JPH08286133A - 走査光学系及び走査光学系の球面収差補正方法 - Google Patents
走査光学系及び走査光学系の球面収差補正方法Info
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- JPH08286133A JPH08286133A JP8964695A JP8964695A JPH08286133A JP H08286133 A JPH08286133 A JP H08286133A JP 8964695 A JP8964695 A JP 8964695A JP 8964695 A JP8964695 A JP 8964695A JP H08286133 A JPH08286133 A JP H08286133A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 走査レンズ系の主走査断面における波面収差
を、走査レンズ系以外で補正して、走査レンズ系でのｆ
θ特性や像面湾曲の補正の自由度を高めることができる
走査光学系を得る。 【構成】 光源と、この光源からの光を偏向する光偏向
器と、偏向された光束を被走査面に結像させる走査レン
ズ系とを備えた走査光学系において、光源と走査レンズ
系と間に、走査レンズ系で発生する主走査断面の波面収
差を減少させる補正光学素子を配設した走査光学系。
を、走査レンズ系以外で補正して、走査レンズ系でのｆ
θ特性や像面湾曲の補正の自由度を高めることができる
走査光学系を得る。 【構成】 光源と、この光源からの光を偏向する光偏向
器と、偏向された光束を被走査面に結像させる走査レン
ズ系とを備えた走査光学系において、光源と走査レンズ
系と間に、走査レンズ系で発生する主走査断面の波面収
差を減少させる補正光学素子を配設した走査光学系。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、走査光学系に関する。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】レーザビームプリンタ、レ
ーザスキャナ、バーコードリーダ等においては、走査光
学系が不可欠であり、光偏向器としてポリゴンミラーや
ホログラムディスクが用いられている。半導体レーザか
ら出射したレーザ光は、光偏向器に入射して偏向され、
偏向された光束は、ｆθレンズ等の走査レンズ系を介し
て、被走査面、例えば感光体上に走査される。
ーザスキャナ、バーコードリーダ等においては、走査光
学系が不可欠であり、光偏向器としてポリゴンミラーや
ホログラムディスクが用いられている。半導体レーザか
ら出射したレーザ光は、光偏向器に入射して偏向され、
偏向された光束は、ｆθレンズ等の走査レンズ系を介し
て、被走査面、例えば感光体上に走査される。
【０００３】このような走査光学系では、最近、一層の
高精細化を図るため、走査レンズ系のｆθ特性や特に主
走査断面での像面湾曲に対する要求がより厳しいものと
なっている。このため、走査レンズ系は構成枚数が増加
し、各レンズのパワーを強くする傾向にある。ところ
が、このように各レンズのパワーが強くなると、主走査
断面の球面収差が発生しやすくなり、これを走査レンズ
系で補正しようとすると、ｆθ特性や像面湾曲を犠牲に
せざるを得ない。つまり、主走査断面の球面収差の補正
と、ｆθ特性の向上及び主走査断面の像面湾曲の補正と
は、レンズ設計上、二律背反的な要求であり、球面収差
の補正に重点をおけば、ｆθ特性や像面湾曲は悪化し、
走査スポット光を焦点深度から外れないようにすること
が困難になる。
高精細化を図るため、走査レンズ系のｆθ特性や特に主
走査断面での像面湾曲に対する要求がより厳しいものと
なっている。このため、走査レンズ系は構成枚数が増加
し、各レンズのパワーを強くする傾向にある。ところ
が、このように各レンズのパワーが強くなると、主走査
断面の球面収差が発生しやすくなり、これを走査レンズ
系で補正しようとすると、ｆθ特性や像面湾曲を犠牲に
せざるを得ない。つまり、主走査断面の球面収差の補正
と、ｆθ特性の向上及び主走査断面の像面湾曲の補正と
は、レンズ設計上、二律背反的な要求であり、球面収差
の補正に重点をおけば、ｆθ特性や像面湾曲は悪化し、
走査スポット光を焦点深度から外れないようにすること
が困難になる。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、走査光学系についての以上の
問題意識に基づき、主走査断面での球面収差を走査レン
ズ系自体では考慮する必要性を少なくし、ｆθ特性や像
面湾曲の補正の自由度を高めることができる走査光学系
を得ることを目的とする。
問題意識に基づき、主走査断面での球面収差を走査レン
ズ系自体では考慮する必要性を少なくし、ｆθ特性や像
面湾曲の補正の自由度を高めることができる走査光学系
を得ることを目的とする。
【０００５】
【発明の概要】本発明は、走査光学系を光偏向器の前と
後で分けたとき、後、つまり走査レンズ系で発生する主
走査方向の球面収差を、前、つまり光源と走査レンズ系
の間に位置する光学素子で補正すれば、走査レンズ系は
主にｆθ特性や像面湾曲の補正に当てることができ、よ
ってより高精細な走査光学系が可能という着想に基づい
てなされたものである。
後で分けたとき、後、つまり走査レンズ系で発生する主
走査方向の球面収差を、前、つまり光源と走査レンズ系
の間に位置する光学素子で補正すれば、走査レンズ系は
主にｆθ特性や像面湾曲の補正に当てることができ、よ
ってより高精細な走査光学系が可能という着想に基づい
てなされたものである。
【０００６】すなわち本発明は、光源と、この光源から
の光を偏向する光偏向器と、偏向された光束を被走査面
に結像させる走査レンズ系とを備えた走査光学系におい
て、光源と走査レンズ系との間に、走査レンズ系で発生
する主走査断面の球面収差を減少させる補正光学素子を
配設したことを特徴としている。
の光を偏向する光偏向器と、偏向された光束を被走査面
に結像させる走査レンズ系とを備えた走査光学系におい
て、光源と走査レンズ系との間に、走査レンズ系で発生
する主走査断面の球面収差を減少させる補正光学素子を
配設したことを特徴としている。
【０００７】この構成によれば、走査レンズ系は主にｆ
θ特性や像面湾曲の補正に当てることができるので、よ
り高精細な走査光学系が可能である。しかも、光源と光
偏向器との間の光学系は小型であるから、補正光学素子
も小型ですむという副次的な効果もある。
θ特性や像面湾曲の補正に当てることができるので、よ
り高精細な走査光学系が可能である。しかも、光源と光
偏向器との間の光学系は小型であるから、補正光学素子
も小型ですむという副次的な効果もある。
【０００８】この光源と光偏向器の間に設ける光学素子
としては、少なくとも、次の各素子が可能である。第１
は、光源の像を主走査方向の線像として光偏向器に与え
る、主走査方向と副走査方向のパワーの異なるアナモフ
ィック系レンズであり、このアナモフィック系レンズの
少なくとも一面の主走査断面形状を、走査レンズ系で発
生する主走査断面の球面収差を打ち消す形状に設定す
る。第２は、光源からの光束を平行光束化してシリンド
リカルレンズに与えるコリメートレンズであり、このコ
リメートレンズを、走査レンズ系で発生する主走査断面
の球面収差を打ち消す球面収差を発生させる形状に設定
する。第３は、光源と光偏向器の間の光路中に挿入した
球面収差補正素子であり、この球面収差補正素子の少な
くとも一面を、走査レンズ系で発生する主走査断面の球
面収差を打ち消す形状に設定する。第４は、光源と光偏
向器の間の光路中に挿入した屈折率分布型光学素子であ
り、この屈折率分布型光学素子の屈折率分布を、走査レ
ンズ系で発生する主走査断面の球面収差を打ち消すよう
に設定する。この屈折率分布型光学素子は、具体的に
は、アナモフィック系レンズ系とするのが実際的であ
る。
としては、少なくとも、次の各素子が可能である。第１
は、光源の像を主走査方向の線像として光偏向器に与え
る、主走査方向と副走査方向のパワーの異なるアナモフ
ィック系レンズであり、このアナモフィック系レンズの
少なくとも一面の主走査断面形状を、走査レンズ系で発
生する主走査断面の球面収差を打ち消す形状に設定す
る。第２は、光源からの光束を平行光束化してシリンド
リカルレンズに与えるコリメートレンズであり、このコ
リメートレンズを、走査レンズ系で発生する主走査断面
の球面収差を打ち消す球面収差を発生させる形状に設定
する。第３は、光源と光偏向器の間の光路中に挿入した
球面収差補正素子であり、この球面収差補正素子の少な
くとも一面を、走査レンズ系で発生する主走査断面の球
面収差を打ち消す形状に設定する。第４は、光源と光偏
向器の間の光路中に挿入した屈折率分布型光学素子であ
り、この屈折率分布型光学素子の屈折率分布を、走査レ
ンズ系で発生する主走査断面の球面収差を打ち消すよう
に設定する。この屈折率分布型光学素子は、具体的に
は、アナモフィック系レンズ系とするのが実際的であ
る。
【０００９】本発明はまた、方法の発明として表現する
と、光源と、この光源からの光を偏向する光偏向器と、
偏向された光束を被走査面に結像させる走査レンズ系と
を備えた走査光学系において、走査レンズ系で発生する
主走査断面の球面収差を、光源と走査レンズ系の間に位
置させた補正光学素子で補正することを特徴としてい
る。
と、光源と、この光源からの光を偏向する光偏向器と、
偏向された光束を被走査面に結像させる走査レンズ系と
を備えた走査光学系において、走査レンズ系で発生する
主走査断面の球面収差を、光源と走査レンズ系の間に位
置させた補正光学素子で補正することを特徴としてい
る。
【００１０】
【発明の実施例】以下図示実施例について本発明を説明
する。図１は、本発明を適用する走査光学系の主走査断
面図である。図１には、光偏向器として回転軸１１を中
心に回動するポリゴンミラー１２を図示している。周知
のように、半導体レーザ（光源）１３から出射されたレ
ーザ光は、コリメートレンズ１４により平行光とされ、
典型的なアナモフィック系レンズであるシリンドリカル
レンズ１５により主走査方向の線像とされてポリゴンミ
ラー１２に入射し、該ミラー周囲の各反射面１２Ｒで反
射されて走査され、走査レンズ系（ｆθレンズ系）２０
を介して被走査面１６に走査される。被走査面１６は、
例えばレーザビームプリンタの場合、感光体ドラムであ
る。走査レンズ系２０は、図示例では、第１レンズ２
１、第２レンズ２２、第３レンズ２３、及び第４レンズ
２４の４枚構成である。
する。図１は、本発明を適用する走査光学系の主走査断
面図である。図１には、光偏向器として回転軸１１を中
心に回動するポリゴンミラー１２を図示している。周知
のように、半導体レーザ（光源）１３から出射されたレ
ーザ光は、コリメートレンズ１４により平行光とされ、
典型的なアナモフィック系レンズであるシリンドリカル
レンズ１５により主走査方向の線像とされてポリゴンミ
ラー１２に入射し、該ミラー周囲の各反射面１２Ｒで反
射されて走査され、走査レンズ系（ｆθレンズ系）２０
を介して被走査面１６に走査される。被走査面１６は、
例えばレーザビームプリンタの場合、感光体ドラムであ
る。走査レンズ系２０は、図示例では、第１レンズ２
１、第２レンズ２２、第３レンズ２３、及び第４レンズ
２４の４枚構成である。
【００１１】表１は、以上の光学系の具体的なレンズデ
ータである（コリメートレンズ１４を除く）。表中、ｆ
は焦点距離、Ｒは主走査断面の曲率半径、ＲZ は主走査
断面と直交する副走査断面の曲率半径、Ｄはレンズ厚ま
たはレンズ間隔、Ｎは屈折率である。面No. は、ポリゴ
ンミラー１２側から数えた走査レンズ系２０の面番号で
ある（第１面は第１レンズ２１のポリゴンミラー１２側
の面、第８面は第４レンズ２４の被走査面１６側の
面）。
ータである（コリメートレンズ１４を除く）。表中、ｆ
は焦点距離、Ｒは主走査断面の曲率半径、ＲZ は主走査
断面と直交する副走査断面の曲率半径、Ｄはレンズ厚ま
たはレンズ間隔、Ｎは屈折率である。面No. は、ポリゴ
ンミラー１２側から数えた走査レンズ系２０の面番号で
ある（第１面は第１レンズ２１のポリゴンミラー１２側
の面、第８面は第４レンズ２４の被走査面１６側の
面）。
【００１２】
【表１】 f=329.675 走査係数=330 面 No. R RZ D N シリント゛リカル ∞ 59.240 4.00 1.51072 レンス゛ 15 ∞ 115.900 ホ゜リコ゛ンミラー 12 90.343 1 -376.425 12.000 1.60910 2 ∞ 111.375 16.103 3 1824.852 29.981 1.78569 4 -201.318 -59.399 5.000 5 ∞ 21.521 1.71230 6 -283.597 10.000 7 -216.847 10.000 1.60910 8 -2571.447 307.760
【００１３】図２は、図１及び表１に示す具体的なレン
ズ系についての主走査断面における球面収差を波面収差
で示したものである。Ｙは主走査方向の位置を示し、Ｙ
＝０は、走査レンズ系２０の光軸上を意味する。
ズ系についての主走査断面における球面収差を波面収差
で示したものである。Ｙは主走査方向の位置を示し、Ｙ
＝０は、走査レンズ系２０の光軸上を意味する。
【００１４】本発明の基本的な技術思想は、このような
走査光学系の走査レンズ系２０の主走査断面の球面収差
を、半導体レーザ１３と走査レンズ系２０（ポリゴンミ
ラー１２）の間に設けた補正光学素子で補正するもので
ある。図３は、図２の波面収差と合成すべき、半導体レ
ーザ１３とポリゴンミラー１２の間の光学素子で与える
波面収差の例であり、図２の波面収差成分とは発生する
方向が反対である。図２と図３の波面収差を合成する
と、図４のように、主走査方向Ｙのすべての位置におい
て合成波面収差が小さくなる。
走査光学系の走査レンズ系２０の主走査断面の球面収差
を、半導体レーザ１３と走査レンズ系２０（ポリゴンミ
ラー１２）の間に設けた補正光学素子で補正するもので
ある。図３は、図２の波面収差と合成すべき、半導体レ
ーザ１３とポリゴンミラー１２の間の光学素子で与える
波面収差の例であり、図２の波面収差成分とは発生する
方向が反対である。図２と図３の波面収差を合成する
と、図４のように、主走査方向Ｙのすべての位置におい
て合成波面収差が小さくなる。
【００１５】［実施例１］図５ないし図７及び表２は、
図３のような球面収差特性を得るための本発明の第１の
実施例を示す。この第１の実施例は、シリンドリカルレ
ンズ１５の一面を非球面化したもので、そのレンズ構成
の模式図を図５と図６に、そのレンズデータを表２に、
主走査断面の非球面形状の例を図７に示す。
図３のような球面収差特性を得るための本発明の第１の
実施例を示す。この第１の実施例は、シリンドリカルレ
ンズ１５の一面を非球面化したもので、そのレンズ構成
の模式図を図５と図６に、そのレンズデータを表２に、
主走査断面の非球面形状の例を図７に示す。
【００１６】シリンドリカルレンズ１５は、ガラスレン
ズ１５ａのポリゴンミラー１２側と半導体レーザ１３側
にそれぞれ、合成樹脂層１５ｂと合成樹脂層１５ｃを付
着させたハイブリッドレンズからなる。合成樹脂層１５
ｂは副走査断面を非球面化し、合成樹脂層１５ｃは光軸
を中心とする回転対称非球面としている。図３に示すよ
うな主走査断面の球面収差は、この合成樹脂層１５ｃに
よって発生する。図７は、この合成樹脂層１５ｃによる
サグ量（非球面量）を示している。
ズ１５ａのポリゴンミラー１２側と半導体レーザ１３側
にそれぞれ、合成樹脂層１５ｂと合成樹脂層１５ｃを付
着させたハイブリッドレンズからなる。合成樹脂層１５
ｂは副走査断面を非球面化し、合成樹脂層１５ｃは光軸
を中心とする回転対称非球面としている。図３に示すよ
うな主走査断面の球面収差は、この合成樹脂層１５ｃに
よって発生する。図７は、この合成樹脂層１５ｃによる
サグ量（非球面量）を示している。
【００１７】図８は、非球面量を定義する図である。非
球面は、近軸球面（ベース球面、図５の場合は平面）上
に非球面を付加して構成されている面であるが、非球面
量は、同図に示すように、 非球面量＝非球面のサグ量−ベース球面のサグ量 （サグ量は、光軸と直交するレンズとの接平面からレン
ズ面迄の距離）で定義される量である。非球面量のプラ
スは非球面がベース球面よりもポリゴンミラー側に位置
している場合、同マイナスは非球面がベース球面よりも
光源側に位置している場合をいう。
球面は、近軸球面（ベース球面、図５の場合は平面）上
に非球面を付加して構成されている面であるが、非球面
量は、同図に示すように、 非球面量＝非球面のサグ量−ベース球面のサグ量 （サグ量は、光軸と直交するレンズとの接平面からレン
ズ面迄の距離）で定義される量である。非球面量のプラ
スは非球面がベース球面よりもポリゴンミラー側に位置
している場合、同マイナスは非球面がベース球面よりも
光源側に位置している場合をいう。
【００１８】
【表２】 シリンドリカルレンズ１５のレンズデータ（面No. はポリゴンミラー１２側から ） 面 No. R RZ D N 1 ∞ 59.240* 0.100 1.51350 2 ∞ 59.240 4.000 1.51072 3 ∞ 0.100 1.51350 4 ∞** 115.770 * は副走査断面非球面（非円弧面） 非球面量ΔＳ(z) ＝-1.8×10-6・Z4 **は回転対称非球面 非球面量ΔＳ(r) ＝ 5.6×10-8・r4 （但し、Z は副走査断面の光軸からの距離、ｒは光軸からの距離、r2=Y2+Z2）
【００１９】［実施例２］図９及び表３は、本発明の第
２の実施例を示す。この第２の実施例は、コリメートレ
ンズ１４で、図３のような特性の球面収差を発生させる
もので、コリメートレンズ１４は、図９に示すように、
ポリゴンミラー１２側の第１レンズ１４ａと、半導体レ
ーザ１３側の第２レンズ１４ｂとからなっている。この
コリメートレンズ１４のレンズデータを表３に示す。
２の実施例を示す。この第２の実施例は、コリメートレ
ンズ１４で、図３のような特性の球面収差を発生させる
もので、コリメートレンズ１４は、図９に示すように、
ポリゴンミラー１２側の第１レンズ１４ａと、半導体レ
ーザ１３側の第２レンズ１４ｂとからなっている。この
コリメートレンズ１４のレンズデータを表３に示す。
【００２０】
【表３】 コリメートレンズ１４のレンズデータ（面No. はポリゴンミラー１２側から） 面 No. R D N 1 61.493 3.000 1.51072 2 -143.698 0.240 3 -55.763 2.000 1.60910 4 -66.939 97.932
【００２１】［実施例３］図１０、図７、及び表４は、
本発明の第３の実施例を示す。この実施例は、図１０に
示すように、コリメートレンズ１４とシリンドリカルレ
ンズ１５の間に、球面収差発生素子１７を挿入したもの
で、球面収差発生素子１７は、平行平面板の一面を非球
面化してなっている。この非球面も、図３のような特性
の球面収差を発生させるものである。表４はその形状デ
ータを示している。この非球面形状は、実質的に実施例
１を説明した図７と同じである。
本発明の第３の実施例を示す。この実施例は、図１０に
示すように、コリメートレンズ１４とシリンドリカルレ
ンズ１５の間に、球面収差発生素子１７を挿入したもの
で、球面収差発生素子１７は、平行平面板の一面を非球
面化してなっている。この非球面も、図３のような特性
の球面収差を発生させるものである。表４はその形状デ
ータを示している。この非球面形状は、実質的に実施例
１を説明した図７と同じである。
【００２２】
【表４】 球面収差発生素子１７のデータ（面No. はポリゴンミラー１２側から） 面 No. R D N 1 ∞** 2.000 1.51920 2 ∞ **は回転対称非球面 非球面量ΔＳ(r) ＝-5.6×10-8・r4
【００２３】［実施例４］図１１は、図３のような特性
の球面収差を発生させるために、屈折率分布型光学素子
を用いた実施例である。この実施例は、図１のシリンド
リカルレンズ１５に、図１１のような光軸を中心とする
屈折率分布を持たせたもので、屈折率ｎ（ｒ）は、 ｎ（ｒ）＝１．５１０７２＋３．２×１０-7×ｒ4 に設定されている。この屈折率分布によると、主走査断
面において図３のような球面収差を発生させることがで
きる。
の球面収差を発生させるために、屈折率分布型光学素子
を用いた実施例である。この実施例は、図１のシリンド
リカルレンズ１５に、図１１のような光軸を中心とする
屈折率分布を持たせたもので、屈折率ｎ（ｒ）は、 ｎ（ｒ）＝１．５１０７２＋３．２×１０-7×ｒ4 に設定されている。この屈折率分布によると、主走査断
面において図３のような球面収差を発生させることがで
きる。
【００２４】以上の各実施例のうち、第１、第３の実施
例では、主走査断面を非球面化するために、光軸を中心
とする回転対称非球面を用いた。また、第２の実施例で
は光軸中心の回転対称のレンズを用い、第４の実施例で
は、光軸を中心として徐々に屈折率が変化する屈折率分
布型光学素子を用いた。このため、発生させた球面収差
の影響は副走査断面にも表われる。しかし、補正光学素
子を通過する際、副走査断面の光束径は、主走査断面の
光束径に比して小さく、一方、球面収差は、近軸では表
われず、光軸からの距離が大きくなるに従って顕著にな
っていくという性質がある。このため、光軸を中心とす
る回転対称な球面収差が発生しても、副走査断面には実
質的な悪影響は生じない。主走査断面のみを非球面化す
ることも技術的には可能であるが、回転対称な形状の方
が製造上のメリットが大きい。
例では、主走査断面を非球面化するために、光軸を中心
とする回転対称非球面を用いた。また、第２の実施例で
は光軸中心の回転対称のレンズを用い、第４の実施例で
は、光軸を中心として徐々に屈折率が変化する屈折率分
布型光学素子を用いた。このため、発生させた球面収差
の影響は副走査断面にも表われる。しかし、補正光学素
子を通過する際、副走査断面の光束径は、主走査断面の
光束径に比して小さく、一方、球面収差は、近軸では表
われず、光軸からの距離が大きくなるに従って顕著にな
っていくという性質がある。このため、光軸を中心とす
る回転対称な球面収差が発生しても、副走査断面には実
質的な悪影響は生じない。主走査断面のみを非球面化す
ることも技術的には可能であるが、回転対称な形状の方
が製造上のメリットが大きい。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、光偏向器より後方の走査レン
ズ系で発生する主走査断面での球面収差を、光偏向器よ
り前方の光学素子で補正するから、主走査断面での球面
収差を走査レンズ系自体では考慮する必要がなく、よっ
てｆθ特性や像面湾曲の補正の自由度を高め、より高精
細な走査光学系を得ることができる。また、球面収差補
正素子は、光源と光偏向器の間に位置するから、小型で
あり、安価に提供できる。
ズ系で発生する主走査断面での球面収差を、光偏向器よ
り前方の光学素子で補正するから、主走査断面での球面
収差を走査レンズ系自体では考慮する必要がなく、よっ
てｆθ特性や像面湾曲の補正の自由度を高め、より高精
細な走査光学系を得ることができる。また、球面収差補
正素子は、光源と光偏向器の間に位置するから、小型で
あり、安価に提供できる。
【図１】本発明を適用する走査光学系の一例を示す主走
査断面図である。
査断面図である。
【図２】図１の走査光学系において主走査断面に生じる
球面収差の例を波面収差で示すグラフ図である。
球面収差の例を波面収差で示すグラフ図である。
【図３】本発明の光源と光偏向器との間に位置する光学
素子によって発生させる波面収差の例を示すグラフ図で
ある。
素子によって発生させる波面収差の例を示すグラフ図で
ある。
【図４】図２の波面収差と図３の波面収差を合成した波
面収差のグラフ図である。
面収差のグラフ図である。
【図５】本発明による光学素子の第１の実施例を示す副
走査断面の断面図である。
走査断面の断面図である。
【図６】同主走査断面の断面図である。
【図７】図５の光学素子の非球面のサグ量の例を示すグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図８】非球面のサグ量を定義する図である。
【図９】本発明による光学素子の第２の実施例を示す断
面図である。
面図である。
【図１０】本発明による光学素子の第３の実施例を示す
図である。
図である。
【図１１】本発明による光学素子の第４の実施例を示す
図である。
図である。
１２ ポリゴンミラー（光偏向器） １３ 半導体レーザ １４ コリメートレンズ １５ シリンドリカルレンズ １６ 被走査面 １７ 波面収差発生素子 ２０ 走査レンズ系
Claims (12)
- 【請求項１】 光源と、この光源からの光を偏向する光
偏向器と、偏向された光束を被走査面に結像させる走査
レンズ系とを備えた走査光学系において、 上記光源と走査レンズとの間に、上記走査レンズ系で発
生する主走査断面の球面収差を減少させる補正光学素子
を配設したことを特徴とする走査光学系。 - 【請求項２】 請求項１において、上記補正光学素子
は、光源と光偏向器の間に配設されている走査光学系。 - 【請求項３】 請求項１または２において、上記補正光
学素子は、主走査方向と副走査方向のパワーが異なるア
ナモフィック系レンズであり、このアナモフィック系レ
ンズの少なくとも一面の主走査断面形状が、走査レンズ
系で発生する主走査断面の球面収差を打ち消す形状に設
定されている走査光学系。 - 【請求項４】 請求項３において、上記アナモフィック
系レンズの少なくとも一面の主走査断面形状は、非球面
である走査光学系。 - 【請求項５】 請求項１または２において、上記補正光
学素子は、コリメートレンズであり、このコリメートレ
ンズが、走査レンズ系で発生する主走査断面の球面収差
を打ち消す球面収差を発生させる形状に設定されている
走査光学系。 - 【請求項６】 請求項５において、上記コリメートレン
ズは、主走査断面方向の非球面を有している走査光学
系。 - 【請求項７】 請求項１または２において、上記補正光
学素子は、光路中に挿入した球面収差補正素子であり、
この球面収差補正素子の少なくとも一面が、走査レンズ
系で発生する主走査断面の球面収差を打ち消す形状に設
定されている走査光学系。 - 【請求項８】 請求項１または２において、上記補正光
学素子は、光路中に挿入した屈折率分布型光学素子であ
り、この屈折率分布型光学素子の屈折率分布が、走査レ
ンズ系で発生する主走査断面の球面収差を打ち消す方向
に設定されている走査光学系。 - 【請求項９】 請求項８において、屈折率分布型光学素
子は、主走査方向と副走査方向のパワーが異なるアナモ
フィック系レンズである走査光学系。 - 【請求項１０】 請求項８または９において、屈折率分
布型光学素子の屈折率分布は、光軸を中心とする回転対
称分布をなしている走査光学系。 - 【請求項１１】 請求項１または２において、上記補正
光学素子は、光軸を中心とする回転対称な球面収差補正
面を有している走査光学系。 - 【請求項１２】 光源と、この光源からの光を偏向する
光偏向器と、偏向された光束を被走査面に結像させる走
査レンズ系とを備えた走査光学系において、 上記走査レンズ系で発生する主走査断面の球面収差を、
上記光源と走査レンズ系との間に位置させた補正光学素
子で補正することを特徴とする走査光学系の球面収差補
正方法。
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|---|---|---|---|
| JP8964695A JP3595374B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 走査光学系及び走査光学系の球面収差補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8964695A JP3595374B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 走査光学系及び走査光学系の球面収差補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08286133A true JPH08286133A (ja) | 1996-11-01 |
| JP3595374B2 JP3595374B2 (ja) | 2004-12-02 |
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ID=13976540
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|---|---|---|---|
| JP8964695A Expired - Fee Related JP3595374B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 走査光学系及び走査光学系の球面収差補正方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3595374B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013109357A (ja) * | 2012-12-21 | 2013-06-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 集光光学系及びレーザ加工装置 |
| WO2013171969A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | ソニー株式会社 | 撮像光学系、撮像装置 |
| JP2016024093A (ja) * | 2014-07-22 | 2016-02-08 | シスメックス株式会社 | フローサイトメータ、粒子分析装置およびフローサイトメトリー法 |
| CN106461915A (zh) * | 2014-09-02 | 2017-02-22 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 光学镜头 |
-
1995
- 1995-04-14 JP JP8964695A patent/JP3595374B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPWO2013171969A1 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-01-12 | ソニー株式会社 | 撮像光学系、撮像装置 |
| US10215970B2 (en) | 2012-05-16 | 2019-02-26 | Sony Corporation | Image-pickup optical system and image pickup apparatus to correct aberration |
| US11169364B2 (en) | 2012-05-16 | 2021-11-09 | Sony Corporation | Image-pickup optical system and image pickup apparatus |
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| CN106461915A (zh) * | 2014-09-02 | 2017-02-22 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 光学镜头 |
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|---|---|
| JP3595374B2 (ja) | 2004-12-02 |
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