JP2008026541A - 光ビーム走査装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】同時走査させる光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、繰り返し走査されるときの境界部分の光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、の双方に起因する異なる性質の濃度むらを一括して補正することで、画質の安定化を図る。
【解決手段】主走査ラインの弓状の湾曲であるBOWとBOW差に起因する同時走査ライン間の主走査方向のピッチ変動による濃度差と、繰り返し走査ラインの境界の主走査方向のピッチ変動による濃度差と、がそれぞれ相反する濃度変化が発生するにも関わらず、容易にかつ、同時に補正することで、濃度むらによる画質低下を防止することができる。
【選択図】図3

Description

本発明は、主走査方向及び副走査方向にそれぞれ所定の間隔を持って設けられ、それぞれ光ビームを出力する複数の発光点を備えた光源と、前記光源から出力された複数の前記光ビームを同一の偏向面で反射させ、主走査方向に繰り返し偏向走査する偏向器と、前記光源と前記偏向器と間で複数の前記光ビームを副走査方向に集光させる集光光学系とを備え、特に、偏向走査された複数の前記光ビームを異なる像担持体へ案内し、複数の像担持体に対して、同時に走査する光ビーム走査装置に関するものである。
プリント速度の高速化、高解像度化のために複数の光ビームを射出する光源を用いた光ビーム走査装置がある。このような光ビーム走査装置において、複数の光ビーム(複数の光源、或いは複数の発光点を持つ光源)を配列し、同時に複数の感光体上を複数の光ビームで走査することが提案されている。
この場合、光ビームを偏向手段である回転多面鏡(ポリゴンミラー等)の偏向面上に入射する光ビームの光軸が平行であるのが一般であるが、光軸が平行であると、複数の感光体へ案内するため、回転多面鏡の副走査方向の寸法(回転軸方向であり、厚さ方向)が拡大される。このため回転多面鏡全体が大きくなってしまい、回転時の負荷が大きいため、高速回転に不向きであり、信頼性が低下する。
このため、副走査方向にパワーを持った偏向前光学系を回転多面鏡の前に配置し、複数の光ビームを回転多面鏡の偏向面の近傍で副走査方向に集光するよう、入射角を持たせることが考えられる。これにより、回転多面鏡の厚さ方向の寸法を小さく(すなわち、薄く)することができ、高速回転に対応させることができる。
ここで、偏向前光学系により、光ビームに入射角があると、主走査時の光ビームの軌跡が弓状に湾曲する(以下、「BOW」という場合がある)。
また、複数の光ビームが同時に走査させる場合、前記回転多面鏡への斜め入射に起因して、各光ビームの弓状の湾曲率が異なり(以下、湾曲率の差を「BOW差」という場合がある)、主走査方向の各位置でビームの相対位置関係がずれることになる(図9(A)参照)。
さらに、BOW及びBOW差による光ビームの相対位置変化は、主走査開始タイミングの補正を行った場合に、副走査方向のピッチずれとなる(図9(B)参照)。
上記BOW又はBOW差に関する関連技術、特許文献1及び特許文献2のような技術が提案されている。
特許文献1は、マルチビームにおいて、走査レンズの光軸を離れた場所を通過することによるBOW差に対して、走査レンズに補正屈折面を持つことにより補正することが開示されている。
特許文献2は、BOWが、走査線ピッチの0.8倍未満かSAGビームの0.6倍未満となるようにすることにより、走査線間隔の変動が発生しても濃度むらが目立たないようにすることが開示されている。
特開平11−109266号公報 特開2004−012568公報
しかしながら、複数ビームを所定の入射角度を持って回転多面鏡に入射させ、複数の感光体に分散する走査系では、同時に走査される光ビームの副走査方向のピッチずれの変化方向(以下、「第1の方向」という)は、走査開始側(SOS側)から走査中間点(COS)を経て走査終了側(EOS側)にかけて一定ではなく、偏向器に対する入射方向んいより徐々に狭まる、若しくは拡がる傾向にある。
これに対して、繰り返し走査される光ビーム群間の境界の副走査方向のピッチずれ変化方向(以下、「第2の方向」という)は、SOS側からCOSを経てEOS側にかけて第1の方向におけるピッチずれ変化方向とは反対になる傾向にある。
すなわち、図10(A)及び(B)に示される如く、第1の方向と第2の方向とは濃度変化が相反することになり、単純な濃度調整では対応しきれない状況下にある。
本発明は上記事実を考慮し、同時走査させる光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、繰り返し走査されるときの境界部分の光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、の双方に起因する異なる性質の濃度むらを一括して補正することで、画質の安定化を図ることができる光ビーム走査装置を得ることが目的である。
本発明は、主走査方向及び副走査方向にそれぞれ所定の間隔を持って設けられ、それぞれ光ビームを出力する複数の発光点を備えた光源と、前記光源から出力された複数の前記光ビームを同一の偏向面で反射させ、主走査方向に繰り返し偏向走査する偏向器と、前記光源と前記偏向器と間で複数の前記光ビームを副走査方向に集光させる集光光学系と、前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、同時に主走査された主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量に基づいて、光ビームの光量を補正する同時走査ピッチ補正手段と、前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、複数の光ビーム群単位で繰り返し主走査されるときの前記光ビーム群間の境界に対応する主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量に基づいて、光ビームの光量を補正する繰り返し走査ピッチ補正手段と、を有している。
本発明によれば、光源の複数の発光点から光ビームを照射し、同一の偏向器に入射させるとき、集光光学系では、光ビームを副走査方向に偏向するため、複数の光ビームが集光する。これにより、偏向器の副走査方向の寸法(厚さ)を小さく(薄く)することができる。
ところで、このように偏向器への入射が、副走査方向に傾斜していると、主走査方向の光ビームの走査軌跡が弓状に湾曲し、複数の光ビームが同時走査されると、これらの湾曲率が異なる。
さらに、発光点の相対位置関係に基づいて、複数の光ビームにおける主走査開始タイミングを電気的に補正する必要があり、この結果、光ビームの弓状の湾曲が冗長される。
上記主走査方向の走査軌跡の弓状湾曲、並びに光ビーム毎の湾曲率の差は、濃度むらの原因となっている。
そこで、同時走査ピッチ補正手段では、前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、同時に主走査された主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量(第1の濃度むら)に基づいて、光ビームの光量を補正する。
また、繰り返し走査ピッチ補正手段では、同時走査ピッチ補正手段と、前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、複数の光ビーム群単位で繰り返し主走査されるときの前記光ビーム群間の境界に対応する主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量(第2の濃度むら)に基づいて、光ビームの光量を補正する。
上記第1の濃度むらと第2の濃度むらは、主走査方向において、互いに相反する濃度変化が発生するが、本発明ではこれら性質の異なる濃度むらを一括して補正することができる。
上記発明において、前記光ビームの光量の補正を、光ビームの強度調整又はパルス幅変調の少なくとも一方の制御により実行することを特徴としている。
光ビームの光量の補正は、実際には、感光体等の像担持体における露光量であり、露光量は、光量×時間で表すことができ、この何れの要件、すなわち光量自体の強度を対象として補正してもよいし、発光時間(パルス幅変調)を対象として補正してもよい。
また、本発明において、前記偏向走査された複数の前記光ビームを異なる像担持体へ案内し、複数の像担持体に対して、同時に走査することを特徴としている。
異なる像担持体へ案内するためには、前記偏向器への入射角度が大きくなり、本発明の濃度むら補正が有効となる。
以上説明した如く本発明では、同時走査させる光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、繰り返し走査されるときの境界部分の光ビームの走査軌跡における弓状湾曲率の差と、の双方に起因する異なる性質の濃度むらを一括して補正することで、画質の安定化を図ることができるという優れた効果を有する。
図1に示すように、カラーレーザープリンタに備えられた光ビーム走査装置10は、それぞれ矢印V方向に回転する感光体12Y、12M、12C、12Kに、それぞれ光束群としてのレーザビーム群LY、LM、LC、LKを照射して潜像を形成する。感光体12Y、12M、12C、12Kに形成された潜像は、図示しない各色の現像器によって、それぞれイエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、及びブラック(K)のトナー像が形成される。そして、各感光体上の各色トナー像は図示しない中間転写体に転写され重ね合われてフルカラートナー像となる。そして、中間転写体上のフルカラートナー像は一括して普通紙等の記録媒体に転写される。
なお、これ以降、YMCKを区別する場合は、符号の後にY、M、C、Kのいずれかを付して説明し、YMCKを区別しない場合は、Y、M、C、Kを省略する。
光ビーム走査装置10は、光源(面発光レーザービームアレイ)14、偏向前光学系16、偏向器としての回転多面鏡18、及び走査光学系20で構成され、単一の光源14から複数のレーザビーム群LY、LM、LC、LK(本実施の形態では、各色8個×4色=32個の発光点)を射出して、走査光学系において各レーザビーム群を分離して4本の感光体12Y、12M、12C、12Kに結像走査させる。
なお、感光体12において、回転軸線方向が主走査方向であり、回転方向が副走査方向である。また、光ビーム走査装置10の回転多面鏡18の回転による偏向走査方向が主走査方向に対応する方向であり、偏向走査方向に直交する方向が副走査方向に対応する方向である。
光源14は、前述の如く、8列×4行の合計32個の発光点Pが主走査方向、及び副走査方向の2次元に配列された面発光レーザービームアレイである。
図2(A)に示すように、光源14の副走査方向には、それぞれが8個の発光点Pで構成される4群の発光点群PK、PC、PM、PYが副走査方向に配列されている。各発光点群は、主走査方向、及び副走査方向に対して傾斜して直線状に配列された8個の発光点Pで構成されている。即ち、各発光点群を構成する全発光点は、主走査方向、又は副走査方向の同一直線上に配列されてはいない。
発光点群PK、PC、PM、PYは、それぞれレーザビーム群LK、LC、LM、LYを射出する。また、図2(B)にも示すように、それぞれのレーザビーム群は、それぞれ8本のレーザビームLK1〜LK8,LC1〜KC8,LM1〜LM8、LY1〜LY8からなる。そして、各レーザビーム群の8本のレーザビームは、感光体12を同時に走査する。
なお、以降各色を区別しない場合、レーザビーム群Lと記し、レーザビームL1〜L8と記す。
さて、図1に示すように、偏向前光学系16は、それぞれ4群のレーザビーム群Lに共通のコリメートレンズ22、第一偏向前レンズ24、第二偏向前レンズ26、シリンダーレンズ27で構成されている。
光源14から射出されたレーザビーム群Lの各光ビームL1〜L8は、コリメートレンズ22、及び第一偏向前レンズ24、第二偏向前レンズ26によって、回転多面鏡18の偏向面18A近傍で主走査方向及び副走査方向に略一点で交差した後、偏向面18Aに入射する。
走査光学系20は、レーザビーム群LK、LC、LM、LYが通過するfθレンズ群28を備えている。
fθレンズ群28は、レーザビームL1〜L8を感光体12上を等速度で走査させる、所謂fθ特性を備えたレンズ群である。
fθレンズ群28の下流側には、各レーザビーム群毎に設けられた第1平面ミラー34Y、34M、34C、34K、及び第2平面ミラー36Y、36M、36C、36Kが設けられている。
第1平面ミラー34Y、34M、34C、34Kは、fθレンズ群28を透過し平面ミラー群30へ入射した各レーザビーム群Lを反射する。また、第2平面ミラー36Y、36M、36C、36Kは、第1平面ミラー34Y、34M、34C、34Kによって反射された各レーザビーム群Lを各感光体12へ向って反射する。
ここで、本実施の形態では、面発光タイプの光源14(面発光レーザービームアレイ)による複数本同時主走査、並びに、回転多面鏡18への入射時の副走査方向の傾斜角度によって発生する主走査軌跡の弓状の湾曲(BOW)と、発光点の相対位置、並びに主走査開始タイミングの電気的補正に起因する主走査の開始走査(SOS)から中間点走査(COS)を経て終了走査(EOS)へ至るまでの副走査方向のピッチの変動(BOW差)と、によって発生する濃度むらを、主走査時の前記SOS→COS→EOSに従い光量を変更することで補正している。
すなわち、図10(B)に示される、濃度変化に相反するような濃度調整(図3参照)を実行している。この濃度調整のため、図4に示される如く、主走査時の各位置でのビームの光量を増減するようにした(図4では、面積の大きさで濃度を示している)。
これを実現するために、図5に示される如く、光源14の各発光点を点灯させるためのLD駆動回路100において、駆動電流を増減するようにしている。
図5に示される如く、LD駆動回路100は、画像処理制御部102から画像データ信号D1〜Dn(nは発光点数であり、本実施の形態ではn=32となる)と、制御信号C1〜Cm(mは正の整数)とを受ける信号振分部104を備えている。
信号振分部104では、入力された画像データ信号(例えば、シリアル信号)を各発光点毎に振分けて(例えば、パラレル信号)出力する役目を有している。なお、制御信号は、デフォルトの駆動電流や、プロセスコントロール時の補正データ、特別な電流値の指示等に適用される。
LD駆動ドライバ106では、画像データに基づいて、発光点をオン・オフする電流信号を生成し、当該電流信号を駆動電流減少加減算部108及び駆動電流増加加減算部110へ送出する。
ここで、駆動電流減少加減算部108には、画像データ信号D2〜Dn−1が入力され、駆動電流増加加減算部110には、画像データD1、Dnが入力されるようになっている。
駆動電流減少加減算部108は、クロック信号が入力された駆動電流大→小変更指示部112からの信号に基づいて、出力される駆動電流を、SOS側では基準値(ref.)よりも大きくし、COSで基準値とし、かつEOS側では基準値よりも小さくするような徐々に駆動電流が減少する傾斜とする。
また、駆動電流増加加減算部110は、クロック信号が入力された駆動電流小→大変更指示部114からの信号に基づいて、出力される駆動電流を、SOS側では基準値(ref.)よりも小さくし、COSで基準値とし、かつEOS側では基準値よりも大きくするような徐々に駆動電流が増加する傾斜とする。
このような駆動電流の制御により、図3に示されるような補正制御パターンとなり、この補正制御パターンは、図10(B)に示される濃度パターンと相反するものであるため、結果として濃度変化を少なくすることができる。
以下に、本実施形態の作用を説明する。
画像形成指示があると、回転多面鏡18の回転を開始し、感光体12を所定の速度で回転させる。
そして、感光体12が所定の速度で安定すると画像形成走査制御を開始する。その後、光源14の各発光点Pからは、光ビームの出射が開始される。
そして、SOSセンサ(図示省略)より主走査同期信号が入力するタイミングを基準として、読み込んだ画像データに基づいて変調信号を生成し、光源14の各発光点Pを点灯制御する。
この光ビームは、コリメートレンズ22、第一偏向前レンズ24、第二偏向前レンズ26、シリンダーレンズ27を介して、回転多面鏡18の偏向面18Aに入射する。
この回転多面鏡18の偏向面18Aへの入射は、主走査方向及び副走査方向に略一点で集光するように入射角度を持って入射する。
偏向面18Aで反射した光ビームは、fθレンズ群28を通過Mし、第1平面ミラー34Y、34M、34C、34K、及び第2平面ミラー36Y、36M、36C、36Kを介して、各感光体12へ案内する。
これにより、感光体12の周面上には1回の走査毎に8本の走査ラインが同時に走査され、感光体12の周面上に静電潜像が形成される。
この静電潜像が、例えば、現像器によりトナー像として現像され、このトナー像が一次転写部、二次転写部等を介して転写されていき、最終的に記録用紙に画像が記録され、定着後に排出される。
ところで、面発光タイプの光源14による複数本同時主走査を行う場合、本実施の形態のように、複数の感光体12に光ビームを分散する必要があると、回転多面鏡18への入射時の副走査方向の傾斜角度が大きくなり、主走査軌跡の弓状の湾曲(BOW)と、主走査方向にわたっての副走査方向のピッチの変動(BOW差)と、によって主走査方向のピッチむらが発生している。
このピッチむらは、同時に主走査される複数の光ビームのピッチ変動と、繰り返し主走査される境界でのピッチ変動とがあり、これらは互いに相反する増減特性となっている(図9(B)参照)。このピッチ差が濃度むらの原因となっている。
このため、LD駆動回路100では、前記境界に対応する光ビームの画像データD1、Dnと、それ以外の画像データD2〜Dn−1と、に対して別個に光量変更指示を行う。
すなわち、主走査時の前記SOS→COS→EOSに従い光量を変更するとき、図10(B)に示される、濃度変化に相反するような濃度調整(図3参照)を実行している。
図5に示される如く、信号振分部104で画像データ信号(例えば、シリアル信号)を受信すると、各発光点毎に振分けて(例えば、パラレル信号にして)、LD駆動ドライバ106へ出力する。
LD駆動ドライバ106では、画像データに基づいて、発光点をオン・オフする電流信号を生成し、当該電流信号を駆動電流減少加減算部108及び駆動電流増加加減算部110へ送出する。
駆動電流減少加減算部108は、駆動電流大→小変更指示部112からの信号に基づいて、出力される駆動電流を、SOS側では基準値(ref.)よりも大きくし、COSで基準値とし、かつEOS側では基準値よりも小さくするような傾斜とする。
また、駆動電流増加加減算部110は、駆動電流小→大変更指示部114からの信号に基づいて、出力される駆動電流を、SOS側では基準値(ref.)よりも小さくし、COSで基準値とし、かつEOS側では基準値よりも大きくするような傾斜とする。
このような駆動電流の制御により、図3に示されるような補正制御パターンが生成され、この補正制御パターンは、図10(B)に示される濃度パターンと相反するものとなる。これにより、主走査方向に亘ってBOW差によって変化する隙間に関係なく濃度を一定とすることができると共に、繰り返し走査される境界部分での隙間の変化に関係なく濃度をほぼ一定にすることができる。
以上説明したように本実施の形態では、BOWとBOW差に起因する同時走査ライン間の主走査方向のピッチ変動による濃度差と、繰り返し走査ラインの境界の主走査方向のピッチ変動による濃度差と、がそれぞれ相反する濃度変化が発生するにも関わらず、容易にかつ、同時に補正することで、濃度むらによる画質低下を防止することができる。
なお、本実施の形態では、LD駆動回路部において、光源14の各発光点Pの駆動電流を制御して、光量調整を行ったが(すなわち、強度変調)、図6に示される如く、パルス幅変調によって光量調整を行ってもよい。
このパルス幅変調の場合は、図6に示される如く、画像処理制御部102において、クロック信号に基づいてパルス幅を設定すればよいため、LD駆動回路100は従前のままの構成が適用可能となる。
すなわち、画像処理制御部102には、クロック信号が入力され、パルス幅制御部116と、制御信号生成部118とに入力されている。パルス幅制御部116には、画像データが入力されるようになっており、クロック信号に基づいて各画像信号に対して所定のパルス幅を設定し、画像信号生成部120へ送出する。
画像信号生成部120では、ドット単位でのパルス幅が決められた画像データが生成され、画像信号出力部122を介してLD駆動回路部100へ送出される。なお、制御信号生成部118で生成された制御信号は、制御信号出力部124を介してLD駆動回路部100へ送出される。
(変形例)
以下、本発明が適用可能な光ビーム走査装置の変形例を図7及び図8に従い説明する。
図7は、変形例に係る画像形成装置の光ビーム走査装置10Aが示されている。
この変形例に係る光ビーム走査装置10Aの特徴は、複数の光ビームを同時に、単一の回転多面鏡150に入射させ、fθレンズ152を透過した後の光ビームを異なる感光体ドラム154、156(図7(B)参照)へ案内する光学系を備えていることにある。
図7(A)は、光ビーム走査装置10Aの一部を示しており、この図7(A)の光ビーム走査装置10Aはブラック(k)色と、シアン(C)色の画像データに対応するものである。すなわち、その他の色、マゼンタ(M)色とイエロー(Y)色の画像データに対応する同一構造の光ビーム走査装置(図示省略)が併設して存在することになる。
ここで、図8に示される如く、2個の光ビーム走査装置は、それぞれ30個の発光点Pを持つ光源14CK、14MYを備え、各々2個の感光体を照射対象としている。
以下、ブラック(k)、シアン(C)の感光体ドラム156、154に対応した光ビーム走査装置10Aを例にとり、その構成を説明する。
回路基板160に取り付けられた光源(レーザ発光アレイ)14ACKからは、複数(30個)の発光点Pからそれぞれ光ビームが照射され、コリメータレンズ162を透過してハーフミラー164で反射光と透過光とに分解される。
反射光はレンズ166を介してフォトディテクタ(MPD)168に入力され、プロセスコントロール処理における光量調整されるようになっている。
また、ハーフミラー164を透過する透過光は、シリンドリカルレンズ170を介して、回転多面鏡150へ入射され、その反射光(走査光)がfθレンズ152を透過する。
ここで、このfθレンズ152を透過した光ビームの一部は、反射ミラー172、174を介してシアン(C)用シリンドリカルミラー176に入射し、シアン(C)用の感光体ドラム154へと案内される。
また、fθレンズ152を透過した光ビームの他の一部は、反射ミラー178を介してブラック(k)用シリンドリカルミラー180に入射し、ブラック(k)用の感光体ドラム156へと案内される。
このとき、ブラック(k)用の光ビームがSOSセンサ78に入射する構成となっており、シアン(C)用の光ビームは、ブラック(k)用の光ビームの走査タイミングに依存(同期)することになる。
上記構成の場合、2個の感光体154、156に分散するため、回転多面鏡150への入射角度(副走査方向)は前述した実施の形態によりも小さくなり、BOWの湾曲率は小さくなるが、発光点Pの相対位置関係において、最も離れた発光点P間の距離が増加するため、その分、走査開始タイミング時期の補正量が大きくなり、BOW差が顕著となる。このため、本発明の濃度むら補正が有効となる。
なお、本実施の形態では、複数の光ビームによる主走査において、ノンインタレース走査としたが、インタレース走査においても同様の効果を得ることができる。
本実施の形態に係る光ビーム走査装置を示す斜視図である。 (A)は光ビーム走査装置の光源の発光点の配列を説明する図、(B)は感光体上のレーザビームの走査を説明する図である。 本実施の形態における補正制御(濃度)パターンを三次元的に示した特性図である。 光量をビーム径の大きさで表現したときのSOS→COS→EOSに亘る光量変化特性を示す平面図である。 本実施の形態に係る光量制御(強度変調)のための制御ブロック図である。 本実施の形態の変形例に係る光量制御(パルス幅変調)のための制御ブロック図である。 (A)は本実施の形態の変形例に係る光ビーム走査装置の正面図、(B)は図7(A)の右側面図である。 図7の光ビーム走査装置に適用される光源の平面図である。 光源のBOW及びBOW差の発生原理を示す平面図である。 (A)はBOW及びBOW差に起因する副走査方向のピッチ差を表現する平面図、(B)は、図10(A)における濃度パターンを三次元的に示した特性図である。
符号の説明
10 光ビーム走査装置
12Y、12M、12C、12K 感光体(像担持体)
LY、LM、LC、LK レーザビーム群
14 光源(面発光レーザービームアレイ)
16 偏向前光学系(集光光学系)
18 回転多面鏡(偏向器)
20 走査光学系
P 発光点
22 コリメートレンズ
24 第一偏向前レンズ
26 第二偏向前レンズ
27 シリンダーレンズ
28 fθレンズ群
34Y、34M、34C、34K 第1平面ミラー
36Y、36M、36C、36K 第2平面ミラー
30 平面ミラー群
100 LD駆動回路
102 画像処理制御部
104 信号振分部
106 LD駆動ドライバ
108 駆動電流減少加減算部
110 駆動電流増加加減算部
112 駆動電流大→小変更指示部(同時走査ピッチ補正手段)
114 駆動電流小→大変更指示部(繰り返し走査ピッチ補正手段)

Claims (3)

  1. 主走査方向及び副走査方向にそれぞれ所定の間隔を持って設けられ、それぞれ光ビームを出力する複数の発光点を備えた光源と、
    前記光源から出力された複数の前記光ビームを同一の偏向面で反射させ、主走査方向に繰り返し偏向走査する偏向器と、
    前記光源と前記偏向器と間で複数の前記光ビームを副走査方向に集光させる集光光学系と、
    前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、同時に主走査された主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量に基づいて、光ビームの光量を補正する同時走査ピッチ補正手段と、
    前記光ビームの主走査軌跡が弓状に歪むこと、並びに前記発光点の相対位置関係に起因して実行される主走査開始タイミングの電気的補正により、複数の光ビーム群単位で繰り返し主走査されるときの前記光ビーム群間の境界に対応する主走査ライン間の副走査方向間隔の変位量に基づいて、光ビームの光量を補正する繰り返し走査ピッチ補正手段と、
    を有する光ビーム走査装置。
  2. 前記光ビームの光量の補正を、光ビームの強度調整又はパルス幅変調の少なくとも一方の制御により実行することを特徴とする請求項1記載の光ビーム走査装置。
  3. 前記偏向走査された複数の前記光ビームを異なる像担持体へ案内し、複数の像担持体に対して、同時に走査することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光ビーム走査装置。
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