JP4519487B2 - 洗浄用組成物 - Google Patents
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で示される第4級アンモニウムカチオン及び第4級ホスホニウムカチオンから選ばれる有機オニウムカチオンとからなる有機オニウム塩が0.001〜10質量部の範囲で含まれる洗浄用組成物である。
上記一般式(I)で示されるアニオンのなかでも、より疎水性が高く、洗浄用組成物の吸水性を悪化させ難い点で、少なくともA1、A2のいずれか一方はニトリル基以外であることが好ましく、双方がニトリル基以外であることがより好ましい。またより少量の配合で高い帯電防止効果が得られる点で、少なくともA1、A2のいずれか一方はフルオロアルキルスルフォニル基であることが好ましい。
(1)比抵抗の測定
トクヤマ製連続比抵抗計TOR−2000を用い、室温にて測定した。
(2)放置後水分量の測定
洗浄用組成物を大気開放下、室温で24時間攪拌した後、カールフィッシャー水分計を用いて水分量を測定した。
(3)洗浄後表面観察
縦20mm、横20mm、厚さ2mmの表面研磨した鉄片にポリジメチルシロキサンを刷毛を用いて均一に塗布したテストサンプルを洗浄用組成物内に浸けて室温で3時間放置した。その後、サンプルを引き上げて風乾した後、その表面を光学顕微鏡(500倍)で観察した。
テトラオクチルアンモニウム・2,2,2−トリフルオロ−N−(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミド9.01g(12.7mmol)を、イソプロピルアルコール30gに溶解させた後、ノルマルパラフィン系溶剤TPS−2250(トクヤマ社製、引火点71℃)4L(3004g)に対して添加して無色透明で均一な洗浄剤を得た。この洗浄剤の比抵抗を測定したところ、2.0GΩであった。この洗浄液をTREK社製チャージドプレートモニター158を用いて1000Vの電圧をかけ、500Vまで減衰する時間を測定した所、1.6秒であり、十分な帯電防止性があることが確認できた。この洗浄剤の放置後水分量は、49ppmであり、洗浄後表面観察では、粉体等による汚れ、表面の傷ともに見られなかった。
テトラオクチルアンモニウム・2,2,2−トリフルオロ−N−(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミドの代わりに、ドデシルスルフォン酸ナトリウム塩12.7mmolを用いた以外、実施例1と同様に溶解させようとしたところ、ドデシルスルフォン酸ナトリウム塩の溶け残りが生じた。塩を溶かすためにイソプロピルアルコール330gをさらに添加して溶解を試みたが全ては溶解しなかった。この液の上澄みを取り比抵抗を測定したところ、比抵抗は850GΩであった。この洗浄液の放置後水分量は723ppmであり、洗浄後表面観察では表面に粉状の汚損が見られた。
表1に示す有機オニウム塩を、表1に示す量用いた以外、実施例1と同様に操作した。比抵抗及び水分量の評価結果を表1に示す。また、いずれの洗浄用組成物でも洗浄後表面観察では、粉体等による汚れ、表面の傷ともに見られなかった。
表2〜4に記載した種類と量の有機オニウム塩を、表2に示す量の1−オクタノールに溶解し、これを4Lのノルマルパラフィン系溶剤TPS−2250に添加して無色透明の洗浄用組成物を得た。比抵抗及び水分量の評価結果を表2〜4に併せて示した。また、これら各実施例の洗浄用組成物を用いた場合の洗浄後表面観察では、いずれも粉体等による汚れ、表面の傷ともに見られなかった。
ノルマルパラフィン系溶剤TPS−2250(トクヤマ社製、引火点71℃)の代わりに表5に示す溶剤を用いた以外、実施例2と同様に操作した(有機オニウム塩添加量6.4mmol)。いずれも洗浄後表面観察では、粉体等による汚れ、表面の傷ともに見られなかった。結果を表5に示す。
洗浄しようとする、アルティック(Al2O3・TiC)上に薄膜磁気ヘッドパターンを形成した基板を切断、ラップしたバー(1.0mm×0.1mm×100mm)で、その表面はシリコーンオイル、フラックス残渣で汚染されていることを目視で確認した。
テトラオクチルアンモニウム・2,2,2−トリフルオロ−N−(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミド、又はトリラウリルメチルアンモニウム・クロライドの所定量をノルマルパラフィン系溶剤TPS−2250に対して添加した。なお、トリラウリルメチルアンモニウム・クロライドはTPS−2250に溶解しにくいため、一旦イソプロピルアルコールとの混合物{トリラウリルメチルアンモニウム・クロライド:イソプロピルアルコール=80:20(質量比)}として液状にした後、TPS−2250に添加した。図1に、これらの添加量と比抵抗の関係を調べた結果を示した。従来型の帯電防止材であるトリラウリルメチルアンモニウム・クロライドに比して、テトラオクチルアンモニウム・2,2,2−トリフルオロ−N−(トリフルオロメタンスルフォニル)アセタミドは遥かに少量の添加量で高い効果を与えることが判る。
Claims (3)
- 炭化水素系有機溶剤を90質量%以上含む溶剤100質量部に対し、下記式(I)で示されるアニオンと下記式(II)
(式中、A 1 、A 2 はそれぞれ独立にフルオロアシル基、フルオロアルキルスルフォニル基又はニトリル基を示す。)
(式中、Zは窒素原子又は燐原子を示し、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 はいずれも炭素数2〜20の炭化水素基であり、かつこれらのうちの少なくともいずれか一つは炭素数8以上の炭化水素基を示す。)
で示される第4級アンモニウムカチオン及び第4級ホスホニウムカチオンから選ばれる有機オニウムカチオンとからなる有機オニウム塩が0.001〜10質量部の範囲で含まれる洗浄用組成物。 - 電子部品洗浄用である、請求項1記載の洗浄用組成物。
- 請求項1又は請求項2記載の洗浄用組成物を用いることを特徴とする、電子部品の汚染物質を除去するための洗浄方法。
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Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JPH02182792A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-17 | Nikka Chem Co Ltd | 抗菌衛生ドライクリーニング洗浄剤組成物 |
JPH02206700A (ja) * | 1988-02-08 | 1990-08-16 | Procter & Gamble Co:The | 柔軟剤および帯電防止剤を含有する安定なヘビーデューティー液体洗剤組成物 |
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JPH02182792A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-17 | Nikka Chem Co Ltd | 抗菌衛生ドライクリーニング洗浄剤組成物 |
JP2000313899A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Sanyo Chem Ind Ltd | 液晶用洗浄剤 |
WO2001025326A1 (en) * | 1999-10-06 | 2001-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic composition |
WO2003011958A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Optically clear and antistatic pressure sensitive adhesives |
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