KR0184650B1 - 양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치 - Google Patents

양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR0184650B1
KR0184650B1 KR1019950028944A KR19950028944A KR0184650B1 KR 0184650 B1 KR0184650 B1 KR 0184650B1 KR 1019950028944 A KR1019950028944 A KR 1019950028944A KR 19950028944 A KR19950028944 A KR 19950028944A KR 0184650 B1 KR0184650 B1 KR 0184650B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
lens
optical system
max
plane
optical
Prior art date
Application number
KR1019950028944A
Other languages
English (en)
Other versions
KR960011474A (ko
Inventor
마나부 가또
Original Assignee
미따라이 하지메
캐논 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미따라이 하지메, 캐논 가부시끼가이샤 filed Critical 미따라이 하지메
Publication of KR960011474A publication Critical patent/KR960011474A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0184650B1 publication Critical patent/KR0184650B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/0005—Optical objectives specially designed for the purposes specified below having F-Theta characteristic
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)

Abstract

광학 스캐닝 장치는 광원; 광원으로부터 방출된 광속을 수속된 광속으로 변환시키는 제1광학 시스템; 제1광학 시스템으로부터 방출된 수속된 광속을 편향시키는 편향기; 및 편향기에 의해 평향된 광속으로부터 스캔되는 평면에 스폿 형상으로 화상을 형성하는 제2광학 시스템을 갖고 있다. 제2광학 시스템은 양측의 메인 스캐닝 평면에 비구면을 갖고 있는 단일 렌즈를 포함한다. 단일 렌즈의 파라메터 R1, R2, S1, S2및 d는 단일 렌즈의 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R1, 단일 렌즈의 스캔되는 평면에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R2, 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이 Ymax, 최대 유효 직경 Ymax에서 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S1, 최대 유효 직경 Ymax에서 스캔되는 평면에 대향하는 렌즈의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S2및 단일 렌즈의 중심 두께가 d일 때, 다음식
0 R1R2
(R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10
(R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2
을 만족한다.

Description

양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치
제1도는 종래의 광학 스캐닝 장치의 광학 시스템의 주요 부분을 도시하는 일반적인 도면.
제2도는 본 발명의 제1실시예에 따른 광학 스캐닝 장치의 메인 스캐닝 방향의 주요 부분의 단면도.
제3도는 제2도에 도시된 fθ렌즈의 확대도.
제4도는 제2도에 도시된 광 편향기의 일부분의 확대도.
제5도는 본 발명의 제1실시예에 따른 지터와 2개의 광속 다발 사이의 시프트와의 상관 관계를 도시하는 도면.
제6도는 본 발명의 제1실시예에 따른 광 편향기에서 스캔되는 평면까지의 영역에서의 위치 관계를 도시하는 도면.
제7도는 본 발명의 제2실시예에 따른 광학 스캐닝 장치의 메인 스캐닝 방향의 주요 부분의 단면도.
제8도는 본 발명의 제1실시예의 광학 배치에 대한 fθ렌즈의 비구면 계수(aspherical-surface coefficients) 및 데이타를 도시하는 도면.
제9도는 본 발명의 제1실시예의 광학 배치에 대한 fθ렌즈의 비구면 계수 및 데이타를 도시하는 도면.
제10도는 본 발명의 제1실시예에 따른 fθ렌즈의 비구면의 형상을 도시하는 도면.
제11도는 본 발명의 제2실시예에 따른 fθ렌즈의 비구면의 형상을 도시하는 도면.
제12도는 본 발명의 제1실시예에 따른 상면 곡률(field curvature:像面 灣曲) 및 왜곡 수차(distortion aberration)를 도시하는 도면.
제13도는 본 발명의 제2실시예에 따른 상면 곡률 및 왜곡 수차를 도시하는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 광원 수단 2 : 콜리메이터 렌즈
3 : 애퍼츄어 스톱 4 : 실린더형 렌즈
5 : 광 편향기 6 : fθ렌즈
8 : 감광체 드럼
본 발명은 광학 스캐닝 장치에 관한 것으로, 특히 예를 들면 전자 사진 프로세스를 갖고 있는 레이저 빔 프린터(laser beam printer : LBP)장치 및 디지탈 복사기에 가장 적합한 광학 스캐닝 장치에 관한 것인데, 여기에서는 광원 수단으로부터 광학적으로 변조 및 방출된 광속은 폴리곤 미러(polygon 5)를 포함하는 광 편향기로 편향 및 반사된 다음, 화상 정보를 기록하기 위해 fθ특성(fθ렌즈)을 갖고 있는 화상 광학 시스템을 통해 빠르고 연속적으로 스캔되는 평면 상으로 이동된다.
레이저 빔 프린터 장치용으로 사용된 종래의 광학 스캐닝 장치에서, 화상 신호에 따라 광원으로부터 광학적으로 변조 및 방출된 광속은, 예를 들면 폴리곤 미러를 포함하는 광 편향기에 의해 주기적으로 편향된 다음, fθ특성을 갖고 있는 화상 광학 시스템에 의해 스폿 형태로 감광 기록 매체(감광체 드럼)의 표면 상에 수속된다. 이 표면은 화상을 기록하기 위해 광학적으로 스캔된다.
제1도는 종래의 광학 스캐닝 장치의 주요 부분의 메인 스케닝 방향의 개략 단면도이다.
제1도에 도시된 바와 같이, 광원 수단(11)로부터 방출된 발산 광속은 콜리메이터 렌즈(12)에 의해 거의 평행하게 되고, 애퍼츄어(13)에 의해 광 에너지가 제한된 다음, 서브 스캐닝 방향으로만 임의의 굴절력을 갖고 있는 실린더형 렌즈(14)로 입력된다. 실린더형 렌즈(14)로 입력된 평행 광속은 메인 스캐닝 단면으로 출력되며, 폴리곤 미러를 포함하는 광 편향기의 편향면(반사면 : 15a)상에 거의 라인 화상을 형성하기 위해 서브 스캐닝 단면에 수속된다.
광 편향기(15)의 편향면(15a)에 의해 편향 및 반사된 광속은 fθ특성을 갖고 있는 화상 광학 시스템(fθ렌즈 : 16)을 통해 스캔되는 평면으로 작용하는 감광체 드럼(18)의 표면으로 지향된다. 광 편향기(15)가 화살표 A로 표시된 방향으로 회전될 때, 감광체 드럼(18)의 표면은 광학적으로 스캔되고, 화상 정보는 기록된다.
이러한 광학 스캐닝 장치에서 화상 정보를 매우 정확하게 기록하기 위해서는 스캔될 모든 평면 상을 통하여 상면 곡률(field curvature : 像面 灣曲)이 양호하게 보정되고, 스폭 직경이 균일하며, 입사 광의 각과 화상 높이와의 관계가 비례한 왜곡 수찬(fθ특성)가 제공될 필요가 있다. 이들 광학 특성 또는 보정 광학 시스템(fθ특성)을 갖고 있는 다양한 광학 스캐닝 장치가 제안되고 있다.
레이저 빔 프린터 및 디지탈 복사기가 소형 및 저가로 형성될 때, 광학 스캐닝 장치도 동일하게 만들어질 필요가 있다.
상면 곡률을 만족스럽게 보정하고 fθ특성을 제공하기 위한 요구를 만족시키는 하나의 fθ렌즈를 포함하는 다양한 광학 스캐닝 장치에 대해서는 심사된 일본국 특허 출원 제61-48684호, 미심사된 일본국 특허 출원 제63-157122호, 미심사된 일본국 특허 출원 제4-104213호 및 미심사된 일본국 특허 출원 제4-50908(미합중국 대응 특허 제5,111,219호)에 제안 기재되어 있다.
심사된 일본국 특허 출원 제61-48684호 및 미심사된 일본국 특허 출원 제63-157122호에서는 광 편향기에 대향하는 요부면을 갖고 있는 단일 렌즈가 fθ렌즈로서 사용되어 기록 매체의 표면 상에 콜리메이터 렌즈로부터의 평행 광속을 수속시킨다. 미심사된 일본국 특허 출원 제4-104213호에서는, 광 편향기에 대향하는 요부면 및 화상 평면에 대향하는 토로이달면(toroidal surface)을 갖고 있는 단일 렌즈가 fθ렌즈로서 사용된다. 콜리메이터 렌즈에 의해 수속된 광속으로 변환된 광속은 fθ렌즈로 입력된다. 미심사된 일본국 특허 제4-50908호에서는 고차 비구면(high-order aspherical surfaces)을 갖고 있는 단일 렌즈가 fθ렌즈로서 사용된다. 콜리메이터 렌즈에 의해 수속된 광속으로 변환된 광속은 fθ렌즈에 입력된다.
그러나, 심사된 일본국 특허 출원 제61-48684호에 기재된 광학 스캐닝 장치는 서브 스캐닝 방향에 상면 곡률을 갖고 있다. 또, 이 장치는 fθ렌즈에서 스캔되는 평면까지의 거리와 같이 긴 촛점거리 f를 갖고 있는데, 평행 광속이 스캔되는 평면에 화상을 형성하기 때문에 소형 광학 스캐닝 장치를 구성하기 어렵다.
미심사된 일본국 특허 출원 제63-157122호에 기재된 광학 스캐닝 장치가 두꺼운 웰을 갖는 fθ렌즈를 갖고 있기 때문에, 렌즈를 몰드하기 어려워 비용이 증가한다.
또, 미심사된 일본국 특허 출원 제4-104213호에 기재된 광학 스캐닝 장치는 광 편향기로서 작용하는 폴리곤 미러의 장착시 에러로 인해 폴리곤 표면에 따라 변하는 왜곡 수차 및 지터를 갖고 있다.
또, 미심사된 일본국 특허 출원 제4-50908호에 기재된 광학 스캐닝 장치는 수차를 연속적으로 보정하기 위해 고차 비구 fθ렌즈를 갖고 있다. 그러나, 서브 스캐닝 방향의 스폿 직경은 광 편향기와 스캔되는 평면 사이에서 서브 스캐닝 방향의 불균일한 배율로 인해 화상의 높이에 따라 변경되는 경향이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 상면 곡률 및 왜곡 수차를 보정하고, 광 편향기 장착시의 에러로 인한 지터를 방지하며, 화상의 높이에 따라 서브 스캐닝 방향에서의 스폿 직경을 변경시킬 수 있는 소형 광학 스캐닝 장치를 제공하는 것으로, 콜리메이터 렌즈로부터의 수속된 광속이 광 편향기를 통해 fθ렌즈에 의해 스캔되는 평면 상에 화상을 형성하는 경우의 fθ렌즈의 형상을 적합하게 구성함으로써 고해상도 프린팅에 적합한 것이다.
본 발명의 상기 목적은 광원; 광원으로부터 방출된 광속을 수속된 광속으로 변환시키는 제1광학 시스템; 제1광학 시스템으로부터 방출된 수속된 광속을 편향시키는 편향기; 및 편향기로 편향된 수속된 광속으로부터 스캔되는 평면 상에 스풋 형상으로 화상을 형성하는 제2광학 시스템을 포함하는 광학 스캐닝 장치의 제공을 통해 달성되고, 상기 제2광학 시스템은 단일 렌즈의 양 면이 메인 스캐닝 평면에서 비구면인 단일 렌즈를 포함하며, 단일 렌즈의 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R, 단일 렌즈의 스캔되는 평면에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R2, 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이 Ymax, 최대 유효 직경 Ymax에서 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S1, 최대 유효 직경 Ymax에서 스캔되는 평면에 대향하는 렌즈의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S2및 단일 렌즈의 중심 두께가 d일 때, 다음 조건
0 R1R2
(R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10
(R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2
을 만족한다.
또, 광학 스캐닝 장치에서, 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 촛점 길이가 ft및 단일 렌즈에서 스캔되는 평면까지의 거리가 Sk일때, 다음 식
0.2 ≤ 1-Sk/ft≤ 0.5
을 만족할 수 있다.
광학 스캐닝 장치에서, 단일 렌즈는 양측에서 비구 렌즈면인 토릭면을 가질 수 있다.
광학 스캐닝 장치는 제1광학 시스템과 편향기 사이에 배치되고, 서브 스캐닝 방향에서만 굴절력을 가지며, 제1광학 시스템으로부터 방출된 광속으로부터 편향기의 편향 평면에서 메인 스캐닝 방향으로 세로 화상의 라인 형태를 형성하는 제3광학 시스템을 포함할 수 있다.
광학 스캐닝 장치에서, 제1광학 시스템은 광원으로부터 방출된 광속을 메인 스캐닝 평면에서 수속된 광속으로 변환될 수 있다.
광학 스캐닝 장치에서, 단일 렌즈의 양면 중 적어도 한 렌즈면에서의 서브 스캐닝 평면의 곡률은 단일 렌즈의 유효 범위내에서 연속적으로 변경될 수 있다.
광학 스캐닝 장치에서, 메인 스캐닝 방향의 제2광학 시스템의 대칭 축은 메인 스캐닝 평면에서 스캔되는 평면의 법선에 대해 경사져 잇다.
광학 스캐닝 장치에서, 제2광학 시스템은 플라스틱으로 몰드될 수 있다.
광학 스캐닝 장치에서, 제2광학 시스템은 글라스로 몰드될 수 있다.
제2도는 본 발명의 제1실시예에 따른 광학 스캐닝 장치의 주요 부분을 도시하는 메인 스캐닝 방향에 따른 단면도이다. 제3도는 제2도에 도시된 fθ렌즈의 확대도이다. 메인 스캐닝 방향은 광 편향기의 편향-반사면이 광속으로 편향 스캔되는 방향이다. 메인 스캐닝 평면은 광 편향기의 편향-반사면 상에서 편향 스캐닝하는데 사용된 광속과 함께 시간 통과로서 형성된 광속 평면을 의미한다.
제2도에서는 반도체 레이저를 포함하는 광원 수단(1); 제1광학 디바이스로서 작용하고 광원 수단(1)로부터 방출된 광속(광 빔)을 메인 스캐닝 평면에서 수속된 광속으로 변환되는 콜리메이터 렌즈(2); 및 이것을 통과하는 광속의 직경을 배치하는 애퍼츄어 스톱(3)이 도시되어 있다.
또, 제2도에는 제3광학 디바이스로서 작용하는 실린더형 렌즈(4)가 도시되어 있는데, 실린더형 렌즈(4)는 서브 스캐닝 방향(제2도에 수직인 방향)을 따라 특정 굴절력을 갖고 있다. 대부분의 라인 화상은 애퍼츄어 스톱(3)을 통과하는 광속으로 서브 스캐닝 단면도에서 광 편향기(5)(후술하겠음)의 편향-반사면(5a)상에 형성된다. 그러므로, 광 편향기(5)에 입력된 광속은 메인 스캐닝 방향으로 세로 라인 화상으로 형성된다.
편향 디바이스로서 작용하고, 예를 들면 폴리곤 미러를 포함하는 광 편향기(5)는 모터와 같은 구동 수단(도시하지 않음)으로 화살표A로 표시된 방향으로 일정 속도로 회전한다.
제2광학 디바이스로서 작용하는 fθ특성을 갖고 있는 하나의 렌즈를 포함하는 fθ렌즈(화상 광학 시스템 : 6)은 후술하는 바와 같이 광속이 입력된 측에서 광 편향기(5)에 대향하는 렌즈면 Ra 및 광속이 출력되는 측에서 스캔되는 평면에 대향하는 렌즈면 Rb를 갖고 있는데, 이 양 렌즈면은 메인 스캐닝 평면의 토릭면인 비구면이다. 렌즈(6)은 기록 매체이고 스캔되는 평면으로서 작용하는 감광체 드럼(8)상에서 화상 정보에 따라 광 편향기(5)에 의해 편향되고 반사된 광속으로 화상을 형성한다. 또, 렌즈(6)은 광 편향기(5)의 편향 평면의 기울기를 보정한다.
본 실시예의 fθ렌즈의 양 렌즈면 Ra 및 Rb 중 적어도 하나의 서브 스캐닝 평면[fθ렌즈(6)의 광축을 포함하고 메인 스캐닝 평면에 수직인 평면]의 곡률은 렌즈의 유효 범위 내에서 연속적으로 변경되어, 서브 스캐닝 방향의 상면 곡률을 보정한다.
fθ렌즈(6)의 메인 스캐닝 방향의 대칭 축은 메인 스캐닝 평면에서 스캔되는 면(감광체 드럼면 : 8)의 법선에 대해 경사져, 연속적으로 fθ특성을 보정한다.
이 실시예에서, fθ렌즈(6)은 플라스틱으로 몰드될 수 있다. 선택적으로, 이것은 글라스로 몰드될 수 있다.
본 실시예에서, 반도체 레이저(1)로부터 방출된 광속은 콜리메이터 렌즈(2)로 메인 스캐닝 평면에서 수속된 광속으로 변환된다. 광속(광량)은 애퍼츄어 스톱(3)에 의해 제한되고, 실린더형 렌즈(4)로 입력된다. 이 입사 광속은 메인 스캐닝 단면도에 존재할 때 방출되고, 광축을 포함하고 메인 스캐닝 단면도에 수직인 서브 스캐닝 단면도에 수속되어, 광 편향기의 편향 평면(5a)에 라인 화상(메인 스캐닝 방향의 세로 라인 화상)을 형성한다. 광 편향기(5)의 편향 평면(5a)상에 편향되고 반사된 광속은 fθ렌즈(6)을 통해 감광체 드럼(8)에 도달한다. 광 편향기(5)가 화살표A로 표시된 방향으로 회전할 때, 감광체 드럼(8)은 기록 화상을 위해 화살표B로 표시된 방향으로 광학적으로 스캔된다.
본 실시예에 따른 왜곡 수차(fθ특성) 및 상면 곡률을 보정하는 수단은 후술하겠다. 광 편향기(5)을 통해 콜리메이터 렌즈(2)로부터 fθ렌즈(6)으로 입사한 광속이 메인 스캐닝 평면에 수속된 플럭스이기 때문에, 다음의 조건은 장치의 fθ특성을 만족시키기 위해 필요하다.
0 R1R2(1)
여기에서, R1및 R2는 메인 스캐닝 평면에서 광 편향기로부터의 위치 오더에서의 fθ렌즈(6)의 근축 곡률 반경이다.
이것은 fθ렌즈(6)의 광 편향기(5)에 대향하는 렌즈면 Ra가 광축 근처의 요부 메니스커스 형상을 갖고 있고, 스캔되는 평면에 대향하는 양 렌즈면 Ra 및 Rb가 비구면 형상을 갖고 있다는 것을 의미한다. 서브 스캐닝 방향과 동일한 화상 높이에 따른 스폿 직경을 형성하기 위해, 렌즈 형상은 비구면 화상이 다음 조건을 만족하도록 결정된다.
(R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10 (2)
(R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2(3)
여기에서, Ymax는 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이고, S1및 S2는 최대 유효 직경 Ymax에서 근축 렌즈면 R로부터의 비구면 양이며, d는 fθ렌즈(6)의 중심 두께이다. Ymax는 fθ렌즈(6)의 광축에서 광속의 최외각 선이 통과하는 위치까지의 거리이다.
이것은 서브 스캐닝 방향의 스폿 직경 ρs이 일반적으로 후술된 바와 같이 기술되기 때문에, 일반적으로 서브 스캐닝 방향의 메인 평면 위치의 변경인 화상 높이에 따른 서브 스캐닝 방향의 F 넘버의 변경이 서브 스캐닝 방향에서와 동일한 화상 높이에 따른 스폿 직경을 형성하기 위해 제한될 필요가 있기 때문이다. 즉, 서브 스캐닝 방향에서의 화상 배율은 균일하게 형성될 필요가 있다.
ρs = CλFs
여기에서, Fs는 서브 스캐닝 방향의 F 넘버이고, λ는 사용된 선의 파장이며, C는 정수이다.
조건식(1)이 만족되지 않을 경우는 상면 곡률, 왜곡 수차 등을 보정하기 어렵다. 임의의 조건 식(2) 및 (3)이 만족하지 않을 경우는 서브 스캐닝 방향에서와 동일하게 스폿 직경을 형성하기 어렵다.
본 실시예에서, fθ렌즈(6)의 형상은 조건 식(1), (2) 및 (3)이 만족하도록 구성되어, 상면 곡률, 왜곡 수차 등을 적합한 값으로 유지하고 서브 스캐닝 방향에서 스폿 직경의 불균일성을 향상시킨다.
다음에, 제4도 내지 제6도를 참조하면, 광 편향기(폴리곤 미러)로 인한 지터를 감소시키는 것을 의미한다. 이들 도면은 메인 스캐닝 평면의 도면이다.
폴리곤 미러가 제4도에 도시된 바와 동일한 편향 각을 갖고 있는 광속을 편향시키는데 사용될 때, 편향 점은 모터 회전 샤프트 및 회전 중심에서 폴리곤 면(편향 및 반사면)까지의 거리 변화를 갖고 있는 장치에 의한 에러로 인해 사용된 폴리곤면에 따라 전후 위치를 변경시킨다. 폴리곤 미러(5)의 폴리곤 면(5a)에 편향되어 fθ렌즈(6)에 입사한 광속이 평행일 때, 광속은 감광체 드럼의 동일점에 화상을 형성하는데, 이것은 화상 평면에 있다.
그러나, 콜리메이터 렌즈로부터 출력된 광속이 이미 수속되어 있을 때, 광속은 감광체 드럼의 동일점에 화상을 형성하지 않고, 폴리곤 미러면에 의한 지터를 발생하여 화상을 열화시킨다.
제5도에 도시된 바와 같이, 지터량 J는 다음 식으로 표현된다.
J =mh
여기에서, h는 다른 폴리곤면에 편향된 2개의 광속 다발 사이의 시프트이고, m은 메인 스캐닝 방향의 횡 배율이다.
횡 배율 m은 다음 식으로 표시된다.
m = 1-Sk/ft
여기에서, ft는 제6도에 도시된 바와 같은 메인 스캐닝 방향(메인 스캐닝 평면)에서의 fθ렌즈(6)의 촛점 길이이고, Sk는 fθ렌즈[6 : fθ렌즈(6)의 평면에서 방출하는 광속)에서 스캔되는 평면(8 : 감광체 드럼 평면)까지의 거리이다.
그러므로, 지터량은 다음과 같이 표시될 수 있다.
J=(1-Sk/ft)h
제4도에 도시된 바와 같이, 2개의 광속 다발 사이의 시프트 h는 폴리곤 면 상의 광속의 입사 각 θi, 폴리곤 면으로부터의 출력 각θe및 폴리곤 면 상의 편심량 d에 의해 결정된다. 이것은 다음 식으로 표시될 수 있다.
h = (dsin(θe-θi))/(cosθecos((θe-θi)/2)) = d×g((θi,θe)
상술한 파라메터가 제한 범위 내에 있기 때문에, 시프트 h는 0.02에서 0.04까지의 범위 내에 있다.
일반적으로, 지터는 화상에서 2개의 점 사이의 거리가 도트의 절반 이상 시프트 될때 눈으로 확인가능하다. 예를 들면, 60dpi의 해상도를 갖고 있는 레이저 빔 프린터용으로 사용된 광학 스캐닝 장치에서, 지터는 지터량이 다음 값 이상으로 도달할 때 확인가능하다.
J = 25.4/600/2 = 0.02 mm
그러므로, 고화질을 형성하기 위해, 메인 스캐닝 방향의 횡 배율 m은 다음 식에 따라 0.5 이하로 제한될 수 있다.
J = mh
0.02 ≥ m × 0.04
m ≤ 0.5
그러나, 메인 스캐닝 방향의 횡 배율 m이 작게 될 경우, fθ렌즈(6)과 스캔되는 평면(8) 사이의 거리 Sk는 길게 되기 때문에 소형 장치를 형성하지 못한다. 2개의 반대 조건을 양립시키기 위해서, fθ렌즈(6)의 굴절력 및 콜리메이터 렌즈(2)의 굴절력은 메인 스캐닝 방향의 횡 배율 m이 다음 조건을 만족하도록 결정되므로, 폴리곤미러(광 편향기 : 5)장착시의 에러로 인해 감소된 지터를 갖고 있는 소형 광학 스캐닝 장치를 구현할 수 있다.
0.2 ≤ m ≤ 0.5
일반적으로,
0.2 ≤ 1-Sk/ft≤0.5 (4)
제6도에는 fθ렌즈(6)이 사용되지 않을 때의 광속이 수속된 평면(9), 광 편향기(5)에서 수직 수속 평면(9)까지의 거리 fc및 광 편향기(5)에서 fθ렌즈[6 : 광속이 fθ렌즈(6)의 입사일 때의 평면]까지의 거리 e가 도시되어 있다.
조건 식(4)의 상한값이 초과되었을 때, 지터는 확인될 수 있어 화질이 열화된다. 값이 식(4)의 하한값 이하일 경우, fθ렌즈(6)과 스캔되는 평면(8) 사이의 거리는 길게 되어 장치가 크게 된다.
본 실시예에서, fθ렌즈(6)은 메인 스캐닝 방향의 10차까지의 함수로 표현되는 비구면 및 서브 스캐닝 방향의 화상의 높이 방향으로 연속적으로 변하는 대칭면으로 구성된다. fθ렌즈(6)과 광축 사이의 교점이 원래대로 설정되고, 광축이 X축이고, 메인 스캐닝 평면에서 광축과 수직인 축이 Y축이며, 서브 스캐닝 평면에서 광축과 수직인 축을 Z축이라고 가정할 때, 예를 들면 메인 스캐닝 방향에 대응하는 발생 라인 방향의 렌즈의 형상은 다음 식으로 표현할 수 있다.
X = (Y2/R)/(1+(1-(1+K)(Y/R)2)1/2) = B4Y4+ B6Y6+ B8Y8+ B10Y10
여기서, R은 곡률 반경이고, K, B4, B6, B8, B10는 비구면 계수이다. 서브 스캐닝 방향(광축을 포함하는 메인 스캐닝 방향과 수직인 방향)과 대응하는 자오선 라인 방향의 렌즈 형상은 다음과 같이 표현될 수 있다.
S = (Z2/r')/(1 +(1 -(Z/r')2)1/2
여기에서, r' = r(1 + D4Y4+ D6Y6+ D8Y8+ D10Y10)
제8도는 본 발명의 제1실시예에 따른 광학 배치 및 fθ렌즈(6)의 비구면 계수를 도시한 것이다. 제10도는 fθ렌즈(6)의 비구면의 형상을 도시한 것이다. 제10도에서, 굵은 선은 근축 곡률 반경으로부터의 비구면량 S를 표시하고, 점선은 (R2- Ymax 2)1/2-R의 값을 표시한다.
제1실시예에서, 중심 두께 d, 근축 곡률 반경 R, 비구면량 S 및 fθ렌즈(6)의 (R2- Ymax 2)1/2- 은 조건식(1) 내지 (3)을 만족하도록 후술하겠다.
R1= 65.22
R2=150.03
d =10
S1=-9.44
S2=-7.79
(R1 2- Ymax 2)1/2- R1=-14.50
(R2 2- Ymax 2)1/2- R2=-6.00
제12도는 본 실시예의 상면 곡률 및 왜곡 수차를 도시하는 도면이다. 이것은 수차가 실제 문제가 없는 레벨까지 보정하는 것을 도면에서 알 수 있다. 또, 화상 높이로 인한 서브 스캐닝 방향의 스폿 직경의 변경은 10㎛이하로 제한될 수 있다.
제1실시예에서, 메인 스캐닝 방향의 fθ렌즈(6)의 촛점 길이 ft는 213.7mm로 설정되고, fθ렌즈[6 : 광속이 fθ렌즈(6)의 출력인 평면]에서 스캔되는 평면(8 ; 감광체 드럼면)까지의 거리 Sk는 111.5mm이며, 메인 스캐닝 방향의 횡 배율 m은 조건식(4)을 만족하도록 후술한 바와 같이 0.478이다. 이것은 폴리곤 미러(광 편향기 장착시의 에러로 인한 지터를 감소시킨다.
m = 1 - Sk/ft=1 - 111.5/213.7 = 0.478
본 실시예의 2개의 광속 다발 사이의 시프트 h가 폴리곤 평면(5a)에 대한 플럭스의 입사각 θi이 -90도이고, 플럭스의 출력 각 θe이 45도이며, 폴리곤 평면(5a)의 편심량 d가 15㎛인 값을 가지기 때문에, 지터량 J 은 다음과 같은 값을 갖는다.
h = (dsin(θe-θi))/(cosθecos((θe-θi)/2)) =0.039mm
J =mh =0.0186mm
따라서, 지터는 눈으로 확인불가능한 레벨로 제한될 수 있다.
상술한 바와 같이, fθ렌즈(6)의 형상 및 광학 배치는 상면 곡률 및 왜곡 수차가 연속적으로 보정되고, 광 편향기 장착시 에러로 인한 지터에 관련되고, 화상 높이에 따라 서브 스캐닝 방향에서의 스폿 직경의 변경에 관련된 문제점을 콜리메이터 렌즈로부터 수속된 광이 광 편향기를 통해 하나의 fθ렌즈에 의해 스캔되는 평면에 화상을 형성할 때 해결하도록 본 실시예에 적절히 구성된다.
제7도는 본 발명의 제2실시예에 따른 광학 스캐닝 장치의 메인 스캐닝 방향에서의 광학 시스템의 주요 부분의 단면도(메인 스캐닝 단면도)를 도시한 것이다. 제7도에서, 제2도에 도시한 것과 동일 소자는 동일 심볼을 갖는다.
본 실시예는 상술한 바와 같이 fθ렌즈(6)보다 광축 방향에서 더 얇은 중심 두께를 갖고 있는 것이 제1실시예와 다르다. 다른 구성 및 광학 동작은 거의 동일하다.
제9도는 본 발명의 제2실시예에 따른 광학 배치 및 fθ렌즈(26)의 비구면 계수를 도시한 것이다. 제11도는 fθ렌즈(26)의 비구면량을 도시한 것이다. 제11도에서, 굵은 선은 근축 곡률 반경으로부터의 비구면량 S를 표시하고, 점선은 (R2- Ymax 2)1/2- R의 값을 표시한다.
제2실시예에서, 중심 두께 d, 근축 곡률 반경 R, 비구면량 S 및 fθ렌즈(26)의 (R2- Ymax 2)1/2- R은 후술하고, 이것은 조건 식(1) 내지 (3)을 만족한다.
R1= 45.16
R2=68.96
d =8
S1=-20.24
S2=-14.61
(R1 2- Ymax 2)1/2- R1=-26.23
(R2 2- Ymax 2)1/2- R2=-14.27
제13도는 제2실시예의 상면 곡률 및 왜곡 수차를 도시하는 도면이다. 이것은 수차가 실제 문제가 없는 레벨까지 보정하는 것을 도면에서 알 수있다. 또, 화상 높이로 인한 서브 스캐닝 방향에서의 스폿 직경의 변경은 10㎛이하로 제한 될 수 있다.
제2실시예에서, 메인 스캐닝 방향의 fθ렌즈(26)의 촛점 길이 ft는 226.0mm로 설정되고, fθ렌즈[26 : 광속이 fθ렌즈(26)의 출력인 평면]에서 스캔되는 평면(8 ; 감광체 드럼면)까지의 거리 Sk는 111.5mm이며, 횡, 배율 m은 후술한 바와 같다.
m = 1-Sk/ft=1 - 111.5/226.0 =0.493
이 값은 제1실시예와 같은 조건 식(4)를 만족시키고, 광 편향기(폴리곤 미러) 장착시의 에러로 인한 지터는 눈으로 확인불가능한 레벨로 제한된다.
상술한 바와 같이, fθ렌즈(26)의 형상 및 광학 배치는 상면 곡률 및 왜곡 수차가 연속적으로 보정되고, 광 편향기 장착시 에러로 인한 지터에 관련되고, 화상 높이에 따라 서브 스캐닝 방향에서의 스폿 직경의 변경에 관련된 문제점을 제1실시예에서 설명한 바와 같이 해결하도록 본 실시예에 적절히 구성된다.
본 발명에 따른면, fθ렌즈의 중심 두께가 광축 방향에서 얇고, 이것의 굴절력이 수속된 광속이 fθ렌즈로 입력됨으로써 제한되도록 fθ렌즈를 구성하기 때문에, fθ렌즈의 몰딩 택트 타임(molding tact time)을 감소시키고, 고가의 광학 스캐닝 장치를 실현한다.
fθ렌즈에서 스캔되는 평면까지의 거리 Sk는 본 발명에서 fθ렌즈의 촛점 길이 ft보다 작게 제한되어, 소형 광학 스캐닝 장치를 실현한다.
본 발명에 따르면, 메인 스캐닝 방향의 근축 곡률 반경, 비구면량, 촛점 길이 및 스캔되는 평면에서의 거리와 같은 fθ렌즈에 관련된 요인은 상면 곡률 및 왜곡 수차가 양호하게 보정되고, 광 편향기의 장착시의 에러로 인한 지터 및 화상 높이에 따른 서브 스캐닝 방향에서의 스폿 직경의 변경의 영향을 최소화하도록 콜리메이터렌즈로부터 수속된 광속이 광 편향기를 통해 하나의 fθ렌즈에 의해 스캔되는 평면상에 화상을 형성할 때 상술한 바와 같이 적절하게 설정되므로, 고정밀 프린팅에 적합한 소형 광학 스캐닝 장치를 달성할 수 있다.

Claims (23)

  1. 광원; 상기 광원으로부터 방출된 광속을 수속된 광속으로 변환시키는 제1광학 시스템; 상기 제1광학 시스템으로부터 방출된 수속된 광속을 편향시키는 편향기; 및 상기 편향기에 의해 평향된 수속된 광속으로부터 스캔되는 평면에 스폿 형상의 화상을 형성하는 제2광학 시스템을 포함하고, 상기 제2광학 시스템은 단일 렌즈를 포함하고, 상기 단일 렌즈의 양면은 메인 스캐닝 평면 상에서 비구면이며, 상기 단일 렌즈의 상기 편향기에 대향하는 렌즈 표면의 근축 곡률 반경이 R1, 상기 단일 렌즈의 스캔되는 상기 평면에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R2, 상기 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이 Ymax, 상기 최대 유효 직경 Ymax에서 상기 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S1, 상기 최대 유효 직경 Ymax에서 스캔되는 상기 평면에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S2및 상기 단일 렌즈의 중심 두께가 d일 때, 다음의 조건
    0 R1R2
    (R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10
    (R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 촛점 길이가 ft및 상기 단일 렌즈에서 스캔되는 평면까지의 거리가 Sk일때, 다음 식
    0.2 ≤ 1-Sk/ft≤ 0.5
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 단일 렌즈는 양측에 비구 렌즈면의 토릭면을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1광학 시스템과 상기 편향기 사이에 배치되고, 서브 스캐닝 방향으로만 굴절력을 갖고 있으며, 상기 제1광학 시스템으로부터 방출된 광속으로부터 상기 편향기의 편향 평면 상의 메인 스캐닝 방향으로 세로 라인 형상의 화상을 형성하는 제3광학 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1광학 시스템은 광기 광원으로부터 방출된 광속을 메인 스캐닝 평면에서 수속된 광속으로 변환시키는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 단일 렌즈의 양면 중 적어도 한 렌즈면의 서브 스캐닝 평면에서의 곡률은 상기 단일 렌즈의 유효 범위 내에서 연속적으로 변경되는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  7. 제1항에 있어서, 메인 스캐닝 방향의 상기 제2광학 시스템의 대칭 축은 메인 스캐닝 평면에서 스캔되는 상기 평면의 법선에 대해 경사져 있는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제2광학 시스템은 플라스틱으로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제2광학 시스템은 글라스로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  10. 광원; 상기 광원으로부터 방출된 광속을 수속된 광속으로 변환시키는 제1광학 시스템; 상기 제1광학 시스템으로부터 방출된 수속된 광속을 편향시키는 편향기; 기록 매체;및 상기 편향기에 의해 평향된 수속된 광속으로부터 상기 기록 매체의 표면에 스폿 형상으로 화상을 형성하는 제2광학 시스템을 포함하고, 상기 제2광학 시스템은 단일 렌즈를 포함하고, 상기 단일 렌즈의 양면은 메인 스캐닝 평면 상에서 비구면이며, 상기 단일 렌즈의 상기 편향기에 대향하는 렌즈 표면의 근축 곡률 반경이 R1, 상기 단일 렌즈의 기록 매체 면에 대향하는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R2, 상기 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이 Ymax, 상기 최대 유효 직경 Ymax에서 상기 편향기에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈표면으로부터의 비구면량이 S1, 최대 유효 직경 Ymax에서 상기 기록 매체에 대향하는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S2및 상기 단일 렌즈의 중심 두께가 d일 때, 다음의 조건
    0 R1R2
    (R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10
    (R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 촛점 길이가 ft및 상기 단일 렌즈에서 상기 기록 매체의 표면까지의 거리가 Sk일때, 다음 식
    0.2 ≤ 1-Sk/ft≤ 0.5
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 단일 렌즈는 양측에서 비구 렌즈면인 토릭면을 갖고 잇는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 제1광학 시스템과 상기 편향기 사이에 배치되고, 서브 스캐닝 방향으로만 굴절력을 갖고 있으며, 상기 제1광학 시스템으로부터 방출된 수속된 광속으로부터 상기 편향기의 편향 평면 상의 메인 스캐닝 방향으로 세로 라인 형상의 화상을 형성하는 제3광학 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  14. 제10항에 있어서, 상기 제1광학 시스템은 광기 광원으로부터 방출된 광속을 메인 스캐닝 방향에서 수속된 광속으로 변환시키는 것을 특징으로 하는 광학 스캐닝 장치.
  15. 제10항에 있어서, 상기 단일 렌즈의 양면 중 적어도 한 렌즈면의 서브 스캐닝 평면에서의 곡률은 상기 단일 렌즈의 유효 범위 내에서 연속적으로 변경되는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  16. 제10항에 있어서, 메인 스캐닝 방향의 상기 제2광학 시스템의 대칭 축은 메인 스캐닝 평면 상의 상기 기록 매체 표면의 법선에 대해 경사져 있는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  17. 제10항에 있어서, 상기 제2광학 시스템은 플라스틱으로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  18. 제10항에 있어서, 상기 제2광학 시스템은 글라스로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 빔 프린터 장치.
  19. 단일 렌즈를 포함하고, 상기 단일 렌즈의 양면은 메인 스캐닝 평면 상에서 비구면이며, 광속이 상기 단일 렌즈에 입력되는 렌즈 표면의 근축 곡률 반경이 R1, 광속이 상기 단일 렌즈로부터 출력되는 렌즈면의 근축 곡률 반경이 R2, 상기 단일 렌즈의 메인 스캐닝 평면에서의 최대 유효 직경이 Ymax, 광속이 상기 최대 유효 직경 Ymax에서 입력되는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S1, 광속이 최대 유효 직경 Ymax에서 출력되는 렌즈면의 근축 렌즈면으로부터의 비구면량이 S2및 상기 단일 렌즈의 중심 두께가 d일 때, 다음의 조건
    0 R1R2
    (R1 2- Ymax 2)1/2- R1S10
    (R2 2- Ymax 2)1/2- R2- d S2(R2 2- Ymax 2)1/2- R2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 스캐닝용 렌즈.
  20. 제19항에 있어서, 상기 렌즈는 양측에 비구 렌즈면인 토릭면을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝용 렌즈.
  21. 제19항에 있어서, 상기 단일 렌즈의 양면 중 적어도 하나의 렌즈면의 서브 스캐닝 평면에서의 곡률은 상기 단일 렌즈의 유효 범위 내에서 연속적으로 변경되는 것을 특징으로 하는 스캐닝용 렌즈.
  22. 제19항에 있어서, 상기 스캐닝용 렌즈는 플라스틱으로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝용 렌즈.
  23. 제19항에 있어서, 상기 스캐닝용 렌즈는 글라스로 몰드되어 있는 것을 특징으로 하는 스캐닝용 렌즈.
KR1019950028944A 1994-09-06 1995-09-05 양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치 KR0184650B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP94-239386 1994-09-06
JP23938694A JP3303558B2 (ja) 1994-09-06 1994-09-06 走査光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960011474A KR960011474A (ko) 1996-04-20
KR0184650B1 true KR0184650B1 (ko) 1999-05-15

Family

ID=17044019

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950028944A KR0184650B1 (ko) 1994-09-06 1995-09-05 양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5818505A (ko)
EP (2) EP1130438B1 (ko)
JP (1) JP3303558B2 (ko)
KR (1) KR0184650B1 (ko)
DE (2) DE69535371T2 (ko)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8213068B1 (en) 1994-09-06 2012-07-03 Canon Kabushiki Kaisha Scanning optical apparatus
US6069724A (en) * 1997-02-17 2000-05-30 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning lens and optical scanning apparatus
US6038053A (en) * 1998-02-04 2000-03-14 Canon Kabushiki Kaisha Color image forming apparatus
KR100311628B1 (ko) 1999-07-27 2001-10-18 이형도 광주사장치
JP3943820B2 (ja) 1999-10-29 2007-07-11 キヤノン株式会社 光走査装置及びマルチビーム光走査装置及び画像形成装置
JP4564620B2 (ja) 2000-02-01 2010-10-20 キヤノン株式会社 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
JP4497618B2 (ja) * 2000-02-01 2010-07-07 キヤノン株式会社 光走査光学系と光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
JP2002090677A (ja) * 2000-09-19 2002-03-27 Canon Inc 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
KR100445128B1 (ko) * 2002-06-05 2004-08-21 삼성전자주식회사 광주사장치
KR100619037B1 (ko) * 2004-07-02 2006-09-01 삼성전자주식회사 비대칭 곡률을 갖는 주사 광학 렌즈 및 상기 렌즈를채용한 광 주사 장치
JP2009122327A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Canon Inc マルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
JP5316759B2 (ja) * 2008-10-16 2013-10-16 株式会社リコー 光走査装置、調整方法及び画像形成装置
JP2011215286A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Brother Industries Ltd 走査光学装置
JP2012013867A (ja) 2010-06-30 2012-01-19 Brother Ind Ltd 走査光学装置
JP2013200546A (ja) 2012-02-24 2013-10-03 Kyocera Document Solutions Inc 走査レンズ、光走査装置及びこれを用いた画像形成装置
JP6123706B2 (ja) 2014-02-28 2017-05-10 ブラザー工業株式会社 走査光学装置、画像形成装置および走査レンズの製造方法
US9645522B2 (en) 2015-03-31 2017-05-09 Canon Kabushiki Kaisha Optical scanning apparatus
JP6986312B2 (ja) 2019-03-14 2021-12-22 ナルックス株式会社 走査光学系及び走査レンズ

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS585706A (ja) 1981-07-02 1983-01-13 Ricoh Co Ltd 単玉▲ｆ▼θレンズ
JPS6148684A (ja) * 1984-08-15 1986-03-10 Saginomiya Seisakusho Inc ロ−タリ−式多位置弁
JPS63157122A (ja) * 1986-12-20 1988-06-30 Fujitsu Ltd 走査光学系
US5038156A (en) * 1988-02-04 1991-08-06 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Light beam scanning optical system
US5128795A (en) * 1989-08-14 1992-07-07 Ricoh Company, Ltd. Scanning lens and scanning apparatus using scanning lens
JPH07111501B2 (ja) * 1990-06-15 1995-11-29 キヤノン株式会社 ｆθレンズ及びそれを用いた画像形成装置
JPH04104213A (ja) * 1990-08-24 1992-04-06 Ricoh Co Ltd 光走査用レンズ及び光走査光学系
JP3072146B2 (ja) * 1991-03-05 2000-07-31 旭光学工業株式会社 アナモフイック光学系
JP2969407B2 (ja) * 1992-03-02 1999-11-02 松下電器産業株式会社 ポストオブジェクティブ型走査光学系と画像形成装置
US5563729A (en) * 1993-08-30 1996-10-08 Minolta Co., Ltd. Image forming light scanning apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE69535371T2 (de) 2007-12-06
EP1130438A3 (en) 2002-01-09
KR960011474A (ko) 1996-04-20
EP0702256B1 (en) 2001-12-12
US5818505A (en) 1998-10-06
JPH0876011A (ja) 1996-03-22
EP0702256A1 (en) 1996-03-20
DE69535371D1 (de) 2007-03-08
DE69524509T2 (de) 2002-05-23
EP1130438A2 (en) 2001-09-05
JP3303558B2 (ja) 2002-07-22
EP1130438B1 (en) 2007-01-17
DE69524509D1 (de) 2002-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0853253B1 (en) Optical scanning apparatus
KR0184650B1 (ko) 양측에 비구면을 갖고 있는 렌즈를 포함하는 광학 스캐닝 장치
EP0730182B1 (en) Scanning optical apparatus
US5995131A (en) Imaging lens system of scanning optical apparatus
US5557446A (en) Optical scanning apparatus having tilted scanning lens system
EP0872754A1 (en) Scanning optical apparatus
JP3445092B2 (ja) 走査光学装置
JP4617004B2 (ja) 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置
US5828401A (en) Laser beam exposing unit having plastic non-spherical lenses between a scanner and an image bearer
EP0813087B1 (en) Beam scanning apparatus
JP2000081584A (ja) 走査光学装置
JP5269169B2 (ja) 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ
US5966232A (en) Scanning optical system
JP2956169B2 (ja) 走査光学装置
JPH0968664A (ja) 光ビーム走査用光学系
JP3420439B2 (ja) 光走査光学系及びそれを備えるレーザービームプリンタ
JP2000002848A (ja) 走査光学装置
JP3404204B2 (ja) 光走査用レンズおよび走査結像レンズおよび光走査装置
JP3367247B2 (ja) ｆθレンズ系
JP3725182B2 (ja) 光走査装置
JPH0933840A (ja) 走査光学装置
JPH09269451A (ja) 走査光学装置
JPH1138341A (ja) マルチビーム走査装置およびマルチビーム走査装置の走査結像光学系
JP2003302593A (ja) ｆθレンズ及びそれを有する走査光学装置
JP2000292691A (ja) 走査結像レンズおよび光走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121121

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131126

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee