JPH10333069A - 走査光学系 - Google Patents

走査光学系

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Publication number
JPH10333069A
JPH10333069A JP15784297A JP15784297A JPH10333069A JP H10333069 A JPH10333069 A JP H10333069A JP 15784297 A JP15784297 A JP 15784297A JP 15784297 A JP15784297 A JP 15784297A JP H10333069 A JPH10333069 A JP H10333069A
Authority
JP
Japan
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lens
scanning direction
scanning
sub
power
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP15784297A
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English (en)
Inventor
Junji Kamikubo
淳二 上窪
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Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の走査光学系は、複数のビームを同時に
走査させるマルチビーム走査光学系に適用した場合に、
走査線の相対的な間隔が走査位置によって変化し、描画
性能が劣化するという問題を有する。 【解決手段】 多点発光半導体レーザー10から発した
発散光をコリメートレンズ11により平行光束とし、副
走査方向に正のパワーを有するシリンドリカルレンズ1
2を介して偏向器であるポリゴンミラー14の反射面1
4aに入射させる。ポリゴンミラー14で反射、偏向さ
れたレーザー光は、走査レンズ20および補正用レンズ
30を介して収束され、走査対象面40上に主走査方向
に走査する複数のスポットを形成する。アナモフィック
面として構成された第1レンズ21のレンズ面21aと
補正用レンズ30のレンズ面30aとの副走査方向のパ
ワー配分は、共に副走査方向の像面湾曲を補正する効果
を有しており、したがって、この例ではレンズ面21
a,30aに像面湾曲補正効果が分配されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザープリン
タ等の光走査ユニットに用いられる走査光学系に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来から、ポリゴンミラーにより反射さ
れた光束を走査対象面上に収束させるレンズ系として、
比較的ポリゴンミラーに近い側に配置された2枚のレン
ズから構成される走査用レンズと、それより像面側に近
接して配置された長尺の補正用レンズとを組み合わせて
用いた走査光学系が知られている。
【0003】走査用レンズは、主走査方向、副走査方向
に正のパワーを持ち、補正用レンズは、主として副走査
方向にのみ正のパワーを有する。補正用レンズの副走査
方向の実効的な屈折力は、中心となる光軸上から周辺部
に向けて漸減するように構成されており、この実効的な
屈折力の勾配により走査用レンズにより発生する副走査
方向の像面湾曲を補正することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の走査光学系は、複数のビームを同時に走査させ
るマルチビーム走査光学系に適用した場合に、走査線の
相対的な間隔が走査位置によって変化し、描画性能が劣
化するという問題を有する。上述のように、補正用レン
ズは副走査方向のパワーの勾配を有しているため、光軸
から副走査方向に離れた位置を通過する走査線について
は、主走査方向の周辺部に向かうにしたがい、スポット
位置が光軸上を通る走査線から副走査方向に離れ、走査
線が湾曲する。また、湾曲量は、光軸からの副走査方向
の距離が大きくなるにしたがって大きくなる。したがっ
て、副走査方向にある間隔をもって走査される2本の走
査線は、それらの副走査方向の相対的な間隔が主走査方
向の走査位置により変化することとなる。
【0005】この発明は、上述した従来技術の課題に鑑
みてなされたものであり、副走査方向の像面湾曲の発生
を抑えつつ、マルチビーム走査光学系に適用した場合に
も走査線の間隔の変化を小さく抑えることができる走査
光学系を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学系は、上記の目的を達成させるため、光源から発した
光束を偏向器により偏向、走査させ、主走査方向に正の
パワーを有する走査用レンズと、主として副走査方向に
正のパワーを持つ補正用レンズとを介して走査対象面上
に結像させる走査光学系において、走査用レンズは少な
くとも一面に副走査方向のパワーが主走査方向のパワー
より小さいアナモフィック面を有し、補正用レンズは、
少なくとも一面に副走査方向のパワーが主走査方向のパ
ワーより大きく、副走査方向のパワーが中心から周辺に
向けて漸減するアナモフィック面を有し、副走査方向の
像面湾曲補正効果が走査用レンズと補正用レンズとに分
配されていることを特徴とする。
【0007】光源としては、走査対象面上を副走査方向
に離れて同時に走査する複数のスポットを形成するよう
複数の発光部を有する多点発光半導体レーザー等の素子
を用いることができる。走査用レンズは、望ましくは第
1、第2レンズの2枚の単レンズから構成される。一
方、補正用レンズは、望ましくは1枚の単レンズから構
成される。
【0008】走査用レンズのアナモフィック面は、いず
れのレンズ面に設けてもよいが、走査用レンズを構成す
るレンズの補正レンズ側の一つのレンズ面をアナモフィ
ック面とする場合には、その光軸上での主走査方向のパ
ワーφmoと副走査方向のパワーφaoとが以下の条件、 −1.0<φao/φmo<0.9 …(1) を満たすことが望ましい。
【0009】走査用レンズが偏向器側から並んだ第1、
第2レンズから構成される場合、アナモフィック面の設
ける位置により満たすべきパワーバランスが異なる。第
1レンズの補正レンズ側のレンズ面がアナモフィック面
である場合には、その光軸上での主走査方向のパワーφ
m1oと副走査方向のパワーφa1oとが以下の条件、 −1.0<φa1o/φm1o<1.0 …(2) を満たすことが望ましく、第2レンズの補正レンズ側の
レンズ面がアナモフィック面である場合には、その光軸
上での主走査方向のパワーφm2oと副走査方向のパワー
φa2oとが以下の条件、 −2.0<φa2o/φm2o<0.9 …(3) を満たすことが望ましい。
【0010】第1レンズの偏向器側のレンズ面がアナモ
フィック面である場合には、その光軸上での主走査方向
のパワーφm1iと副走査方向のパワーφa1iとが以下の条
件、 −0.1<φm1i/φa1i<0.9 …(4) を満たすことが望ましく、第2レンズの偏向器側のレン
ズ面がアナモフィック面である場合には、その光軸上で
の主走査方向のパワーφm2iと副走査方向のパワーφa2i
とが以下の条件、 0.5<φm2i/φa2i<1.5 …(5) を満たすことが望ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる走査光学
系の実施形態を説明する。実施形態の装置は、レーザー
プリンターに使用されるレーザー走査ユニットであり、
入力される描画信号にしたがってON/OFF変調された複数
のレーザー光を感光体ドラム上で同時に走査させ、静電
潜像を形成するマルチビーム走査光学系である。
【0012】実施形態にかかる走査光学系は、例えば、
主走査方向の平面図である図1および副走査方向の側面
図である図2に示されるように、光源である多点発光半
導体レーザー10から発した発散光をコリメートレンズ
11により平行光束とし、副走査方向に正のパワーを有
するシリンドリカルレンズ12を介して偏向器であるポ
リゴンミラー14の反射面14aに入射させる。ポリゴ
ンミラー14で反射、偏向されたレーザー光は、走査レ
ンズ20および補正用レンズ30を介して収束され、走
査対象面40上に主走査方向に走査する複数のスポット
を形成する。
【0013】光源としては、独立して変調される複数の
半導体レーザーを用いてもよい。シリンドリカルレンズ
12は、コリメートレンズ11側のレンズ面が副走査方
向にのみ正のパワーを持つシリンダー面、ポリゴンミラ
ー14側のレンズ面が平面として構成されている。シリ
ンドリカルレンズ12のパワーは、シリンドリカルレン
ズ12により形成される線像がポリゴンミラー14の反
射面14aの近傍に位置するよう定められている。
【0014】ポリゴンミラー14で反射された光束は、
主走査方向にはほぼ平行光として、副走査方向には発散
光として走査用レンズ20に入射する。走査用レンズ2
0は、ポリゴンミラー14側から第1レンズ21と第2
レンズ22とが配列して構成されている。走査用レンズ
20は、全体として主走査方向に正のパワーを有してお
り、走査用レンズ20を透過した光束は主走査方向には
収束光となる。一方、走査レンズ20は、この例では副
走査方向に負のパワーを有しており、透過光は副走査方
向では発散光となる。
【0015】走査レンズ20は、少なくとも一面に副走
査方向のパワーが主走査方向のパワーより小さいアナモ
フィック面を有する。アナモフィック面は、第1レンズ
21のポリゴンミラー14側のレンズ面21a、補正用
レンズ30側のレンズ面21b、第2レンズ22のポリ
ゴンミラー14側のレンズ面22a、補正用レンズ30
側のレンズ面22bのいずれに設定してもよい。この例
では、第1レンズ21のレンズ面21aがアナモフィッ
ク面として構成されている。
【0016】補正用レンズ30は、走査対象面40側に
近接して配置された長尺のレンズであり、その走査用レ
ンズ20側のレンズ面30aは、副走査方向の実効的な
屈折力が中心から周辺に向けて漸減するアナモフィック
面であり、副走査方向に強い正のパワーを有する。補正
用レンズ30を透過した光束は、主走査、副走査の両方
向に関して収束光となり、走査対象面40上に複数のビ
ームスポットを形成する。
【0017】アナモフィック面として構成された第1レ
ンズ21のレンズ面21aと補正用レンズ30のレンズ
面30aとの副走査方向のパワー配分は、共に副走査方
向の像面湾曲を補正する効果を有しており、したがっ
て、この例ではレンズ面21a,30aに像面湾曲補正
効果が分配されている。これらのアナモフィック面は、
主走査方向の非円弧曲線を光軸と直交する主走査方向の
回転軸を中心に回転させた軌跡として定義される変形ト
ーリック面である。
【0018】副走査方向の像面湾曲補正効果を補正用レ
ンズ30のみでなく走査用レンズ20にも負担させるこ
とにより、補正用レンズ30の副走査方向の実効的な屈
折力の勾配を従来より緩めることができ、像面湾曲の発
生量を従来と同様に抑えつつ、軸外の走査線の湾曲を抑
えることができる。したがって、走査対象面40上に形
成される複数の走査線の間隔も偏向角度によらず、すな
わち、走査位置によらず、ほぼ一定に保つことができ
る。
【0019】次に、走査用レンズ20のアナモフィック
面の位置と、その位置にアナモフィック面を配置した際
にアナモフィック面が満たすべき主走査方向、副走査方
向のパワーバランスとの関係について説明する。走査用
レンズ20を構成するレンズの補正レンズ30側の一つ
のレンズ面をアナモフィック面とする場合には、その光
軸上での主走査方向のパワーφmoと副走査方向のパワー
φaoとが以下の条件、 −1.0<φao/φmo<0.9 …(1) を満たすことが望ましい。なお、レンズ面の主走査方向
のパワーφmは、レンズ面の軸上の主走査方向の曲率半
径をry、レンズ面より入射側の媒質の屈折率をni、射
出側の媒質の屈折率をnoとして、φm=(no−ni)/r
y により求められる。同様に、副走査方向のパワーφa
は、レンズ面の軸上の副走査方向の曲率半径をrzとし
て、φa=(no−ni)/rz により求められる。ただ
し、パワーバランスは、φa/φm=ry/rzにより求め
られる。
【0020】第1レンズ21の補正レンズ30側のレン
ズ面21bがアナモフィック面である場合には、その光
軸上での主走査方向のパワーφm1oと副走査方向のパワ
ーφa1oとが以下の条件、 −1.0<φa1o/φm1o<1.0 …(2) を満たすことが望ましく、第2レンズ22の補正レンズ
30側のレンズ面22bがアナモフィック面である場合
には、その光軸上での主走査方向のパワーφm2oと副走
査方向のパワーφa2oとが以下の条件、 −2.0<φa2o/φm2o<0.9 …(3) を満たすことが望ましい。
【0021】パワーバランスが条件(2)、(3)の下限以
下となる場合には、波面収差が大きくなりスポットを所
定の径に収束させることができなくなる。また、これら
の条件の上限を越える場合には、軸外の走査線の湾曲量
が大きくなり、描画精度が低下する。前記の条件(1)
は、条件(2)、(3)の重複範囲を規定しており、これを
満たす場合にはいずれの射出側のレンズ面をアナモフィ
ック面とした場合にも所望の効果を得ることができる。
【0022】第1レンズ21のポリゴンミラー14側の
レンズ面21aがアナモフィック面である場合には、そ
の光軸上での主走査方向のパワーφm1iと副走査方向の
パワーφa1iとが以下の条件、 −0.1<φm1i/φa1i<0.9 …(4) を満たすことが望ましく、第2レンズ22のポリゴンミ
ラー14側のレンズ面22aがアナモフィック面である
場合には、その光軸上での主走査方向のパワーφm2iと
副走査方向のパワーφa2iとが以下の条件、 φm2i/φa2i<0.5, 1.5<φm2i/φa2i …(5) を満たすことが望ましい。パワーバランスが条件(4)の
下限以下となる場合には、波面収差が大きくなりスポッ
トを所定の径に収束させることができなくなる。また、
条件(4)の上限を越える場合、あるいは条件(5)を満た
さない場合には、軸外の走査線の湾曲量が大きくなり、
描画精度が低下する。
【0023】
【実施例】次に、この発明の走査光学系の具体的な実施
例を7例説明する。
【0024】
【実施例1】図1は、実施例1にかかる走査光学系の主
走査方向の説明図、図2はその副走査方向の説明図であ
る。表1は、実施例1にかかる走査光学系のシリンドリ
カルレンズ12より走査対象面40側の構成を示す。表
中の記号ryは主走査方向の曲率半径、rzは副走査方向
の曲率半径(回転対称面の場合には省略)、dは面間の光
軸上の距離(面番号9のdは補正用レンズ30から走査
対象面40までの距離)、nは波長780nmでの屈折率であ
る。表中、第1、第2面がシリンドリカルレンズ12、
第3面がポリゴンミラー14のミラー面、第4、第5面
が第1レンズ21、第6、第7面が第2レンズ22、第
8、第9面が補正用レンズ30を示す。
【0025】実施例1では、第1レンズ21のレンズ面
21a(第4面)と補正用レンズ30の走査レンズ20側
のレンズ面30a(第8面)とが、いずれも主走査面内の
非円弧曲線を光軸と垂直な主走査方向の回転軸を中心に
回転させた軌跡として定義される変形トーリック面とし
て形成されている。また、第1レンズ21のレンズ面2
1b(第5面)は回転対称な非球面、第2レンズ22のレ
ンズ面22a(第6面)は平面、第2レンズ22のレンズ
面22b(第7面)と補正用レンズ30のレンズ面30b
(第9面)は球面である。
【0026】非球面は、光軸からの高さがYとなる非球
面上の座標点の非球面の光軸上での接平面からの距離
(サグ量)をX、非球面の光軸上での曲率(1/r)をC、円
錐係数をK、4次、6次、8次の非球面係数をA4,A
6,A8として以下の式で表される。
【0027】
【数1】X=CY2/(1+√(1-(1+K)C22))+A4Y4
+A6Y6+A8Y8
【0028】また、変形トーリック面を規定する主走査
方向の非円弧曲線は、光軸からの主走査方向の高さがY
となる非円弧曲線上の座標点の非円弧曲線の光軸上での
接線からの距離(サグ量)をX、非円弧曲線の光軸上での
曲率(1/r)をC、円錐係数をK、4次、6次、8次の非
円弧係数をA4,A6,A8とすると、上記の非球面の式
と同一の式で表される。なお、表1における非球面、変
形トーリック面の曲率半径は、それぞれの光学素子の軸
上の曲率半径であり、円錐係数、非球面係数(非円弧係
数)は表2に示される。表2における表記Eは、10を基
数、Eの右の数字を指数とする累乗を表しており、例え
ば「-1.050E-6」は「-1.050×10-6」を意味する。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】第1レンズ21のレンズ面21aは、上記
の式により定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸と
の交点からポリゴンミラー14側の方向に39.800mm離れ
た位置で光軸に垂直に交差する主走査方向に対して平行
な回転軸を中心に回転させた軌跡として規定される。一
方、補正用レンズ30のレンズ面30aは、上記の式に
より定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸との交点
から走査対象面40側の方向に30.350mm離れた位置で光
軸と垂直に交差する主走査方向に対して平行な回転軸を
中心に回転させた軌跡として規定される。
【0032】図3は、実施例1の構成による走査光学系
の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像面
湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。各グラフの縦
軸は像高(走査対象面40での光軸からの主走査方向の
距離)、横軸は各収差の発生量であり、単位は全てmm
である。図3(C)に示される走査線の湾曲は、像高0の
位置で光軸を挟んで±25μmの点を走査する2つのビ
ームスポットの走査位置として表している。実施例1の
構成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつ
つ、走査線の湾曲量を1.1μmに抑えることができ
る。
【0033】
【実施例2】図4は、実施例2にかかる走査光学系の主
走査方向の説明図、図5はその副走査方向の説明図であ
る。表3は、実施例2にかかる走査光学系のシリンドリ
カルレンズ12より走査対象面40側の構成を示す。実
施例2では、第1レンズ21のレンズ面21b(第5面)
と補正用レンズ30の走査レンズ20側のレンズ面30
a(第8面)とが変形トーリック面として形成されてい
る。また、第1レンズ21のレンズ面21a(第4面)は
回転対称な非球面、第2レンズ22のレンズ面22a
(第6面)は平面、第2レンズ22のレンズ面22b(第
7面)と補正用レンズ30のレンズ面30b(第9面)は
球面である。非球面、変形トーリック面の円錐係数、非
球面係数(非円弧係数)は表4に示される。
【0034】
【表3】
【0035】
【表4】
【0036】第1レンズ21のレンズ面21bは、上記
の係数により定義される非円弧曲線を、副走査方向に平
行移動させた軌跡として規定される。一方、補正用レン
ズ30のレンズ面30aは、上記の式により定義される
非円弧曲線を、この曲線と光軸との交点から走査対象面
40側の方向に30.600mm離れた位置で光軸と垂直に交差
する主走査方向に対して平行な回転軸を中心に回転させ
た軌跡として規定される。
【0037】図6は、実施例2の構成による走査光学系
の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像面
湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例2の構
成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつつ、
走査線の湾曲量を0.6μmに抑えることができる。
【0038】
【実施例3】図7は、実施例3にかかる走査光学系の主
走査方向の説明図、図8はその副走査方向の説明図であ
る。表5は、実施例3にかかる走査光学系のシリンドリ
カルレンズ12より走査対象面40側の構成を示す。実
施例3では、第2レンズ22のレンズ面22b(第7面)
がシリンドリカル面、補正用レンズ30の走査レンズ2
0側のレンズ面30a(第8面)が変形トーリック面とし
て形成されている。また、第1レンズ21のレンズ面2
1a、21b(第4面、第5面)は回転対称な非球面、第
2レンズ22のレンズ面22a(第6面)は平面、補正用
レンズ30のレンズ面30b(第9面)は球面である。非
球面、変形トーリック面の円錐係数、非球面係数(非円
弧係数)は表6に示される。
【0039】
【表5】
【0040】
【表6】
【0041】補正用レンズ30のレンズ面30aは、上
記の係数により定義される非円弧曲線を、この曲線と光
軸との交点から走査対象面40側の方向に28.500mm離れ
た位置で光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平行
な回転軸を中心に回転させた軌跡として規定される。
【0042】図9は、実施例3の構成による走査光学系
の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像面
湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例3の構
成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつつ、
走査線の湾曲量を0.8μmに抑えることができる。
【0043】
【実施例4】図10は、実施例4にかかる走査光学系の
主走査方向の説明図、図11はその副走査方向の説明図
である。表7は、実施例4にかかる走査光学系のシリン
ドリカルレンズ12より走査対象面40側の構成を示
す。実施例4では、第2レンズ22のレンズ面22a
(第6面)がシリンドリカル面、補正用レンズ30の走査
レンズ20側のレンズ面30a(第8面)が変形トーリッ
ク面として形成されている。また、第1レンズ21のレ
ンズ面21a、21b(第4面、第5面)は回転対称な非
球面、第2レンズ22のレンズ面22b(第7面)と補正
用レンズ30のレンズ面30b(第9面)は球面である。
非球面、変形トーリック面の円錐係数、非球面係数(非
円弧係数)は表8に示される。
【0044】
【表7】
【0045】
【表8】
【0046】補正用レンズ30のレンズ面30aは、上
記の係数により定義される非円弧曲線を、この曲線と光
軸との交点から走査対象面40側の方向に31.150mm離れ
た位置で光軸と垂直に交差する主走査方向の回転軸を中
心に回転させた軌跡として規定される。
【0047】図12は、実施例4の構成による走査光学
系の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像
面湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例4の
構成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつ
つ、走査線の湾曲量を0.6μmに抑えることができ
る。
【0048】
【実施例5】図13は、実施例5にかかる走査光学系の
主走査方向の説明図、図14はその副走査方向の説明図
である。表9は、実施例5にかかる走査光学系のシリン
ドリカルレンズ12より走査対象面40側の構成を示
す。実施例5では、第2レンズ22のレンズ面22a
(第6面)がほぼシリンドリカル面に近いトーリック面、
補正用レンズ30のレンズ面30a(第8面)が変形トー
リック面として形成されている。また、第1レンズ21
のレンズ面21a、21b(第4面、第5面)は回転対称
な非球面、第2レンズ22のレンズ面22b(第7面)と
補正用レンズ30のレンズ面30b(第9面)は球面であ
る。非球面、変形トーリック面の円錐係数、非球面係数
(非円弧係数)は表10に示される。
【0049】
【表9】
【0050】
【表10】
【0051】補正用レンズ30のレンズ面30aは、上
記の係数により定義される非円弧曲線を、この曲線と光
軸との交点から走査対象面40側の方向に31.150mm離れ
た位置で光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平行
な回転軸を中心に回転させた軌跡として規定される。
【0052】図15は、実施例5の構成による走査光学
系の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像
面湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例2の
構成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつ
つ、走査線の湾曲量を0.9μmに抑えることができ
る。
【0053】
【実施例6】図16は、実施例6にかかる走査光学系の
主走査方向の説明図、図17はその副走査方向の説明図
である。表11は、実施例6にかかる走査光学系のシリ
ンドリカルレンズ12より走査対象面40側の構成を示
す。実施例6では、第1レンズ21のレンズ面21a
(第4面)と補正用レンズ30の走査レンズ20側のレン
ズ面30a(第8面)とが変形トーリック面として形成さ
れている。また、第1レンズ21のレンズ面21b(第
5面)は回転対称な非球面、第2レンズ22のレンズ面
22a(第6面)は平面、第2レンズ22のレンズ面22
b(第7面)と補正用レンズ30のレンズ面30b(第9
面)は球面である。非球面、変形トーリック面の円錐係
数、非球面係数(非円弧係数)は表12に示される。
【0054】
【表11】
【0055】
【表12】
【0056】第1レンズ21のレンズ面21aは、上記
の係数により定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸
との交点からポリゴンミラー14側の方向に80.000mm離
れた位置で光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平
行な回転軸を中心に回転させた軌跡として規定される。
一方、補正用レンズ30のレンズ面30aは、上記の式
により定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸との交
点から走査対象面40側の方向に30.350mm離れた位置で
光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平行な回転軸
を中心に回転させた軌跡として規定される。
【0057】図18は、実施例6の構成による走査光学
系の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像
面湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例6の
構成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつ
つ、走査線の湾曲量を1.5μmに抑えることができ
る。
【0058】
【実施例7】図19は、実施例7にかかる走査光学系の
主走査方向の説明図、図20はその副走査方向の説明図
である。表13は、実施例7にかかる走査光学系のシリ
ンドリカルレンズ12より走査対象面40側の構成を示
す。実施例7では、第1レンズ21のレンズ面21b
(第5面)と補正用レンズ30の走査レンズ20側のレン
ズ面30a(第8面)とが変形トーリック面として形成さ
れている。また、第1レンズ21のレンズ面21a(第
4面)は回転対称な非球面、第2レンズ22のレンズ面
22a(第6面)は平面、第2レンズ22のレンズ面22
b(第7面)と補正用レンズ30のレンズ面30b(第9
面)は球面である。非球面、変形トーリック面の円錐係
数、非球面係数(非円弧係数)は表14に示される。
【0059】
【表13】
【0060】
【表14】
【0061】第1レンズ21のレンズ面21bは、上記
の係数により定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸
との交点からポリゴンミラー14側の方向に95.940mm離
れた位置で光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平
行な回転軸を中心に回転させた軌跡として規定される。
一方、補正用レンズ30のレンズ面30aは、上記の式
により定義される非円弧曲線を、この曲線と光軸との交
点から走査対象面40側の方向に30.600mm離れた位置で
光軸と垂直に交差する主走査方向に対して平行な回転軸
を中心に回転させた軌跡として規定される。
【0062】図21は、実施例7の構成による走査光学
系の(A)直線性誤差、(B)主走査方向、副走査方向の像
面湾曲、(C)走査線の湾曲をそれぞれ示す。実施例7の
構成によれば、直線性誤差や像面湾曲を小さく抑えつ
つ、走査線の湾曲量を0.7μmに抑えることができ
る。
【0063】以下の表15は、走査用レンズに導入され
たアナモフィック面の光軸上での主走査方向と副走査方
向とのパワーとそのバランスとを示す。第1レンズ21
のレンズ面21b(第5面)がアナモフィック面である実
施例2、7は、−1.0<φa1o/φm1o<1.0 …
(2)を満たしており、第2レンズ22のレンズ面22b
(第7面)がアナモフィック面である実施例3は、 −2.0<φa2o/φm2o<0.9 …(3) を満たしている。
【0064】第1レンズ21のレンズ面21a(第4面)
がアナモフィック面である実施例1、6は、 −0.1<φm1i/φa1i<0.9 …(4) を満たしており、第2レンズ22のレンズ面22a(第
6面)がアナモフィック面である実施例4、5は、 φm2i/φa2i<0.5, 1.5<φm2i/φa2i …(5) を満たしている。
【0065】
【表15】 実施例 アナモ面 φm φa φm/φa φa/φm 1 第4面 -3.998E-3 -1.222E-2 0.327 3.055 2 第5面 5.145E-3 0.000 ∞ 0.000 3 第7面 3.593E-3 0.000 ∞ 0.000 4 第6面 0.000 -2.553E-3 0.000 ∞ 5 第6面 2.485E-3 7.857E-4 3.163 0.316 6 第4面 -3.752E-3 -6.077E-3 0.617 1.620 7 第5面 5.210E-3 5.067E-3 1.028 0.973
【0066】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、副走査方向の像面湾曲補正効果を走査用レンズと補
正用レンズとに分配することにより、像面湾曲の発生を
抑えつつ、軸外の走査線の湾曲を抑えることができる。
したがって、マルチビーム走査光学系に適用した際に走
査線の間隔の変化を低く抑え、描画精度を向上させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例1にかかる走査光学系の主
走査方向の平面図である。
【図2】 実施例1の走査光学系の副走査方向の側面図
である。
【図3】 実施例1の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図4】 この発明の実施例2にかかる走査光学系の主
走査方向の平面図である。
【図5】 実施例2の走査光学系の副走査方向の側面図
である。
【図6】 実施例2の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図7】 この発明の実施例3にかかる走査光学系の主
走査方向の平面図である。
【図8】 実施例3の走査光学系の副走査方向の側面図
である。
【図9】 実施例3の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図10】 この発明の実施例4にかかる走査光学系の
主走査方向の平面図である。
【図11】 実施例4の走査光学系の副走査方向の側面
図である。
【図12】 実施例4の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図13】 この発明の実施例5にかかる走査光学系の
主走査方向の平面図である。
【図14】 実施例5の走査光学系の副走査方向の側面
図である。
【図15】 実施例5の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図16】 この発明の実施例6にかかる走査光学系の
主走査方向の平面図である。
【図17】 実施例6の走査光学系の副走査方向の側面
図である。
【図18】 実施例6の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【図19】 この発明の実施例7にかかる走査光学系の
主走査方向の平面図である。
【図20】 実施例7の走査光学系の副走査方向の側面
図である。
【図21】 実施例7の走査光学系の(A)直線性誤差、
(B)主走査方向、副走査方向の像面湾曲、(C)走査線の
湾曲を示すグラフである。
【符号の説明】
10 多点発光半導体レーザー 12 シリンドリカルレンズ 14 ポリゴンミラー 20 走査用レンズ 21 第1レンズ 22 第2レンズ 30 補正用レンズ 40 走査対象面

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から発した光束を偏向器により偏
    向、走査させ、主走査方向に正のパワーを有する走査用
    レンズと、主として副走査方向に正のパワーを持つ補正
    用レンズとを介して走査対象面上に結像させる走査光学
    系において、 前記走査用レンズは、少なくとも一面に副走査方向のパ
    ワーが主走査方向のパワーより小さいアナモフィック面
    を有し、前記補正用レンズは、少なくとも一面に副走査
    方向のパワーが主走査方向のパワーより大きく、副走査
    方向の実効的な屈折力が中心から周辺に向けて漸減する
    アナモフィック面を有し、副走査方向の像面湾曲補正効
    果が前記走査用レンズと前記補正用レンズとに分配され
    ていることを特徴とする走査光学系。
  2. 【請求項2】 前記光源は、前記走査対象面上を副走査
    方向に離れて同時に走査する複数のスポットを形成する
    よう複数の発光部を有することを特徴とする請求項1に
    記載の走査光学系。
  3. 【請求項3】 前記補正用レンズは、1枚の単レンズか
    ら構成されることを特徴とする請求項1に記載の走査光
    学系。
  4. 【請求項4】 前記走査用レンズを構成するレンズの前
    記補正レンズ側の一つのレンズ面がアナモフィック面で
    あり、その光軸上での主走査方向のパワーφmoと副走査
    方向のパワーφaoとが以下の条件、 −1.0<φao/φmo<0.9 …(1) を満たすことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記
    載の走査光学系。
  5. 【請求項5】 前記走査用レンズは、前記偏向器側の第
    1レンズと前記補正用レンズ側の第2レンズとの2枚の
    単レンズから構成されることを特徴とする請求項1〜4
    に記載の走査光学系。
  6. 【請求項6】 前記第1レンズの前記補正レンズ側のレ
    ンズ面がアナモフィック面であり、その光軸上での主走
    査方向のパワーφm1oと副走査方向のパワーφa1oとが以
    下の条件、 −1.0<φa1o/φm1o<1.0 …(2) を満たすことを特徴とする請求項5に記載の走査光学
    系。
  7. 【請求項7】 前記第2レンズの前記補正レンズ側のレ
    ンズ面がアナモフィック面であり、その光軸上での主走
    査方向のパワーφm2oと副走査方向のパワーφa2oとが以
    下の条件、 −2.0<φa2o/φm2o<0.9 …(3) を満たすことを特徴とする請求項5に記載の走査光学
    系。
  8. 【請求項8】 前記第1レンズの前記偏向器側のレンズ
    面がアナモフィック面であり、その光軸上での主走査方
    向のパワーφm1iと副走査方向のパワーφa1iとが以下の
    条件、 −0.1<φm1i/φa1i<0.9 …(4) を満たすことを特徴とする請求項5に記載の走査光学
    系。
  9. 【請求項9】 前記第2レンズの前記偏向器側のレンズ
    面がアナモフィック面であり、その光軸上での主走査方
    向のパワーφm2iと副走査方向のパワーφa2iとが以下の
    条件、 φm2i/φa2i<0.5, 1.5<φm2i/φa2i …(5) を満たすことを特徴とする請求項5に記載の走査光学
    系。
  10. 【請求項10】 前記光源と前記偏向器との間に、前記
    光源から発する光束を主走査方向に延びる線像として結
    像させる副走査方向に正のパワーを有するシリンドリカ
    ルレンズが設けられていることを特徴とする請求項1か
    ら9の何れかに記載の走査光学系。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1158334A2 (en) * 2000-05-25 2001-11-28 Canon Kabushiki Kaisha Optical scanning apparatus and image forming apparatus using the same
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