０１の構成は、基材１０２の表面に紫外線硬
化樹脂を塗布し、樹脂部に波長５３０ｎｍで１次回折光
の回折効率が１００％となるような格子厚ｄの層１０３
を形成している。
【００４８】図７で明らかなように設計次数の回折効率
は最適化した波長５３０ｎｍから離れるに従って低下
し、一方設計次数近傍の次数の０次回折光と２次回折光
の回折効率が増大している。その設計次数以外の回折光
の増加はフレアとなり、光学系の解像度の低下につなが
る。
は最適化した波長５３０ｎｍから離れるに従って低下
し、一方設計次数近傍の次数の０次回折光と２次回折光
の回折効率が増大している。その設計次数以外の回折光
の増加はフレアとなり、光学系の解像度の低下につなが
る。
【００４９】図８に示す２つの層１０４，１０５を積層
した積層型の回折光学素子の１次回折光の回折効率の波
長依存特性を図９に示す。
した積層型の回折光学素子の１次回折光の回折効率の波
長依存特性を図９に示す。
【００５０】図８では基材１０２上に紫外線硬化樹脂
（ｎｄ＝１．４９９、νｄ＝５４）からなる第１層１０
４を形成し、その上に別の紫外線硬化樹脂（ｎｄ＝１．
５９８、νｄ＝２８）からなる第２層１０５を形成して
いる。この材質の組み合わせでは第１層１０４の格子厚
ｄ１はｄ１＝１３．８μｍ、第２層１０５の格子厚ｄ２
はｄ２＝１０．５μｍとしている。
（ｎｄ＝１．４９９、νｄ＝５４）からなる第１層１０
４を形成し、その上に別の紫外線硬化樹脂（ｎｄ＝１．
５９８、νｄ＝２８）からなる第２層１０５を形成して
いる。この材質の組み合わせでは第１層１０４の格子厚
ｄ１はｄ１＝１３．８μｍ、第２層１０５の格子厚ｄ２
はｄ２＝１０．５μｍとしている。
【００５１】図９から分かるように積層構造の回折光学
素子にすることで、設計次数の回折効率は、使用波長全
域で９５％以上の高い回折効率を有している。
素子にすることで、設計次数の回折効率は、使用波長全
域で９５％以上の高い回折効率を有している。
【００５２】なお、前述の積層構造の回折光学素子とし
て、材質を紫外線硬化樹脂に限定するものではなく、他
のプラスチック材等も使用できるし、基材によっては第
１層１０４を直接基材に形成しても良い。また各格子厚
が必ずしも異なる必要はなく、材料の組み合わせによっ
ては図１０に示すように２つの層１０４と１０５の格子
厚を等しくしても良い。
て、材質を紫外線硬化樹脂に限定するものではなく、他
のプラスチック材等も使用できるし、基材によっては第
１層１０４を直接基材に形成しても良い。また各格子厚
が必ずしも異なる必要はなく、材料の組み合わせによっ
ては図１０に示すように２つの層１０４と１０５の格子
厚を等しくしても良い。
【００５３】この場合、回折光学素子の表面に格子形状
が形成されないので、防塵性に優れ、回折光学素子の組
立作業性を向上させることができる。
が形成されないので、防塵性に優れ、回折光学素子の組
立作業性を向上させることができる。
【００５４】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く走査レンズ系
に互いに異なる回折作用を有する少なくとも２つの回折
光学素子を設けることにより、該走査レンズ系にプラス
チックレンズ（走査レンズ）を用いても、環境変動に伴
なうピント変動（収差変動）を良好に補正することがで
きる、高精細印字（高解像力化）に適したコンパクトな
光走査光学系を達成することができる。
に互いに異なる回折作用を有する少なくとも２つの回折
光学素子を設けることにより、該走査レンズ系にプラス
チックレンズ（走査レンズ）を用いても、環境変動に伴
なうピント変動（収差変動）を良好に補正することがで
きる、高精細印字（高解像力化）に適したコンパクトな
光走査光学系を達成することができる。
【００５５】更に本発明によれば上記の回折光学素子を
容易に製作することができる光走査光学系を達成するこ
とができる。
容易に製作することができる光走査光学系を達成するこ
とができる。
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向の要部断面
図
図
【図２】 本発明の実施形態１における昇温前後の主走
査方向及び副走査方向の像面湾曲と歪曲収差を示す諸収
差図
査方向及び副走査方向の像面湾曲と歪曲収差を示す諸収
差図
【図３】 本発明の実施形態２の主走査方向の要部断面
図
図
【図４】 本発明の実施形態２における昇温前後の主走
査方向及び副走査方向の像面湾曲と歪曲収差を示す諸収
差図
査方向及び副走査方向の像面湾曲と歪曲収差を示す諸収
差図
【図５】 硝材と回折光学素子の屈折率の分散の違いを
示す説明図
示す説明図
【図６】 本発明に係る回折光学素子の説明図
【図７】 本発明に係る回折光学素子の波長依存特性の
説明図
説明図
【図８】 本発明に係る回折光学素子の説明図
【図９】 本発明に係る回折光学素子の波長依存特性の
説明図
説明図
【図１０】 本発明に係る回折光学素子の説明図
１ 光源手段 ２ コリメーターレンズ ３ 開口絞り ４ シリンドリカルレンズ ５ 光偏向器 ６，２６ 走査レンズ系 １１，２１ 第１の回折光学素子 １２，２２ 第２の回折光学素子 ８ 被走査面（感光ドラム面） １０１ 回折光学素子 １０２ 基材 １０３，１０４，１０５ 層
Claims (7)
- 【請求項１】 光源手段から射出された光束を光偏向器
に導光し、該光偏向器で偏向された光束を走査レンズ系
により被走査面上に導光し、該被走査面上を光走査する
光走査光学系において、 該走査レンズ系は少なくとも２つの回折光学素子を有
し、該２つの回折光学素子のうち少なくとも一方の回折
光学素子は主走査方向と副走査方向のうち、いずれか一
方向に回折作用を有することを特徴とする光走査光学
系。 - 【請求項２】 前記２つの回折光学素子のうち一方の回
折光学素子は主走査方向に回折作用を有し、他方の回折
光学素子は副走査方向に回折作用を有することを特徴と
する請求項１の光走査光学系。 - 【請求項３】 前記２つの回折光学素子のうち他方の回
折光学素子は光軸に対し回転対称に回折作用を有するこ
とを特徴とする請求項１の光走査光学系。 - 【請求項４】 前記２つの回折光学素子は前記走査レン
ズ系を構成する単一の光学素子の光学面に各々重畳され
ていることを特徴とする請求項１、２又は３の光走査光
学系。 - 【請求項５】 前記単一の光学素子はプラスチック材料
で形成されたレンズより成ることを特徴とする請求項４
の光走査光学系。 - 【請求項６】 前記光走査光学系の温度変化によって生
じるピント変化を前記２つの回折光学素子のパワー変化
と、前記光源手段の波長変動とで補正するようにしてい
ることを特徴とする請求項１の光走査光学系。 - 【請求項７】 前記光偏向器の偏向面と前記被走査面と
は副走査断面内において、前記走査レンズ系によって光
学的共役関係にあることを特徴とする請求項１の光走査
光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29328397A JP3554157B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 光走査光学系及びレーザービームプリンタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29328397A JP3554157B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 光走査光学系及びレーザービームプリンタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11119133A true JPH11119133A (ja) | 1999-04-30 |
| JP3554157B2 JP3554157B2 (ja) | 2004-08-18 |
Family
ID=17792834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29328397A Expired - Fee Related JP3554157B2 (ja) | 1997-10-09 | 1997-10-09 | 光走査光学系及びレーザービームプリンタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3554157B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001142017A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JP2006235069A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP2007011113A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP2010061110A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-03-18 | Kyocera Mita Corp | 光走査光学装置、該光走査光学装置を用いた画像形成装置並びに光走査方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6973086B2 (ja) * | 2016-02-03 | 2021-11-24 | 株式会社ニデック | 眼科用レーザ屈折矯正装置、眼科用フォトチューニング設定装置、眼科用フォトチューニングシステム、眼鏡用フォトチューニング設定装置、及びこれらに用いられるプログラム、眼科用レーザ手術装置 |
-
1997
- 1997-10-09 JP JP29328397A patent/JP3554157B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001142017A (ja) * | 1999-11-16 | 2001-05-25 | Canon Inc | 走査光学装置 |
| JP4652506B2 (ja) * | 1999-11-16 | 2011-03-16 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
| JP2006235069A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP4568618B2 (ja) * | 2005-02-23 | 2010-10-27 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP2007011113A (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-18 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP2010061110A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-03-18 | Kyocera Mita Corp | 光走査光学装置、該光走査光学装置を用いた画像形成装置並びに光走査方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3554157B2 (ja) | 2004-08-18 |
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