JP3072146B2 - アナモフイック光学系 - Google Patents

アナモフイック光学系

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JP3072146B2
JP3072146B2 JP3123234A JP12323491A JP3072146B2 JP 3072146 B2 JP3072146 B2 JP 3072146B2 JP 3123234 A JP3123234 A JP 3123234A JP 12323491 A JP12323491 A JP 12323491A JP 3072146 B2 JP3072146 B2 JP 3072146B2
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    • GPHYSICS
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、プラスチックレンズ
を用いたアナモフィック光学系に関するものであり、温
度変化による焦点変動が少ないアナモフィック光学系に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザープリンター用のfθレン
ズは、ガラスレンズ2枚で構成されるアナモフィックレ
ンズが一般的に用いられている。しかし、ガラス製のア
ナモフィックレンズは研磨のためのコストが高いという
問題がある。
【0003】コストダウンをするためには、研磨の必要
がないプラスチックレンズを走査レンズに用いることが
考えられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チックレンズは温度変化による屈折率変化、線膨張がガ
ラスレンズと比較して大きいため、焦点変動による結像
性能の劣化が大きい。従って、レーザープリンターのよ
うにフォーカシングを行わない装置では、プラスチック
レンズを使用することが困難であった。
【0005】結像光学系の温度変化による焦点変動Δ
f、屈折率変化による変動Δfnと線膨張による変動Δ
fLとの2つの和として考えることができる。ここで、
光学系中の特定のレンズ(焦点距離f、屈折率n)に注
目すると、基準温度からの温度変化Δtに対する各焦点
変動Δfn,ΔfLは、 Δfn=(f/(1−n))・(dn/dt)・Δt ΔfL=f・(1/L)・(dL/dt)・Δt となる。但し、上式中、 (dn/dt) :レンズの屈折率の変化率 (1/L)・(dL/dt):レンズの線膨張係数 である。
【0006】レンズ系中のあるレンズで発生した焦点変
動Δfn,ΔfLは、このレンズより像側のレンズ系に
よって拡大または縮小される。ここで、当該レンズを含
んでこれより像面までの横倍率をm、このレンズより像
側に位置するレンズの横倍率をm’とすると、最終的に
像側で現われる焦点変動Δεは下記の式で近似すること
ができる。 Δε=(m’−m)・(ΔfL+Δfn)
【0007】従って、複数のレンズから構成される光学
系の全系を考慮すると、温度変化による焦点変動は各レ
ンズの焦点変動の総和となり、以下の式で表すことがで
きる。 ΔfB=Σ(mi+1−mi)・(ΔfLi+Δfn
i)=(ΣKi・Ti)×Δt Ki=(mi+1−mi)・fi Ti=(1/(1−n))・(dn/dt)+(1/
L)・(dL/dt)
【0008】Tはレンズの単位温度変化あたりの屈折率
変化と線膨張とによる焦点変動、すなわちレンズ自身の
温度特性に起因する静的要因を表し、Kはレンズが置か
れたレンズ系中の位置に起因する焦点変動、すなわち動
的要因を表す。
【0009】また、縦倍率と横倍率とが異なるアナモフ
ィック光学系に関しては、それぞれの方向について温度
変化による影響を独立して考える必要がある。例えば、
アナモフィックな走査光学系の主走査方向の焦点変動Δ
fBy、副走査方向の焦点変動ΔfBzは、以下のとお
りとなる。 ΔfBy=(ΣKyi×Ti)×Δt ΔfBz=(ΣKzi×Ti)×Δt
【0010】さらに、主走査、副走査の焦点深度Dy,
Dzは、波長をλ、像面に向かう光束のFナンバーをF
y,Fzとして、以下のとおりとなる。 Dy=λ・Fy Dz=λ・Fz
【0011】従って、プラスチックレンズをアナモフィ
ック光学系に利用する場合、像面湾曲を焦点深度内に抑
えると共に、温度変化による焦点変動をも焦点深度内に
収める必要がある。
【0012】次に、温度変化による焦点変動を具体的に
説明する。以下に示した例は、ガラスレンズ使用を前提
として設計された2枚構成のアナモフィックなfθレン
ズをプラスチックで作成したものである。このfθレン
ズは、それぞれ同一のプラスチック材料により形成され
ている。fθレンズの第1、第2レンズそれぞれを含ん
で像面までの倍率を主走査面内でmy1,my2、副走
査面内でmz1,mz2とし、第1、第2レンズの主走
査面内の焦点距離をfy1,fy2、副走査面内の焦点
距離をfz1,fz2は、それぞれ以下のとおりであ
る。 my1= 0.000x mz1=−2.094x my2=−0.539x mz2=−3.162x fy1=−332.708 fz1=−99.489 fy2= 124.622 fz2= 45.494
【0013】また、プラスチック材料自体の1℃の温度
変化に対応する焦点距離変化係数T、fθレンズの第
1,第2レンズのレンズが置かれたレンズ系中の位置に
起因する主走査面内における変換係数Ky1,Ky2、
副走査面内における変換係数Kz1,Kz2は、以下の
とおりとなる。 T=275.48×10−6 Ky1=0.539×(−332.708)=−96.659 Ky2=1.539×(124.622)=295.170 Kz1=1.068×(−99.489)=−113.480 Kz2=4.162×(45.494)=788.058
【0014】主走査方向、副走査方向の単位温度当りの
焦点変動は、それぞれ以下のとおりとなる。 ΔfBy/Δt=(Ky1+Ky2)×T=0.0547mm/℃ ΔfBz/Δt=(Kz1+Kz2)×T=0.1858mm/℃
【0015】Fナンバーを1:70とすると、焦点深度
は3.8mm程度となり、副走査方向については使用温
度範囲を約±20℃とすると、設計上の像面湾曲や加工
誤差への許容がなくなる。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の請求項1のアナモフィック光学系は、単
一、あるいは複数のプラスチックレンズから構成される
結像光学系と、前記結像光学系より像面側に設けられ、
単一のプラスチックレンズから構成される補正レンズと
を備える走査光学系を含み、該走査光学系は、温度変化
による焦点変動が光学系の焦点深度内に収められ、以下
の条件を満足することを特徴とする。 |mz|<1.2 但し、mzは前記走査光学系の副走査面内での倍率。本
発明の請求項2のアナモフィック光学系は、請求項1に
記載のアナモフィック光学系において、前記走査光学系
は、fθ特性を有することを特徴とする。本発明の請求
項3のアナモフィック光学系は、請求項1記載のアナモ
フィック光学系において、さらに、光源から発する光束
を平行光束とするコリメーターレンズと、該平行光束を
副走査方向に収束させて線像を形成する線像形成光学系
と、該線像形成光学系を透過した光束を主走査方向に偏
向する走査偏向器とを備え、前記線像形成光学系は、前
記線像を前記走査偏向器よりも像面側に形成することを
特徴とすることを特徴とする。本発明の請求項4のアナ
モフィック光学系は、請求項3記載のアナモフィック光
学系において、以下の条件を満足することを特徴とす
る。 fCL×(|mz|/Fz)>0.7mm ただし、fCLは線像形成光学系の焦点距離、mzは走
査光学系の副走査面内での倍率、Fzは走査光学系の副
走査面内でのFナンバー。
【0017】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成させるため、単一、あるいは複数のプラスチック
レンズから構成される結像レンズと、結像レンズより像
面側に設けられ、単一のプラスチックレンズから構成さ
れる補正レンズとを備え、温度変化による焦点変動を光
学系の焦点深度内に収めたことを特徴とする。
【0018】
【実施例】以下、この発明にかかるアナモフィック光学
系の実施例を説明する。
【0019】図1は、この発明にかかるアナモフィック
光学系の実施例1を示したものである。この光学系にお
いて、半導体レーザー1から発したレーザー光は、コリ
メーターレンズ2により平行光束とされ、シリンドリカ
ルレンズ3(線像形成光学系)によって副走査方向に収
束して走査偏向器としてのポリゴンミラー4から距離Lの
位置に線像を形成する。この収束光は、ポリゴンミラー
4により走査、偏向され、結像レンズ5、補正レンズ6に
より図示せぬ像面上にスポットを形成する。
【0020】この実施例では、fθ特性を有する走査レ
ンズ(走査光学系)が、単一のプラスチックレンズであ
る結像レンズ5(第1レンズ)と、単一のプラスチックレン
ズである補正レンズ6(第2レンズ)とから構成されてい
る。
【0021】この種の走査光学系において、温度変化に
よる焦点距離移動を小さくするためには、fθレンズの
パワーを像面側に配分して倍率を低くすることが望まし
い。そのため、この実施例のアナモフィック光学系は、
結像レンズより像面側に補正レンズを設け、特に走査レ
ンズ単独で有限の倍率を持つ副走査方向のパワーを像面
側に配分している。具体的には、|mz|<1.2を満
たすことが望ましい。また、副走査断面において全て正
レンズとすることで、それぞれのレンズの倍率mzが大
きくならないようにしている。
【0022】この光学系の具体的な数値構成は、表1に
示した通りである。表中の記号はfCLはシリンドリカ
ルレンズの焦点距離、Lはポリゴンミラー面と線像との
距離、Ay,Azはコリメーターレンズを射出した際の
アパーチャーの大きさで、Ayは副走査面内の値、Az
は主走査面内の値を示している。
【0023】また、fはfθレンズの主走査面内での焦
点距離、Fyはfθレンズを射出した光束の主走査面内
でのFナンバー、Fzは同じく副走査面内でのFナンバ
ー、Lepはポリゴンミラーからfθレンズの第1面ま
での距離、ry,rzは主走査面、副走査面内での曲率
半径、dはレンズ厚若しくは空気間隔、nはレンズの7
80nmにおける屈折率である。
【0024】なお、表の説明において、非球面の曲率半
径欄の数値は非球面頂点の曲率半径とする。非球面は、
光軸からの高さhの非球面上の非球面頂点の接平面から
の距離をX、非球面頂点の曲率(1/r)をC、円錐係
数をK,4次〜10次の非球面係数をA4〜A10とし
て、以下の数1で与えられ、各面の円錐係数、非球面係
数は表1下段に示す通りである。図2は表1の構成によ
るfθレンズの諸収差を示したものである。球面収差
は、像点ズレによる影響をも含めて表されている。
【0025】
【数1】
【0026】
【表1】
【0027】次に、表2に上記の各レンズ、及びfθレ
ンズ全体の焦点距離、倍率、温度変化による焦点変動を
示す。表中、fy,fzは主走査面、副走査面内での焦
点距離、my,mzは主走査面、副走査面内での倍率を
示している。
【0028】また、Ky,Kzは主走査面、副走査面内
でのレンズが置かれたレンズ系中の位置に起因する変換
係数を表し、T・Ky,T・Kzは主走査面、副走査面
内での単位温度変化あたりの屈折率変化と線膨張とによ
る焦点変動を表す。
【0029】
【表2】
【0030】
【実施例2】図3は、この発明の実施例2を示したもの
である。実施例2〜では、fθレンズが2枚の結像レ
ンズ5(第1、第2レンズ)と、単一の補正レンズ6
(第3レンズ)とから構成されている。特に、実施例2
〜5、及び7については、結像レンズを2枚の正レンズ
で構成しているため、各レンズの中心部と周辺部との肉
厚差を小さくすることができる。これは整形プラスチッ
クレンズ特有のヒケ・歪みに対して有利な形状となる。
具体的な数値構成は表3、表4、この構成による諸収差
は図4に示されている。
【0031】
【表3】
【0032】
【表4】
【0033】
【実施例3】図5は、この発明の実施例3を示したもの
である。具体的な数値構成は表5、表6、この構成によ
る諸収差は図6に示されている。
【0034】前述したように、各実施例の光学系はfθ
レンズのパワーを像面側に配分している。しかしなが
ら、単にfθレンズのパワーを像面側に配分するのみで
は、集光点からfθレンズの主点までの距離が離れるた
め、fθレンズに取り込まれる光束の開き角度が小さく
なり、光源から取り込まれるエネルギーが減少する。
【0035】そこで、以下の実施例では、シリンドリカ
ルレンズ3のパワーを弱くして線像をポリゴンミラーよ
りも像面側に形成し、fθレンズに対する光束の取り込
み角度を大きくすると共に、実施例1,2よりも焦点距
離が長いシリンドリカルレンズを用いてスリット巾Az
を大きく設定している。これにより、温度変化による焦
点変動を所定の許容範囲に収めつつ、エネルギーの損失
を抑えることができる。
【0036】また、スリット巾Azの値が小さいと、回
折による波面の乱れが生じ、結像性能を劣化させる。特
に、実施例3は、エネルギーの損失、回折による波面の
乱れを抑えるため、シリンドリカルレンズのパワーを弱
くすると共に、補正レンズを他の実施例に比べて結像レ
ンズ側に配置することにより副走査面内の倍率を負に大
きくし、Azを大きくしている。その倍率は、以下の条
件を満たすことが望ましい。 fCL×(|mz|/Fz)>0.7
【0037】
【表5】
【0038】
【表6】
【0039】
【実施例4】図7は、この発明の実施例4を示したもの
である。具体的な数値構成は表7、表8、この構成によ
る諸収差は図8に示されている。
【0040】
【表7】
【0041】
【表8】
【0042】
【実施例5】図9は、この発明の実施例5を示したもの
である。具体的な数値構成は表9、表10、この構成に
よる諸収差は図10に示されている。
【0043】
【表9】
【0044】
【表10】
【0045】
【実施例6】図11は、この発明の実施例6を示したも
のである。具体的な数値構成は表11、表12、この構
成による諸収差は図12に示されている。
【0046】
【表11】
【0047】
【表12】
【0048】
【実施例7】図13は、この発明の実施例7を示したも
のである。具体的な数値構成は表13、表14、この構
成による諸収差は図14に示されている。
【0049】この実施例は、他の実施例に比べて焦点距
離が短い。そこで、結像レンズを2枚で構成してパワー
を分配し、曲率半径が小さくならないよう設計してい
る。焦点距離が短い場合、結像レンズを1枚で構成する
と屈折率が低いプラスチックでは曲率半径が小さくな
り、レンズの中心部と周辺部との肉厚さが大きくなって
レンズ成形時にヒケ・歪みが生じやすくなる。
【0050】
【表13】
【0051】
【表14】
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1乃至請求
項4のアナモフィック光学系によれば、プラスチックレ
ンズを使用しながら、温度変化による焦点移動を小さく
することが出来、温度変化が結像性能に影響を与えるこ
とを避けることが出来る。更に、請求項4のアナモフィ
ック光学系によれば、上記の効果に加えて、エネルギー
の損失、回折による波面の乱れを抑えることが出来、結
像性能の劣化を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1の光学系の平面図である。
【図2】 実施例1のfθレンズの収差図である。
【図3】 実施例2の光学系の平面図である。
【図4】 実施例2のfθレンズの収差図である。
【図5】 実施例3の光学系の平面図である。
【図6】 実施例3のfθレンズの収差図である。
【図7】 実施例4の光学系の平面図である。
【図8】 実施例4のfθレンズの収差図である。
【図9】 実施例5の光学系の平面図である。
【図10】 実施例5のfθレンズの収差図である。
【図11】 実施例6の光学系の平面図である。
【図12】 実施例6のfθレンズの収差図である。
【図13】 実施例7の光学系の平面図である。
【図14】 実施例7のfθレンズの収差図である。
【符号の説明】
1…半導体レーザー 2…コリメーターレンズ 3…シリンドリカルレンズ 4…ポリゴンミラー 5…結像レンズ 6…補正レンズ

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】単一、あるいは複数のプラスチックレンズ
    から構成される結像光学系と、 前記結像光学系より像面側に設けられ、単一のプラスチ
    ックレンズから構成される補正レンズとを備える走査光
    学系を含み、 該走査光学系は、温度変化による焦点変動が光学系の焦
    点深度内に収められ、以下の条件を満足することを特徴
    とするアナモフィック光学系。 |mz|<1.2 但し、mzは前記走査光学系の副走査面内での倍率。
  2. 【請求項2】前記走査光学系は、fθ特性を有すること
    を特徴とする請求項1に記載のアナモフィック光学系。
  3. 【請求項3】請求項1記載のアナモフィック光学系にお
    いて、さらに、 光源から発する光束を平行光束とするコリメーターレン
    ズと、 該平行光束を副走査方向に収束させて線像を形成する線
    像形成光学系と、 該線像形成光学系を透過した光束を主走査方向に偏向す
    る走査偏向器とを備え、 前記線像形成光学系は、前記線像を前記走査偏向器より
    も像面側に形成することを特徴とすることを特徴とする
    アナモフィック光学系。
  4. 【請求項4】請求項3記載のアナモフィック光学系にお
    いて、以下の条件を満足することを特徴とするアナモフ
    ィック光学系。 fCL×(|mz|/Fz)>0.7mm ただし、fCLは線像形成光学系の焦点距離、mzは走
    査光学系の副走査面内での倍率、Fzは走査光学系の副
    走査面内でのFナンバー。」
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0682688A (ja) * 1992-09-01 1994-03-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 異方屈折力単レンズ
US5453870A (en) * 1993-02-04 1995-09-26 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Optical scanning system
US5442477A (en) * 1993-02-04 1995-08-15 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Optical scanning system
JP2945247B2 (ja) * 1993-08-11 1999-09-06 株式会社三協精機製作所 光走査光学系
JP3351046B2 (ja) * 1993-09-22 2002-11-25 ソニー株式会社 レーザ製版装置
US5541760A (en) * 1993-12-22 1996-07-30 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Scanning optical system
JP3303558B2 (ja) * 1994-09-06 2002-07-22 キヤノン株式会社 走査光学装置
US8213068B1 (en) * 1994-09-06 2012-07-03 Canon Kabushiki Kaisha Scanning optical apparatus
JP3546898B2 (ja) * 1995-01-30 2004-07-28 セイコーエプソン株式会社 光走査装置
JP3222754B2 (ja) * 1996-02-05 2001-10-29 旭光学工業株式会社 反射型走査光学系
US5877883A (en) * 1996-02-22 1999-03-02 Seiko Epson Corporation Optical scanner
JP3604852B2 (ja) * 1996-12-28 2004-12-22 キヤノン株式会社 走査光学装置及びレーザービームプリンタ
JP3421584B2 (ja) * 1998-07-24 2003-06-30 ペンタックス株式会社 走査光学系
JP4652506B2 (ja) * 1999-11-16 2011-03-16 キヤノン株式会社 走査光学装置
US7327507B2 (en) 2005-08-02 2008-02-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Optical beam scanning device having two sets of fθ mirrors where the mirror base and mirror face have differing coefficients of linear expansion
CN114719222B (zh) * 2021-01-06 2024-06-25 华域视觉科技(上海)有限公司 透镜组件、车灯模组、车灯和车辆

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE6604285U (de) * 1966-04-08 1970-01-15 Asahi Optical Co Ltd Ultraachromatisches linsensystem
JPS58120201A (ja) * 1982-01-11 1983-07-18 Hitachi Ltd プラスチツクレンズを用いたズ−ムレンズ
JPS5934512A (ja) * 1982-08-23 1984-02-24 Canon Inc 温度補償効果を有する走査光学系
JPS6049311A (ja) * 1983-08-29 1985-03-18 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影レンズ
JPS61275808A (ja) * 1985-05-31 1986-12-05 Asahi Optical Co Ltd 光デイスク用レンズ
JPH0627904B2 (ja) * 1986-02-06 1994-04-13 旭光学工業株式会社 レーザービームの走査光学系
JPH0727123B2 (ja) * 1986-08-21 1995-03-29 ミノルタ株式会社 面倒れ補正走査光学系
JPH03109514A (ja) * 1988-07-30 1991-05-09 Asahi Optical Co Ltd 複写用レンズ
US4962984A (en) * 1988-09-08 1990-10-16 Industrial Technology Research Institute Constant-speed scanning lens system
JP2787475B2 (ja) * 1989-07-12 1998-08-20 旭光学工業株式会社 複写用レンズ
JP2928552B2 (ja) * 1989-08-31 1999-08-03 株式会社東芝 走査式光学装置
US5140146A (en) * 1989-11-20 1992-08-18 Symbol Technologies, Inc. Bar code symbol reader with modulation enhancement

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