JP3164742B2 - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

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JP3164742B2
JP3164742B2 JP27494994A JP27494994A JP3164742B2 JP 3164742 B2 JP3164742 B2 JP 3164742B2 JP 27494994 A JP27494994 A JP 27494994A JP 27494994 A JP27494994 A JP 27494994A JP 3164742 B2 JP3164742 B2 JP 3164742B2
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deflection
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数ドラム方式カラ
ープリンタ、複数ドラム方式カラー複写機、高速レーザ
プリンタあるいはデジタル複写機などに利用可能な、複
数のビームを走査するマルチビーム光走査装置ならびに
このマルチビーム光走査装置が利用される画像形成装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、複数ドラム方式カラープリン
タあるいは複数ドラム方式カラー複写機などの画像形成
装置では、色分解された色成分に対応する複数の画像形
成部、及び、この画像形成部に、色成分に対応する画像
データすなわち複数のレーザビームを提供する光走査装
置 (レーザ露光装置) が利用される。
【0003】この種の画像形成装置では、各画像形成部
のそれぞれに対応して複数の光走査装置が配置される例
と、複数のレーザビームを提供可能に形成されたマルチ
ビーム光走査装置が配置される例とが知られている。
【0004】従来のマルチビーム光走査装置は、たとえ
ば、特開平5−83485号公報に見られるように、マ
ルチビームの数をNとするとき、光源である半導体レー
ザ、シリンダレンズおよびガラスfθレンズ群をNセッ
ト、及び、ポリゴンミラーをN/2枚使用する例があ
る。たとえば、4ビームの場合にはレーザ、シリンダレ
ンズおよびガラスfθレンズ群が4セット、及び、ポリ
ゴンミラーが2枚が利用される。また、fθレンズ群の
一部のレンズを共通利用する例、すなわち、fθレンズ
を2群とし、ポリゴンミラーに近いfθレンズには全て
のレーザビームを通過させる一方で、ポリゴンミラーか
ら遠いfθレンズを4枚として、それぞれのレーザビー
ムを個別に通過させる方法も提案されている。
【0005】これとは別に、たとえば、特開昭62−2
32344号公報には、fθレンズの少なくとも一部の
レンズ面がトーリック面に形成されたレンズを共通利用
する例が示されている。また、この特開昭62−232
344号には、fθレンズのいくつかをプラスチックで
形成することで各レンズ面の設計自由度を向上させ、結
像位置における収差特性を改善する提案がある。なお、
この公報には、全てのfθレンズ群を共通で利用して、
それぞれのレンズに全てのレーザビームを通過させる方
法も示されている。
【0006】また、特開平5−34612号公報には、
複数のハーフミラーを利用して複数の光源からのレーザ
ビームを一つのポリゴンミラーに入射させる方法が示さ
れている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】特開平5−83485
号公報に見られるマルチビーム光走査装置が利用される
場合、複数の光走査装置が利用される場合に比較して、
光走査装置に占有される空間の大きさは低減されるもの
の、光走査装置単体としては、レンズあるいミラーの数
が増大することによる部品代および組み立てコストのア
ップ、または、光走査装置単体としての大きさおよび重
さの増大などがある。また、fθレンズの形状誤差また
は固体誤差あるいは取り付け誤差などにより、各色成分
ごとのレーザビームの主走査線の曲り、あるいは、fθ
特性などに代表される結像面における収差特性の偏差が
不均一になることが知られている。また、各レーザビー
ムに対応して複数の第2のfθレンズを配置する方法も
提案されているが、この方法によっても、第2のfθレ
ンズの形状誤差または固体誤差あるいは取り付け誤差な
どにより、上記特開平5−83485号公報に見られる
例と同様の不都合が生じる。
【0008】また、特開昭62−232344号公報に
見られる例では、形状が最適化されていないトーリック
面が配置されているのみであるから、複数のレーザビー
ムのいずれかのビームに主走査線曲りが発生する問題が
ある。なお、上記特開昭62−232344号公報に関
連して、偏向装置に向かうレーザビームの一部を光軸方
向へ制御する例が提案されているが、すべての結像領域
で十分に収差特性を補正することは困難である。なお、
上記特開昭62−232344号公報に見られる例で
は、プラスチックにより形成されたレンズの屈折率の温
度の変化による変化量が比較的大きいことから、広範囲
に亘る環境条件 (特に温度条件) の下で、像面湾曲、主
走査線曲りあるいはfθ特性などが大きく変動する問題
がある。また、この例では、特に、副走査方向の全域で
の色消し、像面湾曲、像面歪曲、及び、横倍率などの諸
条件を満足しなければならないため、レンズの枚数が増
加される問題がある。さらに、この例では、各レーザビ
ームの主走査線の平行度を確保するために、ハウジング
の精度を非常に高くしなければならずコストアップとな
る。
【0009】一方、特開平5−34612号公報に示さ
れている例では、最も多くのハーフミラーを通過される
レーザビームの光強度 (光量) が十分に確保されなけれ
ばならず、光源を大型化しなければならない問題があ
る。このことは、光源からの発熱量を増大させることか
ら、冷却のための機構を必要とするという新たな問題を
引き起こす。
【0010】さらに、レーザと結像位置との間に配置さ
れるミラー (分離ミラー) の枚数により、たとえば、主
走査線曲りが逆向きになることも知られている。この発
明の目的は、色ずれのないカラー画像を低コストで提供
できる画像形成装置に適したマルチビーム光走査装置を
提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、複数の光源と、回転軸を中心
として回転可能に形成された反射面を含み、この反射面
の回転により上記複数の光源からの光を一まとめの状態
所定の方向に偏向する1つの偏向手段と、この偏向手
段と上記光源との間に配置され、上記光源からの光を、
上記偏向手段の上記反射面の回転軸と平行な方向には集
束光に、また、上記回転軸と直交する方向には集束光ま
たは平行光に変換する偏向前光学手段と、上記偏向手段
の上記反射面と上記回転軸とのなす角の偏差の影響を補
正するとともに、上記偏向手段により偏向された光を所
定像面に等速で走査するよう結像する偏向後光学手段
と、この偏向後光学手段と上記所定像面との間に配置さ
れ、上記一まとめにした状態で上記偏向手段の上記反射
面に案内される上記複数の光源からの光から上記光の相
互の間隔が大きい光から順に上記反射面に近接した側か
ら、順次、分離する分離手段と、を、有する光走査装置
を提供するものである。
【0012】また、この発明複数の光源と、回転軸
を中心として回転可能に形成された反射面を含み、この
反射面の回転により上記複数の光源からの光を所定の方
向に偏向する1つの偏向手段と、この偏向手段と上記光
源との間に配置され、上記光源からの光を、上記偏向手
段の上記反射面の回転軸と平行な方向には集束光に、ま
た、上記回転軸と直交する方向には集束光または平行光
に変換する偏向前光学手段と、この偏向前光学手段と前
記偏向手段との間に配置され、前記それぞれの光源から
の出射光を一まとめにする合成手段であって、前記偏向
手段の前記反射面への前記それぞれの光源からの出射光
の1つを除く光に作用し、前記偏向手段への入射方向を
前記偏向手段の前記反射面が回転される方向すなわち前
記反射面の回転軸と直交する方向に対して同一にすると
ともに、前記合成手段が作用する光のうち上記反射面の
回転軸に平行な面に投影された前記反射面上での残りの
光との間隔が最も大きな光を、上記反射面の回転軸に直
交する面に投影された前記合成手段の垂線と前記それぞ
れの光源からの出射光とのなす角が最も大きくなるよう
な関係とし、この光に対し、前記合成手段が非作用状態
で案内される光を、前記合成手段の垂線と上記光源から
の出射光とのなす角が最も小さな光の上記反射面の回転
軸と平行な方向に対して反対側から前記反射面に入射さ
せる合成手段と、を、有する光走査装置を提供するもの
である。
【0013】
【0014】
【0015】
【作用】この発明の請求項1に記載の光走査装置によれ
ば、複数の光源からのすべての光は、光の位置を決める
1つの偏向手段と同一の偏向後光学系を介して、所定像
面に案内されるとともに、偏向手段の反射面上での副走
査方向のそれぞれの光相互の間隔が大きい光から順に、
一まとめにまとめられる以前の複数の光に分離されるこ
とから、偏向手段の副走査方向に関する大きさすなわち
厚さが低減され、また、主走査線曲りおよび集光特性を
改善することができる。
【0016】この発明の請求項に記載の光走査装置に
よれば、偏向手段の反射面上での副走査方向の系の光軸
とのなす角が最大である2つの光は、系の光軸を挟んで
相互に反対側から反対側に入射されることから、偏向手
段の副走査方向に関する大きさすなわち厚さが低減され
る。また、温度あるいは湿度の変化にともなう、それぞ
れの光の偏向手段上での副走査方向の位置ずれが低減で
きる。さらに、像面に到達した光のずれにより引き起こ
される色ずれあるいは色相変化が低減される。また、集
光特性も改善することができるため、高解像度化にも対
応することができる。
【0017】
【0018】
【0019】
【実施例】以下、図面を用いてこの発明の実施例を説明
する。図1および図2には、この発明の実施例であるマ
ルチビーム光走査装置の概略平面図および概略断面図が
示されている。なお、カラーレーザビームプリンタ装置
では、通常、イエロー=Y、マゼンタ=M、シアン=C
およびブラック=Bの各色成分ごとに色分解された4種
類の画像データと、Y,M,CおよびBのそれぞれに対
応して各色成分ごとに画像を形成するさまざまな装置が
4組利用されることから、各参照符号にY,M,Cおよ
びBを付加することで、色成分ごとの画像データとそれ
ぞれに対応する装置を識別する。
【0020】図1および図2によれば、マルチビーム光
走査装置1は、色成分ごとの画像データに対応するレー
ザビーム (光) LY,LM,LCおよびLBを発生する
第1ないし第4の半導体レーザ素子 (光源、以下、レー
ザ素子と示す) 3Y,3M,3Cおよび3B、及び、そ
れぞれのレーザ素子3 (Y,M,CおよびB) から出射
されたレーザビームL (Y,M,CおよびB) を、図示
しない像面 (所定の位置に配置された結像対象物、たと
えば、感光体ドラム表面など) に向かって所定の線速度
で偏向する (ただ1つの) 光偏向装置 (偏向手段) 5な
どにより構成される。
【0021】それぞれのレーザ素子3 (Y,M,Cおよ
びB) と光偏向装置5との間には、レーザ素子3 (Y,
M,CおよびB) からのレーザビームL (Y,M,Cお
よびB) の断面ビームスポット形状を所定の形状に整え
る偏向前光学系 (偏向前光学手段) 7 (Y,M,Cおよ
びB) が、各レーザ素子3 (Y,M,CおよびB) ごと
に配置されている。
【0022】光偏向装置5と (図示しない) 像面との間
には、光偏向装置5を介して偏向されたレーザビームL
(Y,M,CおよびB) を、像面の所定の位置に、おお
むね直線状に結像させるための偏向後光学系 (偏向後光
学手段) 21が配置されている。
【0023】以下、光偏向装置5、偏向前光学系7およ
び偏向後光学系21について、詳細に説明する。レーザ
素子3Y,3M,3Cおよび3Bは、光偏向装置5に対
して、所定の角度で、3M,3Cおよび3Bの順に配置
されている。なお、Y (イエロー) 画像に対応されるレ
ーザ素子3Yは、光偏向装置5の反射面に向かうレーザ
ビームLYが、光偏向装置5に、直接入射可能に配置さ
れる。
【0024】光偏向装置5は、複数、たとえば、6面の
平面反射鏡 (面) 5αないし5ζが正多角形状に配置さ
れた多面鏡本体5aと、多面鏡本体5aを、一定の速度
で所定の方向に回転させるモータ5mにより構成され
る。なお、多面鏡本体5aは、たとえば、アルミニウム
により形成される。また、多面鏡5aの各反射面5αな
いし5ζは、多面鏡本体5aが回転される方向を含む面
と直交する面に沿って切り出されたのち、切断面に、た
とえば、Si2 などの表面保護層が蒸着されることで
提供される。
【0025】偏向前光学系7 (Y,M,CおよびB)
は、各レーザ素子3 (Y,M,CおよびB) から出射さ
れたレーザビームL (Y,M,CおよびB) に、光偏向
装置5によってレーザビームL (Y,M,CおよびB)
が偏向される方向 (以下、主走査方向と示す) および主
走査方向と直交する (以下、副走査方向と示す) の双方
に関して所定の収束性を与える有限焦点レンズ9 (Y,
M,CおよびB) 、各有限焦点レンズ9 (Y,M,Cお
よびB) を通過されたレーザビームL (Y,M,Cおよ
びB) に、副走査方向に関してのみ、さらに収束性を与
えるハイブリッドシリンダレンズ11 (Y,M,Cおよ
びB) 、及び、それぞれのハイブリッドシリンダレンズ
11 (Y,M,CおよびB) を通過された4本のレーザ
ビームを光偏向装置5の各反射面5αないし5ζに向か
って折り曲げる (ただ1組の) 偏向前折り返し合成ミラ
ー (合成手段) 13などを有している。
【0026】レーザ素子3 (Y,M,CおよびB) 、有
限焦点レンズ9 (Y,M,CおよびB) 、ハイブリッド
シリンダレンズ11 (Y,M,CおよびB) 、及び、合
成ミラー13は、たとえば、アルミニウム合金などによ
って形成された保持部材15上に、一体的に配置されて
いる。
【0027】有限焦点レンズ9 (Y,M,CおよびB)
は、それぞれ、非球面ガラスレンズもしくは球面ガラス
レンズに、UV硬化プラスチックなどにより形成された
非球面プラスチックレンズを貼り合わせることにより形
成される。また、ハイブリッドシリンダレンズ11
(Y,M,CおよびB) は、それぞれ、プラスチックシ
リンダレンズ17 (Y,M,CおよびB) とガラスシリ
ンダレンズ19 (Y,M,CおよびB) とを含んでいる
(図3に詳細に示されている) 。なお、それぞれのレン
ズは、保持部材15と一体に形成された位置決め部材を
介して固定される。
【0028】偏向後光学系21の一部およびその周囲に
は、偏向後光学系21を通過されたそれぞれのレーザビ
ームL (Y,M,CおよびB) の一部を検知するための
(ただ1つの) 水平同期検出器23、及び、偏向後光学
系21と水平同期検出器23との間に配置され、偏向後
光学系21内の後述する少なくとも一枚のレンズを通過
された4本のレーザビームL (Y,M,CおよびB) の
一部を、水平同期検出器23に向かって主走査方向へは
異なる方向へ反射させる (ただ1組の) 水平同期用折り
返しミラー25などが配置されている。
【0029】偏向後光学系21は、広い走査幅 (すなわ
ち光偏向装置5により像面に走査されたレーザビームの
像面での主走査方向の長さ) 全域で、光偏向装置5の各
反射面5αないし5ζにより偏向されたそれぞれのレー
ザビームL (Y,M,CおよびB) に、所定の結像特性
を与えるとともに、それぞれのレーザビームの結像面の
変動を一定の範囲内に抑えるための第1ないし第3の結
像レンズ27,29および31を有している。
【0030】偏向後光学系21の第3の結像レンズ (最
終レンズ) 31と像面との間には、最終レンズ31を通
過された4本のレーザビームL (Y,M,CおよびB)
を像面に向かって折り曲げる第1の折り返しミラー33
(Y,M,CおよびB) 、第1の折り返しミラー33
Y,33Mおよび33Cにより折り曲げられたレーザビ
ームLY,LMおよびLCを、さらに折り返す第2およ
び第3の折り返しミラー35Y,35Mおよび35Cな
らびに37Y,37Mおよび37Cが配置されている。
【0031】第1ないし第3の結像レンズ27,29お
よび31、第1の折り返しミラー33 (Y,M,Cおよ
びB) 、及び、第2の折り返しミラー35Y,35Mお
よび35Cは、それぞれ、光走査装置1の中間ベース1
aに、たとえば、一体成型により形成された図示しない
複数の固定部材に、接着などにより固定される。
【0032】また、第3の折り返しミラー37Y,37
Mおよび37Cは、それぞれ、中間ベース1aに、たと
えば、一体成型により形成される (図示しない) 固定用
リブと (図示しない) 傾き調整機構を介して、副走査方
向に関連した少なくとも1方向に関し、移動可能に配置
される。
【0033】なお、図2から明らかなように、B (ブラ
ック) 画像に対応するレーザビームLBは、第1の折り
返しミラー33Bにより折り返されたのち、他のミラー
を経由せずに、像面に案内される。
【0034】偏向後光学系21の第3の折り返しミラー
37Y,37M,37Cおよび第1の折り返しミラー3
3Bと像面との間であって、それぞれのミラー33B、
37Y,37Mおよび37Cを介して反射された4本の
レーザビームL (Y,M,CおよびB) が光走査装置1
から出射される位置には、さらに、光走査装置1内部を
防塵するための防塵ガラス39 (Y,M,CおよびB)
が配置されている。
【0035】次に、偏向前光学系7について、さらに、
詳細に説明する。図3は、偏向前光学系7の折り返しミ
ラーなどを省略した部分断面図である。なお、図3で
は、1つのレーザビームLY (イエロー) に対する光学
部品のみが代表して示されている。
【0036】ハイブリッドシリンダレンズ11 (Y)
は、副走査方向に対して実質的に等しい曲率を持つPM
MAのシリンダレンズ17 (Y) とガラスのシリンダレ
ンズ19 (Y) とによって形成されている。PMMAの
シリンダレンズ17 (Y) は、空気と接する面がほぼ平
面に形成される。
【0037】また、ハイブリッドシリンダレンズ11
(Y) は、シリンダレンズ17 (Y)とシリンダレンズ1
9 (Y) とが、シリンダレンズ17 (Y) の出射面とシ
リンダレンズ19 (Y) の入射面との間の接着により、
あるいは、図示しない位置決め部材に向かって所定の方
向から押圧されることで、一体に形成される。なお、ハ
イブリッドシリンダレンズ11 (Y) は、シリンダレン
ズ19 (Y) の曲率をもつ面に、シリンダレンズ17
(Y) が一体に成型されてもよい。
【0038】プラスチックシリンダレンズ17 (Y) 、
たとえば、RMMA (ポリメチルメタクリル) などの材
質により形成される。ガラスシリンダレンズ19 (Y)
は、たとえば、SFS1などの材質により形成される。
また、それぞれのシリンダレンズ17 (Y) および19
(Y) は、保持部材15と一体に形成された位置決め部
材を介して、有限焦点レンズ9と正確な間隔で固定され
る。以下、表1に、偏向前光学系7の光学的数値データ
を示す。
【0039】
【表1】
【0040】表1から明らかなように、それぞれの色成
分に対応される有限焦点レンズ9およびハイブリッドシ
リンダレンズ11は、単体では、どの色成分に関して
も、同一のレンズが利用される。なお、Y (イエロー)
に対応される偏向前光学系7YおよびB (ブラック) に
対応される偏向前光学系7Bは、実質的に、同一のレン
ズ配置を有する。また、M (マゼンタ) に対応される偏
向前光学系7MおよびC(シアン) に対応される偏向前
光学系7Cは、偏向前光学系7Yおよび7Bに比較し
て、有限焦点レンズ9とハイブリッドシリンダレンズ1
1との間隔が広げられている。
【0041】図4には、図3および表1に示した偏向前
光学系7 (Y,M,CおよびB) のそれぞれを、光偏向
装置5の反射面の回転軸に直交する方向で、図1の矢印
P−Pで切断した状態におけるそれぞれのレーザ素子3
Y,3Mおよび3Cから光偏向装置5に向かうレーザビ
ームLY,LMおよびLCが示されている。
【0042】図4から明らかなように、それぞれのレー
ザビームLY,LM,LCおよびLBは、光偏向装置5
の反射面の回転軸と平行な方向に、相互に異なる間隔
で、光偏向装置5に案内される。また、レーザビームL
MおよびLCは、光偏向装置5の反射面の回転軸と直交
するとともに反射面の副走査方向の中心を含む面、すな
わち、光走査装置1の系の光軸を含む面を挟んで非対称
に、光偏向装置5の各反射面に案内される。なお、光偏
向装置5の各反射面上でのレーザビームLY,LM,L
CおよびLB相互の間隔は、LY−LM間で2.25m
m、LM−LC間で1.96mm、及び、LC−LB間
で1.75mmである。
【0043】次に、ハイブリッドシリンダレンズ11と
偏向後光学系21との間の光学特性について詳細に説明
する。偏向後光学系21すなわち第1ないし第3の結像
レンズ27,29および31は、プラスチック (たとえ
ば、PMMA) により形成されることから、周辺温度
が、たとえば、0°Cから50°Cの間で変化すること
で、屈折率nが、1.4876から1.4789まで変
化することが知られている。この場合、第1ないし第3
の結像レンズ27,29および31を通過されたレーザ
ビームが実際に集光される結像面 (すなわち、副走査方
向における結像位置) は、±12mm程度変動してしま
う。ここで、偏向前光学系7に、偏向後光学系21に利
用されるレンズの材質と同一の材質のレンズを、曲率を
最適化した状態で組み込むことで、温度変化による屈折
率nの変動に伴って発生する結像面の変動を±0.5m
m程度に抑えることができる。すなわち、偏向前光学系
7がガラスレンズで、偏向後光学系21がプラスチック
レンズにより構成される従来の光学系に比較して、偏向
後光学系21のレンズの温度変化による屈折率の変化に
起因して発生する副走査方向の色収差が補正できる。
【0044】図5には、第1ないし第4のレーザビーム
LY,LM,LCおよびLBを、1つの束のレーザビー
ムとして光偏向装置5の各反射面5αないし5ζに案内
する合成ミラー13が示されている。
【0045】合成ミラー13は、画像形成可能な色成分
の数 (色分解された色の数) よりも「1」だけ少ない数
だけ配置される第1ないし第3のミラー13M,13C
および13Bと、それぞれのミラー13M,13Cおよ
び13Bを保持する第1ないし第3のミラー保持部13
α,13βおよび13γならびにそれぞれの保持部13
α,13βおよび13γを支持するベース13aにより
構成される。なお、ベース13aならびにそれぞれの保
持部13α,13βおよび13γは、熱膨脹率が小さ
い、たとえば、アルミニウム合金などにより一体的に形
成されている。なお、レーザ素子3Yからのレーザビー
ムLYは、すでに説明したように、光偏向装置5の各反
射面5αないし5ζに直接案内される。この場合、レー
ザビームLYは、光走査装置1の系の光軸よりもベース
13a側すなわち第1の保持部13αに固定されるミラ
ー13Mとベース13aとの間を通過される。
【0046】これとは別に、第1ないし第3のミラー1
3M,13Cおよび13Bとそれぞれのミラーに入射さ
れるレーザビームLM,LCおよびLBの入射角は、レ
ーザビームLMで51.4°、レーザビームLCで4
0.0°およびレーザビームLBで28.6°に規定さ
れる (図6参照) 。なお、この実施例では、合成ミラー
13の各ミラーへの入射角が大きいレーザビームほど、
光偏向装置5の各反射面上での近接するレーザビームと
の間隔が大きくなるよう、レーザ素子3M,3Cおよび
3Bの配置ならびに第1ないし第3の13M,13Cお
よび13Bの角度が規定されている。
【0047】ここで、合成ミラー13のそれぞれのミラ
ー13M,13Cおよび13Bにより反射されて光偏向
装置5に案内される各レーザビームLM,LCおよびL
Bならびに光偏向装置5に直接案内されるレーザビーム
LYの強度 (光量) について考察する。
【0048】従来技術の項ですでに説明したように、特
開平5−34612号公報には、2以上のレーザビーム
を1つの束のレーザビームとして光偏向装置の反射面に
入射させる方法として、ハーフミラーにより、レーザビ
ームを、順に、重ねる方法が示されている。しかしなが
ら、複数のハーフミラーが利用されることで、1回の反
射および透過 (ハーフミラーを1回通過するごとに) に
対し、各レーザから出射されたレーザビームの光量の5
0%は無駄となってしまうことは公知である。この場
合、ハーフミラーの透過率と反射率を、それぞれ、各レ
ーザビームごとに最適化したとしても、すべてのハーフ
ミラーを通過されるいづれか1つのレーザビームの強度
(光量) は、有限焦点レンズ9から出力された光量の約
25%まで低減されてしまう。また、光路中にハーフミ
ラーが光路に傾いて存在すること、及び、各レーザビー
ムが通過するハーフミラーの枚数が異なること、などに
起因して、像面湾曲あるいは非点収差などに代表される
光学特性に、各レーザビームごとに差が生じることが知
られている。各レーザビームごとに像面湾曲および非点
収差などの特性が異なることは、全てのレーザビーム
を、同一の有限焦点レンズおよびシリンダレンズのみに
より像面に結像させることを困難にする。
【0049】これに対して、図5に示されている合成ミ
ラー13によれば、それぞれのレーザビームLM,LC
およびLBは、光偏向装置5の各反射面に入射する前段
の各レーザビームLM,LCおよびLBが副走査方向に
分離している領域で、通常のミラー (13M,13Cお
よび13B) によって折り返される。従って、各反射面
(13M,13Cおよび13B) で反射されたのち多面
鏡本体5aに向けて供給される各レーザビームL (M,
CおよびB) の光量は、有限焦点レンズ9からの出射光
量のおおむね90%以上に維持できる。このことは、各
レーザ素子の出力を低減できるばかりでなく、像面に到
達される光の収差を均一に補正できる。これにより、そ
れぞれのレーザビームを小さく絞ることが可能となり、
結果として、高精細化への対応を可能とする。なお、Y
(イエロー) に対応するレーザ素子3Yは、合成ミラー
13のいづれのミラーにも関与されることなく、直接、
光偏向装置5の各反射面に案内されることから、レーザ
の出力容量が低減できるばかりでなく、 (合成ミラーに
より反射される他のレーザビームに生じる虞れのある)
ミラー (13M,13Cおよび13B) で反射されるこ
とによる各反射面への入射角の誤差が除去される。
【0050】次に、図7ないし図9および表2 (偏向後
光学系21の各レンズのレンズデータを含む光学データ
を示す) を参照して、光偏向装置5の多面鏡5aで反射
されるレーザビームL (Y,M,CおよびB) と偏向後
光学系21との関係について説明する。
【0051】
【表2】
【0052】ここで、副走査の曲率が“−”の面は、こ
れを光軸に関して回転した形状がレンズ形状、曲率が示
されている面は、その局所座標のz軸方向に、1/トー
リック回転対称軸の欄に示された方向の曲率分だけ離れ
た平面内の、トーリック回転対称軸の欄に示された方向
に平行な軸を中心として回転した形状を示す。
【0053】図7は、図1および図2で説明した光走査
装置1の第1ないし第3の折り返しミラー33B,35
Y,35M,35C,37Y,37Mおよび37Cなら
びに中間ベース1aを取り除いて、多面鏡5aの回転軸
方向からみた状態の光路展開図である。
【0054】図8は、図1および図2で説明した光走査
装置1を、 (光走査装置1の) 副走査方向の系の光軸O
に沿って、かつ、光偏向装置5の多面鏡5aの振り角が
0°の状態で、第1ないし第3の折り返しミラー33
B,33Y,33M,33C,35Y,35M,35
C,37Y,37Mおよび37Cならびに中間ベース1
aを取り除くとともにLY,LCおよびLYの途中まで
のレーザビームを仮想的に直線に置き換えて、多面鏡5
aの回転軸と直交する方向に切断した光路展開図であ
る。
【0055】図10は、図7および図8の第1ないし第
3のプラスチックレンズ27,29および31のそれぞ
れのトーリック面の回転軸の方向を説明するための概略
斜視図である。なお、図10では、各レンズを通過され
るレーザビームは、省略されている。
【0056】第1のプラスチックレンズ27は、fθレ
ンズを構成するレンズであって、レンズ面の形状が入射
面 (光偏向装置5側) 27inおよび出射面 (像面側) 2
raの双方共にトーリック面に形成された両面トーリッ
クレンズである。レンズ27の各面のトーリック回転対
称軸すなわちR27inの起点となる軸線S1 およびR2
raの起点となる軸線S2 は、それぞれ、主走査方向お
よび副走査方向に延出されている (図10参照) 。
【0057】第2のプラスチックレンズ29は、fθレ
ンズを構成するレンズであって、レンズ面の形状が入射
面 (光偏向装置5側) 29inおよび出射面 (像面側) 2
raの双方共にトーリック面に形成された両面トーリッ
クレンズである。レンズ29の各面のトーリック回転対
称軸すなわちR29inの起点となる軸線S3 およびR2
raの起点となる軸線S4 は、それぞれ、副走査方向お
よび主走査方向に延出されている (図10参照) 。
【0058】第3のプラスチックトーリックレンズ (最
終レンズ) 31は、fθレンズを構成するレンズであっ
て、レンズ面の形状が入射面 (光偏向装置5側) 31in
がトーリック面、及び、出射面 (像面側) 31raが回転
対称非球面に形成された片面トーリックレンズである。
レンズ31の入射面31inのトーリック回転対称軸すな
わちR31inの起点となる軸線S5 は、主走査方向に延
出されている (図10参照) 。なお、出射面31raは、
系の光軸Oを回転対称とした回転対称面に形成されるこ
とはいうまでもない。
【0059】次に、第1ないし第3のプラスチックトー
リックレンズのトーリック軸と、結像面の変動および収
差特性について考察する。従来から利用されている光走
査装置では、全てのトーリックレンズのトーリック軸
は、主走査方向に沿って規定される。この場合、結像面
における球面収差、コマ収差、像面湾曲あるいは倍率誤
差などの収差特性は、副走査方向に関し、独立に設定で
きないことは、すでに説明した通りである。
【0060】ここで、第1ないし第3のトーリックレン
ズの各レンズ面27in,27ra,29in,29ra,31
inおよび31raのそれぞれに関し、トーリック軸の方向
をシミュレートした結果、副走査方向断面が非円弧状の
レンズ面が1面だけ存在する場合には、コマ収差および
球面収差の補正が不十分となり、結像面での断面ビーム
スポット径は、おおむね、100μm程度となることが
判明した。これに対して、副走査方向断面が非円弧状の
レンズ面が2面存在する場合には、結像面での断面ビー
ムスポット径は、おおむね、50μm程度まで絞れるこ
とが明らかになった。
【0061】また、トーリック軸が、主走査方向にある
レンズが組み合わせられることにより、主走査方向のさ
まざまな収差特性が提供されるとともに、各ビームの結
像位置すなわち主走査線曲がりあるいは環境変化による
副走査方向の倍率変化が低減される。
【0062】従って、第1ないし第3のプラスチックレ
ンズのレンズ面 (合計で6面) の少なくとも2面の副走
査方向断面が非円弧状に形成されたレンズを組み合わせ
ることで、主走査方向形状を、主走査方向のさまざまな
特性が満足されるよう規程されるさまざまな制約内のそ
れぞれの場所で、副走査方向のレンズのRが最適化でき
る。なお、第3のプラスチックレンズ31の出射面 (回
転非球面) 31raは、副走査方向の特性への影響を抑え
ると共に、主走査方向のさまざまな特性の微妙な調整の
ために利用される。
【0063】なお、トーリック回転軸が副走査方向に一
致されるレンズ面を第1のプラスチックレンズ27に集
約することで、レンズ27を成型するための型作成時の
加工治具を小さくすることと加工精度の向上が可能であ
るが、3枚のレンズ相互の関連により影響を受ける有効
偏向角が抑制されることが認められる。このことは、光
偏向装置5の各反射面と像面との間の距離を増大させる
ことから、最適化シミュレートにより、トーリック軸が
副走査方向に一致されるべきレンズ面は、より好ましく
は、第1プラスチック27の出射面27raおよび第2プ
ラスチック29の入射面29inに規定される。
【0064】次に、合成ミラー13により主走査方向に
関して実質的に一束にまとめられた状態で光偏向装置5
の各反射面で反射されたレーザビームLoを、再び、4
本のレーザビームLY,LM,LCおよびLBに分離す
るための折り返しミラー33B,33Y,33Mおよび
33Cとの関係について説明する。
【0065】図9を参照すれば、光偏向装置5の各反射
面で反射されたそれぞれのレーザビームLY,LMおよ
びLCは、副走査方向に関し、対応する折り返しミラー
37Y,37Mおよび37Cにより、それぞれ、系の光
軸Oに対して所定の角度で、レーザビームLoから順に
分離される。
【0066】詳細には、合成ミラー13の第1のミラー
13Mにより光偏向装置5の各反射面上で系の光軸に最
も近接して入射されたレーザビームLMは、光偏向装置
5の各反射面から (図示しない) 像面に向かう系の光軸
Oとのなす角が他のレーザビームに比較して最小になる
位置に配置された折り返しミラー33Mによりレーザビ
ームLoから分離される。
【0067】また、合成ミラー13の第2のミラー13
Cにより光偏向装置5の各反射面上でレーザビームLM
に近接して入射されたレーザビームLCは、光偏向装置
5の各反射面から (図示しない) 像面に向かう系の光軸
Oとのなす角が、レーザビームLMよりも大きく (後
述) レーザビームLYよりも小さくなる位置に配置され
た折り返しミラー33CによりレーザビームLoから分
離される。
【0068】一方、合成ミラー13のいづれのミラーに
よっても反射されることなく光偏向装置5の各反射面上
に直接入射されたレーザビームLYは、光偏向装置5の
各反射面から (図示しない) 像面に向かう系の光軸Oと
のなす角が、レーザビームLCおよびレーザビームLM
よりも大きくなる位置に配置された折り返しミラー33
YによりレーザビームLoから分離される。
【0069】なお、レーザビームLBは、他のレーザビ
ームに比較して、副走査方向で外側に位置されるレーザ
ビームLYと実質的に同様にレンズ27,29および3
1を通り、折り返しミラー33Bにより折り返される。
【0070】このことは、偏向後光学系21の各レンズ
27,29および31の素材であるPMMAの温度変化
による屈折率変化あるいは熱膨張による像面での副走査
方向の位置ずれを低減させるために、有益である。
【0071】一例として、レーザビームLCを参照すれ
ば、レーザ素子3Cは、主走査方向の系の光軸Oに対し
所定の角度で、光軸Oの上方に配置される。レーザ素子
3CからのレーザビームLCは、副走査方向に関し、光
偏向装置5の各反射面上の系の光軸Oの上方で反射さ
れ、第1のトーリックレンズ27で、系の光軸Oの上方
あるいは光軸Oの近傍を通過され、第2のトーリックレ
ンズ29では光軸Oの近傍を通過され、第3のトーリッ
クレンズ31で系の光軸Oの直近または系の光軸Oの下
方を通過される。このレンズ27とレンズ31との副走
査方向の通過位置は、偏向前光学系7Y,7M,7Cお
よび7Bのレーザ素子3Y,3M,3Cおよび3Bの、
それぞれの光軸を最適に配置することによって容易に達
成される。
【0072】また、同様に、レーザビームLMを参照す
れば、レーザ素子3Mは、主走査方向の系の光軸Oに対
し所定の角度で、光軸Oの僅かに下方に配置される。レ
ーザ素子3MからのレーザビームLMは、光偏向装置5
の各反射面上の系の光軸Oの僅かに下方で反射され、第
1のトーリックレンズ27で、系の光軸Oの下方あるい
は光軸Oの近傍を通過され、第2のトーリックレンズ2
9では、光軸Oの近傍を通過され、第3のトーリックレ
ンズ31で系の光軸Oの直近または系の光軸Oの上方を
通過される。このレンズ27とレンズ31との副走査方
向の通過位置は、偏向前光学系7Y,7M,7Cおよび
7Bの、それぞれの光軸を最適に配置することによっ
て、容易に達成される。
【0073】このように、偏向後光学系21の副走査方
向に関し、4本のレーザビームを、系の光軸Oを挟ん
で、上方および下方から図示しない像面に案内すること
で、各レンズ27,29および31の素材であるPMM
Aの温度変化に起因する屈折率変化あるいは熱膨張によ
る像面での副走査方向の位置ずれを低減できる。
【0074】次に、再び、図2を参照して、光偏向装置
5の多面鏡5aで反射されたレーザビームと偏向後光学
系21を通って光走査装置1の外部へ出射される各レー
ザビームLY,LM,LCおよびLBの傾きと折り返し
ミラー33B,37Y,37Mおよび37Cとの関係に
ついて説明する。
【0075】すでに説明したように、光偏向装置5の多
面鏡5aで反射され、偏向後光学系21すなわち第1な
いし第3のトーリックレンズ27,29および31を介
して、所定の収差特性が与えられた各レーザビームL
Y,LM,LCおよびLBは、それぞれ、第1の折り返
しミラー33Y,33M,33Cおよび33Bを介して
所定の方向に折り返される。
【0076】B (ブラック画像) に対応するレーザビー
ムLBは、第1の折り返しミラー33Bで反射されたの
ち、防塵ガラス39Bを通って像面に案内される。残り
のレーザビームLY,LMおよびLCは、それぞれ、第
2の折り返しミラー35Y,35Mおよび35Cに案内
され、第2の折り返しミラー35Y,35Mおよび35
Cによって、さらに、第3の折り返しミラー37Y,3
7Mおよび37Cに向かって反射される。第3の折り返
しミラー37Y,37Mおよび37Cで反射された各レ
ーザビームLY,LMおよびLCは、それぞれ、防塵ガ
ラス39Y,39Mおよび39Cを介して、おおむね、
等間隔で、像面に結像される。この場合、第1の折り返
しミラー33Bで出射されたレーザビームLBとレーザ
ビームLBに隣り合うレーザビームLCも、おおむね、
等間隔で、像面に結像される。
【0077】ところで、レーザビームLBは、既に説明
したように、レーザ素子3Bから出射されたのち偏向前
光学系7Bすなわち有限焦点レンズ9B、合成ミラー1
3Bおよびハイブリッドシリンダレンズ11Bを通過さ
れ、多面鏡5aで反射されたのち偏向後光学系21すな
わち第1ないし第3のトーリックレンズ27,29およ
び31を通って折り返しミラー33Bで反射されて、光
走査装置1の外部へ出射される。すなわち、レーザビー
ムLBは、多面鏡5aで偏向されたのち、折り返しミラ
ー33Bで反射されるのみで、光走査装置1から出射さ
れる。このことから、実質的に折り返しミラー33B1
枚のみで案内されるレーザビームLBが確保できる。こ
のレーザビームLBは、光路中に複数のミラーが存在す
る場合に、ミラーの数に従って増大 (逓倍) される結像
面での像のさまざまな収差特性の変動あるいは主走査線
曲がりなどに関し、残りのレーザビームを相対的に補正
する際の基準光線として有益である。
【0078】なお、光路中に複数のミラーが存在する場
合には、各レーザビームごとに利用される偏向後のミラ
ーの枚数を奇数または偶数に揃えることが好ましい。す
なわち、図2によれば、レーザビームLBに関与する偏
向後のミラーの枚数は、1枚(奇数) 、レーザビームL
C,LMおよびLYに関与するミラーの枚数は、それぞ
れ、3枚 (奇数) である。すなわち、いづれか1つのレ
ーザビームに関し、第2のミラー35が省略されたと仮
定すれば、第2のミラー35が省略された光路(ミラー
の枚数は偶数) を通るレーザビームのレンズなどの傾き
などによる主走査線曲がりの方向は、他のレーザビーム
(ミラーの枚数は奇数) のレンズなど傾きなどによる主
走査線曲がりの方向と逆になり、所定の色を再現する際
に色ズレが生じる。
【0079】従って、4本のレーザビームLY,LM,
LCおよびLBを重ねて所定の色を再現する際には、各
レーザビームLY,LM,LCおよびLBの偏向後の光
路中に配置されるミラーの枚数は、実質的に、奇数また
は偶数に統一される。
【0080】表3および表4は、表1および表2に示し
た偏向前光学系および偏向後光学系の変形例として利用
可能な光学系の光学的数値データを示している。なお、
表3および表4に示した光学系は、表1および表2に示
した光学系に比較して、トーリック対称面が副走査方向
に延出されているレンズ面を、系の光軸に対して回転対
称な非球面回転対称面に置き換えた例を示している。
【0081】
【表3】
【0082】
【表4】
【0083】表3および表4に示した偏向前光学系7お
よび偏向後光学系21によれば、主走査方向での走査線
曲りは、表1および表2の例よりも僅かに劣化するもの
の、集光特性に関してより改善されることが認められて
いる。また、各レンズにおけるレンズ面相互に対する誤
差に対する許容値が向上される。
【0084】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の光走査
装置によれば、レンズの製造誤差および組立誤差により
生じる像面に到達した光のずれにより引き起こされる色
ずれあるいは濃度変化が低減される。また、温度あるい
は湿度の変化にともなう、それぞれの光の偏向手段上で
の副走査方向の位置ずれが低減できる。さらに、偏向後
光学系に入射される光の光量が偏向手段の振り角に応じ
て変動されることが低減される。またさらに、偏向手段
の反射面上での副走査方向のそれぞれの光相互の間隔が
大きい光から順に、一まとめにまとめられる以前の複数
の光に分離されることから、偏向手段の副走査方向に関
する大きさすなわち厚さが低減される。
【0085】また、デフォーカスにともなう像面での光
の集束径の変動を抑えることができることにより像面で
の光の集束径が所定値に維持され、また、偏向手段と像
面との間の距離すなわち光装置装置の大きさが低減さ
れ、さらに、それぞれの光の偏向手段上での副走査方向
の位置ずれに起因する像面での色ずれあるいは主走査線
曲りなどの画像への影響が改善される。これにより、色
ずれのないカラー画像を低コストで提供できる画像形成
装置に適したマルチビーム光走査装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例である光走査装置の部分平面
図。
【図2】図1に示した光走査装置を光偏向装置から像面
に向かう系の光軸に沿って切断した断面図。
【図3】図1に示した光走査装置の偏向前光学系部分を
展開した光路図。
【図4】図1に示した光走査装置の偏向前光学系の合成
ミラー近傍のそれぞれのレーザビームの状態を示す、P
−P方向部分正面図。
【図5】図1に示した光走査装置の合成ミラーの特徴を
示す概略平面図および概略正面図。図1に示した光走査
装置の折り返しミラーなどを省略した状態の光路図。
【図6】図1に示した光走査装置の偏向前光学系を詳細
に示す部分拡大平面図。
【図7】図1に示した光走査装置の各光学部材の配置
を、光路を展開した状態で示す概略平面図。
【図8】図7に示した光走査装置の各光学部材の配置
を、光路を展開した状態、かつ、光偏向装置の反射面の
回転軸を含む面で切断した概略断面図。
【図9】図1に示した光走査装置の各光学部材の配置
を、光偏向装置の反射面の回転軸を含む面で切断した概
略断面図。
【図10】図1に示した光走査装置の偏向後光学系部分
の各レンズのトーリック面の回転軸を示す概略斜視図。
【符号の説明】
1…マルチビーム光走査装置、 1a…中間ベー
ス、3Y…半導体レーザ素子、 3M…半導
体レーザ素子、3C…半導体レーザ素子、
3B…半導体レーザ素子、5…光偏向装置、
5a…多面鏡本体、7Y…偏向前光学系、
7M…偏向前光学系、7C…偏向前光学
系、 7B…偏向前光学系、9Y…有限
焦点レンズ、 9M…有限焦点レンズ、9
C…有限焦点レンズ、 9B…有限焦点レ
ンズ、11Y…ハイブリッドシリンダレンズ、11M…
ハイブリッドシリンダレンズ、11C…ハイブリッドシ
リンダレンズ、11B…ハイブリッドシリンダレンズ、
13…ミラーブロック、 15…保持部
材、17Y…プラスチックシリンダレンズ、17M…プ
ラスチックシリンダレンズ、17C…プラスチックシリ
ンダレンズ、17B…プラスチックシリンダレンズ、1
9Y…ガラスシリンダレンズ、 19M…ガラスシ
リンダレンズ、19C…ガラスシリンダレンズ、
19B…ガラスシリンダレンズ、21…偏向後光学系、
23…水平同期検出器、25…水平同
期用折り返しミラー 27…第1の結像レンズ、2
9…第2の結像レンズ、 31…第3の結像
レンズ、33B…第1の折り返しミラー、 33Y
…第1の折り返しミラー、33M…第1の折り返しミラ
ー、 33C…第1の折り返しミラー、35Y…第
2の折り返しミラー、 35M…第2の折り返しミ
ラー、35C…第2の折り返しミラー、 37Y…
第3の折り返しミラー、37M…第3の折り返しミラ
ー、 37C…第3の折り返しミラー、39Y…防
塵ガラス、 39M…防塵ガラス、39
C…防塵ガラス、 39B…防塵ガラ
ス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−214174(JP,A) 特開 平4−355474(JP,A) 特開 平2−58015(JP,A) 特開 昭57−64718(JP,A) 特開 平7−43627(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 26/10 B41J 2/44 G02B 13/00

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の光源と、 回転軸を中心として回転可能に形成された反射面を含
    み、この反射面の回転により上記複数の光源からの光を
    一まとめの状態で所定の方向に偏向する1つの偏向手段
    と、 この偏向手段と上記光源との間に配置され、上記光源か
    らの光を、上記偏向手段の上記反射面の回転軸と平行な
    方向には集束光に、また、上記回転軸と直交する方向に
    は集束光または平行光に変換する偏向前光学手段と、 上記偏向手段の上記反射面と上記回転軸とのなす角の偏
    差の影響を補正するとともに、上記偏向手段により偏向
    された光を所定像面に等速で走査するよう結像する偏向
    後光学手段と、 この偏向後光学手段と上記所定像面との間に配置され、
    上記一まとめにした状態で上記偏向手段の上記反射面に
    案内される上記複数の光源からの光から上記光の相互の
    間隔が大きい光から順に上記反射面に近接した側から、
    順次、分離する分離手段と、 を、有する光走査装置。
  2. 【請求項2】複数の光源と、 回転軸を中心として回転可能に形成された反射面を含
    み、この反射面の回転により上記複数の光源からの光を
    所定の方向に偏向する1つの偏向手段と、 この偏向手段と上記光源との間に配置され、上記光源か
    らの光を、上記偏向手段の上記反射面の回転軸と平行な
    方向には集束光に、また、上記回転軸と直交する方向に
    は集束光または平行光に変換する偏向前光学手段と、 この偏向前光学手段と前記偏向手段との間に配置され、
    前記それぞれの光源からの出射光を一まとめにする合成
    手段であって、前記偏向手段の前記反射面への前記それ
    ぞれの光源からの出射光の1つを除く光に作用し、前記
    偏向手段への入射方向を前記偏向手段の前記反射面が回
    転される方向すなわち前記反射面の回転軸と直交する方
    向に対して同一にするとともに、前記合成手段が作用す
    る光のう ち上記反射面の回転軸に平行な面に投影された
    前記反射面上での残りの光との間隔が最も大きな光を、
    上記反射面の回転軸に直交する面に投影された前記合成
    手段の垂線と前記それぞれの光源からの出射光とのなす
    角が最も大きくなるような関係とし、この光に対し、前
    記合成手段が非作用状態で案内される光を、前記合成手
    段の垂線と上記光源からの出射光とのなす角が最も小さ
    な光の上記反射面の回転軸と平行な方向に対して反対側
    から前記反射面に入射させる合成手段と、 を、有する
    走査装置。
  3. 【請求項3】前記合成手段が非作用状態で案内される光
    に対応する前記光源は、前記系の光軸に対して、前記合
    成手段を保持する保持手段と同一の側に位置されること
    を特徴とする請求項2記載の光走査装置。
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