JPH07111559A - 画像露光装置および画像露光方法 - Google Patents
画像露光装置および画像露光方法Info
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- JPH07111559A JPH07111559A JP5280620A JP28062093A JPH07111559A JP H07111559 A JPH07111559 A JP H07111559A JP 5280620 A JP5280620 A JP 5280620A JP 28062093 A JP28062093 A JP 28062093A JP H07111559 A JPH07111559 A JP H07111559A
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- source unit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で、しかも簡単な調整作業によ
り、副走査方向におけるビーム間ピッチを均一にするこ
とができ、画像ムラを防止することができ、優れた画像
品質で画像露光を行うことができる画像露光装置および
画像露光方法を提供する。 【構成】 光源ユニット10が縮小光学系の光軸に平行
な回動軸152回りに光源ユニット支持ベース150に
対して回動自在となっている。また、その光源ユニット
10に光源ユニット位置調整機構60が連結され、外部
より加えられる外力に応じて、光源ユニット10が回動
軸152回りに回動させ、位置決めされる。この光源ユ
ニット10の位置決めにより、感光フィルム(露光面)
における像の歪が補正され、感光フィルムにおける副走
査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。
り、副走査方向におけるビーム間ピッチを均一にするこ
とができ、画像ムラを防止することができ、優れた画像
品質で画像露光を行うことができる画像露光装置および
画像露光方法を提供する。 【構成】 光源ユニット10が縮小光学系の光軸に平行
な回動軸152回りに光源ユニット支持ベース150に
対して回動自在となっている。また、その光源ユニット
10に光源ユニット位置調整機構60が連結され、外部
より加えられる外力に応じて、光源ユニット10が回動
軸152回りに回動させ、位置決めされる。この光源ユ
ニット10の位置決めにより、感光フィルム(露光面)
における像の歪が補正され、感光フィルムにおける副走
査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数の発光素子から
の光ビームをそれぞれ縮小光学系を介して露光面に照射
して露光処理を行う画像露光装置および画像露光方法に
関する。
の光ビームをそれぞれ縮小光学系を介して露光面に照射
して露光処理を行う画像露光装置および画像露光方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、この種の画像露光装置では、
光源ユニットを構成する複数の発光素子(例えば、半導
体レーザーや発光ダイオード等)が等間隔で副走査方向
に配列されたり、主走査方向に対して所定の角度だけ傾
いた方向に等ピッチで配列されていた。そして、このよ
うに配列された発光素子からの光ビームをそれぞれ縮小
光学系を介して感光フィルム(露光面)に照射して所望
の画像を露光するようにしていた。
光源ユニットを構成する複数の発光素子(例えば、半導
体レーザーや発光ダイオード等)が等間隔で副走査方向
に配列されたり、主走査方向に対して所定の角度だけ傾
いた方向に等ピッチで配列されていた。そして、このよ
うに配列された発光素子からの光ビームをそれぞれ縮小
光学系を介して感光フィルム(露光面)に照射して所望
の画像を露光するようにしていた。
【0003】しかしながら、光ビームの数が数十個と多
くなった場合には、従来技術によるビーム配列では光ビ
ームの数に比例して光源ユニットの寸法が大きくなり、
画像露光装置用の光源ユニットとしては実用に耐え得な
いという問題点が生じる。というのも、画像露光装置は
光源ユニットから出射された複数の光ビームのビーム間
ピッチを縮小光学系を介して所定の値にまで縮小した
後、該縮小露光ビームを感光フィルム(露光面)上に照
射することにより、露光処理を行うものであり、使用可
能な縮小光学系(レンズ類)のサイズに応じて光源ユニ
ットのサイズにもおのずと制限が加わるからである。
くなった場合には、従来技術によるビーム配列では光ビ
ームの数に比例して光源ユニットの寸法が大きくなり、
画像露光装置用の光源ユニットとしては実用に耐え得な
いという問題点が生じる。というのも、画像露光装置は
光源ユニットから出射された複数の光ビームのビーム間
ピッチを縮小光学系を介して所定の値にまで縮小した
後、該縮小露光ビームを感光フィルム(露光面)上に照
射することにより、露光処理を行うものであり、使用可
能な縮小光学系(レンズ類)のサイズに応じて光源ユニ
ットのサイズにもおのずと制限が加わるからである。
【0004】そこで、近年、このような問題を解決すべ
く、種々の提案がなされている。その一つとして、本出
願人の出願にかかる特願平4−223403号に記載し
た技術がある。この提案にかかる光源ユニットは、図1
3に示すように、画像露光装置の光源ユニットをm×n
個(m、nはそれぞれ2以上の整数)の発光素子b11,
b12,,,bmnで構成したものであり、主走査方向Xに
対して垂直な副走査方向Yにn個の発光素子を等間隔D
y で配列してなるラインユニットをm個準備し、当該m
個のラインユニットLU1 ,,,LUm を主走査方向X
に等間隔dx で、かつ副走査方向Yに所定間隔dy (=
Dy /m)ずつ順次ずらしながら配置したものである。
このため、発光素子数の増加に比して光源ユニットの寸
法の増大を小さくすることができ、この光源ユニットを
使用することにより、使用ビーム数が例えば80本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置の提供が可能と
なる。
く、種々の提案がなされている。その一つとして、本出
願人の出願にかかる特願平4−223403号に記載し
た技術がある。この提案にかかる光源ユニットは、図1
3に示すように、画像露光装置の光源ユニットをm×n
個(m、nはそれぞれ2以上の整数)の発光素子b11,
b12,,,bmnで構成したものであり、主走査方向Xに
対して垂直な副走査方向Yにn個の発光素子を等間隔D
y で配列してなるラインユニットをm個準備し、当該m
個のラインユニットLU1 ,,,LUm を主走査方向X
に等間隔dx で、かつ副走査方向Yに所定間隔dy (=
Dy /m)ずつ順次ずらしながら配置したものである。
このため、発光素子数の増加に比して光源ユニットの寸
法の増大を小さくすることができ、この光源ユニットを
使用することにより、使用ビーム数が例えば80本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置の提供が可能と
なる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記提案にかかる光源
ユニットを使用して画像露光装置を構成した場合、この
光源ユニットから出射された複数の光ビームは縮小光学
系に入射され、適当な倍率で縮小された後、感光フィル
ム(露光面)に導かれ、理想的には発光素子b11,b1
2,,,bmnの配列パターン(図13)と相似形のパタ
ーン(図14)でビームスポットS11,S12,,,Smn
が形成される。したがって、感光フィルムを副走査方向
Yに走査しながら、各ラインユニットLU1 ,,,LU
m 間で、発光素子の駆動タイミングを相対的に遅延させ
ることによって、各発光素子b11,b12,,,bmnに対
応するビームスポットS11,S12,,,Smnを感光フィ
ルム上で副走査方向Yに伸びる1直線上に一定のビーム
間ピッチP(=P1 =P2 )で配列することができる
(図15(a))。このビームスポットの位置を2次元
で描くと、図15(b)に示すように、等間隔の複数の
ラインと複数の列Cの格子点上にビームスポットは形成
される。
ユニットを使用して画像露光装置を構成した場合、この
光源ユニットから出射された複数の光ビームは縮小光学
系に入射され、適当な倍率で縮小された後、感光フィル
ム(露光面)に導かれ、理想的には発光素子b11,b1
2,,,bmnの配列パターン(図13)と相似形のパタ
ーン(図14)でビームスポットS11,S12,,,Smn
が形成される。したがって、感光フィルムを副走査方向
Yに走査しながら、各ラインユニットLU1 ,,,LU
m 間で、発光素子の駆動タイミングを相対的に遅延させ
ることによって、各発光素子b11,b12,,,bmnに対
応するビームスポットS11,S12,,,Smnを感光フィ
ルム上で副走査方向Yに伸びる1直線上に一定のビーム
間ピッチP(=P1 =P2 )で配列することができる
(図15(a))。このビームスポットの位置を2次元
で描くと、図15(b)に示すように、等間隔の複数の
ラインと複数の列Cの格子点上にビームスポットは形成
される。
【0006】しかしながら、ビーム間ピッチを均一にす
るには、縮小光学系の光軸と、発光素子b11,b1
2,,,bmnから出射される光ビームの方向とが所定の
関係を満足するように光源ユニットおよび縮小光学系を
組み付け、調整する必要があり、仮りにこの関係が満足
されない、例えば縮小光学系の光軸に対して入射するビ
ームが平行でない場合には、図16に示すように、感光
フィルム(露光面)上に結像される像に歪が発生する。
尚、像の歪具合をわかりやすくするために、この図16
では、副走査方向Yと平行な基準線Y1 ,Y2 を書き入
れている。そのため、歪が生じたままの状態(図14)
で、上記のようにして露光処理を行うと感光フィルム上
の副走査方向Yにおけるビーム間ピッチPが場所によっ
て大きく異なってしまう。特に、図13の配列パターン
で発光素子b11,b12,,,bmnが配列された光源ユニ
ットを用いた画像露光装置においては、図17(a)に
示すように、副走査方向Yに関して例えば、ビームスポ
ットS11,S21間のビーム間ピッチP1 と、ビームスポ
ットSm1,S21間のビーム間ピッチP2 とが大きく相違
する。
るには、縮小光学系の光軸と、発光素子b11,b1
2,,,bmnから出射される光ビームの方向とが所定の
関係を満足するように光源ユニットおよび縮小光学系を
組み付け、調整する必要があり、仮りにこの関係が満足
されない、例えば縮小光学系の光軸に対して入射するビ
ームが平行でない場合には、図16に示すように、感光
フィルム(露光面)上に結像される像に歪が発生する。
尚、像の歪具合をわかりやすくするために、この図16
では、副走査方向Yと平行な基準線Y1 ,Y2 を書き入
れている。そのため、歪が生じたままの状態(図14)
で、上記のようにして露光処理を行うと感光フィルム上
の副走査方向Yにおけるビーム間ピッチPが場所によっ
て大きく異なってしまう。特に、図13の配列パターン
で発光素子b11,b12,,,bmnが配列された光源ユニ
ットを用いた画像露光装置においては、図17(a)に
示すように、副走査方向Yに関して例えば、ビームスポ
ットS11,S21間のビーム間ピッチP1 と、ビームスポ
ットSm1,S21間のビーム間ピッチP2 とが大きく相違
する。
【0007】従って、図17(b)に示すように、ビー
ムスポットの2次元配列は、ビームスポットSm1とS21
間が他のビームスポット間に比べて隣接するため、主走
査方向Xに平行な線のムラが発生する。
ムスポットの2次元配列は、ビームスポットSm1とS21
間が他のビームスポット間に比べて隣接するため、主走
査方向Xに平行な線のムラが発生する。
【0008】なお、ビームスポットの配列パターンは、
主走査方向Xに関しても歪んでおり、このため、副走査
方向Yに平行なラインL上に各ビームスポットが配列さ
れない。しかしながら主走査方向Xのビームスポットの
位置ずれは、ほとんど露光ムラに影響を与えないので、
この点は、さほど問題ではない。
主走査方向Xに関しても歪んでおり、このため、副走査
方向Yに平行なラインL上に各ビームスポットが配列さ
れない。しかしながら主走査方向Xのビームスポットの
位置ずれは、ほとんど露光ムラに影響を与えないので、
この点は、さほど問題ではない。
【0009】このように、副走査方向Yにおけるビーム
間ピッチPが不均一となると、感光フィルム上での露光
ムラとなり、画像品質を大幅に低下させてしまう。
間ピッチPが不均一となると、感光フィルム上での露光
ムラとなり、画像品質を大幅に低下させてしまう。
【0010】この問題を解決するためには、縮小光学系
の光軸と、発光素子b11,b12,,,bmnから出射され
る光ビームの方向とが所定の関係を満足するように光源
ユニットと縮小光学系との位置関係を精密に調整すれば
よい。しかしながら、使用ビーム数が例えば80本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置では、調整対象
となるのが80本の光ビームであるため、縮小光学系の
光軸と、発光素子b11,b12,,,bmnから出射される
光ビームの方向との調整によるビーム間ピッチの均一化
は非常に困難である。
の光軸と、発光素子b11,b12,,,bmnから出射され
る光ビームの方向とが所定の関係を満足するように光源
ユニットと縮小光学系との位置関係を精密に調整すれば
よい。しかしながら、使用ビーム数が例えば80本とい
うような多チャンネル型の画像露光装置では、調整対象
となるのが80本の光ビームであるため、縮小光学系の
光軸と、発光素子b11,b12,,,bmnから出射される
光ビームの方向との調整によるビーム間ピッチの均一化
は非常に困難である。
【0011】そこで、従来より、縮小光学系の光軸と、
光源ユニットからの複数の光ビームの方向とが所定の関
係を満足していないことによる上記不具合(露光面での
ビーム間ピッチの不均一)を簡単な構成および簡単な調
整作業により補正することができる調整機構が要望され
ていた。
光源ユニットからの複数の光ビームの方向とが所定の関
係を満足していないことによる上記不具合(露光面での
ビーム間ピッチの不均一)を簡単な構成および簡単な調
整作業により補正することができる調整機構が要望され
ていた。
【0012】この発明は、上記課題に鑑みなされたもの
で、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副走
査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、その結果、優れた
画像品質で画像露光を行うことができる画像露光装置お
よび画像露光方法を提供することを目的とする。
で、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副走
査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、その結果、優れた
画像品質で画像露光を行うことができる画像露光装置お
よび画像露光方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、それ
ぞれが光ビームを発生する複数の発光素子が所定の2次
元配列パターンで配置されてなる光源ユニットと、縮小
光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前記光源ユニ
ットからの複数の光ビームを露光面に照射する画像露光
装置であって、上記目的を達成するため、前記光源ユニ
ットを前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在に構成し、しかも前記光源ユニットと連結され、外
力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回動
させ、位置決めする光源ユニット位置調整手段をさらに
備えている。
ぞれが光ビームを発生する複数の発光素子が所定の2次
元配列パターンで配置されてなる光源ユニットと、縮小
光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前記光源ユニ
ットからの複数の光ビームを露光面に照射する画像露光
装置であって、上記目的を達成するため、前記光源ユニ
ットを前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在に構成し、しかも前記光源ユニットと連結され、外
力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回動
させ、位置決めする光源ユニット位置調整手段をさらに
備えている。
【0014】請求項2の発明は、各発光素子を半導体レ
ーザーで構成するとともに、前記光源ユニットにアパー
チャ板をさらに備えている。このアパーチャ板は、前記
2次元配列パターンと同一の配列パターンで形成された
複数のアパーチャを有し、前記複数のアパーチャが前記
複数の半導体レーザーと1対1で相対するように、前記
複数の半導体レーザーの出射側に配置されている。
ーザーで構成するとともに、前記光源ユニットにアパー
チャ板をさらに備えている。このアパーチャ板は、前記
2次元配列パターンと同一の配列パターンで形成された
複数のアパーチャを有し、前記複数のアパーチャが前記
複数の半導体レーザーと1対1で相対するように、前記
複数の半導体レーザーの出射側に配置されている。
【0015】請求項3の発明は、それぞれが光ビームを
発生する複数の半導体レーザーが所定の2次元配列パタ
ーンで配置されるとともに、前記2次元配列パターンと
同一の配列パターンで形成された複数のアパーチャを有
するアパーチャ板が、前記複数のアパーチャと前記複数
の半導体レーザーと1対1で相対するように、前記複数
の半導体レーザーの出射側に配置されてなる光源ユニッ
トと、縮小光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前
記光源ユニットからの複数の光ビームを露光面に照射す
る画像露光装置であって、上記目的を達成するため、前
記アパーチャ板が前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在となるように構成し、しかも前記アパー
チャ板と連結され、外力に応じて、前記アパーチャ板を
前記回動軸回りに回動させ、位置決めするアパーチャ位
置調整手段をさらに備えている。
発生する複数の半導体レーザーが所定の2次元配列パタ
ーンで配置されるとともに、前記2次元配列パターンと
同一の配列パターンで形成された複数のアパーチャを有
するアパーチャ板が、前記複数のアパーチャと前記複数
の半導体レーザーと1対1で相対するように、前記複数
の半導体レーザーの出射側に配置されてなる光源ユニッ
トと、縮小光学系とを備え、前記縮小光学系を介して前
記光源ユニットからの複数の光ビームを露光面に照射す
る画像露光装置であって、上記目的を達成するため、前
記アパーチャ板が前記縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在となるように構成し、しかも前記アパー
チャ板と連結され、外力に応じて、前記アパーチャ板を
前記回動軸回りに回動させ、位置決めするアパーチャ位
置調整手段をさらに備えている。
【0016】請求項4の発明は、所定の2次元配列パタ
ーンで配置された複数の発光素子からの光ビームをそれ
ぞれ縮小光学系に入射し、前記2次元配列パターンと相
似なビーム配列パターンを有する複数の露光ビームを前
記縮小光学系から露光面に照射して露光処理を行う画像
露光方法であって、上記目的を達成するため、前記露光
処理に先立って、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となるように、前記光源
ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回動軸回りに
回動させ、位置決めするようにしている。
ーンで配置された複数の発光素子からの光ビームをそれ
ぞれ縮小光学系に入射し、前記2次元配列パターンと相
似なビーム配列パターンを有する複数の露光ビームを前
記縮小光学系から露光面に照射して露光処理を行う画像
露光方法であって、上記目的を達成するため、前記露光
処理に先立って、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となるように、前記光源
ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回動軸回りに
回動させ、位置決めするようにしている。
【0017】
【作用】請求項1の発明では、光源ユニットが縮小光学
系の光軸に平行な回動軸回りに回動自在となっている。
また、その光源ユニットに光源ユニット位置調整手段が
連結され、外部より加えられる外力に応じて、前記光源
ユニットを前記回動軸回りに回動させ、位置決めする。
この光源ユニットの位置決めにより、露光面における像
の歪が補正され、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。
系の光軸に平行な回動軸回りに回動自在となっている。
また、その光源ユニットに光源ユニット位置調整手段が
連結され、外部より加えられる外力に応じて、前記光源
ユニットを前記回動軸回りに回動させ、位置決めする。
この光源ユニットの位置決めにより、露光面における像
の歪が補正され、前記露光面における副走査方向のビー
ム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となる。
【0018】請求項2の発明では、各発光素子が半導体
レーザーで構成される。また、光源ユニットでは、半導
体レーザーの配列パターンと同一の配列パターンで形成
された複数のアパーチャを有するアパーチャ板が、前記
複数のアパーチャが前記複数の半導体レーザーと1対1
で相対するように、前記複数の半導体レーザーの出射側
に配置される。こうして配置された半導体レーザーおよ
びアパーチャ板とが一体となって、外部より加えられる
外力に応じて、回動軸回りに回動し、位置決めされる。
この位置決めにより、露光面における像の歪が補正さ
れ、前記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの
間隔がほぼ等間隔となる。
レーザーで構成される。また、光源ユニットでは、半導
体レーザーの配列パターンと同一の配列パターンで形成
された複数のアパーチャを有するアパーチャ板が、前記
複数のアパーチャが前記複数の半導体レーザーと1対1
で相対するように、前記複数の半導体レーザーの出射側
に配置される。こうして配置された半導体レーザーおよ
びアパーチャ板とが一体となって、外部より加えられる
外力に応じて、回動軸回りに回動し、位置決めされる。
この位置決めにより、露光面における像の歪が補正さ
れ、前記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの
間隔がほぼ等間隔となる。
【0019】請求項3の発明では、光源ユニットのアパ
ーチャ板が縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在となっている。また、そのアパーチャ板にアパーチ
ャ位置調整手段が連結され、外部より加えられる外力に
応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回動さ
せ、位置決めする。このアパーチャ板の位置決めによ
り、露光面における像の歪が補正され、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔と
なる。
ーチャ板が縮小光学系の光軸に平行な回動軸回りに回動
自在となっている。また、そのアパーチャ板にアパーチ
ャ位置調整手段が連結され、外部より加えられる外力に
応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回動さ
せ、位置決めする。このアパーチャ板の位置決めによ
り、露光面における像の歪が補正され、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔と
なる。
【0020】請求項4の発明では、露光処理に先立っ
て、光源ユニットが前記縮小光学系の光軸と平行な回動
軸回りに回動される。こうして、光源ユニットの位置決
めが行われ、前記露光面における像の歪が補正され、前
記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの間隔が
ほぼ等間隔となる。
て、光源ユニットが前記縮小光学系の光軸と平行な回動
軸回りに回動される。こうして、光源ユニットの位置決
めが行われ、前記露光面における像の歪が補正され、前
記露光面における副走査方向のビーム間ピッチの間隔が
ほぼ等間隔となる。
【0021】
【実施例】図1は、この発明にかかる画像露光装置の一
実施例を示す外観斜視図である。この画像露光装置で
は、光源ユニット10と、軸はずし放物面鏡21および
立体射影レンズ22からなる第1縮小光学系20と、ズ
ームレンズ31の第2縮小光学系およびレンズ32から
なるアフォーカル光学系30の第3縮小光学系とが副走
査方向Yに移動自在なベース50上に固定されて露光ヘ
ッドHDが構成されており、図示を省略する駆動ユニッ
トによりベース50を駆動することによって、露光ヘッ
ドHDが副走査方向Yに移動するようになっている。な
お、同図において、符号MR1 ,MR2 はベース50に
固定されたミラーであり、ミラーMR1によって第1縮
小光学系20からの光ビームがズームレンズ31に入射
され、さらにミラーMR2 によってズームレンズ31か
ら出射される光ビームがレンズ32に入射される。ま
た、符号Mはモータであり、このモータMによってズー
ムレンズ31の倍率を調整して、光源ユニット10から
出射する光ビーム間ピッチを切り換えることができるよ
うになっている。
実施例を示す外観斜視図である。この画像露光装置で
は、光源ユニット10と、軸はずし放物面鏡21および
立体射影レンズ22からなる第1縮小光学系20と、ズ
ームレンズ31の第2縮小光学系およびレンズ32から
なるアフォーカル光学系30の第3縮小光学系とが副走
査方向Yに移動自在なベース50上に固定されて露光ヘ
ッドHDが構成されており、図示を省略する駆動ユニッ
トによりベース50を駆動することによって、露光ヘッ
ドHDが副走査方向Yに移動するようになっている。な
お、同図において、符号MR1 ,MR2 はベース50に
固定されたミラーであり、ミラーMR1によって第1縮
小光学系20からの光ビームがズームレンズ31に入射
され、さらにミラーMR2 によってズームレンズ31か
ら出射される光ビームがレンズ32に入射される。ま
た、符号Mはモータであり、このモータMによってズー
ムレンズ31の倍率を調整して、光源ユニット10から
出射する光ビーム間ピッチを切り換えることができるよ
うになっている。
【0022】また、この画像露光装置には、回転シリン
ダ40が主走査方向Xに回転自在に設けられている。そ
して、この回転シリンダ40に感光フィルムFMを巻き
付けた状態で回転シリンダ40を主走査方向Xに回転さ
せるとともに、光源ユニット10からの複数の光ビーム
を縮小光学系20,ミラーMR1 ,ズームレンズ31,
ミラーMR2 およびレンズ32を介して感光フィルムF
Mに照射しながら、ベース50を副走査方向Yにステッ
プ送りすることにより、感光フィルムFMに2次元の画
像を露光することができる。
ダ40が主走査方向Xに回転自在に設けられている。そ
して、この回転シリンダ40に感光フィルムFMを巻き
付けた状態で回転シリンダ40を主走査方向Xに回転さ
せるとともに、光源ユニット10からの複数の光ビーム
を縮小光学系20,ミラーMR1 ,ズームレンズ31,
ミラーMR2 およびレンズ32を介して感光フィルムF
Mに照射しながら、ベース50を副走査方向Yにステッ
プ送りすることにより、感光フィルムFMに2次元の画
像を露光することができる。
【0023】次に、光源ユニット10の構成について詳
説する。図2は、光源ユニット10の斜視図であり、ま
た図3はその側面図であり、さらに図4はその分解組立
斜視図である。なお、これらの図および後で説明する図
において、符号Zは、主および副走査方向X,Yに対し
ほぼ直交する方向であり、この方向Zに沿って縮小光学
系20を含めた画像露光装置の光学系の光軸が伸びてい
る。
説する。図2は、光源ユニット10の斜視図であり、ま
た図3はその側面図であり、さらに図4はその分解組立
斜視図である。なお、これらの図および後で説明する図
において、符号Zは、主および副走査方向X,Yに対し
ほぼ直交する方向であり、この方向Zに沿って縮小光学
系20を含めた画像露光装置の光学系の光軸が伸びてい
る。
【0024】この光源ユニット10では、LDベース1
10に10個のステー120が主走査方向Xに等間隔に
並べられて取り付けられている。ステー120の両側に
は、図5に示すように、それぞれピン穴121とボルト
穴122とが形成されている。このピン穴121は、L
Dベース110からステー120側に突設された位置決
めピン(図示省略)を貫通してLDベース110にステ
ー120を位置決めするためのものであり、またボルト
穴122は、ボルト123を貫通して位置決めされたス
テー120をLDベース110に固定するためのもので
ある。したがって、10個のステー120をLDベース
110に固定すると、主走査方向Xにおける隣接するス
テー120間の間隔が一定間隔Dx となる。また、突出
した中央部には、8個の孔124がそれぞれ副走査方向
Yに間隔Dy で等間隔に形成されている。このため、図
11と同一の配列パターンで8×10個の孔124が配
列される。この各孔124の中には、次に説明するよう
に、半導体レーザー(発光素子)などが配置されてい
る。
10に10個のステー120が主走査方向Xに等間隔に
並べられて取り付けられている。ステー120の両側に
は、図5に示すように、それぞれピン穴121とボルト
穴122とが形成されている。このピン穴121は、L
Dベース110からステー120側に突設された位置決
めピン(図示省略)を貫通してLDベース110にステ
ー120を位置決めするためのものであり、またボルト
穴122は、ボルト123を貫通して位置決めされたス
テー120をLDベース110に固定するためのもので
ある。したがって、10個のステー120をLDベース
110に固定すると、主走査方向Xにおける隣接するス
テー120間の間隔が一定間隔Dx となる。また、突出
した中央部には、8個の孔124がそれぞれ副走査方向
Yに間隔Dy で等間隔に形成されている。このため、図
11と同一の配列パターンで8×10個の孔124が配
列される。この各孔124の中には、次に説明するよう
に、半導体レーザー(発光素子)などが配置されてい
る。
【0025】図6は、図5に示す断線I−Iを含む平面
で、ステー120を切断した際の断面図である。同図に
示すように、ステー120の各孔124には、半導体レ
ーザー1,コリメートレンズ2が配置されている。上記
コリメートレンズ2は、半導体レーザー1より出射した
光ビームを整形するためのレンズである。このように、
各孔124には半導体レーザー1及びコリメートレンズ
2が配置されており、ドライブ回路(図示省略)からの
信号に応じて、各孔124から光ビームが光軸方向Zに
出射され、8×10個の光ビームが得られる。
で、ステー120を切断した際の断面図である。同図に
示すように、ステー120の各孔124には、半導体レ
ーザー1,コリメートレンズ2が配置されている。上記
コリメートレンズ2は、半導体レーザー1より出射した
光ビームを整形するためのレンズである。このように、
各孔124には半導体レーザー1及びコリメートレンズ
2が配置されており、ドライブ回路(図示省略)からの
信号に応じて、各孔124から光ビームが光軸方向Zに
出射され、8×10個の光ビームが得られる。
【0026】図4に戻り、LDベース110と対向しな
がら一定間隔を離隔してアパーチャベース130が配置
されている。このアパーチャベース130には、複数の
アパーチャ132が穿設されたアパーチャ板131が取
り付けられている。このアパーチャ板131に設けられ
た複数のアパーチャ132は半導体レーザー1の配列パ
ターン(図13)と同一の配列パターンで配列されてい
る。そして、アパーチャ132と半導体レーザー1とが
1対1で対応するように、LDベース110とアパーチ
ャベース130とが相対的に位置決めされた状態で、両
ベース110,130の上方位置の間にスペーサー14
0が介挿され、両ベース110,130を連結固定して
いる。このようにしてLDベース110,アパーチャベ
ース130およびスペーサー140が一体化されると、
各半導体レーザー1から出射された光ビームはそれぞれ
対応するアパーチャ132を介して出射されるようにな
る。
がら一定間隔を離隔してアパーチャベース130が配置
されている。このアパーチャベース130には、複数の
アパーチャ132が穿設されたアパーチャ板131が取
り付けられている。このアパーチャ板131に設けられ
た複数のアパーチャ132は半導体レーザー1の配列パ
ターン(図13)と同一の配列パターンで配列されてい
る。そして、アパーチャ132と半導体レーザー1とが
1対1で対応するように、LDベース110とアパーチ
ャベース130とが相対的に位置決めされた状態で、両
ベース110,130の上方位置の間にスペーサー14
0が介挿され、両ベース110,130を連結固定して
いる。このようにしてLDベース110,アパーチャベ
ース130およびスペーサー140が一体化されると、
各半導体レーザー1から出射された光ビームはそれぞれ
対応するアパーチャ132を介して出射されるようにな
る。
【0027】また、上記のようにして組み立てられた光
源ユニット10は、ベース50に固定された光源ユニッ
ト支持ベース150に対し回動自在に保持されるように
なっている。すなわち、図4に示すように、光源ユニッ
ト支持ベース150の上方位置に位置決めピン151が
方向(−Z)に突設されており、この位置決めピン15
1をLDベース110の上方位置に設けられた位置決め
孔(図示省略)に嵌挿することにより、光源ユニット1
0が光源ユニット支持ベース150に連結される(図2
参照)。また、位置決めピン151を嵌挿した状態で
は、このピン151回りに光源ユニット10が回動自在
となっている。つまり、光源ユニット10が光学系の光
軸と平行な回動軸(図2および図3参照)152回りに
回動自在となっている。なお、この光源ユニット支持ベ
ース150には、上記アパーチャ132よりも大きな径
を有する孔153が上記配列パターン(図13)と同一
の配列パターンで設けられており、半導体レーザー1か
らの光ビームがそれぞれ孔153を介してアパーチャ板
131に向けて導かれるが、孔153の形状は任意であ
り、また光ビームのすべてが通過可能となるようにベー
ス150の中央部154全体にわたって開口を形成して
もよい。
源ユニット10は、ベース50に固定された光源ユニッ
ト支持ベース150に対し回動自在に保持されるように
なっている。すなわち、図4に示すように、光源ユニッ
ト支持ベース150の上方位置に位置決めピン151が
方向(−Z)に突設されており、この位置決めピン15
1をLDベース110の上方位置に設けられた位置決め
孔(図示省略)に嵌挿することにより、光源ユニット1
0が光源ユニット支持ベース150に連結される(図2
参照)。また、位置決めピン151を嵌挿した状態で
は、このピン151回りに光源ユニット10が回動自在
となっている。つまり、光源ユニット10が光学系の光
軸と平行な回動軸(図2および図3参照)152回りに
回動自在となっている。なお、この光源ユニット支持ベ
ース150には、上記アパーチャ132よりも大きな径
を有する孔153が上記配列パターン(図13)と同一
の配列パターンで設けられており、半導体レーザー1か
らの光ビームがそれぞれ孔153を介してアパーチャ板
131に向けて導かれるが、孔153の形状は任意であ
り、また光ビームのすべてが通過可能となるようにベー
ス150の中央部154全体にわたって開口を形成して
もよい。
【0028】さらに、図2および図3に示すように、L
Dベース110の下方位置には、外力に応じて、上記光
源ユニット10を光源ユニット支持ベース150に対し
回動軸152回りに回動させて、LDベース110に固
定された半導体レーザー1を位置決めする光源ユニット
位置調整機構60が設けられている。この光源ユニット
位置調整機構60は、LDベース110のステー取付面
111に対し偏心自在に軸支された位置決めカム61で
構成されており、適当な手段を用いて、例えばカム61
の側面に孔62を設け、その孔62に棒部材を挿入し、
外力を加えることにより、カム62を偏心回転運動させ
ることができるようになっている。このため、カム61
に外力を加え、カム61を例えば矢印α方向に偏心回転
運動させると、カム61の側面部が光源ユニット支持ベ
ース150の側面部を摺動しながら上記光源ユニット1
0を回動軸152回りに回動し、その結果、LDベース
110に取り付けられた半導体レーザー1の位置が調整
される。
Dベース110の下方位置には、外力に応じて、上記光
源ユニット10を光源ユニット支持ベース150に対し
回動軸152回りに回動させて、LDベース110に固
定された半導体レーザー1を位置決めする光源ユニット
位置調整機構60が設けられている。この光源ユニット
位置調整機構60は、LDベース110のステー取付面
111に対し偏心自在に軸支された位置決めカム61で
構成されており、適当な手段を用いて、例えばカム61
の側面に孔62を設け、その孔62に棒部材を挿入し、
外力を加えることにより、カム62を偏心回転運動させ
ることができるようになっている。このため、カム61
に外力を加え、カム61を例えば矢印α方向に偏心回転
運動させると、カム61の側面部が光源ユニット支持ベ
ース150の側面部を摺動しながら上記光源ユニット1
0を回動軸152回りに回動し、その結果、LDベース
110に取り付けられた半導体レーザー1の位置が調整
される。
【0029】次に、上記のように構成された画像露光装
置による画像露光処理について説明する。まず、画像露
光処理に先立って、光源ユニット10の半導体レーザー
1の位置を調整して、感光フィルム(露光面)FMでの
副走査方向Yにおけるビーム間ピッチが均一となるよう
に補正する。この補正が必要となる理由は、上記したよ
うに、単に半導体レーザー1を図13に示す配列パター
ンで配置しただけでは、第1縮小光学系20の光軸と光
源ユニット10からの複数の光ビームの方向とが所定の
関係(平行)を満足していなかったり、また、ズームレ
ンズ31の光軸と縮小光学系20から出射した光ビーム
の方向が所定の関係(平行)を満足していないこと等が
あるため、図16に示すように感光フィルムFMでの像
が歪んでしまい、その結果、副走査方向Yにおけるビー
ム間ピッチPが不均一となってしまうからである。
置による画像露光処理について説明する。まず、画像露
光処理に先立って、光源ユニット10の半導体レーザー
1の位置を調整して、感光フィルム(露光面)FMでの
副走査方向Yにおけるビーム間ピッチが均一となるよう
に補正する。この補正が必要となる理由は、上記したよ
うに、単に半導体レーザー1を図13に示す配列パター
ンで配置しただけでは、第1縮小光学系20の光軸と光
源ユニット10からの複数の光ビームの方向とが所定の
関係(平行)を満足していなかったり、また、ズームレ
ンズ31の光軸と縮小光学系20から出射した光ビーム
の方向が所定の関係(平行)を満足していないこと等が
あるため、図16に示すように感光フィルムFMでの像
が歪んでしまい、その結果、副走査方向Yにおけるビー
ム間ピッチPが不均一となってしまうからである。
【0030】ここで、感光フィルムFMでの像の歪を解
析したところ、歪んだ像(図16)は歪を含まない理想
像(図14)を回転させたものに近似していることがわ
かった。したがって、感光フィルムFMに結像される像
を観測しながら光源ユニット10を回転させて、観測像
が図14の像と近いものとなるように半導体レーザー1
の位置を調整すれば、副走査方向Yにおけるビーム間ピ
ッチを均一にすることができる。
析したところ、歪んだ像(図16)は歪を含まない理想
像(図14)を回転させたものに近似していることがわ
かった。したがって、感光フィルムFMに結像される像
を観測しながら光源ユニット10を回転させて、観測像
が図14の像と近いものとなるように半導体レーザー1
の位置を調整すれば、副走査方向Yにおけるビーム間ピ
ッチを均一にすることができる。
【0031】そこで、この実施例では、図7に示す調整
装置を用いてビーム間ピッチを調整する。
装置を用いてビーム間ピッチを調整する。
【0032】図7は調整装置の概略構成を示す図であ
る。同図に示すように、この調整装置70は、対物レン
ズ71と、露光面(感光フィルムFMの位置)に結像さ
れる像を撮像するCCDカメラ72と、CCDカメラ7
2からの画像信号に対して所定の画像処理を施す画像処
理ユニット73と、その画像処理ユニット74と接続さ
れ画像処理ユニット74からの信号に基づき種々の演算
処理を行う演算ユニット75とを備えている。また、画
像処理ユニット73には、モニタ75が接続されてお
り、CCDカメラ72によって撮像された画像が表示さ
れる一方、演算ユニット74には、CRT76が接続さ
れており、演算ユニット74での演算結果などが表示さ
れる。
る。同図に示すように、この調整装置70は、対物レン
ズ71と、露光面(感光フィルムFMの位置)に結像さ
れる像を撮像するCCDカメラ72と、CCDカメラ7
2からの画像信号に対して所定の画像処理を施す画像処
理ユニット73と、その画像処理ユニット74と接続さ
れ画像処理ユニット74からの信号に基づき種々の演算
処理を行う演算ユニット75とを備えている。また、画
像処理ユニット73には、モニタ75が接続されてお
り、CCDカメラ72によって撮像された画像が表示さ
れる一方、演算ユニット74には、CRT76が接続さ
れており、演算ユニット74での演算結果などが表示さ
れる。
【0033】実際の調整手順では、オペレータがモニタ
75を見ながら光源ユニット位置調整機構60のカム6
1を偏心回転運動させて、光源ユニット10を回動軸1
52回りに回動させ、半導体レーザー1を移動させる。
そして、モニタ75に映し出された像が図12に近いも
のとなった時点、つまりに半導体レーザー1の位置決め
が完了した時点で、カム61の偏心回転運動を停止さ
せ、その状態でLDベース110およびアパーチャベー
ス130を光源ユニット支持ベース150にボルト(図
示省略)で固定する。こうすることにより、簡単な構成
で、しかも簡単な調整作業により、像の歪を補正するこ
とができ、副走査方向Yにおけるビーム間ピッチを均一
に調整することができる。
75を見ながら光源ユニット位置調整機構60のカム6
1を偏心回転運動させて、光源ユニット10を回動軸1
52回りに回動させ、半導体レーザー1を移動させる。
そして、モニタ75に映し出された像が図12に近いも
のとなった時点、つまりに半導体レーザー1の位置決め
が完了した時点で、カム61の偏心回転運動を停止さ
せ、その状態でLDベース110およびアパーチャベー
ス130を光源ユニット支持ベース150にボルト(図
示省略)で固定する。こうすることにより、簡単な構成
で、しかも簡単な調整作業により、像の歪を補正するこ
とができ、副走査方向Yにおけるビーム間ピッチを均一
に調整することができる。
【0034】例えば、露光面上でのビームスポット配列
が図16に示すような場合、その配列パターン(光源ユ
ニット)を反時計回り方向に回転させれば、図11に示
すような配列パターンになる。従って、その配列パター
ンを副走査方向に投影すると図12(a)に示すように
ビーム間ピッチPは、いずれもほぼ一致する(P=P1
=P2 )ため、露光ムラが発生しない(図12
(a))。なお、この場合は、理想的なビームスポット
配列パターン(図14)と若干異なっているため、各ビ
ームスポットを副走査方向Yに平行なラインY3 ,Y4
上に正確にはならばない。従って、露光面上におけるビ
ーム形成パターンは、理想的なビームスポット配列パタ
ーンの場合と比較して若干主走査方向Xにずれている。
が図16に示すような場合、その配列パターン(光源ユ
ニット)を反時計回り方向に回転させれば、図11に示
すような配列パターンになる。従って、その配列パター
ンを副走査方向に投影すると図12(a)に示すように
ビーム間ピッチPは、いずれもほぼ一致する(P=P1
=P2 )ため、露光ムラが発生しない(図12
(a))。なお、この場合は、理想的なビームスポット
配列パターン(図14)と若干異なっているため、各ビ
ームスポットを副走査方向Yに平行なラインY3 ,Y4
上に正確にはならばない。従って、露光面上におけるビ
ーム形成パターンは、理想的なビームスポット配列パタ
ーンの場合と比較して若干主走査方向Xにずれている。
【0035】しかしながら、主走査方向のビームスポッ
トの位置ずれは、副走査方向のそれに比べて画質への影
響は少ない。これは、副走査方向の位置ずれは、その全
ライン上のビームスポットの配列に影響をあたえるた
め、線状の露光ムラが見えやすいが、主走査方向Xの位
置ずれは、隣接するビームごとにその位置ずれ量が異な
るため、線状のムラが見えにくい。従って、主走査方向
のビームスポットの位置ずれは、それほど画質に影響し
ないので、副走査方向の位置ずれ補正のため、主走査方
向のビームスポットの位置ずれが発生しても何等問題は
ない。
トの位置ずれは、副走査方向のそれに比べて画質への影
響は少ない。これは、副走査方向の位置ずれは、その全
ライン上のビームスポットの配列に影響をあたえるた
め、線状の露光ムラが見えやすいが、主走査方向Xの位
置ずれは、隣接するビームごとにその位置ずれ量が異な
るため、線状のムラが見えにくい。従って、主走査方向
のビームスポットの位置ずれは、それほど画質に影響し
ないので、副走査方向の位置ずれ補正のため、主走査方
向のビームスポットの位置ずれが発生しても何等問題は
ない。
【0036】上記のようにしてビーム間ピッチの均一化
調整が完了すると、回転シリンダ40に感光フィルムF
Mを巻き付けた後、回転シリンダ40を主走査方向Xに
回転させるとともに、ドライブ回路からの信号に応じて
光源ユニット10から複数の光ビームを出射しながら、
露光ヘッドHDを副走査方向Yにステップ送りして、感
光フィルムFMに2次元の画像を露光する。
調整が完了すると、回転シリンダ40に感光フィルムF
Mを巻き付けた後、回転シリンダ40を主走査方向Xに
回転させるとともに、ドライブ回路からの信号に応じて
光源ユニット10から複数の光ビームを出射しながら、
露光ヘッドHDを副走査方向Yにステップ送りして、感
光フィルムFMに2次元の画像を露光する。
【0037】以上のように、この実施例によれば、光源
ユニット10に光源ユニット位置調整機構60を連結
し、この光源ユニット位置調整機構60により光源ユニ
ット10を回動軸152回りに回動させて、半導体レー
ザー1の位置決めすることにより、副走査方向Yにおけ
るビーム間ピッチを均一にしているため、簡単な構成お
よび簡単な調整作業により効果的に画像ムラを防止する
ことができ、優れた画像品質で画像露光を行うことがで
きる。
ユニット10に光源ユニット位置調整機構60を連結
し、この光源ユニット位置調整機構60により光源ユニ
ット10を回動軸152回りに回動させて、半導体レー
ザー1の位置決めすることにより、副走査方向Yにおけ
るビーム間ピッチを均一にしているため、簡単な構成お
よび簡単な調整作業により効果的に画像ムラを防止する
ことができ、優れた画像品質で画像露光を行うことがで
きる。
【0038】なお、上記実施例では、発光素子として半
導体レーザー1を採用しているが、半導体レーザー1の
代わりに発光ダイオードなどを用いてもよい。通常、発
光素子として半導体レーザー1を用いた場合には出射側
にアパーチャ板131を設けるのが好ましいが、発光ダ
イオードなどを用いた場合には必ずしもアパーチャ板1
31を設ける必要がなく、光源ユニット10を複数の発
光素子のみにより構成してもよい。
導体レーザー1を採用しているが、半導体レーザー1の
代わりに発光ダイオードなどを用いてもよい。通常、発
光素子として半導体レーザー1を用いた場合には出射側
にアパーチャ板131を設けるのが好ましいが、発光ダ
イオードなどを用いた場合には必ずしもアパーチャ板1
31を設ける必要がなく、光源ユニット10を複数の発
光素子のみにより構成してもよい。
【0039】また、この実施例では、LDベース110
とアパーチャベース130とをスペーサー140によっ
て連結固定し、これら両ベース110,130を一体的
に光軸方向Zに伸びる回動軸152回りに回動させる、
つまり半導体レーザー1およびアパーチャ132を一体
的に回動し、位置決めするようにしているが、図8に示
すように、LDベース110をベース50(図1)に固
定する一方、アパーチャベース130のみを回動軸15
2回りに回動自在にベース150に保持するとともに、
上記と同様に構成されたアパーチャ位置調整機構を取付
け、外力に応じて、アパーチャ板131のみを回動軸1
52回りに回動させ、位置決めするようにしてよい。
とアパーチャベース130とをスペーサー140によっ
て連結固定し、これら両ベース110,130を一体的
に光軸方向Zに伸びる回動軸152回りに回動させる、
つまり半導体レーザー1およびアパーチャ132を一体
的に回動し、位置決めするようにしているが、図8に示
すように、LDベース110をベース50(図1)に固
定する一方、アパーチャベース130のみを回動軸15
2回りに回動自在にベース150に保持するとともに、
上記と同様に構成されたアパーチャ位置調整機構を取付
け、外力に応じて、アパーチャ板131のみを回動軸1
52回りに回動させ、位置決めするようにしてよい。
【0040】また、上記実施例では、光源ユニット支持
ベース150の上方位置に位置決めピン151を突設
し、この位置決めピン151をLDベース110の上方
位置に設けられた位置決め孔に嵌挿することにより、光
源ユニット10を光源ユニット支持ベース150に対し
回動自在に連結している(図2参照)が、図9に示すよ
うに、LDベース110をゴニオステージ70の上に支
持して、縮小光学系20を含めた光学系の光軸と平行な
基準軸、例えば、ほぼ中央部に位置する半導体レーザー
1を通る軸152回りに光源ユニット10全体を回動さ
せることにより、半導体レーザー1の位置を調整するよ
うに構成してもよい。
ベース150の上方位置に位置決めピン151を突設
し、この位置決めピン151をLDベース110の上方
位置に設けられた位置決め孔に嵌挿することにより、光
源ユニット10を光源ユニット支持ベース150に対し
回動自在に連結している(図2参照)が、図9に示すよ
うに、LDベース110をゴニオステージ70の上に支
持して、縮小光学系20を含めた光学系の光軸と平行な
基準軸、例えば、ほぼ中央部に位置する半導体レーザー
1を通る軸152回りに光源ユニット10全体を回動さ
せることにより、半導体レーザー1の位置を調整するよ
うに構成してもよい。
【0041】なお、上記実施例では、光源ユニット10
からの複数の光ビームを縮小光学系20およびアフォー
カル光学系30を介して感光フィルムFMに照射するよ
うに構成しているが、図10に示すように、光源ユニッ
ト10からの光ビームを第1縮小光学系20によって直
接感光フィルムFMに照射するようにしてもよい。ま
た、縮小光学系20の構成は上記実施例に限定されるも
のではなく、適当な光学系、例えば図10に示すように
2つのレンズ23,24を組み合わせたレンズ系を用い
ることができる。
からの複数の光ビームを縮小光学系20およびアフォー
カル光学系30を介して感光フィルムFMに照射するよ
うに構成しているが、図10に示すように、光源ユニッ
ト10からの光ビームを第1縮小光学系20によって直
接感光フィルムFMに照射するようにしてもよい。ま
た、縮小光学系20の構成は上記実施例に限定されるも
のではなく、適当な光学系、例えば図10に示すように
2つのレンズ23,24を組み合わせたレンズ系を用い
ることができる。
【0042】
【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、光源ユニットを縮小光学系の光軸に平行な回動軸回
りに回動自在とするとともに、その光源ユニットに光源
ユニット位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副
走査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、優れた画像品質で
画像露光を行うことができる。
ば、光源ユニットを縮小光学系の光軸に平行な回動軸回
りに回動自在とするとともに、その光源ユニットに光源
ユニット位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記光源ユニットを前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、簡単な構成で、しかも簡単な調整作業により、副
走査方向におけるビーム間ピッチを均一にすることがで
き、画像ムラを防止することができ、優れた画像品質で
画像露光を行うことができる。
【0043】請求項2の発明によれば、各発光素子を半
導体レーザーで構成するとともに、半導体レーザーの配
列パターンと同一の配列パターンで形成された複数のア
パーチャを有するアパーチャ板を、前記複数のアパーチ
ャが前記複数の半導体レーザーと1対1で相対するよう
に、前記複数の半導体レーザーの出射側に配置してい
る。そのため、半導体レーザーおよびアパーチャ板とが
一体となって、外部より加えられる外力に応じて、回動
軸回りに回動し、位置決めして、露光面における像の歪
を補正し、露光面における副走査方向のビーム間ピッチ
の間隔をほぼ等間隔としているので、上記と同様の効果
が得られる。
導体レーザーで構成するとともに、半導体レーザーの配
列パターンと同一の配列パターンで形成された複数のア
パーチャを有するアパーチャ板を、前記複数のアパーチ
ャが前記複数の半導体レーザーと1対1で相対するよう
に、前記複数の半導体レーザーの出射側に配置してい
る。そのため、半導体レーザーおよびアパーチャ板とが
一体となって、外部より加えられる外力に応じて、回動
軸回りに回動し、位置決めして、露光面における像の歪
を補正し、露光面における副走査方向のビーム間ピッチ
の間隔をほぼ等間隔としているので、上記と同様の効果
が得られる。
【0044】また、請求項3の発明によれば、光源ユニ
ットのアパーチャ板を縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在とするとともに、そのアパーチャ板にア
パーチャ位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、上記と同様の効果が得られる。
ットのアパーチャ板を縮小光学系の光軸に平行な回動軸
回りに回動自在とするとともに、そのアパーチャ板にア
パーチャ位置調整手段を連結して、外部より加えられる
外力に応じて、前記アパーチャ板を前記回動軸回りに回
動させ、位置決めすることにより、露光面における副走
査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔としている
ので、上記と同様の効果が得られる。
【0045】請求項4の発明によれば、露光処理に先立
って、光源ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回
動軸回りに回動して、光源ユニットの位置決めを行い、
前記露光面における像の歪を補正して、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔と
しているので、上記と同様の効果が得られる。
って、光源ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回
動軸回りに回動して、光源ユニットの位置決めを行い、
前記露光面における像の歪を補正して、前記露光面にお
ける副走査方向のビーム間ピッチの間隔をほぼ等間隔と
しているので、上記と同様の効果が得られる。
【図1】この発明にかかる画像露光装置の第1実施例を
示す外観斜視図である。
示す外観斜視図である。
【図2】光源ユニットの斜視図である。
【図3】光源ユニットの側面図である。
【図4】光源ユニットの分解組立斜視図である。
【図5】LDベースへのステーの取付方法を示す斜視図
である。
である。
【図6】図5のI−I線断面図である。
【図7】調整装置の概略構成を示す図である。
【図8】この発明にかかる画像露光装置の他の実施例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図9】この発明にかかる画像露光装置の別の実施例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図10】この発明にかかる画像露光装置のさらに別の
実施例を示す斜視図である。
実施例を示す斜視図である。
【図11】光源ユニット回動調整後の露光面上でのビー
ムスポットの配列を示す図である。
ムスポットの配列を示す図である。
【図12】光源ユニット回動調整後の副走査方向におけ
るビームスポットの配列を示す図である。
るビームスポットの配列を示す図である。
【図13】発光素子の配列を示す図である。
【図14】露光面上での理想的なビームスポットの配列
を示す図である。
を示す図である。
【図15】副走査方向における理想的なビームスポット
の配列を示す図である。
の配列を示す図である。
【図16】光源ユニット未調整の露光面上でのビームス
ポットの配列を示す図である。
ポットの配列を示す図である。
【図17】光源ユニット未調整の副走査方向におけるビ
ームスポットの配列を示す図である。
ームスポットの配列を示す図である。
1 半導体レーザー 10 光源ユニット 20 第1縮小光学系 31 ズームレンズ 32 レンズ 60 光源ユニット位置調整機構 152 回動軸 FM 感光フィルム
Claims (4)
- 【請求項1】 それぞれが光ビームを発生する複数の発
光素子が所定の2次元配列パターンで配置されてなる光
源ユニットと、縮小光学系とを備え、前記縮小光学系を
介して前記光源ユニットからの複数の光ビームを露光面
に照射する画像露光装置において、 前記光源ユニットが前記縮小光学系の光軸に平行な回動
軸回りに回動自在となっており、しかも、 前記光源ユニットと連結され、外力に応じて、前記光源
ユニットを前記回動軸回りに回動させ、位置決めする光
源ユニット位置調整手段をさらに備えたことを特徴とす
る画像露光装置。 - 【請求項2】 各発光素子は半導体レーザーであり、し
かも、 前記光源ユニットは、前記2次元配列パターンと同一の
配列パターンで形成された複数のアパーチャを有し、前
記複数のアパーチャが前記複数の半導体レーザーと1対
1で相対するように、前記複数の半導体レーザーの出射
側に配置されたアパーチャ板をさらに備えている請求項
1記載の画像露光装置。 - 【請求項3】 それぞれが光ビームを発生する複数の半
導体レーザーが所定の2次元配列パターンで配置される
とともに、前記2次元配列パターンと同一の配列パター
ンで形成された複数のアパーチャを有するアパーチャ板
が、前記複数のアパーチャと前記複数の半導体レーザー
と1対1で相対するように、前記複数の半導体レーザー
の出射側に配置されてなる光源ユニットと、縮小光学系
とを備え、前記縮小光学系を介して前記光源ユニットか
らの複数の光ビームを露光面に照射する画像露光装置に
おいて、 前記アパーチャ板が前記縮小光学系の光軸に平行な回動
軸回りに回動自在となっており、しかも、 前記アパーチャ板と連結され、外力に応じて、前記アパ
ーチャ板を前記回動軸回りに回動させ、位置決めするア
パーチャ位置調整手段をさらに備えたことを特徴とする
画像露光装置。 - 【請求項4】 所定の2次元配列パターンで配置された
複数の発光素子からの光ビームをそれぞれ縮小光学系に
入射し、前記2次元配列パターンと相似なビーム配列パ
ターンを有する複数の露光ビームを前記縮小光学系から
露光面に照射して露光処理を行う画像露光方法におい
て、 前記露光処理に先立って、前記露光面における副走査方
向のビーム間ピッチの間隔がほぼ等間隔となるように、
前記光源ユニットを前記縮小光学系の光軸と平行な回動
軸回りに回動させ、位置決めすることを特徴とする画像
露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5280620A JPH07111559A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 画像露光装置および画像露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5280620A JPH07111559A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 画像露光装置および画像露光方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07111559A true JPH07111559A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=17627592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5280620A Pending JPH07111559A (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 画像露光装置および画像露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07111559A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02207242A (ja) * | 1989-02-07 | 1990-08-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合体分散物及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2009040031A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-02-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2013122600A (ja) * | 2007-07-13 | 2013-06-20 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
WO2022085381A1 (ja) * | 2020-10-21 | 2022-04-28 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 発光装置および測距システム |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP5280620A patent/JPH07111559A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02207242A (ja) * | 1989-02-07 | 1990-08-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合体分散物及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2009040031A (ja) * | 2007-07-13 | 2009-02-26 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2013122600A (ja) * | 2007-07-13 | 2013-06-20 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
WO2022085381A1 (ja) * | 2020-10-21 | 2022-04-28 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 発光装置および測距システム |
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