KR100809766B1 - 기판처리 장치 - Google Patents
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- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
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Abstract
Description
Claims (27)
- 노광 장치에 인접하도록 배치되는 기판처리 장치에 있어서,기판에 처리를 하기 위한 처리부와,상기 처리부의 일단부에 인접하도록 설치되고, 상기 처리부와 상기 노광 장치와의 사이에서 기판의 수도(受渡:받고 주는 것)를 하기 위한 수도(受渡)부를 구비하고,상기 처리부는,상기 노광 장치에 의한 노광 처리전의 기판의 단부를 세정하는 제1의 처리 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제1항에 있어서,상기 처리부는, 상기 노광 장치에 의한 노광 처리전의 기판에 소정의 처리를 하는 제2의 처리 유닛과,상기 노광 장치에 의한 노광 처리후의 기판에 소정의 처리를 하는 제3의 처리 유닛을 포함하고,상기 제1의 처리 유닛은, 상기 제2의 처리 유닛에 의한 처리전의 기판의 단부를 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 처리부의 타단부에 인접하도록 배치되고, 상기 처리부에의 기판의 반입 및 상기 처리부로부터의 기판의 반출을 하는 기판반입 반출부를 더욱 구비하고,상기 처리부는, 상기 제1의 처리 유닛 및 기판을 반송하는 제1의 반송 유닛을 구비하는 제1의 처리 단위와,상기 제2의 처리 유닛 및 기판을 반송하는 제2의 반송 유닛을 구비하는 1 또는 복수의 제2의 처리 단위와,상기 제3의 처리 유닛 및 기판을 반송하는 제3의 반송 유닛을 구비하는 1 또는 복수의 제3의 처리 단위를 포함하고,상기 제1의 처리 단위는, 상기 기판반입 반출부에 인접하도록 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 3항에 있어서,상기 제1의 처리 단위는, 기판이 해당 처리 단위에 반입될 때에 기판이 재치(載置)되는 제1의 재치부와, 기판이 해당 처리 단위로부터 반출될 때에 기판이 재치되는 제2의 재치부를 더욱 구비하고,상기 제1의 반송 유닛은, 기판을 유지하는 제1 및 제2의 유지부를 포함하고,상기 제1의 반송 유닛은, 상기 제1의 재치부에서 상기 제1의 처리유닛에 기판을 반송할 때는 상기 제1의 유지부에 의해 기판을 유지하고,상기 제1의 처리 유닛으로부터 상기 제2의 재치부에 기판을 반송할 때는 상 기 제2의 유지부에 의해 기판을 유지하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 4항에 있어서,상기 제1의 유지부는, 상기 제2의 유지부보다도 아래쪽으로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 3항에 있어서,상기 제3의 처리 유닛은, 상기 노광 장치에 의한 노광 처리후에 기판의 건조 처리를 하는 건조 처리 유닛을 포함하고,상기 건조 처리 유닛을 구비하는 상기 제3의 처리 단위는, 상기 수도(受渡)부에 인접하도록 배치되어,상기 수도(受渡)부는, 노광 처리전의 기판을 상기 노광 장치에 수도(受渡)하고, 노광 처리후의 기판을 상기 노광 장치로부터 상기 건조 처리유닛에 반송하고, 상기 건조 처리 유닛에 의해 건조 처리된 기판을 받는 제4의 반송 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 6항에 있어서,상기 제4의 반송 유닛은, 기판을 유지하는 제3 및 제4의 유지부를 포함하고, 상기 제4의 반송 유닛은,노광 처리전의 기판을 상기 노광 장치에 수도(受渡)할 때 및 상기 건조 처 리 유닛에 의해 건조 처리된 기판을 받을 때에는 상기 제3의 유지부에 의해 기판을 유지하고, 노광 처리후의 기판을 상기 노광 장치로부터 상기 건조 처리 유닛에 반송할 때에는 상기 제4의 유지부에 의해 기판을 유지하는 기판처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,상기 제4의 유지부는, 상기 제3의 유지부보다도 아래쪽으로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 제2의 처리 유닛은, 기판에 감광성 재료로 이루어지는 감광성 막을 형성하는 감광성 막형성 유닛을 포함하는 기판처리 장치.
- 제 9항에 있어서,상기 제2의 처리 유닛은, 상기 감광성 막을 보호하는 보호막을 형성하는 보호막형성 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 10항에 있어서,상기 제3의 처리 유닛은, 상기 노광 장치에 의한 노광 처리후에 상기 보호막을 제거하는 제거 유닛을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 9항에 있어서,상기 제2의 처리 유닛은, 상기 감광성 막형성 유닛에 의한 상기 감광성 막의 형성전에 기판에 반사 방지막을 형성하는 반사 방지막형성 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 제3의 처리 유닛은, 기판의 현상 처리를 하는 현상 처리 유닛을 포함하는 기판처리 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제1의 처리 유닛은, 브러시를 이용해서 기판의 단부를 세정하는 기판처리 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제1의 처리 유닛은, 2류체(流體) 노즐을 이용해서 기판의 단부를 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 제1의 처리 유닛은, 초음파 노즐을 이용해서 기판의 단부를 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 처리부는, 기판 위로 감광성 재료로 이루어지는 감광성 막을 형성하는 제2의 처리 유닛을 더 포함하고,상기 제1의 처리 유닛은, 상기 노광 장치에 의한 노광 처리전의 기판의 단부를 액침법에 의한 노광 처리에 이용되는 액체에 의해 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 처리부는, 상기 제2의 처리 유닛에 의해 형성된 상기 감광성 막위로 해당 감광성 막을 보호하는 보호막을 형성하는 제3의 처리 유닛을 더욱 포함하고, 상기 제1의 처리 유닛은, 상기 노광 처리전의 기판의 단부에 있어서 노출한 상기 감광성 막을 상기 액체에 의해 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 처리부는, 상기 제2의 처리 유닛에 의한 상기 감광성 막의 형성전에, 기판 위로 반사 방지막을 형성하는 제4의 처리 유닛을 더욱 포함하고,상기 제1의 처리 유닛은, 상기 노광 처리전의 기판의 단부에 있어서 노출한 상기 반사 방지막 및 상기 감광성 막의 한 쪽 또는 양쪽을 상기 액체에 의해 세정하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 액체는, 순수, 글리세롤 및 고굴절율의 미립자와 순수를 혼합한 혼합액의 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 20항에 있어서,상기 고굴절율의 미립자는, 알루미늄 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 수도(受渡)부는, 상기 처리부와 상기 노광 장치와의 사이에서 기판을 반송하는 반송 장치를 포함하고,상기 반송 장치는, 기판을 유지하는 제1 및 제2의 유지부를 포함하고,상기 노광 처리전의 기판을 반송할 때는 상기 제1의 유지부에 의해 기판을 유지하고, 상기 노광 처리후의 기판을 반송할 때는 상기 제2의 유지부에 의해 기판을 유지하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 22항에 있어서,상기 제2의 유지부는, 상기 제1의 유지부보다도 아래쪽으로 설치되는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 처리부는, 상기 노광 처리후에 상기 보호막을 제거하는 제5의 처리 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 처리부는, 기판의 현상 처리를 하는 제6의 처리 유닛을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 제1의 처리 유닛은, 상기 액체 및 기체의 혼합 유체를 상기 기판의 단부에 토출하는 2류체 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
- 제 17항에 있어서,상기 제1의 처리 유닛은, 상기 액체에 초음파를 부여하면서 상기 기판의 단부에 토출하는 초음파 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리 장치.
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