JPH07111559A - 画像露光装置および画像露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な構成で、しかも簡単な調整作業によ
り、副走査方向におけるビーム間ピッチを均一にするこ
とができ、画像ムラを防止することができ、優れた画像
品質で画像露光を行うことができる画像露光装置および
画像露光方法を提供する。 【構成】 光源ユニット１０が縮小光学系の光軸に平行
な回動軸１５２回りに光源ユニット支持ベース１５０に
対して回動自在となっている。また、その光源ユニット
１０に光源ユニット位置調整機構６０が連結され、外部
より加えられる外力に応じて、光源ユニット１０が回動
軸１５２回りに回動させ、位置決めされる。この光源ユ
ニット１０の位置決めにより、感光フィルム（露光面）
における像の歪が補正され、感光フィルムにおける副走
査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、複数の発光素子から
の光ビームをそれぞれ縮小光学系を介して露光面に照射
して露光処理を行う画像露光装置および画像露光方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、この種の画像露光装置では、
光源ユニットを構成する複数の発光素子（例えば、半導
体レーザーや発光ダイオード等）が等間隔で副走査方向
に配列されたり、主走査方向に対して所定の角度だけ傾
いた方向に等ピッチで配列されていた。そして、このよ
うに配列された発光素子からの光ビームをそれぞれ縮小
光学系を介して感光フィルム（露光面）に照射して所望
の画像を露光するようにしていた。

【０００３】しかしながら、光ビームの数が数十個と多
くなった場合には、従来技術によるビーム配列では光ビ
ームの数に比例して光源ユニットの寸法が大きくなり、
画像露光装置用の光源ユニットとしては実用に耐え得な
いという問題点が生じる。というのも、画像露光装置は
光源ユニットから出射された複数の光ビームのビーム間
ピッチを縮小光学系を介して所定の値にまで縮小した
後、該縮小露光ビームを感光フィルム（露光面）上に照
射することにより、露光処理を行うものであり、使用可
能な縮小光学系（レンズ類）のサイズに応じて光源ユニ
ットのサイズにもおのずと制限が加わるからである。

【０００４】そこで、近年、このような問題を解決すべ
く、種々の提案がなされている。その一つとして、本出
願人の出願にかかる特願平４−２２３４０３号に記載し
た技術がある。この提案にかかる光源ユニットは、図１
３に示すように、画像露光装置の光源ユニットをｍ×ｎ
個（ｍ、ｎはそれぞれ２以上の整数）の発光素子ｂ11，
ｂ12，，，ｂmnで構成したものであり、主走査方向Ｘに
対して垂直な副走査方向Ｙにｎ個の発光素子を等間隔Ｄ
y で配列してなるラインユニットをｍ個準備し、当該ｍ
個のラインユニットＬＵ1 ，，，ＬＵm を主走査方向Ｘ
に等間隔ｄx で、かつ副走査方向Ｙに所定間隔ｄy （＝
Ｄy ／ｍ）ずつ順次ずらしながら配置したものである。
このため、発光素子数の増加に比して光源ユニットの寸
法の増大を小さくすることができ、この光源ユニットを
使用することにより、使用ビーム数が例えば８０本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置の提供が可能と
なる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記提案にかかる光源
ユニットを使用して画像露光装置を構成した場合、この
光源ユニットから出射された複数の光ビームは縮小光学
系に入射され、適当な倍率で縮小された後、感光フィル
ム（露光面）に導かれ、理想的には発光素子ｂ11，ｂ1
2，，，ｂmnの配列パターン（図１３）と相似形のパタ
ーン（図１４）でビームスポットＳ11，Ｓ12，，，Ｓmn
が形成される。したがって、感光フィルムを副走査方向
Ｙに走査しながら、各ラインユニットＬＵ1 ，，，ＬＵ
m 間で、発光素子の駆動タイミングを相対的に遅延させ
ることによって、各発光素子ｂ11，ｂ12，，，ｂmnに対
応するビームスポットＳ11，Ｓ12，，，Ｓmnを感光フィ
ルム上で副走査方向Ｙに伸びる１直線上に一定のビーム
間ピッチＰ（＝Ｐ1 ＝Ｐ2 ）で配列することができる
（図１５（ａ））。このビームスポットの位置を２次元
で描くと、図１５（ｂ）に示すように、等間隔の複数の
ラインと複数の列Ｃの格子点上にビームスポットは形成
される。

【０００６】しかしながら、ビーム間ピッチを均一にす
るには、縮小光学系の光軸と、発光素子ｂ11，ｂ1
2，，，ｂmnから出射される光ビームの方向とが所定の
関係を満足するように光源ユニットおよび縮小光学系を
組み付け、調整する必要があり、仮りにこの関係が満足
されない、例えば縮小光学系の光軸に対して入射するビ
ームが平行でない場合には、図１６に示すように、感光
フィルム（露光面）上に結像される像に歪が発生する。
尚、像の歪具合をわかりやすくするために、この図１６
では、副走査方向Ｙと平行な基準線Ｙ1 ，Ｙ2 を書き入
れている。そのため、歪が生じたままの状態（図１４）
で、上記のようにして露光処理を行うと感光フィルム上
の副走査方向Ｙにおけるビーム間ピッチＰが場所によっ
て大きく異なってしまう。特に、図１３の配列パターン
で発光素子ｂ11，ｂ12，，，ｂmnが配列された光源ユニ
ットを用いた画像露光装置においては、図１７（ａ）に
示すように、副走査方向Ｙに関して例えば、ビームスポ
ットＳ11，Ｓ21間のビーム間ピッチＰ1 と、ビームスポ
ットＳm1，Ｓ21間のビーム間ピッチＰ2 とが大きく相違
する。

【０００７】従って、図１７（ｂ）に示すように、ビー
ムスポットの２次元配列は、ビームスポットＳm1とＳ21
間が他のビームスポット間に比べて隣接するため、主走
査方向Ｘに平行な線のムラが発生する。

【０００８】なお、ビームスポットの配列パターンは、
主走査方向Ｘに関しても歪んでおり、このため、副走査
方向Ｙに平行なラインＬ上に各ビームスポットが配列さ
れない。しかしながら主走査方向Ｘのビームスポットの
位置ずれは、ほとんど露光ムラに影響を与えないので、
この点は、さほど問題ではない。

【０００９】このように、副走査方向Ｙにおけるビーム
間ピッチＰが不均一となると、感光フィルム上での露光
ムラとなり、画像品質を大幅に低下させてしまう。

【００１０】この問題を解決するためには、縮小光学系
の光軸と、発光素子ｂ11，ｂ12，，，ｂmnから出射され
る光ビームの方向とが所定の関係を満足するように光源
ユニットと縮小光学系との位置関係を精密に調整すれば
よい。しかしながら、使用ビーム数が例えば８０本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置では、調整対象
となるのが８０本の光ビームであるため、縮小光学系の
光軸と、発光素子ｂ11，ｂ12，，，ｂmnから出射される
光ビームの方向との調整によるビーム間ピッチの均一化
は非常に困難である。

【００１１】そこで、従来より、縮小光学系の光軸と、
光源ユニットからの複数の光ビームの方向とが所定の関
係を満足していないことによる上記不具合（露光面での
ビーム間ピッチの不均一）を簡単な構成および簡単な調
整作業により補正することができる調整機構が要望され
ていた。

【００１２】この発明は、上記課題に鑑みなされたもの
で、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副走
査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、その結果、優れた
画像品質で画像露光を行うことができる画像露光装置お
よび画像露光方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、それ
ぞれが光ビームを発生する複数の発光素子が所定の２次
元配列パターンで配置されてなる光源ユニットと、縮小
光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前記光源ユニ
ットからの複数の光ビームを露光面に照射する画像露光
装置であって、上記目的を達成するため、前記光源ユニ
ットを前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在に構成し、しかも前記光源ユニットと連結され、外
力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回動
させ、位置決めする光源ユニット位置調整手段をさらに
備えている。

【００１４】請求項２の発明は、各発光素子を半導体レ
ーザーで構成するとともに、前記光源ユニットにアパー
チャ板をさらに備えている。このアパーチャ板は、前記
２次元配列パターンと同一の配列パターンで形成された
複数のアパーチャを有し、前記複数のアパーチャが前記
複数の半導体レーザーと１対１で相対するように、前記
複数の半導体レーザーの出射側に配置されている。

【００１５】請求項３の発明は、それぞれが光ビームを
発生する複数の半導体レーザーが所定の２次元配列パタ
ーンで配置されるとともに、前記２次元配列パターンと
同一の配列パターンで形成された複数のアパーチャを有
するアパーチャ板が、前記複数のアパーチャと前記複数
の半導体レーザーと１対１で相対するように、前記複数
の半導体レーザーの出射側に配置されてなる光源ユニッ
トと、縮小光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前
記光源ユニットからの複数の光ビームを露光面に照射す
る画像露光装置であって、上記目的を達成するため、前
記アパーチャ板が前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在となるように構成し、しかも前記アパー
チャ板と連結され、外力に応じて、前記アパーチャ板を
前記回動軸回りに回動させ、位置決めするアパーチャ位
置調整手段をさらに備えている。

【００１６】請求項４の発明は、所定の２次元配列パタ
ーンで配置された複数の発光素子からの光ビームをそれ
ぞれ縮小光学系に入射し、前記２次元配列パターンと相
似なビーム配列パターンを有する複数の露光ビームを前
記縮小光学系から露光面に照射して露光処理を行う画像
露光方法であって、上記目的を達成するため、前記露光
処理に先立って、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となるように、前記光源
ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回動軸回りに
回動させ、位置決めするようにしている。

【００１７】

【作用】請求項１の発明では、光源ユニットが縮小光学
系の光軸に平行な回動軸回りに回動自在となっている。
また、その光源ユニットに光源ユニット位置調整手段が
連結され、外部より加えられる外力に応じて、前記光源
ユニットを前記回動軸回りに回動させ、位置決めする。
この光源ユニットの位置決めにより、露光面における像
の歪が補正され、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。

【００１８】請求項２の発明では、各発光素子が半導体
レーザーで構成される。また、光源ユニットでは、半導
体レーザーの配列パターンと同一の配列パターンで形成
された複数のアパーチャを有するアパーチャ板が、前記
複数のアパーチャが前記複数の半導体レーザーと１対１
で相対するように、前記複数の半導体レーザーの出射側
に配置される。こうして配置された半導体レーザーおよ
びアパーチャ板とが一体となって、外部より加えられる
外力に応じて、回動軸回りに回動し、位置決めされる。
この位置決めにより、露光面における像の歪が補正さ
れ、前記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの
間隔がほぼ等間隔となる。

【００１９】請求項３の発明では、光源ユニットのアパ
ーチャ板が縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在となっている。また、そのアパーチャ板にアパーチ
ャ位置調整手段が連結され、外部より加えられる外力に
応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回動さ
せ、位置決めする。このアパーチャ板の位置決めによ
り、露光面における像の歪が補正され、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔と
なる。

【００２０】請求項４の発明では、露光処理に先立っ
て、光源ユニットが前記縮小光学系の光軸と平行な回動
軸回りに回動される。こうして、光源ユニットの位置決
めが行われ、前記露光面における像の歪が補正され、前
記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの間隔が
ほぼ等間隔となる。

【００２１】

【実施例】図１は、この発明にかかる画像露光装置の一
実施例を示す外観斜視図である。この画像露光装置で
は、光源ユニット１０と、軸はずし放物面鏡２１および
立体射影レンズ２２からなる第１縮小光学系２０と、ズ
ームレンズ３１の第２縮小光学系およびレンズ３２から
なるアフォーカル光学系３０の第３縮小光学系とが副走
査方向Ｙに移動自在なベース５０上に固定されて露光ヘ
ッドＨＤが構成されており、図示を省略する駆動ユニッ
トによりベース５０を駆動することによって、露光ヘッ
ドＨＤが副走査方向Ｙに移動するようになっている。な
お、同図において、符号ＭＲ1 ，ＭＲ2 はベース５０に
固定されたミラーであり、ミラーＭＲ1によって第１縮
小光学系２０からの光ビームがズームレンズ３１に入射
され、さらにミラーＭＲ2 によってズームレンズ３１か
ら出射される光ビームがレンズ３２に入射される。ま
た、符号Ｍはモータであり、このモータＭによってズー
ムレンズ３１の倍率を調整して、光源ユニット１０から
出射する光ビーム間ピッチを切り換えることができるよ
うになっている。

【００２２】また、この画像露光装置には、回転シリン
ダ４０が主走査方向Ｘに回転自在に設けられている。そ
して、この回転シリンダ４０に感光フィルムＦＭを巻き
付けた状態で回転シリンダ４０を主走査方向Ｘに回転さ
せるとともに、光源ユニット１０からの複数の光ビーム
を縮小光学系２０，ミラーＭＲ1 ，ズームレンズ３１，
ミラーＭＲ2 およびレンズ３２を介して感光フィルムＦ
Ｍに照射しながら、ベース５０を副走査方向Ｙにステッ
プ送りすることにより、感光フィルムＦＭに２次元の画
像を露光することができる。

【００２３】次に、光源ユニット１０の構成について詳
説する。図２は、光源ユニット１０の斜視図であり、ま
た図３はその側面図であり、さらに図４はその分解組立
斜視図である。なお、これらの図および後で説明する図
において、符号Ｚは、主および副走査方向Ｘ，Ｙに対し
ほぼ直交する方向であり、この方向Ｚに沿って縮小光学
系２０を含めた画像露光装置の光学系の光軸が伸びてい
る。

【００２４】この光源ユニット１０では、ＬＤベース１
１０に１０個のステー１２０が主走査方向Ｘに等間隔に
並べられて取り付けられている。ステー１２０の両側に
は、図５に示すように、それぞれピン穴１２１とボルト
穴１２２とが形成されている。このピン穴１２１は、Ｌ
Ｄベース１１０からステー１２０側に突設された位置決
めピン（図示省略）を貫通してＬＤベース１１０にステ
ー１２０を位置決めするためのものであり、またボルト
穴１２２は、ボルト１２３を貫通して位置決めされたス
テー１２０をＬＤベース１１０に固定するためのもので
ある。したがって、１０個のステー１２０をＬＤベース
１１０に固定すると、主走査方向Ｘにおける隣接するス
テー１２０間の間隔が一定間隔Ｄx となる。また、突出
した中央部には、８個の孔１２４がそれぞれ副走査方向
Ｙに間隔Ｄy で等間隔に形成されている。このため、図
１１と同一の配列パターンで８×１０個の孔１２４が配
列される。この各孔１２４の中には、次に説明するよう
に、半導体レーザー（発光素子）などが配置されてい
る。

【００２５】図６は、図５に示す断線Ｉ−Ｉを含む平面
で、ステー１２０を切断した際の断面図である。同図に
示すように、ステー１２０の各孔１２４には、半導体レ
ーザー１，コリメートレンズ２が配置されている。上記
コリメートレンズ２は、半導体レーザー１より出射した
光ビームを整形するためのレンズである。このように、
各孔１２４には半導体レーザー１及びコリメートレンズ
２が配置されており、ドライブ回路（図示省略）からの
信号に応じて、各孔１２４から光ビームが光軸方向Ｚに
出射され、８×１０個の光ビームが得られる。

【００２６】図４に戻り、ＬＤベース１１０と対向しな
がら一定間隔を離隔してアパーチャベース１３０が配置
されている。このアパーチャベース１３０には、複数の
アパーチャ１３２が穿設されたアパーチャ板１３１が取
り付けられている。このアパーチャ板１３１に設けられ
た複数のアパーチャ１３２は半導体レーザー１の配列パ
ターン（図１３）と同一の配列パターンで配列されてい
る。そして、アパーチャ１３２と半導体レーザー１とが
１対１で対応するように、ＬＤベース１１０とアパーチ
ャベース１３０とが相対的に位置決めされた状態で、両
ベース１１０，１３０の上方位置の間にスペーサー１４
０が介挿され、両ベース１１０，１３０を連結固定して
いる。このようにしてＬＤベース１１０，アパーチャベ
ース１３０およびスペーサー１４０が一体化されると、
各半導体レーザー１から出射された光ビームはそれぞれ
対応するアパーチャ１３２を介して出射されるようにな
る。

【００２７】また、上記のようにして組み立てられた光
源ユニット１０は、ベース５０に固定された光源ユニッ
ト支持ベース１５０に対し回動自在に保持されるように
なっている。すなわち、図４に示すように、光源ユニッ
ト支持ベース１５０の上方位置に位置決めピン１５１が
方向（−Ｚ）に突設されており、この位置決めピン１５
１をＬＤベース１１０の上方位置に設けられた位置決め
孔（図示省略）に嵌挿することにより、光源ユニット１
０が光源ユニット支持ベース１５０に連結される（図２
参照）。また、位置決めピン１５１を嵌挿した状態で
は、このピン１５１回りに光源ユニット１０が回動自在
となっている。つまり、光源ユニット１０が光学系の光
軸と平行な回動軸（図２および図３参照）１５２回りに
回動自在となっている。なお、この光源ユニット支持ベ
ース１５０には、上記アパーチャ１３２よりも大きな径
を有する孔１５３が上記配列パターン（図１３）と同一
の配列パターンで設けられており、半導体レーザー１か
らの光ビームがそれぞれ孔１５３を介してアパーチャ板
１３１に向けて導かれるが、孔１５３の形状は任意であ
り、また光ビームのすべてが通過可能となるようにベー
ス１５０の中央部１５４全体にわたって開口を形成して
もよい。

【００２８】さらに、図２および図３に示すように、Ｌ
Ｄベース１１０の下方位置には、外力に応じて、上記光
源ユニット１０を光源ユニット支持ベース１５０に対し
回動軸１５２回りに回動させて、ＬＤベース１１０に固
定された半導体レーザー１を位置決めする光源ユニット
位置調整機構６０が設けられている。この光源ユニット
位置調整機構６０は、ＬＤベース１１０のステー取付面
１１１に対し偏心自在に軸支された位置決めカム６１で
構成されており、適当な手段を用いて、例えばカム６１
の側面に孔６２を設け、その孔６２に棒部材を挿入し、
外力を加えることにより、カム６２を偏心回転運動させ
ることができるようになっている。このため、カム６１
に外力を加え、カム６１を例えば矢印α方向に偏心回転
運動させると、カム６１の側面部が光源ユニット支持ベ
ース１５０の側面部を摺動しながら上記光源ユニット１
０を回動軸１５２回りに回動し、その結果、ＬＤベース
１１０に取り付けられた半導体レーザー１の位置が調整
される。

【００２９】次に、上記のように構成された画像露光装
置による画像露光処理について説明する。まず、画像露
光処理に先立って、光源ユニット１０の半導体レーザー
１の位置を調整して、感光フィルム（露光面）ＦＭでの
副走査方向Ｙにおけるビーム間ピッチが均一となるよう
に補正する。この補正が必要となる理由は、上記したよ
うに、単に半導体レーザー１を図１３に示す配列パター
ンで配置しただけでは、第１縮小光学系２０の光軸と光
源ユニット１０からの複数の光ビームの方向とが所定の
関係（平行）を満足していなかったり、また、ズームレ
ンズ３１の光軸と縮小光学系２０から出射した光ビーム
の方向が所定の関係（平行）を満足していないこと等が
あるため、図１６に示すように感光フィルムＦＭでの像
が歪んでしまい、その結果、副走査方向Ｙにおけるビー
ム間ピッチＰが不均一となってしまうからである。

【００３０】ここで、感光フィルムＦＭでの像の歪を解
析したところ、歪んだ像（図１６）は歪を含まない理想
像（図１４）を回転させたものに近似していることがわ
かった。したがって、感光フィルムＦＭに結像される像
を観測しながら光源ユニット１０を回転させて、観測像
が図１４の像と近いものとなるように半導体レーザー１
の位置を調整すれば、副走査方向Ｙにおけるビーム間ピ
ッチを均一にすることができる。

【００３１】そこで、この実施例では、図７に示す調整
装置を用いてビーム間ピッチを調整する。

【００３２】図７は調整装置の概略構成を示す図であ
る。同図に示すように、この調整装置７０は、対物レン
ズ７１と、露光面（感光フィルムＦＭの位置）に結像さ
れる像を撮像するＣＣＤカメラ７２と、ＣＣＤカメラ７
２からの画像信号に対して所定の画像処理を施す画像処
理ユニット７３と、その画像処理ユニット７４と接続さ
れ画像処理ユニット７４からの信号に基づき種々の演算
処理を行う演算ユニット７５とを備えている。また、画
像処理ユニット７３には、モニタ７５が接続されてお
り、ＣＣＤカメラ７２によって撮像された画像が表示さ
れる一方、演算ユニット７４には、ＣＲＴ７６が接続さ
れており、演算ユニット７４での演算結果などが表示さ
れる。

【００３３】実際の調整手順では、オペレータがモニタ
７５を見ながら光源ユニット位置調整機構６０のカム６
１を偏心回転運動させて、光源ユニット１０を回動軸１
５２回りに回動させ、半導体レーザー１を移動させる。
そして、モニタ７５に映し出された像が図１２に近いも
のとなった時点、つまりに半導体レーザー１の位置決め
が完了した時点で、カム６１の偏心回転運動を停止さ
せ、その状態でＬＤベース１１０およびアパーチャベー
ス１３０を光源ユニット支持ベース１５０にボルト（図
示省略）で固定する。こうすることにより、簡単な構成
で、しかも簡単な調整作業により、像の歪を補正するこ
とができ、副走査方向Ｙにおけるビーム間ピッチを均一
に調整することができる。

【００３４】例えば、露光面上でのビームスポット配列
が図１６に示すような場合、その配列パターン（光源ユ
ニット）を反時計回り方向に回転させれば、図１１に示
すような配列パターンになる。従って、その配列パター
ンを副走査方向に投影すると図１２（ａ）に示すように
ビーム間ピッチＰは、いずれもほぼ一致する（Ｐ＝Ｐ1
＝Ｐ2 ）ため、露光ムラが発生しない（図１２
（ａ））。なお、この場合は、理想的なビームスポット
配列パターン（図１４）と若干異なっているため、各ビ
ームスポットを副走査方向Ｙに平行なラインＹ3 ，Ｙ4
上に正確にはならばない。従って、露光面上におけるビ
ーム形成パターンは、理想的なビームスポット配列パタ
ーンの場合と比較して若干主走査方向Ｘにずれている。

【００３５】しかしながら、主走査方向のビームスポッ
トの位置ずれは、副走査方向のそれに比べて画質への影
響は少ない。これは、副走査方向の位置ずれは、その全
ライン上のビームスポットの配列に影響をあたえるた
め、線状の露光ムラが見えやすいが、主走査方向Ｘの位
置ずれは、隣接するビームごとにその位置ずれ量が異な
るため、線状のムラが見えにくい。従って、主走査方向
のビームスポットの位置ずれは、それほど画質に影響し
ないので、副走査方向の位置ずれ補正のため、主走査方
向のビームスポットの位置ずれが発生しても何等問題は
ない。

【００３６】上記のようにしてビーム間ピッチの均一化
調整が完了すると、回転シリンダ４０に感光フィルムＦ
Ｍを巻き付けた後、回転シリンダ４０を主走査方向Ｘに
回転させるとともに、ドライブ回路からの信号に応じて
光源ユニット１０から複数の光ビームを出射しながら、
露光ヘッドＨＤを副走査方向Ｙにステップ送りして、感
光フィルムＦＭに２次元の画像を露光する。

【００３７】以上のように、この実施例によれば、光源
ユニット１０に光源ユニット位置調整機構６０を連結
し、この光源ユニット位置調整機構６０により光源ユニ
ット１０を回動軸１５２回りに回動させて、半導体レー
ザー１の位置決めすることにより、副走査方向Ｙにおけ
るビーム間ピッチを均一にしているため、簡単な構成お
よび簡単な調整作業により効果的に画像ムラを防止する
ことができ、優れた画像品質で画像露光を行うことがで
きる。

【００３８】なお、上記実施例では、発光素子として半
導体レーザー１を採用しているが、半導体レーザー１の
代わりに発光ダイオードなどを用いてもよい。通常、発
光素子として半導体レーザー１を用いた場合には出射側
にアパーチャ板１３１を設けるのが好ましいが、発光ダ
イオードなどを用いた場合には必ずしもアパーチャ板１
３１を設ける必要がなく、光源ユニット１０を複数の発
光素子のみにより構成してもよい。

【００３９】また、この実施例では、ＬＤベース１１０
とアパーチャベース１３０とをスペーサー１４０によっ
て連結固定し、これら両ベース１１０，１３０を一体的
に光軸方向Ｚに伸びる回動軸１５２回りに回動させる、
つまり半導体レーザー１およびアパーチャ１３２を一体
的に回動し、位置決めするようにしているが、図８に示
すように、ＬＤベース１１０をベース５０（図１）に固
定する一方、アパーチャベース１３０のみを回動軸１５
２回りに回動自在にベース１５０に保持するとともに、
上記と同様に構成されたアパーチャ位置調整機構を取付
け、外力に応じて、アパーチャ板１３１のみを回動軸１
５２回りに回動させ、位置決めするようにしてよい。

【００４０】また、上記実施例では、光源ユニット支持
ベース１５０の上方位置に位置決めピン１５１を突設
し、この位置決めピン１５１をＬＤベース１１０の上方
位置に設けられた位置決め孔に嵌挿することにより、光
源ユニット１０を光源ユニット支持ベース１５０に対し
回動自在に連結している（図２参照）が、図９に示すよ
うに、ＬＤベース１１０をゴニオステージ７０の上に支
持して、縮小光学系２０を含めた光学系の光軸と平行な
基準軸、例えば、ほぼ中央部に位置する半導体レーザー
１を通る軸１５２回りに光源ユニット１０全体を回動さ
せることにより、半導体レーザー１の位置を調整するよ
うに構成してもよい。

【００４１】なお、上記実施例では、光源ユニット１０
からの複数の光ビームを縮小光学系２０およびアフォー
カル光学系３０を介して感光フィルムＦＭに照射するよ
うに構成しているが、図１０に示すように、光源ユニッ
ト１０からの光ビームを第１縮小光学系２０によって直
接感光フィルムＦＭに照射するようにしてもよい。ま
た、縮小光学系２０の構成は上記実施例に限定されるも
のではなく、適当な光学系、例えば図１０に示すように
２つのレンズ２３，２４を組み合わせたレンズ系を用い
ることができる。

【００４２】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明によれ
ば、光源ユニットを縮小光学系の光軸に平行な回動軸回
りに回動自在とするとともに、その光源ユニットに光源
ユニット位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副
走査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、優れた画像品質で
画像露光を行うことができる。

【００４３】請求項２の発明によれば、各発光素子を半
導体レーザーで構成するとともに、半導体レーザーの配
列パターンと同一の配列パターンで形成された複数のア
パーチャを有するアパーチャ板を、前記複数のアパーチ
ャが前記複数の半導体レーザーと１対１で相対するよう
に、前記複数の半導体レーザーの出射側に配置してい
る。そのため、半導体レーザーおよびアパーチャ板とが
一体となって、外部より加えられる外力に応じて、回動
軸回りに回動し、位置決めして、露光面における像の歪
を補正し、露光面における副走査方向のビーム間ピッチ
の間隔をほぼ等間隔としているので、上記と同様の効果
が得られる。

【００４４】また、請求項３の発明によれば、光源ユニ
ットのアパーチャ板を縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在とするとともに、そのアパーチャ板にア
パーチャ位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、上記と同様の効果が得られる。

【００４５】請求項４の発明によれば、露光処理に先立
って、光源ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回
動軸回りに回動して、光源ユニットの位置決めを行い、
前記露光面における像の歪を補正して、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔と
しているので、上記と同様の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる画像露光装置の第１実施例を
示す外観斜視図である。

【図２】光源ユニットの斜視図である。

【図３】光源ユニットの側面図である。

【図４】光源ユニットの分解組立斜視図である。

【図５】ＬＤベースへのステーの取付方法を示す斜視図
である。

【図６】図５のＩ−Ｉ線断面図である。

【図７】調整装置の概略構成を示す図である。

【図８】この発明にかかる画像露光装置の他の実施例を
示す斜視図である。

【図９】この発明にかかる画像露光装置の別の実施例を
示す斜視図である。

【図１０】この発明にかかる画像露光装置のさらに別の
実施例を示す斜視図である。

【図１１】光源ユニット回動調整後の露光面上でのビー
ムスポットの配列を示す図である。

【図１２】光源ユニット回動調整後の副走査方向におけ
るビームスポットの配列を示す図である。

【図１３】発光素子の配列を示す図である。

【図１４】露光面上での理想的なビームスポットの配列
を示す図である。

【図１５】副走査方向における理想的なビームスポット
の配列を示す図である。

【図１６】光源ユニット未調整の露光面上でのビームス
ポットの配列を示す図である。

【図１７】光源ユニット未調整の副走査方向におけるビ
ームスポットの配列を示す図である。

【符号の説明】

１ 半導体レーザー １０ 光源ユニット ２０ 第１縮小光学系 ３１ ズームレンズ ３２ レンズ ６０ 光源ユニット位置調整機構 １５２ 回動軸 ＦＭ 感光フィルム

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 それぞれが光ビームを発生する複数の発
   光素子が所定の２次元配列パターンで配置されてなる光
   源ユニットと、縮小光学系とを備え、前記縮小光学系を
   介して前記光源ユニットからの複数の光ビームを露光面
   に照射する画像露光装置において、 前記光源ユニットが前記縮小光学系の光軸に平行な回動
   軸回りに回動自在となっており、しかも、 前記光源ユニットと連結され、外力に応じて、前記光源
   ユニットを前記回動軸回りに回動させ、位置決めする光
   源ユニット位置調整手段をさらに備えたことを特徴とす
   る画像露光装置。
2. 【請求項２】 各発光素子は半導体レーザーであり、し
   かも、 前記光源ユニットは、前記２次元配列パターンと同一の
   配列パターンで形成された複数のアパーチャを有し、前
   記複数のアパーチャが前記複数の半導体レーザーと１対
   １で相対するように、前記複数の半導体レーザーの出射
   側に配置されたアパーチャ板をさらに備えている請求項
   １記載の画像露光装置。
3. 【請求項３】 それぞれが光ビームを発生する複数の半
   導体レーザーが所定の２次元配列パターンで配置される
   とともに、前記２次元配列パターンと同一の配列パター
   ンで形成された複数のアパーチャを有するアパーチャ板
   が、前記複数のアパーチャと前記複数の半導体レーザー
   と１対１で相対するように、前記複数の半導体レーザー
   の出射側に配置されてなる光源ユニットと、縮小光学系
   とを備え、前記縮小光学系を介して前記光源ユニットか
   らの複数の光ビームを露光面に照射する画像露光装置に
   おいて、 前記アパーチャ板が前記縮小光学系の光軸に平行な回動
   軸回りに回動自在となっており、しかも、 前記アパーチャ板と連結され、外力に応じて、前記アパ
   ーチャ板を前記回動軸回りに回動させ、位置決めするア
   パーチャ位置調整手段をさらに備えたことを特徴とする
   画像露光装置。
4. 【請求項４】 所定の２次元配列パターンで配置された
   複数の発光素子からの光ビームをそれぞれ縮小光学系に
   入射し、前記２次元配列パターンと相似なビーム配列パ
   ターンを有する複数の露光ビームを前記縮小光学系から
   露光面に照射して露光処理を行う画像露光方法におい
   て、 前記露光処理に先立って、前記露光面における副走査方
   向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となるように、
   前記光源ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回動
   軸回りに回動させ、位置決めすることを特徴とする画像
   露光方法。