JP3351046B2 - レーザ製版装置 - Google Patents
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- G02B13/08—Anamorphotic objectives
- G02B13/10—Anamorphotic objectives involving prisms
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- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
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- B41C1/00—Forme preparation
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、グラビア印
刷機用の刷版を作成するレーザ製版装置に関する。
刷機用の刷版を作成するレーザ製版装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からレーザ製版装置では、回転する
版胴に巻き付けられた版シートに対してレーザヘッドを
構成するレーザ光源からレーザビームが主走査方向に照
射されるとともに、レーザ光源が版胴の軸方向（副走査
方向）に移動されることで、版シートの略全面に凹みが
形成された刷版が作成されるようになっている。
版胴に巻き付けられた版シートに対してレーザヘッドを
構成するレーザ光源からレーザビームが主走査方向に照
射されるとともに、レーザ光源が版胴の軸方向（副走査
方向）に移動されることで、版シートの略全面に凹みが
形成された刷版が作成されるようになっている。
【０００３】この場合、刷版には凹みによる網点画像が
形成されることになる。
形成されることになる。
【０００４】図８は、従来の技術によるレーザ製版装置
に採用されているレーザ光学系の概略的な構成を示して
いる。図８において、レーザヘッド１は、基本的にレー
ザダイオード２とコリメータレンズ３と対物レンズ４と
を有している。
に採用されているレーザ光学系の概略的な構成を示して
いる。図８において、レーザヘッド１は、基本的にレー
ザダイオード２とコリメータレンズ３と対物レンズ４と
を有している。
【０００５】この図８において、符号５はレーザダイオ
ード２から出射されるレーザビーム（のビームプロファ
イル）を表しており、そのレーザビーム５の水平方向の
発光ストライプ幅をｄLDH とする。また、符号６は焦点
位置、すなわち、版シート上におけるレーザビーム（の
ビームプロファイル）を表しており、そのレーザビーム
６の水平方向の焦点ストライプ幅をｄH とする。
ード２から出射されるレーザビーム（のビームプロファ
イル）を表しており、そのレーザビーム５の水平方向の
発光ストライプ幅をｄLDH とする。また、符号６は焦点
位置、すなわち、版シート上におけるレーザビーム（の
ビームプロファイル）を表しており、そのレーザビーム
６の水平方向の焦点ストライプ幅をｄH とする。
【０００６】図８例によるレーザ光学系において、発光
出力１［Ｗ］程度のレーザダイオード２から出射された
発光ストライプ幅ｄLDH を有するレーザビーム５は、コ
リメータレンズ３によって平行光とされた後、対物レン
ズ４を通じて集光されることで、その対物レンズ４の焦
点位置に焦点ストライプ幅ｄH として結像される。ここ
で、コリメータレンズ３の焦点距離をｆ1 ，対物レンズ
４の焦点距離をｆ2 とする。
出力１［Ｗ］程度のレーザダイオード２から出射された
発光ストライプ幅ｄLDH を有するレーザビーム５は、コ
リメータレンズ３によって平行光とされた後、対物レン
ズ４を通じて集光されることで、その対物レンズ４の焦
点位置に焦点ストライプ幅ｄH として結像される。ここ
で、コリメータレンズ３の焦点距離をｆ1 ，対物レンズ
４の焦点距離をｆ2 とする。
【０００７】これらをまとめると、図８例のレーザ光学
系において、 発光ストライプ幅ｄLDH ＝２００μｍ、 コリメータレンズ３の焦点距離ｆ1 ＝１１．６７ｍｍ、 対物レンズ４の焦点距離ｆ2 ＝７ｍｍ、 焦点ストライプ幅ｄH ＝１２０μｍ、 になっている。この場合、焦点ストライプ幅ｄH は数１
の関係で決定される。
系において、 発光ストライプ幅ｄLDH ＝２００μｍ、 コリメータレンズ３の焦点距離ｆ1 ＝１１．６７ｍｍ、 対物レンズ４の焦点距離ｆ2 ＝７ｍｍ、 焦点ストライプ幅ｄH ＝１２０μｍ、 になっている。この場合、焦点ストライプ幅ｄH は数１
の関係で決定される。
【０００８】
【数１】ｄH ＝（ｆ2 ／ｆ1 ）・ｄLDH
【０００９】刷版を作成するレーザ製版装置に用いられ
るレーザ光学系としては、その焦点深度が深いこと、す
なわち、像がはっきり結ばれる像面の位置の許容範囲が
広いことが好ましい。版胴の偏心、版シートの厚み誤差
等を吸収するためである。
るレーザ光学系としては、その焦点深度が深いこと、す
なわち、像がはっきり結ばれる像面の位置の許容範囲が
広いことが好ましい。版胴の偏心、版シートの厚み誤差
等を吸収するためである。
【００１０】ここでレーザ製版装置における焦点深度に
ついて考察する。図９に示すように、レンズＬＺの開口
数（ＮＡ）は、光線束Ｌ1 の開き角をθ 2 とするとき、
ＮＡ＝Ｎｓｉｎθ2 （ＮはレンズＬＺの屈折率）で表さ
れる。コンパクトディスクのピット読み取り用の光学ピ
ックアップなどでは、レーザビームの光線束の一部分が
レンズＬＺで遮られる、いわゆるけられるような状態で
使用されるので、レンズＬＺのＮＡがそのまま焦点深度
に関係する。
ついて考察する。図９に示すように、レンズＬＺの開口
数（ＮＡ）は、光線束Ｌ1 の開き角をθ 2 とするとき、
ＮＡ＝Ｎｓｉｎθ2 （ＮはレンズＬＺの屈折率）で表さ
れる。コンパクトディスクのピット読み取り用の光学ピ
ックアップなどでは、レーザビームの光線束の一部分が
レンズＬＺで遮られる、いわゆるけられるような状態で
使用されるので、レンズＬＺのＮＡがそのまま焦点深度
に関係する。
【００１１】しかし、レーザ製版装置では、光のパワー
効率が重要であるので、レンズＬＺ等の光学系で光線束
であるレーザビームがけられない光学系にしている。こ
のため、レーザ製版装置では、光の結合効率が高くなっ
ている。したがって、レーザ製版装置では、レンズＬＺ
に入射するレーザビームの幅は、レンズＬＺの有効径Ｄ
2 より小さい幅のＤ1 となり、実効的なＮＡ（以下、実
効ＮＡという）とレンズＬＺのＮＡとは異なってくる。
実効ＮＡは数２に示すように表される。
効率が重要であるので、レンズＬＺ等の光学系で光線束
であるレーザビームがけられない光学系にしている。こ
のため、レーザ製版装置では、光の結合効率が高くなっ
ている。したがって、レーザ製版装置では、レンズＬＺ
に入射するレーザビームの幅は、レンズＬＺの有効径Ｄ
2 より小さい幅のＤ1 となり、実効的なＮＡ（以下、実
効ＮＡという）とレンズＬＺのＮＡとは異なってくる。
実効ＮＡは数２に示すように表される。
【００１２】
【数２】 実効ＮＡ＝Ｎｓｉｎθ1 （ＮはレンズＬＺの屈折率）
【００１３】そして、ここで、焦点深度として、焦点が
ずれた（デフォーカスした）ときに、ビームスポットの
大きさがどの程度変化するかということについて考慮す
る。焦点の変化率は数３に示すように表される。
ずれた（デフォーカスした）ときに、ビームスポットの
大きさがどの程度変化するかということについて考慮す
る。焦点の変化率は数３に示すように表される。
【数３】焦点の変化率＝ｔａｎθ1 ≒ｓｉｎθ1 ∝ＮＡ
【００１４】結局、焦点深度をΔＺとするとき、焦点深
度ΔＺは、数４に示すように、（ｆ 2 ／ｆ1 ）に比例す
ることになる。
度ΔＺは、数４に示すように、（ｆ 2 ／ｆ1 ）に比例す
ることになる。
【００１５】
【数４】ΔＺ∝ｆ2 ／ｆ1
【００１６】図８例では、（ｆ2 ／ｆ1 ）＝０．６に比
例する。この値は、本出願人のレーザ製版装置として実
用化されているものの値であり、上記偏心等を吸収する
ために十分な値である。
例する。この値は、本出願人のレーザ製版装置として実
用化されているものの値であり、上記偏心等を吸収する
ために十分な値である。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
レーザ製版装置では、一層の高解像度化が望まれてい
る。この高解像度化を達成するための版シート上におけ
る焦点ストライプ幅ｄH としては、例えば、７０μｍ程
度が望まれている。なお、垂直方向の焦点ストライプ幅
ｄV は水平方向の焦点ストライプ幅ｄH に比較して相当
に小さい（図８例では、約０．６μｍ）ので、ここで
は、水平方向の焦点ストライプ幅ｄH についてのみ考え
れば十分である。
レーザ製版装置では、一層の高解像度化が望まれてい
る。この高解像度化を達成するための版シート上におけ
る焦点ストライプ幅ｄH としては、例えば、７０μｍ程
度が望まれている。なお、垂直方向の焦点ストライプ幅
ｄV は水平方向の焦点ストライプ幅ｄH に比較して相当
に小さい（図８例では、約０．６μｍ）ので、ここで
は、水平方向の焦点ストライプ幅ｄH についてのみ考え
れば十分である。
【００１８】そうすると、この図８例のレーザ光学系に
おいては、焦点ストライプ幅ｄH ＝７０μｍとしたとき
の対物レンズ４の必要な焦点距離ｆ2 を求めると、上記
式１からｆ2 ＝ｆ1 ・（ｄH ／ｄLDH ）＝１１．６７×
（７０／２００）≒４．０８ｍｍが得られる。
おいては、焦点ストライプ幅ｄH ＝７０μｍとしたとき
の対物レンズ４の必要な焦点距離ｆ2 を求めると、上記
式１からｆ2 ＝ｆ1 ・（ｄH ／ｄLDH ）＝１１．６７×
（７０／２００）≒４．０８ｍｍが得られる。
【００１９】しかしながら、このようにすると、焦点深
度ΔＺは、数４からΔＺ∝０．３５と上記従来の技術に
比較して半分程度の値になり、焦点深度の浅いレーザヘ
ッドになってしまい、上記した版胴の偏心、版シートの
厚み誤差等を吸収することができないため高解像度化を
達成することができない。なお、レーザ製版装置のレー
ザ光学系以外の部分でのこれらの誤差を従来の技術に比
較して半分程度以下にすることはそのコストの制約上ほ
とんど不可能である。
度ΔＺは、数４からΔＺ∝０．３５と上記従来の技術に
比較して半分程度の値になり、焦点深度の浅いレーザヘ
ッドになってしまい、上記した版胴の偏心、版シートの
厚み誤差等を吸収することができないため高解像度化を
達成することができない。なお、レーザ製版装置のレー
ザ光学系以外の部分でのこれらの誤差を従来の技術に比
較して半分程度以下にすることはそのコストの制約上ほ
とんど不可能である。
【００２０】この発明はこのような課題を考慮してなさ
れたものであり、焦点ストライプ幅を小さくしても焦点
深度が浅くならないレーザヘッドを有するレーザ製版装
置を提供するものである。
れたものであり、焦点ストライプ幅を小さくしても焦点
深度が浅くならないレーザヘッドを有するレーザ製版装
置を提供するものである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】この発明は、例えば、図
１に示すように、レーザ光源２から出射されたレーザビ
ーム５をコリメータレンズ１３及び対物レンズ１４を介
して版シート２０に照射して刷版を作成するレーザ製版
装置において、コリメータレンズ１３と対物レンズ１４
との間にアナモルフィックプリズムを配し、上記アナモ
ルフィックスプリズムの倍率ｍは、次式で規定されるも
のである。ｍ≧０．６（ｄ LDH ／ｄ H ）、ここて、ｄ
LDH ：発光ストライブ幅、ｄ H ：焦点ストライブ幅
１に示すように、レーザ光源２から出射されたレーザビ
ーム５をコリメータレンズ１３及び対物レンズ１４を介
して版シート２０に照射して刷版を作成するレーザ製版
装置において、コリメータレンズ１３と対物レンズ１４
との間にアナモルフィックプリズムを配し、上記アナモ
ルフィックスプリズムの倍率ｍは、次式で規定されるも
のである。ｍ≧０．６（ｄ LDH ／ｄ H ）、ここて、ｄ
LDH ：発光ストライブ幅、ｄ H ：焦点ストライブ幅
【００２２】
【００２３】さらに、この発明は、図７に示すように、
レーザ光源２から版シート２０までの距離が短くなるよ
うにアナモルフィックプリズム１５の不要部分３０を切
断したものである。
レーザ光源２から版シート２０までの距離が短くなるよ
うにアナモルフィックプリズム１５の不要部分３０を切
断したものである。
【００２４】
【作用】この発明によれば、コリメータレンズ１３と対
物レンズ１４との間に配されたビーム整形手段１５によ
り版シート２０に照射されるレーザビーム６の焦点深度
を深くしている。このため、高解像度化に対応すること
が容易になる。
物レンズ１４との間に配されたビーム整形手段１５によ
り版シート２０に照射されるレーザビーム６の焦点深度
を深くしている。このため、高解像度化に対応すること
が容易になる。
【００２５】ビーム整形手段１５としてアナモルフィッ
クプリズムを使用した場合に、そのアナモルフィックプ
リズムの不要部分３０を切断してレーザ光源２から版シ
ート２０までの距離が短くなるようにしているので、レ
ーザ光源２の像高によるコリメータレンズ１３後の発散
角の補正を行うことができる。
クプリズムを使用した場合に、そのアナモルフィックプ
リズムの不要部分３０を切断してレーザ光源２から版シ
ート２０までの距離が短くなるようにしているので、レ
ーザ光源２の像高によるコリメータレンズ１３後の発散
角の補正を行うことができる。
【００２６】
【実施例】以下、この発明の一実施例について図面を参
照して説明する。なお、以下に参照する図面において、
上記の図８，図９に示したものに対応するものには同一
の符号を付けている。
照して説明する。なお、以下に参照する図面において、
上記の図８，図９に示したものに対応するものには同一
の符号を付けている。
【００２７】図２はこの実施例によるレーザ製版装置の
全体的な構成を示している。図２において、５１は基台
であり、この基台５１上に、版胴回転部５２及びレーザ
ヘッド移動部５４が設けられている。
全体的な構成を示している。図２において、５１は基台
であり、この基台５１上に、版胴回転部５２及びレーザ
ヘッド移動部５４が設けられている。
【００２８】レーザビーム出射手段としてのレーザヘッ
ド２２は、ガイドレール５７，５８に沿って矢印Ａ，Ｂ
方向、すなわち版胴２１の軸方向に移動できるようにな
っている。レーザヘッド２２の版胴２１側には対物レン
ズ１４が配置され、版胴２１と反対側には、半導体レー
ザであり、レーザ光源としてのレーザダイオード２が配
置固定されている。このレーザダイオード２は図８例に
示したものと同じものであり、発光出力は約１〔Ｗ〕で
ある。
ド２２は、ガイドレール５７，５８に沿って矢印Ａ，Ｂ
方向、すなわち版胴２１の軸方向に移動できるようにな
っている。レーザヘッド２２の版胴２１側には対物レン
ズ１４が配置され、版胴２１と反対側には、半導体レー
ザであり、レーザ光源としてのレーザダイオード２が配
置固定されている。このレーザダイオード２は図８例に
示したものと同じものであり、発光出力は約１〔Ｗ〕で
ある。
【００２９】版胴２１は金属製のシリンダであり、この
シリンダの側面に合成樹脂製の版シート２０が巻き付け
固定されている。版胴２１の両端には、金属製のキャッ
プ６１，６２が固定されている。これらキャップ６１，
６２には、軸６３，６４が版胴２０の軸方向に突き出し
て設けられている。
シリンダの側面に合成樹脂製の版シート２０が巻き付け
固定されている。版胴２１の両端には、金属製のキャッ
プ６１，６２が固定されている。これらキャップ６１，
６２には、軸６３，６４が版胴２０の軸方向に突き出し
て設けられている。
【００３０】軸６３は、５個のプーリー６４と３本のベ
ルト６６を介して版胴回転用モータ６８に連結されてい
る。版胴回転用モータ６８が回転されることで、版シー
ト２０が巻き付けられた版胴２１が矢印Ｅ方向又はそれ
と反対方向である矢印Ｆ方向に回転される。
ルト６６を介して版胴回転用モータ６８に連結されてい
る。版胴回転用モータ６８が回転されることで、版シー
ト２０が巻き付けられた版胴２１が矢印Ｅ方向又はそれ
と反対方向である矢印Ｆ方向に回転される。
【００３１】レーザヘッド移動部５４を構成するレーザ
ヘッド取付台６９は、アーム７２を介して移動子７３に
固定されている。移動子７３は、軸受７４，７５との間
に配置されるボールねじ７６に螺合されている。ボール
ねじ７６は、軸受７４及び軸継手７７を介してレーザヘ
ッド移動用モータ７８に接続されている。
ヘッド取付台６９は、アーム７２を介して移動子７３に
固定されている。移動子７３は、軸受７４，７５との間
に配置されるボールねじ７６に螺合されている。ボール
ねじ７６は、軸受７４及び軸継手７７を介してレーザヘ
ッド移動用モータ７８に接続されている。
【００３２】したがって、モータ７８が回転することに
よって、移動子７３が矢印Ａ方向又は矢印Ｂ方向に移動
し、この移動子７３にアーム７２及びレーザヘッド取付
台６９を介して一体的に取り付けられているレーザヘッ
ド２２が矢印Ａ方向又は矢印Ｂ方向にガイドレール５
７，５８に沿って移動することになる。
よって、移動子７３が矢印Ａ方向又は矢印Ｂ方向に移動
し、この移動子７３にアーム７２及びレーザヘッド取付
台６９を介して一体的に取り付けられているレーザヘッ
ド２２が矢印Ａ方向又は矢印Ｂ方向にガイドレール５
７，５８に沿って移動することになる。
【００３３】版シート２０に製版を行う場合、レーザヘ
ッド２２を、まず、矢印Ｂ方向の端部に移動させる。そ
して、版胴２１を矢印Ｅ方向（レーザビームの主走査方
向（矢印Ｆ方向）と反対方向）に回転させながら、レー
ザダイオード２をオン・オフ制御及び光強度制御するこ
とにより、レーザヘッド２２を構成する対物レンズ１４
を通じて版シート２０に照射されるレーザビームにより
版シート２０上に凹みによる網点画像が形成され、主走
査１ラインの走査が終了したときに、レーザヘッド２２
を矢印Ａ方向（副走査方向）にステップ送りを行うこと
で、版シート２０の全面に画像が形成された、いわゆる
刷版を作成することができる。
ッド２２を、まず、矢印Ｂ方向の端部に移動させる。そ
して、版胴２１を矢印Ｅ方向（レーザビームの主走査方
向（矢印Ｆ方向）と反対方向）に回転させながら、レー
ザダイオード２をオン・オフ制御及び光強度制御するこ
とにより、レーザヘッド２２を構成する対物レンズ１４
を通じて版シート２０に照射されるレーザビームにより
版シート２０上に凹みによる網点画像が形成され、主走
査１ラインの走査が終了したときに、レーザヘッド２２
を矢印Ａ方向（副走査方向）にステップ送りを行うこと
で、版シート２０の全面に画像が形成された、いわゆる
刷版を作成することができる。
【００３４】図１は図２例のうち、レーザヘッド２２を
含む部分の詳細な構成を示している。レーザヘッド２２
を構成するレーザダイオード２としては、例えば、ソニ
ー株式会社製の型式ＳＬＤ３２４ＺＴを用いている。そ
のレーザ発振波長は８１０ｎｍである。
含む部分の詳細な構成を示している。レーザヘッド２２
を構成するレーザダイオード２としては、例えば、ソニ
ー株式会社製の型式ＳＬＤ３２４ＺＴを用いている。そ
のレーザ発振波長は８１０ｎｍである。
【００３５】レーザダイオード２から出射された断面長
方形のレーザビーム５は、材質ＢＫ−７のガラス板１１
及び焦点距離ｆ1Aのコリメータレンズ１３を通じて平行
光とされ、ビーム整形手段としてのアナモルフィックプ
リズム１５に入射する。ここで、コリメータレンズ１３
は、図示しない移動手段により光軸１０の方向（矢印Ｃ
方向又はその反対方向）に移動できるようになってい
る。
方形のレーザビーム５は、材質ＢＫ−７のガラス板１１
及び焦点距離ｆ1Aのコリメータレンズ１３を通じて平行
光とされ、ビーム整形手段としてのアナモルフィックプ
リズム１５に入射する。ここで、コリメータレンズ１３
は、図示しない移動手段により光軸１０の方向（矢印Ｃ
方向又はその反対方向）に移動できるようになってい
る。
【００３６】アナモルフィックプリズム１５は、材質Ｂ
Ｋ−７の２個の三角柱状のプリズム（以下、三角プリズ
ムという。）１６、１７の底面をアルミ製のベース板１
８に貼り付けた構成になっている。三角プリズム１６，
１７の上面と底面は直角三角形になっている。
Ｋ−７の２個の三角柱状のプリズム（以下、三角プリズ
ムという。）１６、１７の底面をアルミ製のベース板１
８に貼り付けた構成になっている。三角プリズム１６，
１７の上面と底面は直角三角形になっている。
【００３７】図１から分かるように、コリメータレンズ
１３から出射されたレーザビームは、アナモルフィック
プリズム１５を構成する三角プリズム１６の斜辺側面
（第１面）に入射し、屈折して高さ側面から出射する。
そして、さらに三角プリズム１７の斜面側面に入射し、
屈折して高さ側面から出射する。
１３から出射されたレーザビームは、アナモルフィック
プリズム１５を構成する三角プリズム１６の斜辺側面
（第１面）に入射し、屈折して高さ側面から出射する。
そして、さらに三角プリズム１７の斜面側面に入射し、
屈折して高さ側面から出射する。
【００３８】三角プリズム１７から出射されたレーザビ
ームは対物レンズ１４及び材質ＢＫ−７のガラス板１９
を通じて矢印Ｅ方向（レーザビームの主走査方向とは反
対方向）に回転する版胴２１に巻き付けられた版シート
２０上にレーザビーム６として集束する。なお、集束面
は長方形である。
ームは対物レンズ１４及び材質ＢＫ−７のガラス板１９
を通じて矢印Ｅ方向（レーザビームの主走査方向とは反
対方向）に回転する版胴２１に巻き付けられた版シート
２０上にレーザビーム６として集束する。なお、集束面
は長方形である。
【００３９】この場合、レーザダイオード２、コリメー
タレンズ１３、アナモルフィックプリズム１５及び対物
レンズ１４等を有するレーザヘッド２２がレーザヘッド
取付台６９上に固定され、そのレーザヘッド取付台６９
が矢印Ａ方向（副走査方向）に移動されることで、上述
したように、版シート２０上の略全面に２次元の凹版に
よる画像が形成されて刷版が作成される。
タレンズ１３、アナモルフィックプリズム１５及び対物
レンズ１４等を有するレーザヘッド２２がレーザヘッド
取付台６９上に固定され、そのレーザヘッド取付台６９
が矢印Ａ方向（副走査方向）に移動されることで、上述
したように、版シート２０上の略全面に２次元の凹版に
よる画像が形成されて刷版が作成される。
【００４０】なお、レーザビーム５が図示しない制御装
置により、光のオン・オフ制御及び（又は）光強度制御
が行われることで、刷版には、凹みの深さに応じた階調
を有する網点画像版を形成することができる。
置により、光のオン・オフ制御及び（又は）光強度制御
が行われることで、刷版には、凹みの深さに応じた階調
を有する網点画像版を形成することができる。
【００４１】また、この図１例において、レーザビーム
５とレーザビーム６は誇張して大きく描いている。
５とレーザビーム６は誇張して大きく描いている。
【００４２】ここで、図１例についてのレーザビーム
５，６の大きさ及び焦点深度の例について説明する。
５，６の大きさ及び焦点深度の例について説明する。
【００４３】アナモルフィックプリズム１５は、２個の
三角プリズム１６，１７を図１に示すように組み合わせ
ることにより、入射されるレーザビームのうち、一方向
のみ（図１では、レーザビーム５の水平方向（副走査方
向）のみ、すなわち、レーザビーム６の焦点ストライプ
幅ｄH のみ）のビームプロファイルを変えるプリズムで
ある。
三角プリズム１６，１７を図１に示すように組み合わせ
ることにより、入射されるレーザビームのうち、一方向
のみ（図１では、レーザビーム５の水平方向（副走査方
向）のみ、すなわち、レーザビーム６の焦点ストライプ
幅ｄH のみ）のビームプロファイルを変えるプリズムで
ある。
【００４４】そこで、レーザビーム５，６の垂直方向Ｖ
と水平方向Ｈのそれぞれに分けて焦点深度ΔZV，ΔZHを
考察する。
と水平方向Ｈのそれぞれに分けて焦点深度ΔZV，ΔZHを
考察する。
【００４５】まず、垂直方向Ｖについては、レーザビー
ム５のビームプロファイルがレーザビーム６において変
化しないことを考慮すれば、図３に示すように、アナモ
ルフィックプリズム１５は省略（アナモルフィックプリ
ズム１５の倍率をｍとしたとき、ｍ＝１である。）して
考えてもよいことになる。
ム５のビームプロファイルがレーザビーム６において変
化しないことを考慮すれば、図３に示すように、アナモ
ルフィックプリズム１５は省略（アナモルフィックプリ
ズム１５の倍率をｍとしたとき、ｍ＝１である。）して
考えてもよいことになる。
【００４６】発散角θV （このレーザダイオード２では
約３０゜）で出射したレーザビーム５は、コリメータレ
ンズ１３と対物レンズ１４の間で光線束幅が２ｆ1A・ｔ
ａｎ（θV ／２）にされる。
約３０゜）で出射したレーザビーム５は、コリメータレ
ンズ１３と対物レンズ１４の間で光線束幅が２ｆ1A・ｔ
ａｎ（θV ／２）にされる。
【００４７】対物レンズ１４の実効ＮＡは、数５に示す
ように表される。
ように表される。
【００４８】
【数５】実効ＮＡ＝Ｎｓｉｎθ≒Ｎｔａｎθ∝（ｆ1A／
ｆ2A）ｔａｎ（θV ／２）
ｆ2A）ｔａｎ（θV ／２）
【００４９】したがって、レーザビーム６の垂直方向Ｖ
の焦点深度ΔZVは、（ｆ2A／ｆ1A）に比例することが分
かる。
の焦点深度ΔZVは、（ｆ2A／ｆ1A）に比例することが分
かる。
【００５０】次に、水平方向Ｈについては、レーザビー
ム５のビームプロファイルがレーザビーム６においてア
ナモルフィックプリズム１５の倍率ｍ分だけ大きくなる
ことを考慮すれば、図４とその図４中の説明に示す関係
が成り立つことが分かる。
ム５のビームプロファイルがレーザビーム６においてア
ナモルフィックプリズム１５の倍率ｍ分だけ大きくなる
ことを考慮すれば、図４とその図４中の説明に示す関係
が成り立つことが分かる。
【００５１】すなわち、アナモルフィックプリズム１５
のコリメータレンズ１３側における光線束幅は２ｆ1Aｔ
ａｎ（θH ／２）（θH はレーザビーム５の水平方向の
発散角でこのレーザダイオード２では約１０゜）にな
り、対物レンズ１４側における光線束幅はそのｍ倍の２
ｍｆ1Aｔａｎ（θH ／２）になる。
のコリメータレンズ１３側における光線束幅は２ｆ1Aｔ
ａｎ（θH ／２）（θH はレーザビーム５の水平方向の
発散角でこのレーザダイオード２では約１０゜）にな
り、対物レンズ１４側における光線束幅はそのｍ倍の２
ｍｆ1Aｔａｎ（θH ／２）になる。
【００５２】図４において、像高の比、すなわち、発光
ストライプ幅ｄLDH と焦点ストライプ幅ｄH の比は結像
の関係より、数６に示すように表される。
ストライプ幅ｄLDH と焦点ストライプ幅ｄH の比は結像
の関係より、数６に示すように表される。
【００５３】
【数６】 （ｄH ／ｄLDH ）＝（ｆ2A／ｆ1A）×（１／ｍ）
【００５４】ここで、対物レンズ１４の実効ＮＡは、数
７で表され、その数７に数６を代入することにより数８
で表されることが分かる。
７で表され、その数７に数６を代入することにより数８
で表されることが分かる。
【００５５】
【数７】実効ＮＡ＝Ｎｓｉｎθ2H≒Ｎｔａｎθ2H∝ｔａ
ｎθ2H＝｛ｍｆ1Aｔａｎ（θH ／２）｝／ｆ2A
ｎθ2H＝｛ｍｆ1Aｔａｎ（θH ／２）｝／ｆ2A
【００５６】
【数８】 実効ＮＡ＝（ｄLDH ／ｄH ）×ｔａｎ（θH ／２）
【００５７】数８から分かるように、対物レンズ１４の
実効ＮＡは、コリメータレンズ１３、アナモルフィック
プリズム１５及び対物レンズ１４とは無関係にレーザダ
イオード２の仕様（この場合、発散角θH 、発光ストラ
イプ幅ｄLDH ）と要求されるスポットのサイズ、すなわ
ち、焦点ストライプ幅ｄH で一意的に決定される。
実効ＮＡは、コリメータレンズ１３、アナモルフィック
プリズム１５及び対物レンズ１４とは無関係にレーザダ
イオード２の仕様（この場合、発散角θH 、発光ストラ
イプ幅ｄLDH ）と要求されるスポットのサイズ、すなわ
ち、焦点ストライプ幅ｄH で一意的に決定される。
【００５８】したがって、焦点深度ΔＺを深くするため
には、垂直方向Ｖのみを考えればよく、焦点距離比（ｆ
2 ／ｆ1 ）を大きくし、その分高倍率のアナモルフィッ
クプリズム１５を使用して必要な焦点ストライプ幅ｄH
を得るようにすればよい。
には、垂直方向Ｖのみを考えればよく、焦点距離比（ｆ
2 ／ｆ1 ）を大きくし、その分高倍率のアナモルフィッ
クプリズム１５を使用して必要な焦点ストライプ幅ｄH
を得るようにすればよい。
【００５９】以上説明したことを考慮して、図１例のレ
ーザ光学系においては次のように各数値を決定してい
る。
ーザ光学系においては次のように各数値を決定してい
る。
【００６０】発光ストライプ幅ｄLDH ＝２００μｍ、 コリメータレンズ１３の焦点距離ｆ1A＝４．５ｍｍ、 コリメータレンズ１３の実効ＮＡ＝０．５３ アナモルフィックプリズム１５の倍率ｍ＝６ 対物レンズ１４の焦点距離ｆ2A＝９ｍｍ 対物レンズ１４の実効ＮＡ＝０．５ 焦点ストライプ幅ｄH ＝ｄLDH ×（ｆ2A／ｆ1A）／ｍ ＝２００μｍ×２／６＝６６．７μｍ
【００６１】この場合、コリメータレンズ１３と対物レ
ンズ１４との間にアナモルフィックプリズム１５を挿入
配置するようにした図１例によれば、版シート２０上に
おける焦点ストライプ幅ｄH は６６．７μｍとなり、従
来の技術の項で説明した１２０μｍに比較して約６０％
以下になり、かつ、焦点深度ΔＺは、ΔＺが（ｆ2 ／ｆ
1 ）＝２に比例した値になるので、従来の技術による焦
点深度ΔＺが（ｆ2 ／ｆ1 ）＝０．６に比例した値に比
較して約３倍程度改善されることになる。このように焦
点ストライプ幅ｄH の微細化に応じて焦点深度ΔＺも改
善しているので、高解像度の画像が得られる刷版を作成
することができる。なお、ビーム整形手段としてはアナ
モルフィックプリズム１５に代替してシリンドリカルレ
ンズを用いても同様の効果が得られる。
ンズ１４との間にアナモルフィックプリズム１５を挿入
配置するようにした図１例によれば、版シート２０上に
おける焦点ストライプ幅ｄH は６６．７μｍとなり、従
来の技術の項で説明した１２０μｍに比較して約６０％
以下になり、かつ、焦点深度ΔＺは、ΔＺが（ｆ2 ／ｆ
1 ）＝２に比例した値になるので、従来の技術による焦
点深度ΔＺが（ｆ2 ／ｆ1 ）＝０．６に比例した値に比
較して約３倍程度改善されることになる。このように焦
点ストライプ幅ｄH の微細化に応じて焦点深度ΔＺも改
善しているので、高解像度の画像が得られる刷版を作成
することができる。なお、ビーム整形手段としてはアナ
モルフィックプリズム１５に代替してシリンドリカルレ
ンズを用いても同様の効果が得られる。
【００６２】また、コリメータレンズ１３を図示しない
移動手段により矢印Ｃ方向に移動させることで、コリメ
ータレンズ１３にデフォーカスが発生する。その結果、
アナモルフィックプリズム１５で非点収差が発生し、版
シート２０に照射されるレーザビーム６のビームプロフ
ァイルが変化して、焦点ストライプ幅ｄH を大きくする
ことが可能である。このようにすれば、解像度を連続的
に変更可能なレーザ製版装置を構成することができる。
移動手段により矢印Ｃ方向に移動させることで、コリメ
ータレンズ１３にデフォーカスが発生する。その結果、
アナモルフィックプリズム１５で非点収差が発生し、版
シート２０に照射されるレーザビーム６のビームプロフ
ァイルが変化して、焦点ストライプ幅ｄH を大きくする
ことが可能である。このようにすれば、解像度を連続的
に変更可能なレーザ製版装置を構成することができる。
【００６３】同様に、コリメータレンズ１３を矢印Ｃ方
向またはこれと反対方向に移動することができるように
した場合には、レーザビーム６のビームプロファイル
（すなわち、ｄH ×ｄV で表される面積）を変化するこ
とができるので、いわゆる、階調表現を変化させること
ができる。
向またはこれと反対方向に移動することができるように
した場合には、レーザビーム６のビームプロファイル
（すなわち、ｄH ×ｄV で表される面積）を変化するこ
とができるので、いわゆる、階調表現を変化させること
ができる。
【００６４】さらに、アナモルフィックプリズム１５か
ら出射したレーザビームは垂直・水平方向ともに、ほぼ
平行ビームになっている。例えば、レーザビーム５の像
高の高い方（像高は水平方向Ｈが高くて、発光ストライ
プ幅ｄLDH ＝２００μｍに等しい。）の影響を考えた場
合、コリメータレンズ１３を出射した所では、 アークｔａｎ（ｄLDH ／ｆ1 ） ＝アークｔａｎ（２００μｍ／４．５ｍｍ）＝２．５゜ であるのに対して、アナモルフィックプリズム１５を出
射した所では、その約倍率ｍ分の１にされるので、約
０．４２゜に改善される。このため、対物レンズ１４に
版シート２０の表面（凹み形成面）からの距離を一定に
するサーボによるオートフォーカス系を配して対物レン
ズ１４が版シート２０の表面に倣うようにしても、結合
効率、結像性能に対する影響はほんの僅かであり、問題
にならず、光学系の操作性・拡張性に優れているという
利点も得られる。
ら出射したレーザビームは垂直・水平方向ともに、ほぼ
平行ビームになっている。例えば、レーザビーム５の像
高の高い方（像高は水平方向Ｈが高くて、発光ストライ
プ幅ｄLDH ＝２００μｍに等しい。）の影響を考えた場
合、コリメータレンズ１３を出射した所では、 アークｔａｎ（ｄLDH ／ｆ1 ） ＝アークｔａｎ（２００μｍ／４．５ｍｍ）＝２．５゜ であるのに対して、アナモルフィックプリズム１５を出
射した所では、その約倍率ｍ分の１にされるので、約
０．４２゜に改善される。このため、対物レンズ１４に
版シート２０の表面（凹み形成面）からの距離を一定に
するサーボによるオートフォーカス系を配して対物レン
ズ１４が版シート２０の表面に倣うようにしても、結合
効率、結像性能に対する影響はほんの僅かであり、問題
にならず、光学系の操作性・拡張性に優れているという
利点も得られる。
【００６５】図５はレーザダイオード２の非点隔差の説
明に供される線図である。図５から分かるように、接合
部の活性層２５から出射されるレーザビーム５の発光点
が、水平方向の発散角θH に対応する発光点ＰＨと垂直
方向の発散角θVに対応する発光点ＰＶとで光軸方向に
おいて、非点隔差ΔＬだけ異なっている。この非点隔差
ΔＬは、この実施例のレーザダイオード２では約２５μ
ｍ程度存在する。
明に供される線図である。図５から分かるように、接合
部の活性層２５から出射されるレーザビーム５の発光点
が、水平方向の発散角θH に対応する発光点ＰＨと垂直
方向の発散角θVに対応する発光点ＰＶとで光軸方向に
おいて、非点隔差ΔＬだけ異なっている。この非点隔差
ΔＬは、この実施例のレーザダイオード２では約２５μ
ｍ程度存在する。
【００６６】図６は、この非点隔差ΔＬの補正の原理を
説明するための図である。この非点隔差ΔＬを補正する
ためには、広く知られているように、ＸＺ平面を反時計
方向に、例えば、φ゜回転させた平面位置に平行平板ガ
ラス２６を配置する。このように配置された平行平板ガ
ラス２６に点光源から放射された光束が図６に示すよう
に斜めから入射した場合、ＸＹ平面上の点光源から放射
された光束が斜めに入射した場合、ＸＹ平面内の光とＹ
Ｚ平面内の光とでは、本来の発光点（例えば、水平方向
の発散角θH に対応する発光点）ＰＨの位置と平行平板
ガラス２６を通過後の見かけ上の発光点ＰＨａの位置と
で非点隔差が発生する。これを利用して、後方にある発
光点ＰＨをもともとの非点隔差ΔＬ分だけ前方の位置の
仮想発光点ＰＨａにずらすことができる。
説明するための図である。この非点隔差ΔＬを補正する
ためには、広く知られているように、ＸＺ平面を反時計
方向に、例えば、φ゜回転させた平面位置に平行平板ガ
ラス２６を配置する。このように配置された平行平板ガ
ラス２６に点光源から放射された光束が図６に示すよう
に斜めから入射した場合、ＸＹ平面上の点光源から放射
された光束が斜めに入射した場合、ＸＹ平面内の光とＹ
Ｚ平面内の光とでは、本来の発光点（例えば、水平方向
の発散角θH に対応する発光点）ＰＨの位置と平行平板
ガラス２６を通過後の見かけ上の発光点ＰＨａの位置と
で非点隔差が発生する。これを利用して、後方にある発
光点ＰＨをもともとの非点隔差ΔＬ分だけ前方の位置の
仮想発光点ＰＨａにずらすことができる。
【００６７】このようにすれば、発散角θH に対応する
発光点ＰＨと発散角θV に対応する発光点ＰＶの非点隔
差がなくなる。
発光点ＰＨと発散角θV に対応する発光点ＰＶの非点隔
差がなくなる。
【００６８】これを図２の光学系に適用する場合には、
コリメータレンズ１３を矢印Ｃ方向にずらす。これによ
り、コリメータレンズ１３を通過した光束がアナモルフ
ィックプリズム１５を構成する三角プリズム１６の斜辺
側面に斜めに入射することになるので、水平方向の発散
角θH に対応する発光点ＰＨが前方に移動して見かけ上
の発光点ＰＨａになり、垂直方向の発散角θｖに対応す
る発光点ＰＶの位置と一致させることができる。
コリメータレンズ１３を矢印Ｃ方向にずらす。これによ
り、コリメータレンズ１３を通過した光束がアナモルフ
ィックプリズム１５を構成する三角プリズム１６の斜辺
側面に斜めに入射することになるので、水平方向の発散
角θH に対応する発光点ＰＨが前方に移動して見かけ上
の発光点ＰＨａになり、垂直方向の発散角θｖに対応す
る発光点ＰＶの位置と一致させることができる。
【００６９】このように、非点隔差ΔＬの補正を行うこ
とにより、版シート２０におけるレーザビーム６の光軸
方向の変化（この変化は、例えば、版シート２０の厚み
の変化等で発生する。）が発生しても、レーザビーム６
のビームプロファイル（ｄH×ｄＶで表される面積）の
変化を非点隔差を補正しない場合に比較して小さくする
ことができる。
とにより、版シート２０におけるレーザビーム６の光軸
方向の変化（この変化は、例えば、版シート２０の厚み
の変化等で発生する。）が発生しても、レーザビーム６
のビームプロファイル（ｄH×ｄＶで表される面積）の
変化を非点隔差を補正しない場合に比較して小さくする
ことができる。
【００７０】ところで、図１例に示す要部構成例におい
て、レーザダイオード２の垂直方向（実際には、図１例
中、紙面と直交する方向）の発光ストライプ幅ｄLDV は
約１μｍであり、像高成分はほとんど無視できることか
ら、垂直横方向はコリメータレンズ１３を通過後平行ビ
ームになっている。しかし、水平横方向は像高成分（水
平方向の発光ストライプ幅ｄLDH ）のためにコリメータ
レンズ１３を通過後も広がったビームとなり（図１例で
は、コリメータレンズ１３の焦点距離ｆ1Aが４．５ｍｍ
であり、発光ストライプ幅ＤLDH が２００μｍであるの
で、上述のように、２．５゜の発散角を有する。）、対
物レンズ１４への結合効率の悪化、対物レンズ１４の実
効ＮＡの低下から焦点深度が浅くなる。
て、レーザダイオード２の垂直方向（実際には、図１例
中、紙面と直交する方向）の発光ストライプ幅ｄLDV は
約１μｍであり、像高成分はほとんど無視できることか
ら、垂直横方向はコリメータレンズ１３を通過後平行ビ
ームになっている。しかし、水平横方向は像高成分（水
平方向の発光ストライプ幅ｄLDH ）のためにコリメータ
レンズ１３を通過後も広がったビームとなり（図１例で
は、コリメータレンズ１３の焦点距離ｆ1Aが４．５ｍｍ
であり、発光ストライプ幅ＤLDH が２００μｍであるの
で、上述のように、２．５゜の発散角を有する。）、対
物レンズ１４への結合効率の悪化、対物レンズ１４の実
効ＮＡの低下から焦点深度が浅くなる。
【００７１】この像高成分の影響を低減するためには、
コリメータレンズ１３の焦点距離を長くする、又はコリ
メータレンズ１３から対物レンズ１４までの光路長を短
くすればよいが、装置が大形化してしまい、又上述の対
物レンズ１４を駆動するためのオートフォーカス機構の
付加等で不利になる。
コリメータレンズ１３の焦点距離を長くする、又はコリ
メータレンズ１３から対物レンズ１４までの光路長を短
くすればよいが、装置が大形化してしまい、又上述の対
物レンズ１４を駆動するためのオートフォーカス機構の
付加等で不利になる。
【００７２】図７は、このような問題を一層するための
本発明の他の実施例のレーザヘッド２２Ａの構成を示し
ている。なお、この図７において、図１に示したものと
同一のものには同一の符号を付けてその詳細な説明を省
略する。
本発明の他の実施例のレーザヘッド２２Ａの構成を示し
ている。なお、この図７において、図１に示したものと
同一のものには同一の符号を付けてその詳細な説明を省
略する。
【００７３】この図７例では、アナモルフィックプリズ
ム１５Ａを構成する三角プリズム１６Ａのハッチングで
示す不要部分３０（三角プリズム１６Ａの斜面側面の一
部と底面側面の一部等で形成される三角柱部分）を切断
除去している。
ム１５Ａを構成する三角プリズム１６Ａのハッチングで
示す不要部分３０（三角プリズム１６Ａの斜面側面の一
部と底面側面の一部等で形成される三角柱部分）を切断
除去している。
【００７４】このようにすれば、アナモルフィックプリ
ズム１５Ａの第１面（切断除去された三角プリズム１６
Ａの斜面側面）までの光路長が、約１３ｍｍから約５ｍ
ｍに短くすることができる。このようにすることで、像
高成分による発散角の影響を相当に小さくすることがで
き、対物レンズ１９への結合効率の向上及び対物レンズ
１９の実効ＮＡの増加が図れる。焦点深度の低下も最小
限に抑制することができる。もちろん対物レンズ１９の
オートフォーカス等への拡張性が良好なことはいうまで
もない。なお、図７中、アナモルフィックプリズム１５
Ａの光軸方向の長さＸ1 は約２４ｍｍであり、光軸方向
と直交する方向の高さＹ1 は約１７ｍｍである。
ズム１５Ａの第１面（切断除去された三角プリズム１６
Ａの斜面側面）までの光路長が、約１３ｍｍから約５ｍ
ｍに短くすることができる。このようにすることで、像
高成分による発散角の影響を相当に小さくすることがで
き、対物レンズ１９への結合効率の向上及び対物レンズ
１９の実効ＮＡの増加が図れる。焦点深度の低下も最小
限に抑制することができる。もちろん対物レンズ１９の
オートフォーカス等への拡張性が良好なことはいうまで
もない。なお、図７中、アナモルフィックプリズム１５
Ａの光軸方向の長さＸ1 は約２４ｍｍであり、光軸方向
と直交する方向の高さＹ1 は約１７ｍｍである。
【００７５】また、この発明は上記の実施例に限らずこ
の発明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得る
ことはもちろんである。
の発明の要旨を逸脱することなく種々の構成を採り得る
ことはもちろんである。
【００７６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、コリメータレンズと上記対物レンズとの間に配され
たビーム整形手段により版シートに照射されるレーザビ
ームの焦点深度を深くしている。このため、高解像度化
に対応することが容易になるという効果が達成される。
ば、コリメータレンズと上記対物レンズとの間に配され
たビーム整形手段により版シートに照射されるレーザビ
ームの焦点深度を深くしている。このため、高解像度化
に対応することが容易になるという効果が達成される。
【００７７】ビーム整形手段としてアナモルフィックプ
リズムを使用した場合、そのアナモルフィックプリズム
の不要部分を切断して上記レーザ光源から版シートまで
の距離が短くなるようにしているので、レーザ光源の像
高によるコリメータレンズ後の発散角の補正を行うこと
ができるという効果が達成できる。
リズムを使用した場合、そのアナモルフィックプリズム
の不要部分を切断して上記レーザ光源から版シートまで
の距離が短くなるようにしているので、レーザ光源の像
高によるコリメータレンズ後の発散角の補正を行うこと
ができるという効果が達成できる。
【図１】この発明によるレーザ製版装置の一実施例の要
部構成を示す線図である。
部構成を示す線図である。
【図２】この発明によるレーザ製版装置の全体構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図３】レーザビームの垂直方向についてのレンズの実
効ＮＡの説明に供される線図である。
効ＮＡの説明に供される線図である。
【図４】レーザビームの水平方向についてのレンズの実
効ＮＡの説明に供される線図である。
効ＮＡの説明に供される線図である。
【図５】レーザダイオードの非点隔差の説明に供される
線図である。
線図である。
【図６】その非点隔差の補正の説明に供される線図であ
る。
る。
【図７】この発明によるレーザ製版装置の他の実施例の
要部構成を示す線図である。
要部構成を示す線図である。
【図８】従来の技術の説明に供される線図である。
【図９】レンズの実効ＮＡの説明に供される線図であ
る。
る。
２ レーザダイオード ５，６ レーザビーム １３ コリメータレンズ １４ 対物レンズ １５ アナモルフィックプリズム ２０ 版シート ｄLDH 発光ストライプ幅 ｄH 焦点ストライプ幅
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41C 1/05 G02B 27/09
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
をコリメータレンズ及び対物レンズを介して版シートに
照射して刷版を作成するレーザ製版装置において、 上記コリメータレンズと上記対物レンズとの間にアナモ
ルフィックプリズムを配し、 上記アナモルフィックスプリズムの倍率ｍは、次式で規
定される ｍ≧０．６（ｄ LDH ／ｄ H ） ここて、ｄ LDH ：発光ストライブ幅 ｄ H ：焦点ストライブ幅 ことを特徴とするレーザ製版装置。 - 【請求項２】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
をコリメータレンズ及び対物レンズを介して版シートに
照射して刷版を作成するレーザ製版装置において、 上記コリメータレンズと上記対物レンズとの間に上記版
シートに照射されるレーザビームの焦点深度を深くする
ビーム整形手段を配し、 上記レーザ光源から版シートまでの距離が短くなるよう
に上記アナモルフィックプリズムの不要部分を切断した
ことを特徴とするレーザ製版装置。 - 【請求項３】 レーザ光源から出射されたレーザビーム
をコリメータレンズ及び対物レンズを介して版シートに
照射して刷版を作成するレーザ製版装置において、 上記コリメータレンズと上記対物レンズとの間に上記版
シートに照射されるレーザビームの焦点深度を深くする
ビーム整形手段を配し、 上記ビーム整形手段がアナモルフィックプリズムであ
り、 上記レーザ光源から版シートまでの距離が短くなるよう
に上記アナモルフィックプリズムの不要部分を切断した
ことを特徴とするレーザ製版装置。
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