JP2011059559A - マルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 副走査断面内において、回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、該複数の入射光学系に対応して設けた複数の発光部有する光源手段を有するマルチビーム光走査装置において、斜め上方向に配置された光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、斜め下方向に配置された光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とを、それぞれ副走査方向で互いに異ならせていること。
【選択図】 図1
Description
前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、の差が偶数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束を発する光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で互いに異ならせていることを特徴としている。
[実施例1]
図1(A)は、本発明の実施例1のマルチビーム光走査装置を主走査方向から見た要部概略図(主走査断面図)である。図1(B)は、本発明の実施例1のマルチビーム光走査装置をカラーレーザビームプリンタやデジタルカラー複写機等の画像形成装置に適用したときの副走査方向の要部断面図(副走査断面図)である。なお、図1(B)においては、光偏向器(回転多面鏡)5から被走査面7までの光路を示している。図2(A)は、本発明の実施例1におけるマルチビーム光源手段を使用した入射光学系LAの説明図である。図2(A)では光走査装置を画像形成装置に適用したときの2つの発光部1a、1b〜光偏向器5までの副走査方向の要部を示している。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6から遠ざかる方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向の上方にずれた位置から偏向走査されてb1'の方向に反射される。従って、被走査面7上においては位置7bに対して副走査方向で下方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して広くなる。図4(A)は図1(B)のCの色の被走査面7上(図1(A)の右側の被走査面7に相当する)において走査終了側(図1(A)の右側の被走査面7において下側)を走査しているときの主走査断面図である。かつ2本の光束a、bの主光線が偏向面5aで反射される様子を示す主走査断面図である。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6に近づく方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向下方にずれた位置から偏向走査されてb1’の方向に反射される。従って、被走査面7上においては位置7bに対して副走査方向で上方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6から遠ざかる方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向下方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。従って、被走査面7上においては位置7bに対して副走査方向で上方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して狭くなる。図6(A)は、図1(B)のKの色の被走査面7上(図1(A)の右側の被走査面7に相当する)において走査開始側(図1(A)の右側の被走査面7において下側)を走査しているときの主走査断面図である。かつ2本の光束a、bの主光線が偏向面5aで反射される様子を示す主走査断面図である。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6に近づく方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向の上方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。従って、被走査面7上においては位置7bに対して副走査方向で下方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して広くなる。その結果として、図7(A)に示すように、被走査面7上において走査開始側では2つの発光部1a、1bから出射した光束a、bによる走査線の間隔が所望の間隔よりも狭くなり、走査終了側では広くなることになる。
図10(A)は、本発明の実施例2のマルチビーム光走査装置を主走査方向から見た要部概略図である。図10(B)は、本発明の実施例2のマルチビーム光走査装置を画像形成装置に適用したときの副走査方向の要部断面図である。なお、図10(B)においては、光偏向器5から被走査面7までの光路を示している。図10(C)は、本発明の実施例2におけるマルチビーム光源を使用した入射光学系LAの説明図である。図10(C)では光走査装置を画像形成装置に適用したときの2つの発光部1a、1bから光偏向器5までの副走査方向の要部を示している。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7-1上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6から遠ざかる方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向下方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。従って、被走査面7-1上においては位置7bに対して副走査方向で上方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7-1上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して狭くなる。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7-1上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6に近づく方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向の上方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。従って、被走査面7-1上においては位置7bに対して副走査方向で下方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7-1上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して広くなる。その結果として、図13(A)に示すように、被走査面7-1上において走査開始側では2つの発光部1a、1bから出射した光束a、bによる走査線の間隔が所望の間隔よりも狭くなり、走査終了側では広くなることになる。
図14(D)は、被走査面7-2上において走査開始側(図10(A)の上側)を走査しているときの2本の光束a、bの主光線が偏向面5aで反射される様子を示す主走査断面図である。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7-2上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは、以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6から遠ざかる方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向の上方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。従って、被走査面7-2上においては位置7bに対して副走査方向で下方にずれた位置7b'の位置に結像されてしまう。つまり、被走査面7-2上における走査線の間隔が解像度から決定された所望の間隔(42.33μm)に対して狭くなる。
25.4/600=0.04233mm=42.33μm
に設定されている。ところが、主走査方向に先行する光束aが被走査面7-2上に結像する主走査方向の位置に、後行する光束bの主走査方向の結像位置を合わせる様に所定時間δTだけタイミングをずらしたときの偏向面5b(点線で示す)で反射された光束bは以下のようになる。つまり光束bは、このときの偏向面5bがfθレンズ系6に近づく方向にずれているため、偏向面5b上で副走査方向下方にずれた位置から偏向走査されて矢印b1’の方向に反射される。
前述した本発明の実施例1、2は、ともに2つの発光部から構成されるマルチビーム光源手段を使用していたが、本発明の実施例3は、光源手段として4つの発光部から構成されるマルチビーム光源を使用している。図17(A)に、図1(B)におけるCの感光体7に対応した入射光学系における4つの発光部1a、1b、1c、1dの配置を示す。なお、この配置は図1(B)の矢印O方向から見たときの配置である。ここで、感光体7上の先頭ラインの印字に対応する発光部は1aである。実施例1では、図4(C)、(D)で説明したように、Cの感光体7上において走査開始側では2つの発光部1a、1bから出射した光束による走査線の間隔が所望の間隔よりも広くなり、走査終了側では狭くなる。これと同様、4つの発光部1a、1b、1c、1dを用いた実施例3の場合にも同様の現象が発生することは容易に理解できよう。
前述した本発明の実施例1、2、3は、ともに副走査方向の上下(回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向)から所定の角度を成してそれぞれ複数の光束が偏向面に入射されるよう入射光学系が配置されている構成であった。本発明の実施例4は、複数の入射光学系が副走査方向の同じ方向(実施例4では副走査方向の上方向)から所定の角度を成して配置されている構成としている。図21(A)は、本発明の実施例4のマルチビーム光源手段を使用した斜入射光学系を用いた光走査装置を画像形成装置に適用したときの、複数の発光部1a、1bから光偏向器5までの副走査方向の要部断面図である。
Claims (13)
- 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、主走査方向に間隔を有する複数の発光部を有する光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が偶数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で互いに異ならせていることを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 前記光源手段は、複数の発光部が同一基板上に形成されたモノリシックなマルチビーム半導体レーザーであることを特徴とする請求項1に記載のマルチビーム光走査装置。
- 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、少なくとも1つの発光部を有する、複数の光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記複数の入射光学系は、それぞれ対応する複数の光源手段からそれぞれ出射した少なくとも1つの光束を同一方向に出射せしめるビーム合成手段を有しており、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が偶数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で互いに異ならせていることを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、主走査方向に間隔を有する複数の発光部を有する光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記回転多面鏡とそれぞれの被走査面との間の光路の全ての光路中には、副走査方向に光路を折り曲げる光路折り曲げ手段が少なくとも1つ配置されており、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が奇数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で同じにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 前記光源手段は、複数の発光部が同一基板上に形成されたモノリシックなマルチビーム半導体レーザーであることを特徴とする請求項4に記載のマルチビーム光走査装置。
- 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、少なくとも1つの発光部を有する、複数の光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記複数の入射光学系は、それぞれ対応する複数の光源手段からそれぞれ出射した少なくとも1つの光束を同一方向に出射せしめるビーム合成手段を有しており、前記回転多面鏡とそれぞれの被走査面との間の光路の全ての光路中には、副走査方向に光路を折り曲げる光路折り曲げ手段が少なくとも1つ配置されており、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が奇数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め上方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して斜め下方向から入射する光束を発する前記複数の光源手段のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で同じにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して共に斜め上方向からまたは共に斜め下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、主走査方向に間隔を有する複数の発光部を有する光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が偶数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で同じにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 前記光源手段は、複数の発光部が同一基板上に形成されたモノリシックなマルチビーム半導体レーザーであることを特徴とする請求項7に記載のマルチビーム光走査装置。
- 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して共に斜め上方向からまたは共に斜め下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、少なくとも1つの発光部を有する複数の光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記複数の入射光学系は、それぞれ対応する複数の光源手段からそれぞれ出射した少なくとも1つの光束を同一方向に出射せしめるビーム合成手段を有しており、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が偶数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で同じにしたことを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して共に斜め上方向からまたは共に斜め下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、主走査方向に間隔を有する複数の発光部を有する光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が奇数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で互いに異ならせていることを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 前記光源手段は、複数の発光部が同一基板上に形成されたモノリシックなマルチビーム半導体レーザーであることを特徴とする請求項10に記載のマルチビーム光走査装置。
- 光束を偏向走査する回転多面鏡と、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面に、該回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して共に斜め上方向からまたは共に斜め下方向から、それぞれ有限の角度を成して光束を入射させる、複数の入射光学系と、前記複数の入射光学系に対応してそれぞれ設けられ、少なくとも1つの発光部を有する複数の光源手段と、前記回転多面鏡の偏向面で偏向走査された複数の光束をそれぞれ対応する被走査面上に結像させる、複数の結像光学系と、を有し、副走査断面内において、前記回転多面鏡の偏向面と前記被走査面とを共役な関係としたマルチビーム光走査装置において、
前記複数の入射光学系は、それぞれ対応する複数の光源手段からそれぞれ出射した少なくとも1つの光束を同一方向に出射せしめるビーム合成手段を有しており、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数と、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束に対応する前記回転多面鏡と前記被走査面との間の副走査方向の光路折り返し回数との差が奇数であり、前記複数の被走査面上の先頭ラインの画像データを書き始める発光部を、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して一方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部と、前記光源手段のうち、前記回転多面鏡の回転軸に垂直な面に対して他方の斜め上方向または斜め下方向から入射する光束を発する前記光源手段の複数の発光部のうち、副走査方向の先頭ラインの印字に対応する発光部とで、それぞれ副走査方向で異ならせていることを特徴とするマルチビーム光走査装置。 - 請求項1乃至12のいずれか1項に記載のマルチビーム光走査装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴とする画像形成装置。
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