JP2004363453A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Wを保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置10である。ノズル30を支持して基板Wの表面及び基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段14と、ノズル移動手段14に角度調整自在に装備され、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部に対するノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段16とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】基板Wを保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置10である。ノズル30を支持して基板Wの表面及び基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段14と、ノズル移動手段14に角度調整自在に装備され、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部に対するノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段16とを備える。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は基板洗浄装置に係り、特に、化学的機械研磨法(CMP:Chemical Mechanical Polishing )によって研磨されたウェーハ等を高度の清浄度で洗浄するのに好適な基板洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて、このデバイス回路の配線も微細化しつつある。このため、半導体デバイスの基板には高い平坦性と高度な清浄性が要求される。すなわち、配線間距離が微小となる光リソグラフィの場合は、焦点深度が浅くなるために、露光装置による結像面に高い平坦度を必要とする。また、基板上に配線間距離より大きなパーティクルが存在したり、基板上にコンタミネーションが存在したりすると、配線がショートする等の不具合が生じることより、基板の処理においては、平坦性を維持するとともに清浄性を維持することが重要である。
【0003】
このため、CMP装置と一体化された洗浄装置やCMP装置の後工程に使用する洗浄装置の提案が各種なされている。特に近年、基板の表面の清浄度のみならず、基板の端縁部(エッジ部)の清浄度も要求されるようになっており、これに対処できる洗浄装置が提案されている(たとえば、特許文献1等参照。)。
【0004】
このような洗浄装置としては、基板の表面をロール状スクラブ洗浄部材を回転させることによって洗浄し、基板の周縁部をブラシ付き洗浄部材とで洗浄する構成が開示されている(特許文献1)。
【0005】
また、ウエハを一対のロールブラシで挟持して洗浄するとともに、主ノズルよりウエハ表面に洗浄液を供給し、更に、ウエハの周縁部には超音波振動が与えられた洗浄液を補助ノズルより供給する構成が開示されている(特許文献2)。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−70896号公報
【0007】
【特許文献2】
特開平11−238713号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の基板洗浄装置であっても、構成が複雑であったり、処理に長時間を要したり、装置のセッティングが大変であったりして、それぞれそれなりの問題点を有しており、画期的な洗浄装置が得られた訳ではない。
【0009】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために、基板を保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより該基板に供給して該基板の洗浄を行う基板洗浄装置であって、前記ノズルを支持して前記基板の表面及び前記基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段と、前記ノズル移動手段に角度調整自在に装備され、前記基板の表面及び前記基板の端縁部に対する前記ノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置を提供する。
【0011】
本発明によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、ノズルの軸線と基板の表面及び基板の端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板の表面のみならず基板の端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【0012】
本発明において、前記ノズル移動手段がアーム部材と該アーム部材の基端部を回動自在に支持する軸部材よりなり、前記傾斜角度調整手段が前記アーム部材の先端部分に設けられていることが好ましい。このような構成を採ることにより、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0013】
また、本発明において、前記ノズルの軸線と前記基板の表面及び前記基板の端縁部とがなす傾斜角度を30〜60度とすることが好ましい。この傾斜角度の範囲であれば、超音波振動が付与された洗浄液の洗浄効果が良好となるからである。
【0014】
また、本発明において、前記ノズル移動手段において、前記ノズルの先端が前記基板の表面及び前記基板の端縁部と所定の距離を保った状態で前記ノズルを移動させることが好ましい。このような構成を採ることにより、洗浄の効果が安定的になり、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0015】
また、本発明において、前記ノズルの先端と前記基板の表面及び前記基板の端縁部との距離を可変とできる距離調整手段が設けられていることが好ましい。このような構成を採ることにより、条件設定の自由度が増し、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って本発明に係る基板洗浄装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【0017】
図1は、基板洗浄装置10の要部の構成を示す概念図(斜視図)である。基板洗浄装置10は、装置本体12と、装置本体12に設けられ基板Wの下面を保持しながら回転させる基板保持機構(図示略)と、装置本体12に設けられるノズル移動手段14と、ノズル移動手段14に装備される傾斜角度調整手段16等より構成される。
【0018】
基板保持機構としては、たとえば、基板Wを真空吸引により円盤状チャックに保持するとともに、この円盤状チャックを図1の矢印A方向に所定の回転数で回転させる構成が採用できる。
【0019】
ノズル移動手段14は、基板Wの表面及び基板Wの端縁部に沿ってノズル30を支持しながら移動させるものであり、アーム部材18と、このアーム部材18の基端部を回動自在に支持する軸部材20よりなる。軸部材20は、装置本体12に立設された軸受22により支持される。アーム部材18の図1の矢印B方向の回動は、図示しないモータにより軸部材20を回動させることにより行われる。
【0020】
傾斜角度調整手段16は、ノズル移動手段14に装備され、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させるものであり、アーム部材18の先端部分に設けられているモータ24と、このモータ24の軸に固定されている回転ブロック26とよりなる。傾斜角度調整手段16において、モータ24を回動させることにより、回転ブロック26は図1の矢印C方向に回動する。
【0021】
回転ブロック26の左端には距離調整手段(図示略)を介してノズル支持ブロック28が上下移動可能に支持されている。また、ノズル支持ブロック28の下端部にはノズル30が固定されている。距離調整手段は、ノズル30の先端と基板Wの表面及び基板Wの端縁部との距離を可変とできるものであり、たとえば、回転ブロック26の左端部に固定されるラックと、ノズル支持ブロック28の右端部に回動自在に支持されるピニオンとの組み合わせで構成できる。そして、ピニオン(図示略)に連結された回転軸32を回動させることにより、ノズル支持ブロック28は図1の矢印D方向に上下移動する。
【0022】
ノズル支持ブロック28の下端部に固定されているノズル30は、超音波振動が付与された洗浄液をノズル先端より供給できるものであり、中心部に洗浄液供給路が設けられ、この洗浄液供給路の周囲に超音波発振部が設けられている。そして、洗浄液供給路を通って吐出される洗浄液は超音波によって振動したものとなる。洗浄液の吐出量、吐出圧、超音波発振部による超音波の周波数、パワー等は基板Wのサイズ、目標とする清浄度等に応じて適宜の値が選択できる。なお、図1では、洗浄液の供給経路の図示は省略してあるが、洗浄液供給源(薬液ポンプ等)からのフレキシブルホース等をノズル基端に接続すればよい。
【0023】
基板洗浄装置10の他の構成要素として、図示しない制御手段が設けられる。この制御手段はコンピュータ等により構成され、基板保持機構による基板Wの回転制御、ノズル移動手段14によるノズル30の移動速度、移動位置等の制御、傾斜角度調整手段16によるノズル30の傾斜角度制御、ノズル30による洗浄液の吐出状態制御等の各種の制御を行う。
【0024】
また、必要に応じて基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)を検知するセンサ、ノズル30の先端位置を検出するセンサ、ノズル支持ブロック28の回転角度を検知するセンサ等のセンサ手段を設けることもできる。
【0025】
次に、図2及び図3により、傾斜角度調整手段16による、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させる態様について説明する。このうち、図2は、ノズルの軸線Nと基板Wの表面とがなす傾斜角度αを示す概念図であり、図3は、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部とがなす傾斜角度αを示す概念図である。
【0026】
図2において、ノズル30は、基板Wの被洗浄箇所に所定の傾斜角度αをもって洗浄液を吹き付けるように支持されており、ノズルの軸線Nと基板Wの表面とがなす傾斜角度はαとなっている。したがって、ノズルの軸線Nと基板面の垂線Vとがなす角度はπ/2−αとなる。
【0027】
図2の状態において、ノズル30は基板Wの表面と所定の距離を維持した状態で矢印B’方向に移動する。この際、基板Wの表面は平面であることより、傾斜角度はαは一定であり、傾斜角度調整手段16によるノズル30の傾斜角度制御は実質上なされない。
【0028】
図3において、ノズル30は、基板Wの被洗浄箇所に所定の傾斜角度αをもって洗浄液を吹き付けるように支持されており、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部の該当箇所とがなす傾斜角度はαとなっている。したがって、ノズルの軸線Nと基板面の垂線Vとがなす角度はπ/2−αとなる。
【0029】
図3の状態において、ノズル30は矢印B’方向に移動するとともに、傾斜角度調整手段16により、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部の被洗浄箇所とがなす傾斜角度が常にαとなるように傾斜角度制御される。すなわち、回転ブロック26(及びノズル30)は図1の矢印C方向に回動する。この傾斜角度制御は、予めセンサにより検知された基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を基になされるか、手入力により制御手段(コンピュータ)に入力された基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を基になされる。
【0030】
次に、この実施の形態の基板洗浄装置10における動作について説明する。先ず、基板Wをロボット若しくはワークハンドラーのハンド、又は手動により基板保持機構(図示略)に供給する。この際、基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等がセンサにより検知されるか、基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を手入力により制御手段(コンピュータ)に入力する。
【0031】
基板保持機構は基板Wを保持しながら所定の回転数(たとえば300rpm)で図1の矢印A方向に回転させる。
【0032】
次いで、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板Wに供給して基板Wの洗浄を行う。この際、ノズル30はノズル移動手段14により支持されながら図1の矢印B’方向に移動するとともに、傾斜角度調整手段16によりノズルの軸線Nと基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定(図2のα)に維持される。
【0033】
所定時間の運転(又は、所定ストロークのノズル30の移動)が終了した時点で、ノズル30は基板W上から退避し、基板Wの高速回転(たとえば3000rpm)及び乾燥エア(乾燥窒素ガス)の吹き付けにより基板Wの乾燥がなされる。
【0034】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板Wに供給して基板Wの洗浄を行う基板洗浄装置10において、ノズルの軸線Nと基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定値αに維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板Wの表面のみならず基板Wの端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【0035】
以上、本発明に係る基板洗浄装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【0036】
たとえば、実施形態の例では、ノズル30の移動がスィングアーム方式のノズル移動手段14によりなされているが、直線移動方式とすることもできる。この場合には公知の各種直動装置を使用すればよい。
【0037】
また、実施形態の例では、距離調整手段が手動で操作される(回転軸32の回動操作)態様となっているが、モータ等を使用した自動操作とすることもできる。このように、距離調整手段を自動操作方式とした場合、ノズル移動手段14において、ノズル30の先端が基板Wの表面及び基板Wの端縁部と所定の距離を保った状態を維持するのが制御手段により容易に行える。
【0038】
また、実施形態の例では、ノズル30は1個のみ設けられているが、これを複数個設ける構成も採用できる。
【0039】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、ノズルの軸線と基板の表面及び基板の端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板の表面のみならず基板の端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板洗浄装置の要部の構成を示す概念図
【図2】ノズルの軸線と基板の表面とがなす傾斜角度を示す概念図
【図3】ノズルの軸線と基板の端縁部とがなす傾斜角度を示す概念図
【符号の説明】
10…基板洗浄装置、12…装置本体、14…ノズル移動手段、16…傾斜角度調整手段、18…アーム部材、20…軸部材、22…軸受、24…モータ、26…回転ブロック、28…ノズル支持ブロック、30…ノズル、N…ノズルの軸線、V…基板面の垂線、W…基板
【発明の属する技術分野】
本発明は基板洗浄装置に係り、特に、化学的機械研磨法(CMP:Chemical Mechanical Polishing )によって研磨されたウェーハ等を高度の清浄度で洗浄するのに好適な基板洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて、このデバイス回路の配線も微細化しつつある。このため、半導体デバイスの基板には高い平坦性と高度な清浄性が要求される。すなわち、配線間距離が微小となる光リソグラフィの場合は、焦点深度が浅くなるために、露光装置による結像面に高い平坦度を必要とする。また、基板上に配線間距離より大きなパーティクルが存在したり、基板上にコンタミネーションが存在したりすると、配線がショートする等の不具合が生じることより、基板の処理においては、平坦性を維持するとともに清浄性を維持することが重要である。
【0003】
このため、CMP装置と一体化された洗浄装置やCMP装置の後工程に使用する洗浄装置の提案が各種なされている。特に近年、基板の表面の清浄度のみならず、基板の端縁部(エッジ部)の清浄度も要求されるようになっており、これに対処できる洗浄装置が提案されている(たとえば、特許文献1等参照。)。
【0004】
このような洗浄装置としては、基板の表面をロール状スクラブ洗浄部材を回転させることによって洗浄し、基板の周縁部をブラシ付き洗浄部材とで洗浄する構成が開示されている(特許文献1)。
【0005】
また、ウエハを一対のロールブラシで挟持して洗浄するとともに、主ノズルよりウエハ表面に洗浄液を供給し、更に、ウエハの周縁部には超音波振動が与えられた洗浄液を補助ノズルより供給する構成が開示されている(特許文献2)。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−70896号公報
【0007】
【特許文献2】
特開平11−238713号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の基板洗浄装置であっても、構成が複雑であったり、処理に長時間を要したり、装置のセッティングが大変であったりして、それぞれそれなりの問題点を有しており、画期的な洗浄装置が得られた訳ではない。
【0009】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために、基板を保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより該基板に供給して該基板の洗浄を行う基板洗浄装置であって、前記ノズルを支持して前記基板の表面及び前記基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段と、前記ノズル移動手段に角度調整自在に装備され、前記基板の表面及び前記基板の端縁部に対する前記ノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置を提供する。
【0011】
本発明によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、ノズルの軸線と基板の表面及び基板の端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板の表面のみならず基板の端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【0012】
本発明において、前記ノズル移動手段がアーム部材と該アーム部材の基端部を回動自在に支持する軸部材よりなり、前記傾斜角度調整手段が前記アーム部材の先端部分に設けられていることが好ましい。このような構成を採ることにより、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0013】
また、本発明において、前記ノズルの軸線と前記基板の表面及び前記基板の端縁部とがなす傾斜角度を30〜60度とすることが好ましい。この傾斜角度の範囲であれば、超音波振動が付与された洗浄液の洗浄効果が良好となるからである。
【0014】
また、本発明において、前記ノズル移動手段において、前記ノズルの先端が前記基板の表面及び前記基板の端縁部と所定の距離を保った状態で前記ノズルを移動させることが好ましい。このような構成を採ることにより、洗浄の効果が安定的になり、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0015】
また、本発明において、前記ノズルの先端と前記基板の表面及び前記基板の端縁部との距離を可変とできる距離調整手段が設けられていることが好ましい。このような構成を採ることにより、条件設定の自由度が増し、本発明の効果が好適に発揮できるからである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って本発明に係る基板洗浄装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【0017】
図1は、基板洗浄装置10の要部の構成を示す概念図(斜視図)である。基板洗浄装置10は、装置本体12と、装置本体12に設けられ基板Wの下面を保持しながら回転させる基板保持機構(図示略)と、装置本体12に設けられるノズル移動手段14と、ノズル移動手段14に装備される傾斜角度調整手段16等より構成される。
【0018】
基板保持機構としては、たとえば、基板Wを真空吸引により円盤状チャックに保持するとともに、この円盤状チャックを図1の矢印A方向に所定の回転数で回転させる構成が採用できる。
【0019】
ノズル移動手段14は、基板Wの表面及び基板Wの端縁部に沿ってノズル30を支持しながら移動させるものであり、アーム部材18と、このアーム部材18の基端部を回動自在に支持する軸部材20よりなる。軸部材20は、装置本体12に立設された軸受22により支持される。アーム部材18の図1の矢印B方向の回動は、図示しないモータにより軸部材20を回動させることにより行われる。
【0020】
傾斜角度調整手段16は、ノズル移動手段14に装備され、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させるものであり、アーム部材18の先端部分に設けられているモータ24と、このモータ24の軸に固定されている回転ブロック26とよりなる。傾斜角度調整手段16において、モータ24を回動させることにより、回転ブロック26は図1の矢印C方向に回動する。
【0021】
回転ブロック26の左端には距離調整手段(図示略)を介してノズル支持ブロック28が上下移動可能に支持されている。また、ノズル支持ブロック28の下端部にはノズル30が固定されている。距離調整手段は、ノズル30の先端と基板Wの表面及び基板Wの端縁部との距離を可変とできるものであり、たとえば、回転ブロック26の左端部に固定されるラックと、ノズル支持ブロック28の右端部に回動自在に支持されるピニオンとの組み合わせで構成できる。そして、ピニオン(図示略)に連結された回転軸32を回動させることにより、ノズル支持ブロック28は図1の矢印D方向に上下移動する。
【0022】
ノズル支持ブロック28の下端部に固定されているノズル30は、超音波振動が付与された洗浄液をノズル先端より供給できるものであり、中心部に洗浄液供給路が設けられ、この洗浄液供給路の周囲に超音波発振部が設けられている。そして、洗浄液供給路を通って吐出される洗浄液は超音波によって振動したものとなる。洗浄液の吐出量、吐出圧、超音波発振部による超音波の周波数、パワー等は基板Wのサイズ、目標とする清浄度等に応じて適宜の値が選択できる。なお、図1では、洗浄液の供給経路の図示は省略してあるが、洗浄液供給源(薬液ポンプ等)からのフレキシブルホース等をノズル基端に接続すればよい。
【0023】
基板洗浄装置10の他の構成要素として、図示しない制御手段が設けられる。この制御手段はコンピュータ等により構成され、基板保持機構による基板Wの回転制御、ノズル移動手段14によるノズル30の移動速度、移動位置等の制御、傾斜角度調整手段16によるノズル30の傾斜角度制御、ノズル30による洗浄液の吐出状態制御等の各種の制御を行う。
【0024】
また、必要に応じて基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)を検知するセンサ、ノズル30の先端位置を検出するセンサ、ノズル支持ブロック28の回転角度を検知するセンサ等のセンサ手段を設けることもできる。
【0025】
次に、図2及び図3により、傾斜角度調整手段16による、ノズル30の軸線と基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させる態様について説明する。このうち、図2は、ノズルの軸線Nと基板Wの表面とがなす傾斜角度αを示す概念図であり、図3は、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部とがなす傾斜角度αを示す概念図である。
【0026】
図2において、ノズル30は、基板Wの被洗浄箇所に所定の傾斜角度αをもって洗浄液を吹き付けるように支持されており、ノズルの軸線Nと基板Wの表面とがなす傾斜角度はαとなっている。したがって、ノズルの軸線Nと基板面の垂線Vとがなす角度はπ/2−αとなる。
【0027】
図2の状態において、ノズル30は基板Wの表面と所定の距離を維持した状態で矢印B’方向に移動する。この際、基板Wの表面は平面であることより、傾斜角度はαは一定であり、傾斜角度調整手段16によるノズル30の傾斜角度制御は実質上なされない。
【0028】
図3において、ノズル30は、基板Wの被洗浄箇所に所定の傾斜角度αをもって洗浄液を吹き付けるように支持されており、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部の該当箇所とがなす傾斜角度はαとなっている。したがって、ノズルの軸線Nと基板面の垂線Vとがなす角度はπ/2−αとなる。
【0029】
図3の状態において、ノズル30は矢印B’方向に移動するとともに、傾斜角度調整手段16により、ノズルの軸線Nと基板Wの端縁部の被洗浄箇所とがなす傾斜角度が常にαとなるように傾斜角度制御される。すなわち、回転ブロック26(及びノズル30)は図1の矢印C方向に回動する。この傾斜角度制御は、予めセンサにより検知された基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を基になされるか、手入力により制御手段(コンピュータ)に入力された基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を基になされる。
【0030】
次に、この実施の形態の基板洗浄装置10における動作について説明する。先ず、基板Wをロボット若しくはワークハンドラーのハンド、又は手動により基板保持機構(図示略)に供給する。この際、基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等がセンサにより検知されるか、基板Wのサイズ(外径、板厚、エッジ形状)等を手入力により制御手段(コンピュータ)に入力する。
【0031】
基板保持機構は基板Wを保持しながら所定の回転数(たとえば300rpm)で図1の矢印A方向に回転させる。
【0032】
次いで、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板Wに供給して基板Wの洗浄を行う。この際、ノズル30はノズル移動手段14により支持されながら図1の矢印B’方向に移動するとともに、傾斜角度調整手段16によりノズルの軸線Nと基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定(図2のα)に維持される。
【0033】
所定時間の運転(又は、所定ストロークのノズル30の移動)が終了した時点で、ノズル30は基板W上から退避し、基板Wの高速回転(たとえば3000rpm)及び乾燥エア(乾燥窒素ガス)の吹き付けにより基板Wの乾燥がなされる。
【0034】
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズル30より基板Wに供給して基板Wの洗浄を行う基板洗浄装置10において、ノズルの軸線Nと基板Wの表面及び基板Wの端縁部とがなす傾斜角度を一定値αに維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板Wの表面のみならず基板Wの端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【0035】
以上、本発明に係る基板洗浄装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【0036】
たとえば、実施形態の例では、ノズル30の移動がスィングアーム方式のノズル移動手段14によりなされているが、直線移動方式とすることもできる。この場合には公知の各種直動装置を使用すればよい。
【0037】
また、実施形態の例では、距離調整手段が手動で操作される(回転軸32の回動操作)態様となっているが、モータ等を使用した自動操作とすることもできる。このように、距離調整手段を自動操作方式とした場合、ノズル移動手段14において、ノズル30の先端が基板Wの表面及び基板Wの端縁部と所定の距離を保った状態を維持するのが制御手段により容易に行える。
【0038】
また、実施形態の例では、ノズル30は1個のみ設けられているが、これを複数個設ける構成も採用できる。
【0039】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより基板に供給して基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、ノズルの軸線と基板の表面及び基板の端縁部とがなす傾斜角度を一定に維持させることができる。超音波振動が付与された洗浄液を吹き付ける洗浄においては、被洗浄箇所に所定の傾斜角度、たとえば45度をもって吹き付けるのがよいとされているが、本発明においては、基板の表面のみならず基板の端縁部においても同様の傾斜角度をもって洗浄液を吹き付けることができる。これにより、簡易な構成で、迅速に、高清浄度にワークの表面のみならずワークの端縁部の洗浄が行える。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板洗浄装置の要部の構成を示す概念図
【図2】ノズルの軸線と基板の表面とがなす傾斜角度を示す概念図
【図3】ノズルの軸線と基板の端縁部とがなす傾斜角度を示す概念図
【符号の説明】
10…基板洗浄装置、12…装置本体、14…ノズル移動手段、16…傾斜角度調整手段、18…アーム部材、20…軸部材、22…軸受、24…モータ、26…回転ブロック、28…ノズル支持ブロック、30…ノズル、N…ノズルの軸線、V…基板面の垂線、W…基板
Claims (5)
- 基板を保持しながら回転させるとともに、超音波振動が付与された洗浄液をノズルより該基板に供給して該基板の洗浄を行う基板洗浄装置であって、
前記ノズルを支持して前記基板の表面及び前記基板の端縁部に沿って移動させるノズル移動手段と、
前記ノズル移動手段に角度調整自在に装備され、前記基板の表面及び前記基板の端縁部に対する前記ノズルの傾斜角度を一定に維持させる傾斜角度調整手段と、
を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記ノズル移動手段がアーム部材と該アーム部材の基端部を回動自在に支持する軸部材よりなり、
前記傾斜角度調整手段が前記アーム部材の先端部分に設けられている請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記ノズルの軸線と前記基板の表面及び前記基板の端縁部とがなす傾斜角度を30〜60度とする請求項1又は2に記載の基板洗浄装置。
- 前記ノズル移動手段において、前記ノズルの先端が前記基板の表面及び前記基板の端縁部と所定の距離を保った状態で前記ノズルを移動させる請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。
- 前記ノズルの先端と前記基板の表面及び前記基板の端縁部との距離を可変とできる距離調整手段が設けられている請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。
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