TWI230176B - Antistatic composition - Google Patents
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Description
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五、發明說明( 曼j月領域 本發明係關於包括至j — 努 、 G枯主少種聚合物及至少一種抗靜電劑 〈組合物。本發明尚關於包括該組合物之纖維、薄膜 物、塗料及模製或吹製物件β本發明之其他目的中亦關於 用作抗靜電劑之新穎化合物及關於對基材賦予抗靜性 之方法。 t明背景 靜電荷之累積t對加工及許多J!業產品及材料之應用造 成各種問題。靜電荷會造成材料黏結或相互排斥。此在纖 ^及織物加工上特別有問題。另外,靜電荷之累積會造成 k的物及附污物或灰塵,而造成製造或污染之問題,且备 減弱產品效能。 自絕緣標的物瞬間放電亦爲嚴重之問題。對於照相薄 膜,該放電會造成結霧以及加工之外觀。當含有可(燃材料 時j靜電放電可能爲引火源,而造成著火或爆炸。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 靜電在電子工業上爲特殊之問題,因爲現代之電子装置 極易由於靜電放電遭受永久的損害。在低溼度條件下,及 液體或固體移動使之相互接觸(磨擦電)時,靜電荷累積在 絕緣標的物上尤其普遍且會產生問題。 靜電荷累積可藉由增加材料之導電性加以控制。此可夢 由増加離子或電子導電性達成。目前控制靜電累積最普= <方法爲藉由水氣吸附增加導電性。此一般係藉由對週遭 父氣加濕(澄度化)或藉由使用吸濕抗靜電劑(通常稱之爲潤 濟劑’因爲其可有效的吸附大氣中水氣)達成。大部分之
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發明說明(2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 抗靜電劑係用於消除累積之靜電荷,因此,靜電衰退速率 及表面導電性一般爲抗靜電劑效能之指標。 抗靜電劑可塗佈在表面上(外部抗靜電劑)或加在不同之 絕緣材料中(内部抗靜電劑)。通常,内部抗靜電劑係在融 溶加工中直接混合於融溶聚合物中。(—般之聚合物融溶 加工技術包含模製、融熔吹製、融熔纺絲及融熔擠出)。 相當少數之抗靜電劑具有所需之熱安定性,以承受高至 250至400 C或更高之聚合物融熔加工溫度。因爲靜電累積 一般爲表面現象,因此使内部抗靜電劑移行到達材料表面 通常最有效。 已知之抗靜電劑涵蓋廣泛之化學種類,包含有機胺及醯 胺、脂肪酸之酯類、有機酸、聚氧乙烯衍生物、多元醇、 至屬、碳黑、半導體、及各種有機及無機鹽類。許多亦可 爲界面活性劑,且其性質可爲中性或離子性。 許多低分子量中性抗靜電劑具有不適於在高溫下使用 (如在聚合物融熔加工中)之足夠高之蒸氣壓,因爲蒸發會 產生材料損耗。許多其他中性抗靜電劑對於聚合物融溶加 工或其他高溫加工條件下之熱安定性不足。 大部分之非金屬性抗靜電劑爲可吸收且傳導水使電荷消 散之潤濕劑。因此,其效能在低的大氣溼度下一般會減 低。因爲許多此等抗靜電劑爲水溶性,因此將材料浸泡在 水中(如洗滌)易被移除,且因此並不耐久。吸濕抗靜電劑 伴隨之水在聚合物融熔加工中爲一特殊問題,因爲水在融 溶加工溫度下會快速的蒸發之故。此會導致聚合物中形成 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) FT裝 ----訂---------
1230176 A7 B7 五、發明說明(3 不希望之氣泡,且會造成擠出設備中之旋轉滑動。 使用季銨鹽當作抗靜電劑在技藝中爲習知者。其可爲固 或硬體,JL通常爲自化物或甲燒續酸鹽。該鹽提供極佳 之抗靜電效能,但受限於熱安定性且一般爲吸濕性。因 =,無法承受許多高效能熱塑性樹脂所須之高溫加工條 播機、有機及氟有機陰離子之金屬鹽在某些聚合物組合 物中亦顯示可用作抗靜電劑。由於成本及毒性之考量,及 由於鹼金屬陽離子(尤其是鋰)對水之高親和性,因此最常 用者爲鹼金屬鹽。然而,大部分之金屬鹽在高溫加工條件 下無法提供足夠之熱安定性,且與中或低極性聚合物,如 聚丙烯、聚酯及聚碳酸酯不相容。此不相容性會導致不適 &之抗靜電效此及/或在最終聚合物物件中之物理性質或 透明性無法接受的降低。因此,金屬鹽當作内部抗靜電劑 之用途一般均限於在相對低溫下由水溶液或有機溶液形 之高極性及/或親水性聚合物基質。 再者,由於許多金屬鹽對金屬及電子組件會產生腐蝕 因此並不適用於與此等表面接觸之用途。已知之親水性 屬鹽及季銨鹽通常會遭遇到其他潤濕劑抗靜電劑之所有 點(見上)。 因此,本技藝中仍需要可呈現高熱安定性、疏水性、 揮發性、對金屬及電子組件低腐蚀性、耐久性及聚合物… 容性之均衡極優,且在廣範圍之溼度下,對各種絕緣材料 均可賦予優良抗靜電效能之抗靜電劑。 請 成
金 缺 低 相 -6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公愛) 1230176 A7 五、發明說明(4 ) 登明概要 簡言之’本發明之一目的係提供一種抗靜電組合物,該 組合物包括或基本上包含(a)由至少一種 /搜非聚合氮鑕陽離子 (例如,季銨離子)及弱配位氟有機陰離子 ” 哪々X* <離予鹽, 且該陰離子之共軛酸爲超酸(例如,雙(全氟烷磺醯基)亞醯 胺離子及(b)至少一種熱塑性聚合物之金屬摻合物。至 於此處所用之”融熔摻合” 一詞意指已藉由融熔:工技術 製備 < 摻合物,且、'鑌〃一詞意指具有其電荷之至少部分 位在至少一氮原子上之正電荷離子。較好,陰離子共軛酸 之Hammett酸性功能H〇低於約-1〇。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經發現上述之離子鹽可用作添加劑(内部抗靜電劑)或局 部處理(外部抗靜電劑),對聚合物或其他絕緣材料賦予抗 靜電特性。此等離子鹽對於分散累積在其他絕緣基材,如 聚合物薄膜或織物之靜電荷相當有效。例如,將某些較佳 之鹽類添加於聚丙烯融熔吹製不織物織物中當作聚合物融 溶添加劑時,此鹽類可賦予優良或比在相同靜電衰退試驗 條件下之任一已知抗靜電劑較佳之靜電分散速率。本發明 組合物中使用之離子鹽即使在不含導電性提昇添加劑(例 如麵鹽或極性有機溶劑)下亦相當有效,且因此基本上含 鹽類以及絕緣材料之組合物出乎意料之外的呈現優良之抗 靜電特性。 另外,本發明組合物中使用之離子鹽可呈現意外之高熱 安定性。此鹽類(即使是季銨鹽)在達到3〇〇-5〇〇°C(通常且 較好大於350°C )之溫度下仍安定,且因此特別適合用作聚 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 1230176 A7 B7 五、發明說明(5 二::溶添加劑(經由高溫融溶加工添加於主聚合物中)以 jtm、 ‘、用中。此鹽類亦爲非揮發物(基本 下;H 可燃,且可在—般之加工及使用條件 下使用而不會釋出潛左之者堂支 1 有蒸巩,且不會由於蒸發損失 而使仵抗靜電效能衰退。 ^發明組合物中使用之離子鹽類可與各種聚合物相容。 =鹽,亦爲疏水性(與水不相容),且因此其抗靜電效能 :大:中之澄度無關,且即使暴露在水溶液環境中亦可持 較佳(離子性鹽㈣在室溫(例如約 下爲液態者。 ^々ΠΤ 、至/皿 因此本發明組合物中所用之離子鹽符合展現高熱安定 性、疏水性、低揮發性、耐久性及聚合物相容性之優里平 衡同時在廣範圍濕度量下對各種絕緣材料賦予良好抗靜電 性能之抗靜電劑之要求。 本發明之另-目的亦提供包括本發明組合物之纖維織 物'薄膜'塗料及模製或吹製物件;用作抗靜電劑之新類 =合物;及對基材賦予抗靜電特性之方法,例如整體添加 或局部處理。 發明詳細敛述 本發明之抗靜電組合物中適用之離子鹽類爲由非聚人物 氣鏘陽離子及弱配位之氟有機(全氟化或部分氟化)陰離予 所構成者。氮鑌陽離子可爲環狀(亦即,陽離子之氮原子 爲環原子)或非環狀(亦即,陽離子之氮原子非爲環原子 但可具有環狀取代基)。環狀陽離子可爲芳香族未飽和 -8- 本’紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格<210 X 297公釐 項
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 ---- -B7 ___ 一 ;----~---五、發明說明(6 ) 但爲非芳香族、或飽和,且非環狀陽離子可爲飽和或未飽 0 環狀陽離子可包含一種或多種除氮之外之雜原子(例如 氧或硫)’且環原子可帶有取代基(例如,氫、_素、或有 機基如fe基、脂環族、芳基、燒環族、燒芳基、脂環燒族 、芳燒基、芳環族及脂環族芳基)。個別之燒基取代基可 結合在一起,構成形成含氮原子之環狀構造之2至4個碳原 子之單元伸fe基。有機取代基可含一種或多種雜原子,如 氮、氧、硫、磷、或鹵素(且因此其性質可爲氟有機物)。 非環狀陽離子可具有至少一個(較好至少二個;更好至 少三個;最好四個)氮結合之有機取代基或尺基,其餘取代 基爲氫。R基可爲環狀或非環狀,飽和或不飽和,芳香族 或非芳香族,且可含一種或多種雜原子如氮、氧、硫、 磷、或鹵素(且因此其性質可爲氟有機物)。 較好,氮鑕陽離子爲非環狀,飽和環狀或芳香族。更 好,陽離子爲非環狀或芳香族。基於安定性理由,最好, 陽離子爲芳香族。 較佳之非環狀氮鑌陽離子爲季或三級(最好爲季)銨離 子。季及二級銨離子較好爲低對稱(具有至少二種,較好 至少三種不同之與氮結合之有機取代基或上述定義之R 基),且更好在至少一個與氮結合之有機取代基中至少含 一個羥基。最佳I非環狀氮鑌陽離子爲下述式〗之離子鹽 類。較佳之芳香族氮鏘陽離子係選自包含下列者: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) L-裝 I I I I 訂!!!
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三哇鑰 嘧唑鏘 --II 訂--------- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中I,R2 ’ R3 ’ R4 ’尺5 ’及R6分別選自包含Η、F、J至 個碳原子之烷基,且二個該烷基結合在一起形成會形成涵 盖Ν之環狀構造之2至4個碳原子之單元伸烷基,及苯基; 且其中該嫁基、伸燒基、或苯基均可以以一個或多個拉電 子基(較好選自包含F-,Cl_,CF3_,SF5-,CF3S-, (CF3)2CHS-,及(cf3)3cs-)取代。 更好之芳香族陽離子包含選自包含下列者 -10 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
I I I I 1230176 A7 B7 五、發明說明(8
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IV -N-/' 々乂 R2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 .唑鏘 其中Ri ’ R2 ’ R3 ’ R4 ’及R5均如上述。 弱配位之陰離子爲氟有機陰離子,其共軏酸爲超酸(亦 及其酸性超過麵硫酸之酸)。較好,陰離子之丘軛酸之 Hamme«酸性度功能H〇低於約_10 (更好低於約心)。此種 2位之氟有機陰離子包含包括至少—種高度氟化燒_ 基者,亦即全氟燒績酿基,或其中所有非氟碳結合之取代 基均與直接與磺醯基結合之碳原子(較好,所有非氟碳結 合之取代基均與間隔磺醯基處有超過二個以上之碳原子〜 碳原子結合)以外之碳原子結合之部分氟化烷磺醯^ 較好,陰離子至少約80%氟化(亦即,至少約8〇%之陰離 子碳鍵結取代基爲氟原子)。更好,陰離子爲全氟化(人 即,完全氟化,其中所有碳鍵結之取代基均爲氟原子) -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 _______B7 __ 五、發明說明(9 ) 陰離子(含較佳之全氟化陰離子)可含有一種或多種連續(亦 即鏈上)雜原子,如氮、氧或硫。 適當之弱配位陰離子包含(但不限)選自包含全氟烷磺酸 鹽、氰基全氟烷磺醯胺、雙(氰基)全氟烷磺醯胺、雙(全氟 烷磺醯基)亞醯胺、雙(全氟烷磺醯基)甲基化物、及參(全 氟燒續酿基)甲基化物之陰離子。 較佳之陰離子包含全氟烷磺酸鹽、雙(全氟烷磺醯基)亞 醯胺、及參(全氟烷磺醯基)甲基化物。雙(全氟烷磺醯基) 亞醯胺及參(全氟烷磺醯基)甲基化物爲更好之陰離子,且 最佳者爲參(全氟烷磺醯基)甲基化物。 離子鹽類在使用條件下可爲固態或液態,但其熔點較好 低於約150°C (更好,低於約5(TC,最好低於約2yc)。較佳 者爲液態離子鹽’因爲其靜電分散效能一般較佳。離子鹽 較好在約325 C及更南之溫度(更好約350 °C及更高)下安 定。(換言之,鹽類高過此溫度會開始分解)。此鹽較好亦 爲疏水性。因此,本發明抗靜電組合物中所用較佳類型之 離子鹽類包含選自包含由下列所構成··(a)下列之芳香族 氮鑕陽離子 裝 i II---—訂--------- (請先閱讀背面之注意事項#|填寫本頁)
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) " ^________ 1230176 A7 五、發明說明(1〇
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中I,r2,r3,R4,,及R6分別選自包含H、F、1 約4個碳原子之烷基,且二個該烷基結合在一起形成會形 成涵蓋N環狀構造之2至4個碳原子之單元伸垸基,及苯 基’且其中該燒基、伸坑基、或苯基均可以以一個或多個 拉電子基(較好選自包含F·,Cl-,CF3_,SF5_,CF3S-, (CF3)2CHS-,及(CF3)3CS_)取代;及(b)依據上述之弱配位 氟有機陰離子,或選自包含BF4-,PF6-,AsF6_,及SbF6_i -13 - 本紙^度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) "~'
1230176 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(11 ) 弱配位陰離子。該較佳之類型包括美國專利第5,827,602號 (Koch等人)中所述之疏水性離子液體。 製備本發明抗靜電組合物中所用另一較佳類型之離子鹽 類爲以下式I表示之新穎化合物(Ki)4^+[(CR2)q〇K2]zX- (I) 其中各Ri係分別選自可含一種或多種雜原子如氮、氧、 硫、磷或卣素(且因此其性質可爲氟有機)之包含烷基、脂 環基、芳基、烷環基、烷芳基、脂環烷基、芳烷基、芳環 基、及脂環芳基邵份;各R2分別選自包含氫及上述之部 份者,Z爲1至4之整數;q爲1至4之整數;且X-爲如上述之 弱配位氟有機陰離子。R!較好爲烷基,且較好選自包含 氫、烷基、及醯基(更好爲氫或醯基;最好爲氫)。 本發明之抗靜電組合物中所用之上述離子鹽類可藉由技 藝中習知之離子交換或置換反應製備。例如,前驅物鏽鹽 (例如,鐳_化物、鑌烷磺酸鹽、鑕烷羧酸鹽、或鏘自化 物鹽)可以與前驅物金屬鹽或水溶液中之弱配位陰離子之 相對應酸結合。當結合時,所需之產物(若配位陰離子之 鑕鹽)會沉澱(液體或固體)或可優先萃取入有機溶劑(例如 二氯甲烷)中。產物可以以過濾或液/液相分離進行分離, 或可以以水洗滌,以充分的移除副產物金屬卣化物鹽或鹵 化氫,接著可在眞空下充分的乾燥,以移除所有揮發物 (包含水及若存在之有機溶劑)。類似之置換反應可在水〆 外之有機溶劑(例如乙腈)中進行,且在此情況下,鹽副S 物會先沉澱,同時使所需之產物鹽仍溶在有機溶劑中(可 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 L·裝
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1230176 A7 B7 五、發明說明(12 ) 使用標準之實驗技術進行分離)。少數離子鹽類(例如,1 -乙基-3_甲基咪唑鑕三氟甲烷磺酸鹽,購自Sigma Aldrich, Milwaukee,威斯康辛)爲市售。 前驅物鹽或酸(用以製備離子性鹽)可以以技藝中已知之 標準方法製備,且許多均爲市售。此方法包含下列參考文 獻中所述之陰離子前驅物製備方法:亞醯胺前驅物-USP. Nos. 5,874,616 (Howells 等人)、5,723,664 (Sakaguchi 等 人)、5,072,040 (Armand)、及4,387,222 (Koshar);甲基化物 前驅物-USP. No· 5,554,664 (Lamanna 等人)及 5,273,840 (Dominey);績酸鹽前驅物-USP. Nos· 5,176,943 (Wou)、 4,582,781 (Chen 等人)、3,476,753 (Hanson)、及 2,732,398 (Brice等人);氟化學基中具有陽離子氧或氮之磺酸鹽、亞 醯胺及甲基化物前驅物_USP· No· 5,514,493 (Waddell等 人);雙風前驅物-RJ,Koshar 及 R.A· Mitsch,J. Org. Chem·, 11,3358 (1973)及USP· No· 5,136,097 (Armand)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 通常,含氰基之甲基化物及含氟烷磺醯基之醯胺藉由氟 烷磺醯基氟化物(RfS02F)分別與無水丙二腈或氰基醯胺, 在非親核鹼之存在下反應製成。該合成步驟敘述在USP. No· 5,874,616 (Howells等人)化學反應圖1之雙(氟烷磺醯基) 亞醯胺之製備中,且包含氟烷磺醯胺之丙二腈或氰基醯胺 之取代。所得中間物含非親核性鹼陽離子之甲基化物或醯 胺鹽可經由技藝中習知之標準置換反應,轉化成所需之陽 離子鹽(一般爲鋰)。 所用離子性鹽之代表性實例包含辛基二甲基-2-羥基乙基 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) 1230176 A7 ____B7_____ 五、發明說明(13 ) 銨雙(三氟甲基磺醯基)亞醯胺: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH -N(S02CF3)2], 辛基二甲基-2-羥基乙基銨全氟丁烷磺酸鹽·· [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH -〇S02C4F9], 辛基二甲基-2-羥基乙基銨三氟甲烷磺酸鹽: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH 0S02CF3], 辛基二甲基-2-¾基乙基按參(三氟甲:fe橫S盛基)甲基化物: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH c(so2cf3)3], 三甲基_2_乙醯氧基乙基銨雙(三氟甲基磺醯基)亞醯胺: [(ch3)3n+ch2ch2oc(o)ch3 N(S02CF3)2], 三甲基-2-羥基乙基銨雙(全氟丁烷磺醯基)亞醯胺·· [(CH3)3N+CH2CH20『N(S02C4F9)2],
三乙基銨雙(全氟乙烷磺醯基)亞醯胺:[Et3N+H N(so2c2F5)2], 四乙銨三氟甲烷磺酸鹽: [CF3S03- +Net4], 四乙胺雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺·· [(CF3S〇2)2N-+NEt4], 四甲基銨參(三氟甲烷磺醯基)甲基化物: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [(CH3)4N+ c(so2cf3)3], 四丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺: [(C4H9)4N+ _N(S02CF3)2], 三甲基-3-全氟辛基磺醯胺基丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞 醯胺: -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(15 ) 亞醯胺, 1-乙基·3_甲基咪唑鑕氰基三氟甲烷磺醯胺, 1-乙基-3-甲基咪唑鏘雙(氰基)三氟甲烷磺醯甲基化物, 1- 乙基-3·甲基咪唑鑕三氟甲烷磺醯基全氟丁烷磺醯亞醯 胺, 辛基二甲基-2-¾基乙基铵氟甲燒續醯基全氟丁燒續醯亞 醯胺, 2- 羥基乙基三甲基氟甲烷磺醯基全氟丁烷磺醯亞醯胺, 2-甲氧基乙基三甲基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺, 辛基二甲基_2_輕基乙基铵雙(氰基)三氟甲燒續醯甲基化 物, 三甲基_2·乙醯氧基乙基銨三氟甲烷磺醯基全氟丁烷磺醯 亞醯胺, 1_丁基吡啶鏽三氟甲烷磺醯基全氟丁烷磺醯亞醯胺, 2_乙氧基乙基三甲基銨三氟甲烷磺酸鹽, 1· 丁基-3-甲基咪唑鑕全氟丁烷磺酸鹽, 全氟-1-乙基-3-甲基咪唑鏘雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺, 1-乙基-2-甲基吡唑鑌全氟丁烷磺酸鹽, 1-丁基_2·乙基吡唑鑕三氟甲烷磺酸鹽, N_乙基嘍唑鑕雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺, N_乙基嘮唑鏘雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺,及1_ 丁基嘧啶 鑌全氟丁烷磺醯基雙(三氟甲烷磺醯基)·甲基化物,1,3-乙 基甲基咪唑鑌六氟磷酸鹽,1,3-乙基甲基咪唑鑕四氟硼酸 鹽,及其混合物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝
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-18-_ 1230176 A7 B7 五、發明說明(16) 較佳之離子性鹽類包含辛基二甲基-2-經基乙基銨雙(三 氟甲基磺醯基)亞醯胺: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH N(S02CF3)2], 辛基二甲基-2-羥基乙基銨全氟丁烷磺酸鹽·· [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH oso2c4f9], 辛基二甲基-2-羥基乙基銨三氟甲烷磺酸鹽: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH oso2cf3], 辛基二甲基-2-羥基乙基銨參(三氟甲烷磺醯基)甲基化物: [C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH _C(SO)2CF3)3], 三甲基-2·乙醯氧基乙基銨雙(三氟甲基磺醯基)亞醯胺: [(CH3)3N+CH2CH20C(0)CH3 N(S〇2CF3)2], 三甲基-2-羥基乙基銨雙(全氟丁烷磺醯基)亞醯胺: [(CH3)3N+CH2CH2OH N(S02C4F9)2],
三乙基銨雙(全氟乙烷磺醯基)亞醯胺:[Et3N+H N(so2c2F5)2], 四乙銨三氟甲烷磺酸鹽: [CF3S03- +NEt4] 四乙胺雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺:[(CF3S02)2N· +NEt4]。 四甲基銨參(三氟甲烷磺醯基)甲基化物: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [(ch3)4n+ X(S02CF3)3], 四丁基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺: [(C4H9)4N+ N(S02CF3)2], 三甲基-3-全氟辛基磺醯胺基丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞 醯胺: -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 1230176 A7 B7 五、發明說明(18 鑌雙(二氟甲烷磺醯基)亞醯胺,乙基甲基咪唑鏘三氟 甲烷磺酸鹽,及其混合物。 最佳(離子性鹽包含2_羥基乙基銨雙(三氟甲基磺醯基) 亞醯胺’辛基二甲基-2-羥基乙基銨三氟甲烷磺酸鹽,三 乙銨雙(全氟乙烷磺醯基)亞醯胺,1,3·乙基甲基咪唑鑕九 氟丁烷磺酸鹽’ 1,3_乙基甲基咪唑鏘雙(三氟甲烷磺醯基) 亞醯胺’ 1,3-乙基甲基咪唑鑕三氟甲烷磺酸鹽,及其混合 物’且更好者爲依據上述之一般陽離子以及陰離子。 適用於局部處理之絕緣材料包含具有相當低之表面與整 體導電性且易累積靜電電荷之材料。此材料包含性質上爲 有機或典機之合成及天然聚合物(或其反應性前驅物,例 如單·或多-官能基單體或寡聚物),以及陶瓷、玻璃及陶土 (或其反應前驅物)。 適當之合成聚合物(可爲熱塑性或熱固性)包含常用之塑 料,如聚(氯化乙烯)、聚乙烯(高密度、低密度、極低密 度)、聚丙烯及聚苯乙烯;工程塑膠如聚酯(包含,例如聚 (伸乙基對苯二酸酯)及聚(伸丁基對苯二酸酯),聚醯胺(脂 肪族,無定型或芳香族),聚碳酸酯(例如,芳香族聚碳酸 酯如由雙酚A衍生者),聚氧基亞甲基,聚丙晞酸酯及聚甲 基丙烯酸酯(例如,聚(甲基丙烯酸甲酯)),部分改質之聚 苯乙烯(例如,苯乙烯-丙烯腈(SAN)及丙烯腈-丁二晞-苯乙 烯(ABS)共聚物),高衝擊性聚苯乙烯(SB),氟塑料,及接 合物如聚(環氧苯)-聚苯乙晞及聚碳酸酯-ABS ;高性能塑 料如液晶聚合物(LCPs),聚醚酮(PEEK),聚颯,聚亞酿 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 請 先 閱 讀 背 面 之 注 項 再 填 寫 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
1230176 五、發明說明(2〇 ) 理組合物塗饰在至少一種絕緣性材料之至少一表面之至少 將至少一種離子鹽及至少-種絕緣性材料溶 7:種溶劑中,#著澆鑄或塗佈所得•液,且視情況 :’、、、使备劑蒸發;及⑷將至少一種離予鹽(單獨 组合在-起)及至少-種單體組合在—起,接著視 二發生種溶劑存在τ及視情況加熱或光化照射,使 爲了藉由融溶加工形Α融熔摻合&,離子鹽可以先盥例 如片狀或粉末狀聚合物混合在一起,接著以已知方法y例 々模製Ιέ溶吹製、融溶纺絲或融溶擠出融溶加工。該睡 可以與聚合物直接混合,或可以以鹽與聚合物之•,主’料二 (濃縮)之形式與聚合物混合在一起。若需要,可以使鹽之 有機溶劑與粉末或片狀聚合物混合在一起,接著烘乾⑽ 除落劑)再融溶加工。或者’可在擠出形成纖維或薄膜或 模製成物件之前,可將融熔之鹽注入融熔聚合物中,形成 換合物。 融溶加工後’可進行退火步驟,以增加抗靜電特性。另 外:孩退火步驟亦可將融熔處理之結合物(例如薄膜或纖 維t形式)放置在二加熱滾筒間,且可在其一或二者上形 成圖案。退火步驟-般係在聚合物之融溶溫度下進行(例 如以聚醯胺爲例,在約15〇_22〇Χ:下進行約川秒至約5分 鐘)。某些情況下,含水氣可改善離子鹽之效能,但對^ 得抗靜電特性未必需要含水氣。 & 離子鹽可在足以達到特殊應用所須之抗靜電特性之量添 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格&10 x 297公爱 五、發明說明(21 ) 加於熱塑性聚合物(或者添加於其他絕緣材料)中。此量可 以以經驗決定,且可以依需要或期望調整,以達成其抗靜 電性質而不使聚合物(或其他絕緣材料)性質受損。通常, 離子鹽之添加量以聚合物(或其他絕緣材料)之重量爲準, 可在約0.1至約10重量%(較好約〇5至约2%,更好約〇 75至 約1.5%)之間。 在絕緣材料之局部處理中,可單獨使用離子性鹽或以水 性懸浮液、乳液或溶液或以有機溶劑溶液之形式使用。所 用之有機溶劑包含氯化烴、醇類(例如異丙醇)、酯類、酮 颌(例如甲基異丁基酮)及其混合物。通常,溶劑溶液可含 、、勺0.1至約50,甚至達到約90重量%之非揮發性固體(以成 分<總重量爲準)。一般較好者爲水性懸浮液、乳液或溶 瑕,且通常可含約〇」至約5〇重量%,較好約1至約1〇重量 〇/〇(以成分之總重量爲準)之非揮發性固體。然而,較好局 部處理係#由將|本上包括在使用或處理溫度下爲液狀之 至V 種離子鹽之局邵處理組合物塗佈(塗佈在至少一種 絕緣材料之至少一表面之至少部分上)進行。此種局部處 理方法包含使用未添加溶劑之純液態離子鹽,且因此由環 境之觀點而言,係優於使用離子鹽之有機溶劑溶液。 液悲離子性鹽(或懸浮液、乳液或液態或固態離子性鹽 之/合液)可藉由標準方法如噴霧、填塞、浸潰、滚壓塗 佈、刷塗或流出塗佈在絕緣材料上(接著視情況使經處理 之材料烘乾以移除任何殘留之水或溶劑)。材料可爲模製 或人製物件、片狀物、纖維(如聚集態,例如紗線、網狀 1230176 A7 B7 五、發明說明(22 ) =粗:二或製造之織物如地毯之形式)、織布及不織布
Si养蝕:膜寺。若需要,鹽可以與-般纖維處理劑例如紡 紗修飾劑或纖維潤滑劑一起塗佈。 態離子鹽(或懸浮液、乳液或液態或固態離子鹽之溶 夜可依足以達特殊應用所需抗靜電性質之量塗佈。今 = 抗靜電性質…降低絕 任=種構造均可由本發明之抗靜電組合物製成,且該 & *要某種程度抗靜電特性之任—種應用中均可找到 ,、獨特性。例如’本發明之抗靜電組合物可 訂 及模製或吹模製品,錢可用於製造織布及不織布織= 纖維(例如,雜吹製絲m纖維,包含微纖維)。此 種薄膜、模製或吹製物件,纖維及織物在各種環境條件下 均可呈現抗靜電特性,且可用在各種應用中。
例如,包括抗靜電組合物之模製物件可以以標準方法製 備(例如’高溫射出模製),且用作例如汽車之頭燈蓋、透 鏡(包含眼鏡鏡片)、電子裝置(例如電腦)用之外罩或電路 板特別有用,顯示器用之榮幕,玻璃窗(例如飛機用窗), 等。包括本發明抗靜電組合物之薄膜可以以技藝中常用之 方法製成任一種薄膜。此薄膜可爲非多孔性或多孔性(後 者包含機械穿洞之薄膜),其存在與否以及孔隙度之程度 係依所需效能特性而定。該薄膜可用作例如照相底片、上 方投射器用之透明薄膜,膠帶背膠,塗佈用之基材等。 包括本發明組合物之纖維可用於製造織布或不織布織 I____ -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) 1230176 A7 五、發明說明(23 ) 物,該織物可用於製造例如醫療用織物,醫療及工業用衣 物,製造衣物、家飾布如毛毯或地毯用之織物,及過滤介 i = L製程用之過濾器以及口罩。不織布織物可以以融 m场絲結合織物製造中所用之方法製備。例如,可 使用與Wente在”超細熱塑性纖維” Indus 8 浦⑽6RWente等人在”超細有機纖維之製造” Research Laboratories Rep〇n N〇 傷4 ㈦54)中所述類似之 万法、。由不織布織物製成之多層構造廣泛的用於工業及商 業上〈用途,例如醫療用織物。該多層構造構成之層組成 可以依據期望〈最終用途而定,且此構造可於許多有用組 合中,製成包括二層或多層融溶吹製或纺絲結合織物,如 U.S· Patent Nos· 5,145,727 (Potts等人)及 5,149,576 (Potts等 人)中所述者。
本發明抗靜電組合物中所用之離子鹽亦可作爲塗料(例 如聚:物或陶瓷塗料)之添加劑中找到其利用性。此種塗 料可馬抗靜電及抗刮,且可用於照相工業中或用作光學或 磁性記錄介質用之保護性塗料。 知,要本發明之抗靜電組合物尚可含一種或多種技藝 中¥用 < 一般添加劑,例如,染料、顏料、抗氧化劑、紫 外冰安定劑、耐燃劑、界面活性劑、可塑劑(例如,如聚 丁烯之聚合物)、黏稠賦予劑、填料、及其混合物。 本發明之目標及優點藉由下列實例進一步説明,但此等 實例中説明之其特殊材料及量,以及其他條件及細節應非 用於限制本發明。 -26- 本紙張尺度適用準(CNS)A4規格⑽χ挪公爱) 1230176 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(26 ) 鐘10°C之溫度增減,藉由熱重量分析(TGA)測定。起始溫 度之値係藉由觀察前面起始底線處外插正切之交叉點以及 樣品重量階段性改變所產生之轉折點處之外插正切測定。 試驗方法ΙΠ -靜電荷消散試驗 以該方法測定不織布織物、薄膜及模製片之靜電荷消散 特性。試驗材料切割成9公分乘12公分之樣品,且在相對 溼度(RH)約10%、25%及50%下處理至少12小時。材料係 在22-25°C之溫度下試驗。靜電荷消散試驗係依據Federal 測試方法標準10113,方法4046,”材料之抗靜電性質’’, 使用ETS型號406C靜電衰退測試單元(由Electro_Tech Systems,Inc.,Glenside,PA製造)測量。該裝置藉由使用高 電壓(5000伏特)會在試驗材料之表面上產生起始靜電荷(平 均謗發之靜電荷),且使用電場計觀察表面電壓由5000伏 特(或者謗發之靜電荷)衰減至起初謗發電荷之10%所需之 衰減時間。此爲靜電荷消散之時間。試驗材料之靜電荷消 散時間愈小,則抗靜電性愈佳。本發明中之靜電荷消散時 間之所有記錄値爲至少三次不同測定之平均値(靜電衰退 速率之平均)。記錄値大於60秒顯示測試材料具有無法由 表面傳導移除之起始靜電荷,且非抗靜電。 試驗方法IV 表面抗性試驗 此試驗係依據ASTM標準D-257 ”絕緣材料之D.C.阻抗或 傳導性”進行表面阻抗性使用裝置型號803B探針(Electro-Tech Systems,Inc·,Glenside,PA)之ETS型號 872廣範圍阻抗 計,在該試驗方法之條件下測量。該裝置施加通過與平面 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝
1230176 A7 B7 五、發明說明(27 ) 試驗材料接觸之二同心環狀電極之1〇〇伏特外電壓,且以 k姆/平方單位提供表面阻抗性讀數。 下列所示之重量%或重量份均以組合物之總重量爲準, 除非另有説明。 化合物之製備 化合物1 二乙基銨雙(全氟乙烷續醯基)亞醯胺之Et3N+H _N(S02C2F5;)2 之合成 依據US 5,874,616實例3中所述之方法製備目標化合物, 但當二氯甲燒溶劑揮發後即終止步驟。產物依據試驗方法 I測定其熔點(Tm),且以試驗方法II測定其熱分解之起始點 (Td)。結果列於表2中。 化合物2 四乙基銨三氟甲烷磺酸鹽之合成,CF3S〇3· +NEt4 將300克之€卩38〇311([€!-24)注入2升反應瓶中。藉由緩慢 添加約800克之Et^NOH水溶液(35% ),中和該酸直到pjj値 達到約6。以旋轉蒸發器接著在高眞空下乾燥後得到白色 固體(560克)。固體自氯仿·庚烷再結晶,得到520克之純產 物。產物亦依據試驗方法I測定其溶點(Tm),且以試驗方 法II測定其熱分解之起始點(Td)。結果列於表2中。 化合物3 於水_CH2C12混合溶劑中合成四乙基銨雙(全氟甲烷磺醯基) 亞醯胺(CF3S03)N- +NEt4 在1升反應瓶中,將克之(CF3S02)2N- Li+ (HQ-115)溶於 -30 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公董) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -----! I 訂-----!
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 B7 五、發明說明(28 ) 5〇克去離子水中。將溶液在氮氣下與89克之35% Et4N0H 水溶液混合。添加期間會沉澱出固體,其藉由添加5〇克之 CHaCh溶解。分離出下層有機層。水溶液另以5〇克CH2Cl2 萃取。以水(2 X 25毫升)洗滌組合之有機溶液,且以旋轉 蒸發器移除揮發物。產物自CH3〇iI-H2〇再結晶,且完全眞 空乾燥後得到70克之白色固體。產物依據試驗方法1測定 其溶點(Tm) ’且以試驗方法π測定其熱分解之起始點(Td)。 結果列於表2中。 化合物4 四甲基銨雙畚(三氟甲燒續醯基)甲基化物(CH3)4n+ c(so2cf3)3之合成 依據US 5,554,664實例I8之方法製備目標化合物,但在 管線55之後即終止步驟。產物依據試驗方法〗測定其熔點 (Tm) ’且以試驗方法II測定其熱分解之起始點(Td)。結果列 於表2中。 化合物5 四丁基銨雙雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺(C4h9)4N+ _N(S02CF3)2之合成 依據實例I8中所述之步驟,使((:4119)41^+:6^^£1^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Aldrich,Milwaukee,WI)與約 1〇 莫耳 % 過量之 Li+ _N(S02 CF3)2 (HQ-II5)反應製備目標化合物。產物依據試驗方法i 測定其熔點(Tm) ’且以試驗方法η測定其熱分解之起始點 (Td)。結果列於表2中。 i匕合物6 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) '一 1230176 A7 B7 五、發明說明(29) 十六烷基吡啶鐵雙(全氟乙烷續醯基)亞醯胺n_C16H33_cyc-N+C5H5 _N(S02C2F5)2之製備 依據實例14之方法製備目標化合物,但使用8 5.1克之Li+ N(S〇2C2F5)2 (HQ-II5)當作陰離子前驅物。產物依據試驗 方法I測定其熔點(Tm),且以試驗方法Π測定其熱分解之起 始點(Td)。結果列於表3中。 化合物7 1-十六烷基吡啶鑕全氟丁烷磺酸鹽n-C16H33-cyc-N+C5H5 _0S02C4F9之製備 在溫和加熱及磁石攪拌下將十六烷基吡啶鑕氯化物單水 合物(75克)溶於800毫升水中。在攪拌下將67 3克之溶於 600毫升水中之Li+ 0S02C4F9 (以 LiOH水解 C4F9S02F [PBSF] 製備)添加於溶液中。產物立即沉澱且以抽氣過濾分離。 產物以大量水洗務’接著先抽氣脱水,再於1〇_2 T〇rr、40 °c下眞空脱水。產物依據試驗方法j測定其熔點(Tm),且 以試驗方法Π測定其熱分解之起始點(Td)。結果列於表3 中0 化合物8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1-十六燒基咏淀鑌全氟辛烷磺酸鹽n_Ci6H33_cyc-N+C5H5 -〇so2c8f17 之製備 據實例14之方法製備目標化合物,但使用1U 3克之u+ •OSOaCsFn (FC_94)當作陰離子前驅物。產物依據試驗方法 I測定其熔點(Tm),且以試驗方法定其熱分解之起始點 (Td)。結果列於表3中。 -32- 巾關家鮮(〇^iF(21〇X297公爱) 1230176 A7 五、發明說明(31 克(87%產率)。產物依據試驗方法j測定其熔點(τ^,且以 試驗方法II測定其熱分解之起始點。結果列於表3中。 化合物11 1,3-乙基甲基咪唑鏘雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺CHwm_ (n+c2h2nch)ch2ch3 n(so2cf3)2之製備 將1,3-乙基甲基咪唑鏘氯化物(50,0克)及LiN(s〇2CF3)2 (HQ-ll5)(l〇2·8克)與5〇0毫升之水以磁石攪拌組合。分離 下層液相之相谷低黏度淡黃色油狀物。將混合物移到分離 漏斗中,與500毫升之Ci^Ch合併,該操作基本上如實例1 中所述般進行。眞空汽提所有揮發物後,得到總重爲 112.2克(84%產率)之南純度淡黃色油狀物,其以及19卩 NMR確認爲目標化合物。產物依據試驗方法I測定其溶點 (Tm) ’且以試驗方法Π測定其熱分解之起始點(Td)。結果列 於表4中。 化合物12 1,3-乙基甲基咪唑鏘九氟丁烷磺酸鹽CH3-cyc-(N+C2H2NCH)CH2CH3 _0S02C4F9之製備 以磁石禮拌將1,3-乙基甲基咪唑鏘氯化物(49.1克)及 LiOSO2C4F9(107.6克,以 LiOH 水解 C4F9S02F 製備)與 500 毫 升之水混合在一起。形成均勻之水溶液,再將其移到分離 漏斗中,且與500毫升CH2C12組合,且依據實例1之步驟處 理。眞空汽提所有揮發物後,得到總重爲65.0克(47%產率) 之高純度淡黃色油狀物,其以4及19F NMR確認爲目標化 合物。產物亦依據試驗方法I測定其溶點(Tm),且以試驗 -34- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 請 先 閱 讀 背 之 注 項 再 填 寫 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 --—____B7 _ 五、發明說明(32 ) 方法II測定其熱分解之起始點(Td)。結果列於表4中。 化合物13 1,3 -乙基甲基咪唑鑕三氟甲跪續酸鹽cH3_cyc_(N+C2H2NCH)CH2CH3 ~0S02CF3之製備 將1,3-乙基甲基咪唑鑌氣化物(29克,0199莫耳)溶於100 毫升水中’且在攪摔下添加於含50克三氟甲烷磺酸銀 (0.195莫耳)之200克水之溶液中。以過濾移除氣化銀沉澱 物’且以100毫升去離子水洗滌固體。濾液在旋轉蒸發器 中濃縮’且再於75°C乾燥隔夜,得到淡綠色油狀物,其以 Η及F NMR特性化。產物亦依據試驗方法I測定其溶點 (Tm),且以試驗方法^測定其熱分解之起始點(Td)。結果列 於表4中。 化合物14 1,3_乙基甲基咪唑鑕四氟硼酸鹽cH3_CyC_(N+C2H2NCH)CH2CH3 BF4之製備 製備含49.6克AgBF4 (194.68克/莫耳,0.255莫耳)之200毫 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 升蒸餾水及含37.35克1,3·乙基甲基咪唑鏘氣化物(146 62克 /莫耳’ 0.255莫耳)之200毫升蒸餾水之個別溶液。將此二 溶液混合在一起,立即形成沉澱物。使溶液沉降,接著經 過D-玻璃熔料過濾。濃縮濾液但不蒸發至乾,且使其在室 溫下靜置過夜。次晨發現黑色沉澱物自溶液分離出來。使 溶液通過濾紙,以移除小量之固體。留下之水在旋轉蒸發 器上以減壓蒸餾移除。將留下之油狀物溶於2〇〇毫升乙腈 中。形成更不溶t黑色沉澱物,且自溶液濾出。在旋轉蒸 35-
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發器上濃縮黃色滤液,所得之油狀物在眞空及75Ό下乾燥 =夜。產物之分離重量爲4G克(79%產率)。產物亦依據試 驗方法!測定其、溶點㈤,且以試驗方糾測定其熱分解之 起始點(Td)。結果列於表4中。 兔合物15 1,3_乙基甲基咪唑鏘六氟磷酸鹽CH3_cyc-(N+C2H2NcH)cH^ PFV之製備 在1升反應瓶中製備500毫升乙腈及73」克乙基甲基 咪唑鑕氯化物(146.6克/莫耳,〇_498莫耳)之溶液。同樣的 製備250毫升乙腈及81.1克^^4押0(163克/莫耳,〇 498莫耳) <另一溶液,且添加於前者溶液中。混合二溶液後立即形 成白色沉澱物。將反應瓶急冷至接近〇。(:1小時,接著使用 D-玻璃熔料經由高純度矽藻土過濾。溶劑在旋轉蒸發器上 以減壓蒸餾移除。離子鹽在75。(:眞空下乾燥隔夜。產物之 分離重量爲U4克(89%產率)。產物亦依據試驗方法z測定 其熔點(Tm),且以試驗方法Η測定其熱分解之起始點d)。 結果列於表4中。 d 實例 實例1 辛基二甲基-2-羥基乙基銨雙(三氟甲基磺醯基)亞醯胺 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH N(S02CF3)2之製備 將 19.2 克 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH-〇S〇2CH3 (HTS 905A) 與15.7克之LiN(S02CF3)2 (HQ-115)於120亳升水中組合在一 起。混合物經攪拌後,下層液相分離出透明、不互溶之油 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
1230176 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(34 ) 狀物。料合物移到分離漏+中,1添加125毫升二氯甲 ^。混合物劇烈搖晃,使其相分離。分離出下層有機層, 且以125¾升水洗滌二次。分離出經洗滌之二氯甲烷相, 在無水氧化鋁顆粒上乾燥,抽氣過濾,且在3〇_l〇(rc,2〇 _^l(r3T〇rr下眞空汽提,移除所有揮發物。得到高純度之
操色油狀物(22.6克,85%產率),其以ijj、13c、19F NMR 確疋爲目標化合物。產物亦依據試驗方法Σ測定其熔點 (Tm),且以試驗方法π測定其熱分解之起始點(Td)。結果列 於表1中。 置例2 辛基一甲基-2_每基乙基按全氟丁燒續酸鹽 c8h17n+(ch3)2ch2ch2oh 〇S02C4H9之製備 將 118.5 克(0.399莫耳)C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH 0S02CH3 (町8 905八)之樣品溶於約250毫升水中,且將123 9克(0 399 莫耳)Li0S02C4F9 (以 LiOH水解 C4F9S02F [PBSF]製備)溶於 約100耄升水中。將二溶液加於分離漏斗中,且劇烈搖晃 混合物。接著將200毫升二氯甲虎添加於漏斗中,搖晃内 容物,且使相分離。下層二氣甲烷層以約2〇〇毫升水洗滌 二次’且在約85°C下於旋轉蒸發器上濃縮約45分鐘,得到 灰白色固體,該固體以咕及13C核磁共振光譜儀(NMR)特性 化。產物亦依據試驗方法ί測定其熔點(Tm),且以試驗方 法II測定其熱分解之起始點(Td)。結果列於表1中。 實例3 辛基二甲基-2·羥基乙基銨三氟甲烷磺酸鹽
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 —----------Β7 五、發明說明(35 ) c8h17n+(ch3)2ch2ch2oh _〇so2cf3之製備 在加熱下’將29.7克(〇·ι莫耳)之HTS-905A (CsHpN+CCH^CI^CI^OH -〇3SCH3)添加於 125 毫升三角錐 瓶中之30克乙腈中,接著於冰浴中冷卻1〇分鐘。且在另一 125毫升三角錐瓶中,於加熱下將15 6克(〇1莫耳)之三氟 甲烷磺酸鋰添加於30毫升乙腈中。接著,將三氟甲烷磺酸 麵落液於約1分鐘内添加於擾拌冷卻之HTS-905A溶液中, 產生白色沉殿物。使用約2毫升之乙腈洗滌裝三氟甲烷磺 酸鋰之三角錐瓶,且亦添加於HTS-9〇5A溶液中。使反應 混合物攪拌約10分鐘,接著通過C孔隙度玻璃熔料之125毫 升Buchner漏斗上之矽藻土墊眞空過濾。再以3〇克冰冷乙 腈洗務反應瓶及碎藻土蟄。濾、液以約85°c浴溫,在约5〇毫 米汞柱之旋轉蒸發器上濃縮約45分鐘,得到24.5克之透明 固體,該固體以1Η及13C核磁共振光譜儀(NMR)特性化。產 物亦依據試驗方法I測定其熔點(Tm),且以試驗方法π測定 其熱分解之起始點(Td)。結果列於表i中。 實例4 辛基一甲基-2-羥基乙基銨參(三氟甲烷磺醯基)甲基化物 c8h17n+(ch3)2ch2ch2oh x(so2cf3)3之製備 將 20.0 克 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH 0S02SCH3 (HTS 905) 於 250 毫升水中與 29·6 克 HC(s〇2CF3)3 (usp 5,554 664實例 1 中所述般製備)組合在一起。混合物經攪摔後,分離出透 明、黏綱、淡黃色、不互溶油狀物之下層液相。將混合物 移到分離漏斗中,與300毫升二氯甲垸組合,且以實例i中 -38 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公釐)—' --- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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五、發明說明(36 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 頁 2驟操作。眞空汽提所有揮發物後,得到總重29 0克 /❶產率)心淡質色油狀物,其以咕及〗9F 確認爲目 ^化t物。由NMR分析估計之純度大於9〇重量❶/❶,主要之 :、、=爲對應之C(SQ2CF3)2(s〇2f)鹽。產物亦依據試驗方法J 測疋其溶點(Tm),且以試驗方法定其熱分解之起始點 (Td)。結果列於表1中。 實例1 二甲基-2-乙醯氧基乙基銨(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺 (CH3)3N+CH2CH20C(0)CH3 n(so2cf3)2之製備 以磁石攪拌將乙醯膽鹼氣化物(98克,Research 0rganics,
Cleveland, 〇H)^ LiN(S02CF3)2 (HQ-115) (165.8^)^ 600¾ 升水中組合。分離出黏稠、不互溶油狀物之下層液相。反 應混合物基本上如實例i中所述般進行,但離子性液態產 物與一氣甲燒並不完全互溶,在水存在下形成3個個別液 相。下層離子性液相以及中間之均經由操作產 生。眞空汽提所有揮發物後,得到總重179· 1克(77%產率) 之高純度無色油狀物,其以4、13C及19F NMR確定爲目標 化合物。產物亦依據試驗方法j測定其熔點(Tm),且以試 驗方法II測定其熱分解之起始點(Td)。結果列於表1中。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實例6 三甲基-2-羥基乙基銨雙(全氟丁烷磺醯基)亞醯胺 (CH3)3N+CH2CH2OH _N(S02C4F9)2之製備 以磁石攪拌,將膽鹼氯化物(37.34克,Aldrich)及 LiN(S02C4F9)2(142.7 克,依據 USP. 5,874,616 實例 4 製備)於 -39- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(37 ) 400毫升水中混合在一起。分離出黏稠、不互溶油狀物之 下層液相。將混合物移到分離漏斗中,且添加110毫升二 乙醚。劇烈搖晃混合物,且使其相分離。分離出下層有機 相,且以400毫升水洗滌2次,分離出經洗滌之乙醚相,且 在30-100°C、20 - 1(T3 Tori*下眞空汽提,移除所有揮發 物。得到高純度之無色油狀物(155.3克,93%產率),其以 、13C及19F NMR確定爲目標化合物。產物亦依據試驗方 法I測定其熔點(Tm),且以試驗方法II測定其熱分解之起始 點(Td)。結果列於表1中。 比較例C1
Larostat™ HTS 905A,辛基甲基羥基乙基銨甲烷續酸鹽 (C8H17N+(CH3)2C2H4OH 0S02CH3)亦依據試驗方法I測定其 熔點(Tm)及依據試驗方法II測定其熱分解之起始溫度(Td)。 結果列於表1中。 表1.實例1-6中合成之化合物之熔點(Tm)與熱分解之起始 溫度(Td)實測値。 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 寫 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實例 化合物 Tm(°C) Td(°C) 1 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH TSF(S02CF3)2 未測定 409 2 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH OSO2C4F9 147 374 3 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH OSO2CF3 -26 370 4 C8H17N+(CH3)2CH2CH2OH C(S02CF3)3 未測定 387 5 (013)3矿0120120。(0)013 邓〇仰3)2 24 361 6 (CH3)3N+CH2CH20H -N(S02C4F9)2 32 402 C1 C8H17N+(CH3)2C2H40H -0S02CH3 約30 289 -40- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(38 ) 表1之結果顯示具有相同陽離子之抗靜電劑(含弱配位氟 有機陰離子(實例1-4))之熱安定性比具有更強配位陰離子 之比較例C1呈現大幅的提昇。本發明之所有實例均顯示 良好的熱安定性。 二甲基-3-全氟辛基磺醯胺基丙基銨雙(三氟甲烷磺醯基)亞 酿銨 c8f17so2nh(ch2)3n+(ch3)3 _n(so2cf3)2之合成 將800毫升之水、400克之50% FC-754 (C8F17S02NH(CH2)3N+(CH3)3 C1)、90.4 克之 Li+ _N(S02CF3)2 (HQ-115)及700毫升之甲基第三丁基醚(mtbe)於4 〇升之分 離漏斗中混合在一起。攪拌混合物,且使上下液相分離隔 夜。分離該二液相,且以新的500毫升MTBE萃取水相。組 合乙醚相’且以新的700毫升水萃取。經分離之醚相在分 子篩上乾燥,經濾紙過濾,且在95°C及300-400 Torr之眞 空下蒸發溶劑至乾,得到267.3克之目標化合物(96%產 率)。固態產物依據試驗方法I測定其熔點(Tm)及依據試驗 方法II測定其熱分解之起始溫度(Td)。結果列於表2中。 比較例C2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Aliquat™ 336,甲基三辛基銨氣化物((C8Hi7)3N+(CH3) α·) 在室溫下爲液態,且亦依據試驗方法Η測定其熱分解之起 始溫度(Td)。結果列於表2中。由於其低的熱分解溫度, 因此無法將該化合物加入融熔吹製纖維中。 表2·比較例C2與化合物ι_6之熔點(Tm)與熱分解之起始溫 度(Td)實測値 -41 - 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(39 ) 實例或化 合物編號 化合物 Tm (°C) Td (°C) 化合物1 Etsl^H Ή(802〇2Ϊ5)2 -10 351 化合物2 CF3S03' +NEt4 133 371 化合物3 (CF3S02)2N' +NEt4 8 426 化合物4 (CHOX C(S02CF3)3 148 422 化合物5 (C^g)^ TSr(S02CF3)2 93 401 7 C8F17S02NH(CH2)3N+(CH3)3 N(S02CF3)2 121 365 C2 (C8H17)3N+(CH3) cr <28 177 表2之數據顯示實例7及具有弱配位氟有機陰離子之本發 明中所用之化合物所顯示之熱安定性均遠高於具有更強配 位氯化物陰離子之比較例C2者。 比較例C3 1-十六烷基吡啶鑌對·甲苯磺酸鹽n-C16H33-cyc-N+C5H5 •0S02C6H4-p-CH3之合成 依據實例14之方法製備目標化合物,但係使100克之十 六烷基吡啶鑌氯化物單水合物與55克之Na+_0S02C6H4-p-CH3 (Sigma·Aldrich,Milwaukee,WI)反應。產物亦依據試驗 方法I測定其熔點(Tm)及依據試驗方法II測定其熱分解之起 始溫度(Td)。結果列於表3中。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 ·ϋ -^1 i_^i J 丨, —Bi ·ϋ i^i ϋ 1··— ϋ I 1 言 崩 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -42- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(4〇 ) 表3.比較例C3與化合物7-11之熔點(Tm)與熱分解之起始溫 度(Td)實測値 實例或化 合物編號 化合物 Tm (°C) Td (°C) 化合物6 n-C^Hsa-cyc-lSrCsHs TSr(S02C2F5)2 34 396 化合物7 n-Ci6H33-cyc-N+C5H5 OSO2C4F9 95 357 化合物8 n-Ci6H33-cyc-N+C5H5 OS〇2CgFi7 93 364 化合物9 n-C^Vcyc-N^Hs 邓02〇^3)2 33 430 化合物10 n-C^-cyc-lsrCsHs OS02C4F9 63 391 C3 n-C^Eb-cyc-KTC^Hs OS02C6H4-p-CH3 138 310 表3顯示具有弱配位氟有機陰離子之本發明中所用之吡 啶钂化合物所顯示之熱安定性均遠高於具有更強配位陰離 子之比較例C3者。 表4.化合物11-15之熔點(Tm)與熱分解之起始溫度(Td)實測値 化合物 編號 化合物 Tm (°C) Td (°C) 11 CHrcyc-Cl^C^H^CHOCI^CHs N(S02CF3)2 18 450 12 CH3-cyc-(N+C2H2NCH)CH2CH3 OS〇2C4F9 18 410 13 CHB-cyc-CisrCsHsNC^^CHs 0S02CF3 16 429 14 CH3-cyc-(N+C2H2NCH)CH2CH3 BF4" 7 420 15 CH3-cyc-(N+C2H2NCH)CH2CH3 PF6' 70 490 表4之數據顯示具有弱配位氟有機陰離子之本發明中所用 之咪鑕唑化合物均具有極佳之熱安定性,且所有Td均高於 400〇C。 實例23-46及比較例C4_C7 將實例1-7、化合物1-15及比較例C1-C3之化合物添加於 -43- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I ϋ ϋ ϋ I -ϋ i^i ϋ n ϋ ι 1230176 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 產 局 五、發明說明(41 ) 聚丙烯融熔吹製纖維中,且依據118?.5,300,357第10欄所 述之融熔吹製擠出步驟製成不織布織物。爲了比較,亦將 不含此等化合物之聚丙烯融熔吹製纖維製成不織布織物。 所用之擠出機爲Brabender 42毫米同軸雙螺旋擠出機,其 最大之擠出溫度爲270-280°C,且距離收集器爲12英吋(30 公分)。 在紙板容器中,藉由使用固定在手動鑽頭上混合器頭之 掺合混合化合物及EscoreneTMPP3505聚丙烯約一分鐘,直 到知到目視均勻之混合物爲止。恰在融溶吹製之前,於融 溶擠出裝置中將化合物混合分散於融熔聚丙烯中。除所述 外,聚丙烯中化合物之重量。/〇約爲1%。 各混合物之加工條件均相同,包含用於吹製微纖維織物 之融溶吹製模嘴構造,織物之基本重量(5〇 士5克/米)以及 微纖維之直徑(5-18微米)。除非另有説明,否則擠出溫度 爲270_280°C,主要空氣溫度爲27(rC,壓力爲124 kpa (18 psi),空氣間隙寬度爲〇.076公分,且聚合物之產出速率約 爲180克/小時/公分。 使用試驗方法III _靜電荷消散試驗,評估所得之含及不 含實例1-7、化合物以及比較例C1_C3之化合物之融熔 吹製聚丙晞織物。結果列於表5中。 表5.在10、25及5〇%相對溼度(RH)下,含或不含離子抗靜 電化合物之ESCOrene TM PP3505聚丙埽之靜電荷消散 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 ϋ ϋ I I ϋ^eJI ·ϋ ϋ I ϋ I -
1230176 A7 B7 五、發明說明(42 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 to In) Ki 1^> Q n 實例编號 GO P p rT^ 00 X 3 Π S Q HOCH2CH2N*(CH3)3 · N(02SC4F9)2 CH3COOCH2CH2N"(CH3)f N(S02CF3)2 CgH17>T(CH3)2CH2CH2OH •c(so2cf3)3 CgHi7N^(CH3)2CH2CH2OH' OSO2CF3 C8H17N+(CH3)2C2H4〇H' | OSO2C4F9 C8H17N+(CH3)2C2H4〇H -N(S02CF3)2 (0.5%bywt.) C8H17N+(CH3)2C2H4〇H -N(S02CF3)2 C8Hi7N+(CH3)2C2H4〇H* 0S02CH3 Λ % 5000 NR* 未進行 ‘ ^ 未進;吞 5000 5000 Not run 5000+ 5000十 4270 10% RH 平均謗發之靜電荷(伏特) 5000 NRV 4850 5000+ 未遂行 5000 5000 5000 5000+ _1 3393 5000+ 1750 5000 25% RH 5000 NR* 5000+ 5000+ |5000 5000 5000 5000 5000+ 5000+ 5000+ 1750 5000 50% RH 0.03 NR* > 4.17 0.90 Not run 0.14 0.86 1 1 J 60+ 10% RH 平均靜電衰減速率(秒) 0.03 NR本 >60 丨未進行 |0.09 0.02 >10 0.19 1 0.14 60 >10 >10 25% RH 0.02 NR* >60 >60 >10 0.03 0.02 0.95 0.63 0.03 60 >10 >10 1 50% RH 1 -45· 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 __B7 五、發明說明(43 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 6 U) v£) w oo u> n u> On UJ U\ U) U) UI u> 實例編號 η 〇 Β 〇 X η X CH3*〇;c-(NT2H2NCH)CH2CH3 -N(S02CF3)2 n-CM^CsHs O3SC4F9 n-C4H9lsTC5H5 -N(02SCF3)2 n-C16H33N+C5H5· OS〇2CgF {7 n.C16H33N+C5H5 -OS02C4F9 n.C16H33N+C5H5 - n(so2c2f5)2 n.CI6H33N+C5H5OS〇2C6H4- p-ch3 c8f17so2nh(ch2)3n+(ch3)3 ; -n(so2cf3)2 B114N4· -N(S02CF3)2 彳 (CH3)4N+ -C(S02CF3)3 9 CO 0 2; 1 r η 〇〇 Ρ ί r To % CF3SO3' 1siEt4 , 抗靜電化合物 未進行[500(H > > 1 未造^ > 蘇 、本 4800 未進行’ :未進行 |未進行 意丨 Lh f 1未進行 10% RH 平均謗發之靜電荷(伏特) 3900 5000+ ‘5000+ 3600 i 5000十 4700 4900 2200 1 3700 1未進行 U\ Si o' 未進行 25% RH 5000+ 3350 5000+ 4300 c )5000+ , 1 5000+ 5000+ 4900 1600 ] 1 3600 3350 彳 5000 c 5000 5000 50% RH 0.02 60+ ( > 0 1 朱進行I 、 普 未進行 来举行 未進行 > 麻丨 未笔1 亍1 > 麻 0.13 未進行 10% RH 平均靜電衰減速率(秒) μ 0.01 >60 >60 On oo v〇 U\ to 0.01 § > 0.38 未進行 25% RH 0.03 C/» U) 0.46 0.06 3.98 *〇 u% Kl 0.01 S § >10 IM11 >10 150% RH | 46 裝 (請先閱讀背面之注意事':填寫本頁) 訂丨-------# 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I1230176 A7 B7 五、發明說明(44 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 雛 s 〇 λ 1 η X Ζ 〇 5 η CO ο 1 n K n K n § 6 G GO n 2: 〇 3 O n * ό CO η 傘 ± > ¢: O > ►—· % S φ, - ,傘; <H»Xa 1 ㈣‘ #· U) 〇 v〇 Κ) ο S3 S s « ο % S ,净 g > § S 辦 辦V § δ s V ο K) S § ο •ο U\ g s 請 先, 閱 讀 背 面 之
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176
五、發明說明(45 ) 表5〈數據顯不呈現特殊靜電荷消散效能之數個實例(亦 即接受全部5〇〇〇伏特電荷,且即使在25〇/❶或即使是1〇%之 相對達度下之消散時間在冰以下之織物)。此等包含實例 3 25、26、3〇、32、36、42及43。所有此等實例均使用熱 分解溫度爲370°C或更高之抗靜電化合物製成。比較例c5 顯示特殊之靜電荷消散效能,但其熱分解溫度爲289Ό。 熱分解溫度爲177。0之比較例以對於融熔吹製擠出製程不 夠安定。實例23及24以及31及32顯示抗靜電化合物濃度對 靜電荷消散效能之作用,濃度愈高(實例2S及32)顯示之效 把返優於較低;辰度(實例24及31)者。在25%及10%相對溼 度下無法呈現良好靜電荷消散效能之表5中之許多實例在 50%相對溼度下之靜電荷消散時間低於5秒(實例38-41及 44)。在1%濃度及任一相對溼度下均未顯現良妤靜電荷消 散效能之表5中之實例在較高程度,及/或其他聚合物、及 /或退火時可證明該效能。 實例47及比較例C8 將實例1之化合物添加於聚伸乙基對苯二酸酯65-1000融 熔吹製纖維中,再依據USP. 5,300,357第10欄中所述之融 熔吹製擠出步驟加工成不織布織物。爲比較用,亦將不含 化合物之聚伸乙基對苯二酸酯65-1000融熔吹製纖維加工 成不織布織物。所用之擠出機爲Brabender 42毫米同軸雙 螺旋擠出機,其最大擠出溫度爲280°C且距離收集器爲12 英吋(30公分)。 在紙板容器中,藉由使用固定在手動鑽頭上之混合器頭 -48 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I ! I 訂- !1!!
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 ---- 五、發明說明(奶) 摻口混口化合物及聚伸乙基對苯二酸酯65-1000約一分 !:直:侍到目視均勻之混合物爲止。化合物藉由在融熔 人製之則万;融熔擠出裝置中將化合物混合分散於融熔聚 二基對苯一酸酉曰中。胺基甲酸酯中化合物之重量%約爲 各混5物之加工條件均相同,包含用於吹製微纖維織物 之融熔吹製模嘴構造,織物之基本重量(50土 5克/米)以及 微纖維之直徑(5·18微米)。擠出溫度爲280X:,主要空氣溫 度爲270 C,壓力爲124 kpa (18㈣),空氣間隙寬度爲 〇·〇76公分,且聚合物之產出速率約爲18〇克/小時/公分。 使用試驗方法III _靜電荷消散試驗,評估所得之含及不 含實例23之融溶吹製聚伸乙基對苯二酸酯65-1000之抗靜 電效能。結果列於表6中。 表6·含有或未含辛基二甲基_2_羥基乙基銨雙(三氟甲基磺 酿基)亞醯胺之融熔吹製聚伸乙基對苯二酸酯65_1〇〇〇中之 靜電荷消散 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -49- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(47 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -50- Q 實例 編號 Ο -4 Ο Η § P 抗靜電化合物 未進行 未進行 10% RH 平均謗發之靜電荷 (伏特) 5000 3000 25% RH 5000 1 3100 50% RH > > Η-^ 〇 ·〇 V Κ) 00 ON § L/\ U) V 戈 Os 〇Λ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝 tri-------▲ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(48 ) 表6之數據顯示實例47之靜電荷消散優於對照用之聚酯織 物(比較例C8)。 實例48及比較例C9 將實例1之化合物添加於MORTHANE™ PS440-200胺基甲 酸酯融熔吹製纖維中,再如實例47中所述般加工成不織布 織物,但其擠出溫度爲230°C。爲比較用,亦將不含化合 物之MORTHANE™ PS440-200胺基甲酸酯融熔吹製纖維加 工成不織布織物。使用試驗方法III之靜電荷消散試驗測試 織物之抗靜電效能。結果列於表7中。 表7.含有或未含辛基二甲基-2_羥基乙基銨雙(三氟甲基磺 醯基)亞醯胺之融熔吹製MORTHANE™ PS440-200胺基甲酸 酯織物中之靜電荷消散 請 先 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(49 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -52-
實例 編號 C8H17N+(CH3)2C2H4〇H _N(S02CF3)2 (2%) 抗靜電化合物 未進行 未進行 10% RH 平均謗發之靜電荷 (伏特) 5000 5000+ 25% RH 5000 5000+ 50% RH > > 〇 ρ V •S 〇 B 第 ρ V 〇 1 S (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 了裝 訂--------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1230176 A7 ------- 五、發明說明(50 ) ""' 表7中之數據顯示實例48之靜電荷消散優於對照用之 織物(比較例C9)。 ^ 复及比較例Γ1 0 將實例1之化合物添加於ASPUNtm 68〇6聚乙烯融熔吹製 纖維中,再如實例47中所述般加工成不織布織物,但使用 1重f❾/。之實例1化合物,且其擠出溫度爲24〇°c。爲比較 用’亦將不含化合物之ASPUNTM 6806聚乙烯融熔吹製纖 維加工成不織布織物。使用試驗方法III之靜電荷消散試驗 測試織物之抗靜電效能。結果列於表8中。 表8·含有或未含辛基二甲基-2-羥基乙基銨雙(三氟甲基磺 醯基)亞醯胺之ASPUNTM 6806聚乙晞融熔吹製織物中之靜 電荷消散 -53 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐)
1230176 A7 B7 五、發明說明(51 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
ο ο 〇 二 Ο Η 〇 Ρ 樂 命 〇 > 勝 I S A濰 基~ % 〇 〇 ο U\ Ο ο ο 1 S ο to Os > 1 S d3| Λ ο δ g S ο δ δ 1 S 1-裳 (請先閱讀背面之注咅?事填寫本頁) T-------▲ -54- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 五、發明說明(52 ) 表8之數據顯示實例49之靜電荷消散優於對照用之聚乙烯 織物(比較例C10)。 實例50及比較例C11 该實例説明離子抗靜電化合物在射出模製聚碳酸酯中之 應用。使用由Morgan工業股份有限公司(L〇ng Beach,cA) 製造之Morgan-PressTM垂直架式射出模製機融熔射出模製 M〇bayMakr〇l〇nTMLQ_3147聚碳酸酯粒。模製機係在288t>c 之桶溫及喷嘴溫度下操作。在加壓下將融熔聚碳酸醋(含 或不含離子抗靜電化合物)注入經設計之預熱鋁模中,製 成厚度0.254公分之平坦7·62χ 7 62平方公分之模製物。製 成二系列之聚碳酸酯零件,五各系列均包括在相同條件下 製成之三零件。第一系列之零件係使用不含添加劑之原始 聚碳酸酯樹脂製成。第二系列係在顆粒飼入射出模製機桶 中之前,將聚碳酸酯顆粒與L0重量%之^·乙基甲基咪唑 鑕九氟丁烷磺酸鹽(化合物12)離子性液態抗靜電劑製成。 各系列之所有模製零件均依據試驗方法…之表面阻抗性試 驗’使用ETS廣範圍抗靜電計,在22X:及32%相對溼度下 測量前後表面之表面阻抗性。各系列零件之表面阻抗性平 均値列於表9中。 表9·不含及含ι·〇重量%之I%乙基甲基咪唑鑕九氟丁烷磺 酸鹽離子液態抗靜電劑之模製聚碳酸酯片之表面阻抗性 55 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A230176 A7 ^________B7 五、發明說明(53 ) J例 表面(前或後) 表面阻抗性(歐姆/平士、 C11 前 > 10Ε 12 後 > 10Ε 12 50 前 2.1χ10Ε 8 後 6.7 X 10 Ε 7 由表9之數據可明顯的看出添加ι·〇重量%之離子液態抗 靜電化合物於模製之聚碳酸酯樹脂中,會使最終模製零件 之表面阻抗性急遽降低。該表面阻抗性降低通常會以改良 之抗靜電效能修正。再者,需注意添加離子液態抗靜電劑 於聚碳酸酯中對於融熔聚碳酸酯之加工性或最終模製物件 之品質並沒有明顯之影響。 實例51及比較例12 製備含抗靜電化合物辛基二甲基-2-經基乙基錄雙(三氟 甲燒磺醯基)亞醯胺(實例i)之聚丙烯膜,且評估其抗靜電 效能。爲比較用,同樣製備及評估未含此化合物之聚丙烯 膜。因此,如下列般將實例23及比較例C4之融熔吹製不織 布織物壓成薄膜狀。將約3 4克之重疊融熔吹製織物置於 周邊長度11.2公分X 17·1公分X 0.177毫米厚夾板鋼板上, 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著覆蓋另一鋼板。接著將該組件置於平板壓著機上,且 以平板靠近接觸壓著加熱至200°C約30秒,預熱織物,且 在壓著前使空氣釋出。接著,將該構造物置於〇91公噸之 恩力下約一分鐘。自壓著機移出組件,且使其在未加熱之 二平板間冷卻約30秒。接著自夾板及鋼板移出所形成之薄 膜0 -56· 本紙張尺度適財關家標準(CNS)A4 €格(210 X 297公爱) 1230176 A7 B7 五、發明說明(54 ) 使依此方式製備之薄膜進行試驗方法III-靜電荷消散試 驗。結果列於表10中。 表10.含或不含辛基二甲基_2·羥基乙基銨雙(三氟甲烷磺醯 基)亞醯胺之Escorene TMPP3505聚丙烯薄膜之靜電荷消散 閱 讀 背 面 之 注 意 事 項 再 填 本 頁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 57- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(55) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
C12 實例 編號 O Q ^ ΓΓ] 匕〇 〇 抗靜電化合物 1750 未進行 10% RH 平均謗發之靜電荷 (伏特) 1750 未進行 25% RH 1400 4000 50% RH 0.003 未進行 10% RH 平均靜電衰減速率(秒) 0.007 未進行 25% RH 〇 >10 50% RH 裝---- (請先閱讀背面之注意事'{^:填寫本頁) 訂---------1 -58- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 B7 五、發明說明(56 ) =〇之數據顯示實例51之靜電荷 薄膜(比較例C12)。 T…、用心浆丙埽 fli列52及比:fe例C13 製備經過或未經抗靜電化人 Γ表™"備溶於處辛 ° C8Hl7N+(CH3)2CH2C;2〇H (fF3)2)(實例υ之5重量%固體溶液。將約2毫升之溶 :滴到25.5公方χ15·5公分x〇m毫米厚之祕_617薄 ^爲再使用12號線捲繞棒將溶液均勻分布在薄膜上。所 =層在机之強制空氣烘箱中乾燥25分鐘。依據試驗 万法IV·表面抗阻性試驗敎該經塗佈之薄膜及未塗佈薄 膜之表面阻抗性。結果列於表j j中。 實例53 如實例52般將不含溶劑之抗靜電化合物qHi7 n+(ch3)2CH2Ch2〇h-n(s〇2CF3)2 (實例 υ塗佈在贼⑽ y77 薄膜上,但未使用溶劑,且使用3號線捲繞棒塗佈化合 物:但未在烘箱巾烘乾所得塗層。如實例52般測定經塗^ 薄膜之表面阻抗性,結果列於表!丨中。 本發明之各種改良及改變對於熟習本技藝者均會變得顯 而易見,且均不離本發明之範園及精神。 59- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1230176 A7 _B7 57 五、發明說明() 表11.經或未經抗靜電化合物(辛基二甲基-2-羥基乙基銨 雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺)局部處理Mellinex 617聚酯膜 之表面阻抗性。 實例 局部處理之抗靜電化合物 表面阻抗性 (歐姆/平方) C13 無 >10E 12 52 C8H17N+(CH3)2C2H4OH -N(S〇2CF3)2 (5%^IPA) 6X10E7 53 c8h17n+(ch3)2c2h4oh -N(S02CF3)2 (ioo%®^) 2.2X10E5 表11之數據顯示實例52及53之局部處理薄膜,其表面阻 抗性較對照聚酯膜(比較例C13)佳。 -1 --- (請先閱讀背面之注意事¾再填寫本頁) t 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -60- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐)
Claims (1)
- 號專利申,案 申請專利範圍 !.-種抗靜電组合物,該組合物包括⑷至 合亂鏑陽離子;5明斯^ 由非聚 鹽,該陰離子二:二有機陰離子所構成之離子 予足/、軛酸為超酸;與(b)至少— =物之㈣摻合物,其中離子鹽之數量為0.4 = 量% (以聚合物重量為準)。 重 2. 第1項之組合物,其中該氮·陽離子 =自包含非環狀、飽和環狀及芳香系氮鑕陽離子. “中該弱配位氟有機陰離子係經全氟化 勒 塑性聚合物係選自包含聚(氯化乙埽)、聚乙埽中= 埽、聚苯乙烯、聚酯、聚醯胺、聚碳酸酯、聚氧基亞 甲基、聚丙埽酸酿、聚甲基丙烯酸酿、苯乙埽丙二腈 (SAN)及丙埽腈丁二缔·苯乙埽(ABS)共聚物、高衝擊^ 聚苯乙埽(SB)、氟塑料、液晶聚合物(Lcps)、聚賴 (PEEK)、聚颯、聚亞酿胺、及聚趟亞㈣及聚(苯氧化 物)-聚苯乙烯及聚碳酸酯_ABS摻合物,及其摻合物。 3.根據申請專利範圍第i項之組合物,其中該氮^陽離子 係選自包含非環狀及芳香系氮鑌陽離子;其中該陰離 子係選自包含全氟烷磺酸鹽、氰基全氟烷磺醯胺、雙 (氰基)全氟烷磺醯胺、雙(全氟烷磺醯基)亞醯胺、雙(全 氟烷磺醯基)甲基化物、及叁(全氟烷磺醯基)甲基化 物;且其中該熱塑性聚合物係選自包含聚丙烯、聚乙 埽、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚碳酸酯、聚醚亞醯胺、 亞酿胺、聚酸嗣、聚>5風、聚苯乙缔、ABS共聚物、聚 醯胺、氟彈性體及其摻合物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 1230176 8 8 8 8 A B c D 六、申請專利範圍 4.根據申請專利範圍第2項之組合物,其中該芳香系氮鏘 陽離子係選自包含下列之者:嗒啩鏘吡啶鑕 Φ 嘧啶鑌nVVn, • R3 V:·· I R, 吡唑鑌 ,u,及 IV .唑错 其中Ri ’ R2 ’ R3,R4,R5,及反6分別選自包含Η、F、1 至4個碳原子之烷基,且二個該烷基結合在一起形成會 形成涵蓋Ν之環狀構造之2至4個碳原子之單元伸烷基, 及苯基;且其中該烷基、伸烷基、或苯基均可以以一 2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(‘210X297公釐)1230176 個或多個拉電子基取代。 5·—種抗靜電組合物,包括含(丨 ku 、㈠至少—種由(i)非聚合非 衣狀、飽和環狀、或芳香系氮鑷 古 1味離子及(η)弱配位氟 哥機陰離予所構成之離子鹽, .^ A 偁风 且孩芳香系氮鏘陽離子 係選自包含下列之者:及 V Rr 0>r 中汉1 R2 ’ R3 ’ R4及R5分別選自包含η、F、1至4個碳 原子之境基,且二個該坑基結合在一起形成會形成涵 蓋1^之環狀構造之2至4個碳原子之單元伸烷基,及苯 基;且其中該烷基、伸烷基、及該苯基均可以以一個 或多個拉電子基取代,且該陰離子之共軛酸為超酸; 及(b)至少一種熱塑性聚合物之融熔摻合物,其中離子 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CN A4規格(21〇χ 297公釐) 8 8 8 8 A B CD 1230176 、申請專利範圍 鹽之數量為0·1至10重量%(以聚合物重量為準)。 6. 根據申請專利範圍第1項之組合物,其中該共軛酸之 Hammett酸性度官能基Η〇低於-10。 7. 根據申請專利範圍第1項之組合物,其中該離子鹽包含 (i)選自包含下列之芳香系氮鑌陽離子:嘧啶錯. fV r5NN R/ Y、R,,及 N-N ,塞唑鑌 其中,R2,R3,R4,R5,及R6分別選自包含Η、F、1 至4個碳原子之烷基,且二個該烷基結合在一起形成會 形成涵蓋Ν之環狀構造之2至4個碳原子之單元伸烷基, 4 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) A B c D 1230176 六、申請專利範圍 及苯基;且其中該烷基、伸烷基、及該苯基均可以以 一個或多個拉電子基取代;及(π)弱配位氟有機陰離 子’且該陰離子之共輛酸為超酸,或選自包含, PIV ’ AsF6-,及SbF6·之弱配位陰離子。 8·根據申請專利範圍第1項之組合物,其中該離子性鹽係 選自以下式表示之化合物: (Ri)4.zN+[(CH2)qOR2]z X' (I) 其中各係分別選自可含一種或多種雜原子之包含烷 基、脂環基、芳基、烷環基、烷芳基、脂環烷基、芳 纪基、芳環基、及脂環芳基部份;各R2分別選自包含 氫及上述!^之部份者,Z為1至4之整數;q為1至4之整 數;且X-為該弱配位氟有機陰離子。 9· 一種抗靜電組合物,包括(&)至少一種由⑴及(Η)所構成 之離子鹽:(i)(l)選自以下式表示之化合物: (Ri)4-zN+[(CH2)q〇R2]z 其中各R!係分別選自可含一種或多種雜原子之包含烷 基、脂環基、芳基、烷環基、烷芳基、脂環烷基、芳 火元基、芳環基、及脂環芳基部份;各L分別選自包含 氫及上述!^之部份者,Z為1至4之整數;q為1至4整數之 非聚合氮鑌陽離子;或(2)選自包含下列者: ί3 "wR5 0 0> VJ N 'r5 ^R| > 吡"并雄 -5- .** R.•答β井雄 R. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公f 1230176a、申請專利範圍9塞士错•号唑姐 及· 严丨 N-N 0 其中Ri ’ R2,R3,r4,r5,及r6分別選自包含H、F、 至4個碳原子之烷基,且二個該烷基結合在一起形成耆 开v成/函盖N之環狀構造之2至4個碳原子之單元伸烷基, 及苯基,且其中該烷基、伸烷基、及該苯基均可以以 一個或多個拉電子基取代;及(Π)弱配位氟有機陰離 子,且其共軛酸為超酸,且係選自包含雙(全氟烷磺縫 基)亞醯胺及叁(全氟烷磺醯基)甲基化物,及(b)至少一 種熱塑性永合物,其中離子鹽之數量為〇·1至10重量% (以聚合物重量為準)。 10·種包括根據申請專利範圍第1項之組合物之纖維。 U· 一種包括根據申請專利範圍第10項之纖維之織物。 12. —種包括根據申請專利範圍第1項之組合物之薄膜。 13· —種包括根據申請專利範圍第1項之組合物之模製或吹 製物件。 14· 一種包括根據申請專利範圍第1項之組合物之塗料。 15. —種選自以下式表示之化合物 (Ri)4.zN+[(CH2)qOR2]z X* (I) 其中各R1係分別選自可含一種或多種雜原子之包含垸 基、脂環基、芳基、烷環基、烷芳基、脂環烷基、芳 6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇χ 297公釐) 1230176 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 圪基、方環基、及脂環芳基部份;各r2分別選自包含 氫及上述心之部份者,z為1至4之整數;(1為1至4之整 數,且X為該弱配位氟有機陰離子,該陰離子之共軛 酸為超酸。 16· —種製備根據申請專利範圍第丨項之抗靜電組合物之方 法包括〈步驟為⑷將⑴至少一種由非聚合氮鏘陽離 子及弱配位氟有機陰離子所構成之陰離子鹽且該陰離 子之共軛酸為超酸與(ii)至少一種熱塑性聚合物組合在 一起,及(b)融熔加工所得組合物。 Π.—種局部處理方法,包括之步驟為將局部處理組合物 塗佈於一或多種熱塑性聚合物之一或多表面上之一或 多部份,該局部處理組合物基本上包括由一或多種含 非聚合氮鑌陽離子及弱配位氟陰離子所構成之離子 鹽,該陰離子之共輕酸為超酸,且該離子鹽在使用溫 度下為液態。本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/412,850 US6372829B1 (en) | 1999-10-06 | 1999-10-06 | Antistatic composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI230176B true TWI230176B (en) | 2005-04-01 |
Family
ID=23634751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW089119475A TWI230176B (en) | 1999-10-06 | 2000-09-21 | Antistatic composition |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6372829B1 (zh) |
EP (1) | EP1232206B1 (zh) |
JP (3) | JP5412629B2 (zh) |
KR (1) | KR100755813B1 (zh) |
AU (1) | AU3743500A (zh) |
CA (1) | CA2385476C (zh) |
DE (1) | DE60018597T2 (zh) |
TW (1) | TWI230176B (zh) |
WO (1) | WO2001025326A1 (zh) |
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- 2000-03-14 EP EP00916312A patent/EP1232206B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-14 WO PCT/US2000/006597 patent/WO2001025326A1/en active IP Right Grant
- 2000-03-14 KR KR1020027004360A patent/KR100755813B1/ko active IP Right Grant
- 2000-03-14 AU AU37435/00A patent/AU3743500A/en not_active Abandoned
- 2000-03-14 DE DE60018597T patent/DE60018597T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-14 JP JP2001528488A patent/JP5412629B2/ja not_active Expired - Fee Related
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CA2385476A1 (en) | 2001-04-12 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |