TWI417264B - 玻璃基板清洗裝置以及玻璃基板清洗方法 - Google Patents

Description

玻璃基板清洗裝置以及玻璃基板清洗方法

本發明是關於一種玻璃基板清洗裝置以及玻璃基板清洗方法，具體地說，是關於一種用於對玻璃基板的被研磨的端面適當地進行清洗的技術。

眾所周知，在液晶顯示器、電漿顯示器、電致發光顯示器、場致發射顯示器等各種圖像顯示機器用的玻璃面板的製作時，已發展到採用從一片原板玻璃製作出多片玻璃面板的方法。而且，伴隨著這種狀況，目前在玻璃廠等所製造的原板玻璃是朝向大板化發展。

這些原板玻璃在製造工程的最後，通常是藉由在對被切割為矩形且設定大小的玻璃基板的端面施以研磨加工後，進行用於使該玻璃基板的表面及背面形成潔淨的面之清洗處理及乾燥處理，而得到最終製品。即，因為玻璃基板的切斷部分銳利，所以在保持原樣的情況下，會導致即使受到輕微的衝擊時也產生缺損，或在運送時對鄰接的其它玻璃基板形成傷害等問題。為了避免這些問題，而對玻璃基板的切割端面，施以上述的研磨加工(多數情況下兼具倒稜加工)。而且，各種圖像顯示機器用的原板玻璃，因為特別是在表面上形成電子機能元件等，所以要求維持高潔淨度。為了應對這種要求，而對玻璃基板進行上述的清洗處理及乾燥處理。

接著，對上述的玻璃基板的清洗處理及乾燥處理之一 個具體的例子進行說明，如圖6所示，首先在清洗用液體(通常使用水)可在內外間進行流通之籃部A的內部，將多片玻璃基板G以垂直姿勢且並列地進行收納。繼而，使該籃部A浸漬在清洗槽B內所貯存的80℃左右的溫水中，並進行沿上下方向等的振動等，從玻璃基板G除去污垢和洗劑等。然後，將該籃部A從清洗槽B內取出並運送到乾燥處理位置C，且對玻璃基板G噴射溫風而使其乾燥。

在結束了以上的處理之玻璃基板G上，如圖7所示，形成多個異物(微粒，particle)P附著而無法輕鬆地去除的狀態，特別是在玻璃基板G的表面及背面之一邊的周邊部H上，形成異物的附著密度高之狀態。這種現像的產生是因為在對玻璃基板G的四邊上的切割端面施以研磨加工之際，其端面不形成鏡面而必然形成帶有微小凹凸的面，所以在該端面的微小凹部內堵塞玻璃粉和研磨粉，且在清洗處理時它們滲出，並在乾燥處理時在玻璃基板G的表面及背面上作為微粒P而析出。而且，在清洗處理時及乾燥處理時，玻璃基板G保持垂直姿勢，此時微粒P會集中並附著在位於玻璃基板G上端之一邊的周邊部H上。

這種結論為本發明者等藉由習知所獨創技術，進行上述的清洗處理及乾燥處理而得到的。而且，本發明者等嘗試了進行超音波清洗作為上述的清洗處理，但即使進行這種清洗，也無法完全排除微粒在玻璃基板上的附著，且為了從玻璃基板的端面除去一定量的玻璃粉和研磨粉，需要不合理的較長的時間，產生生產性極為惡化之根本性的問 題。

另外，雖然並不是關於上述的清洗處理的技術，但下述的專利文獻1(參照圖3)揭示了一種在對玻璃基板的端面利用倒稜磨石進行研磨的工程中，從高壓噴嘴噴射高壓水的技術，以及同樣在該研磨工程中，從噴水裝置的噴水口對玻璃基板的周邊供給切割水的技術。而且，下述的專利文獻2揭示了一種對從母基板(原板玻璃)或棒形(stick)基板所切割出之液晶面板的角部，利用從水噴射噴嘴所噴射的超高壓水進行倒稜化之技術。

專利文獻1：日本專利早期公開之特開平8-12361號公報

專利文獻2：日本專利早期公開之特開平2002-292569號公報

然而，近年來以液晶顯示器為代表的顯示機器的高精細化得到發展，隨之發展到對玻璃基板(原板玻璃)要求嚴格的潔淨度。可是，在如上述那樣，微粒P集中並附著於玻璃基板G一邊的周邊部H上的情況下，無法應對潔淨度的嚴格要求，不只是製品價值下降，也導致經受不住使用，被作為不合格品處理之問題。

而且，上述的玻璃基板是在從其製造工廠被提供到另外的顯示器製造工廠等以後，再在該另外的工廠進行清洗處理及乾燥處理，所以如在玻璃基板的被研磨之端面的微小凹部內依然堵塞異物，則不只是上述所例示之玻璃基板G一邊的周邊部H，微粒還集中並附著於另一邊的周邊部 上，而導致相同的問題。

另外，如利用上述專利文獻1所揭示的技術，則來自高壓噴嘴的高壓水可預測被提供到玻璃基板的研磨中的端面，但該高壓水如該文獻的段落〔0019〕所記述的，是對倒稜磨石的研磨部進行噴射，被用於防止該研磨部的孔堵塞。因此，該高壓水即使與倒稜磨石的研磨部臨時接觸後到達玻璃基板的端面，對該端面的水的供給壓力也變得極小。因此，即使在該端面的微小凹部內堵塞玻璃粉和研磨粉等異物，以上述的水的力道，無論如何也無法淘出該異物，解决不了上述的微粒附著的問題。

而且，上述專利文獻2所揭示的技術，超高壓水是從液晶面板的表面側向外側而對其角部進行噴射，所以超高壓水的噴射部位實質上為玻璃基板角部的表面，而並不是端面。而且，考慮到該技術為一種並不是以玻璃基板而是以液晶面板為對像，且切除液晶面板的角部之技術，則利用它無論如何也解决不了上述的微粒附著的問題。

本發明是鑒於上述問題而形成的，其技術課題是迅速且適當地對玻璃基板的被研磨的端面進行清洗，並恰當地處理玻璃基板的特別是表面上的微粒附著的問題。

為了解决上述技術課題所獨創的本發明，為一種利用清洗用液體清洗玻璃基板的被研磨的端面的玻璃基板清洗裝置，其特徵在於：包括液體噴射單元，用於將清洗用液體，以為了將前述玻璃基板的被研磨之端面的微小凹部內 存在的異物淘出所必需的噴射壓力，且不使玻璃基板損傷的噴射壓力，對該端面進行噴射。

這裏，上述的「為了淘出端面的微小凹部內存在的異物所必需的噴射壓力」，未必意味著用於淘出在該端面的全部微小凹部內所存在之全部的異物所必需的噴射壓力，而意味著只要為用於淘出在該端面的相當數目的微小凹部內存在之相當量的異物所必需的噴射壓力即可。而且，上述的「不使玻璃基板損傷的噴射壓力」，意味著不形成切除玻璃基板的該端面周邊，或使玻璃基板產生不合理的變形而出現破裂和缺口等這樣的損傷之噴射壓力。另外，大多是使用水作為上述的「清洗用液體」。

如利用這種構成，從液體噴射單元所噴射的清洗用液體，藉由對玻璃基板的被研磨的端面以適當的噴射壓力進行供給，可使在該端面的微小凹部內所堵塞的玻璃粉和研磨粉等異物，由清洗用液體被淘出洗掉。因此，即使在此後為了清洗例如玻璃基板的表面及背面而進行清洗處理和乾燥處理，也可抑制從玻璃基板的該端面滲出異物，並在其表面及背面(特別是表面)析出，且在作為微粒難以除去的狀態下進行附著之問題。而且，由於可以避免從液體噴射單元所噴出的清洗用液體，以使玻璃基板受損的不合理的高壓力被噴射供給至該端面，因此即使對例如0.5~0.7mm左右之厚度極薄的液晶顯示器用的玻璃基板，也不會產生導致破裂和缺口那種不合理的變形，而且也不會產生因清洗用液體的噴射力道而使例如該端面的角部被切除 等問題。結果，即使在以液晶顯示器為代表之顯示機器的高精細化得以進展的現實情況下，也能夠對應對玻璃基板(原板玻璃)的潔淨度的嚴格要求，不只是提高製品價值，還使不合格品的產生概率急劇減少，可謀求生產性的大幅提高。

在這種情況下，前述液體噴射單元採用使清洗用液體與玻璃基板的被研磨的端面的全部區域直接接觸之構成為佳。

這裏，上述的「直接接觸」意味著排除在因清洗用液體與除了玻璃基板以外的其它構件接觸，而使噴射的力道不合理地減弱之狀態下與該端面抵接之情況，例如不使噴射的力道不合理地減弱而與調整清洗用液體的噴射方向的引導構件接觸，並向該端面進行噴射之情況，和使多根清洗用液體的噴射流在不使力道不合理地減弱的情況下進行合流後，與該端面進行抵接之情況，屬於「直接抵接」。這樣一來，在清洗用液體從液體噴射單元噴射出並到達玻璃基板的端面期間，其力道幾乎不減弱，所以可效率良好地進行異物的淘出，且對玻璃基板的表面及背面的全部區域，抑制微粒的附著。

而且，前述液體噴射單元採用從玻璃基板的被研磨之端面的外側，以存在於與該端面所在邊的長邊方向直交的面內且與該玻璃基板的表面及背面平行之直綫作為基準，在其表面及背面方向上的角度為0~70°的範圍內對前述端面噴射清洗用液體之構成較佳。

這樣一來，對玻璃基板的該端面之清洗用液體的噴射方向，不只是從該端面的外側，對與該端面所在邊的長邊方向直交的面內所存在的直綫且與該玻璃基板的表面及背面平行的直綫，也在該表面及背面方向上具有0~70°的角度。而且，如該角度超過70°，則清洗用液體與玻璃基板的端面抵接時的衝擊力(衝擊時的壓力)減小，有可能難以起到異物的淘出作用。因此，該角度在70°以下較為適當。而且，如該角度為0~20°，則清洗用液體的衝擊力增大，異物的淘出作用充分進行。但是，如在這種角度範圍內，會導致例如高壓的清洗用液體直接接觸將玻璃基板的端面附近進行挾持固定的橡膠帶等挾持構件的問題，使挾持構件因清洗用液體的接觸而產生磨耗或損傷之概率增高，且在玻璃基板和挾持構件之間產生相對的位置偏離，存在玻璃基板容易脫離之難點。考慮到這些事項，使上述角度為20~70°更佳。

另外，前述液體噴射單元較佳是具有多根噴射噴嘴，其分別從該玻璃基板的表面側和背面側對玻璃基板的被研磨的端面噴射清洗用液體。

這樣一來，可利用多根噴射噴嘴分別從玻璃基板的表面側及背面側對該端面噴射供給清洗用液體，所以對該端面的全部區域之異物的淘出作用可輕鬆且確實地進行，能夠更加適當地處理微粒附著的問題。而且，在回避已經說明的因高壓清洗用液體與橡膠帶等挾持構件直接接觸所引起的該挾持構件的磨耗和損傷，以及玻璃基板的相對的位 置偏離等方面，極其有利。

在以上的構成中，從前述液體噴射單元所噴射出的清洗用液體的噴射壓力較佳為9.8~24.5MPa。

即，如清洗用液體的噴射壓力不足9.8MPa，則難以從玻璃基板的端面的微小凹部內淘出足夠量的異物，有可能依然殘留有微粒附著的問題。與此相對，如其噴射壓力超過24.5MPa，則在例如液晶顯示器的玻璃基板那樣，厚度較薄在1mm以下(0.5~0.7mm左右)的情況下，有可能在玻璃基板的端面周邊產生不合理的變形而形成破裂和缺口，或因超高壓的清洗用液體而使該端面周邊被去除。因此，該噴射壓力存在於上述的數值範圍內較為恰當。考慮到以上事項，使上述的噴射壓力為14.7~24.5MPa更佳。

而且，在以上的構成中，從前述液體噴射單元的噴射口到玻璃基板的被研磨的端面之間的距離較佳為2~30mm。

這樣一來，在從液體噴射單元的噴射口所噴射的清洗用液體到達玻璃基板的端面時，清洗用液體的噴流直徑及供給壓力被維持在適當的值。即，如上述的距離不足2mm，則清洗用液體的噴流直徑形成過於細的直徑，有可能使在該端面的全體區域上之異物的淘出作用變得不均勻，而且，如上述的距離超過30mm，則清洗用液體的直徑被過於擴大，到達該端面時的清洗用液體的供給壓力有可能變得不充分。因此，該距離存在於上述的數值範圍內較為恰當。

另外，在以上的構成中，前述液體噴射單元較佳為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。

即，在從噴射噴嘴的噴射口噴射高壓清洗用液體的關係上，如為例如金屬製的噴射噴嘴，則噴射口周邊特別是噴孔會在短時間內發生磨耗等而磨損，使耐久性極為惡化，但如為上述的硬質陶瓷等所構成的噴射噴嘴，則不會產生這種情形，而能夠經受住長年的長期使用。順便說一下，由不銹鋼構成的噴射噴嘴的壽命為1小時左右，在由超硬合金構成的情況下為48小時左右，由硬質陶瓷構成的情況下為3個月左右。

在具有以上構成的玻璃基板清洗裝置中，也可還具有將前述玻璃基板以水平姿勢沿水平方向進行運送的運送單元，且將前述液體噴射單元分別設置在與利用該運送單元的玻璃基板的運送路徑之運送方向直交的方向的兩側。

這樣一來，在利用運送單元使玻璃基板以水平姿勢被依序運送期間，對位於與各玻璃基板的運送方向直交的方向的兩側之一對邊的被研磨的端面，分別從液體噴射單元噴射清洗用液體，並從各玻璃基板的2邊的端面淘出異物。因此，不是對多個玻璃基板進行超音波清洗那種情況下的分批處理，而是進行連續處理，使該端面的清洗處理所需要的時間縮短。另外，也可具有將玻璃基板以垂直姿勢沿垂直方向進行運送的運送單元，並進行同樣的處理。

在這種情況下，也可採用在前述玻璃基板的運送路徑 的途中，使該玻璃基板水平旋轉90°，且在其水平旋轉前及水平旋轉後的某一時間，從前述液體噴射單元對前述玻璃基板的被研磨的端面噴射清洗用液體之構成。

這樣一來，藉由在使玻璃基板水平旋轉90°之前，如上所述對利用運送單元被依序運送的各玻璃基板的2邊的端面噴射清洗用液體，並在水平旋轉後，對同樣地利用另外的運送單元被依序運送之這些玻璃基板的剩餘的2邊的端面噴射清洗用液體，可從玻璃基板的全部4邊的端面淘出異物。而且，像這樣從玻璃基板的4邊的端面淘出異物的作業，也利用連續處理而進行。

另一方面，關於為了解决上述技術課題所獨創之本發明的方法，為一種將玻璃基板的被研磨的端面利用清洗用液體進行清洗的玻璃基板清洗方法，其特徵在於：將清洗用液體以高壓噴射於前述玻璃基板的被研磨的端面，使該端面的微小凹部內所存在的異物淘出。

如利用這種方法，可解决在玻璃基板的表面及背面(特別是表面)上附著不合理的量的微粒之問題，所以即使在以液晶顯示器為代表之顯示機器向高精細化發展的現實情況下，也能夠應付對玻璃基板(原板玻璃)的潔淨度的嚴格要求，不只可提高製品價值，也使不合格品的產生概率急劇減少，可謀求生產性的大幅提高。

另外，關於為了解决上述技術課題所獨創之本發明的玻璃基板清洗方法，其特徵在於：對玻璃基板的端面，利用粗糙度不同的磨石施行多次的研磨加工，然後藉由對該 玻璃基板的端面以高壓噴射清洗用液體，使該端面的微小凹部內的異物淘出並洗掉。

如利用這種方法，則對玻璃基板的端面施以多次研磨加工，與只施行1次研磨加工的情況相比，使該端面的微小凹部內所存在之異物的量的總和減少，並藉由像這樣使異物的量減少並對該端面以高壓噴射清洗用液體，將異物淘出，而使該端面上所殘留之異物的量大幅減少。因此，玻璃基板的微粒附著的問題，可更加確實地得以解决。另外，第一次的研磨加工兼具倒稜加工為佳，而且，第二次以後的研磨加工也可兼具倒稜加工。

如像上面那樣利用本發明，則從液體噴射單元所噴射出的清洗用液體，對玻璃基板的被研磨的端面以適當的噴射壓力被供給，使該端面的微小凹部內所存在之異物被淘出並洗掉，所以能夠盡可能地抑制此後從玻璃基板的該端面滲出異物，特別是在表面析出，並在作為微粒難以去除的狀態下進行附著之問題。而且，由於可以避免從液體噴射單元所噴射的清洗用液體以使玻璃基板損傷那樣的不合理的高壓力被噴射供給至該端面，因此不會產生導致破裂和缺口那樣的不合理的變形，而且也不會出現因清洗用液體的力道而使該端面的角部被切除等問題。結果，即使在以液晶顯示器為代表之顯示機器向高精細化發展的現實情況下，也能夠應付對玻璃基板(原板玻璃)的潔淨度的嚴格要求，不只可提高製品價值，也使不合格品的產生概率急劇減少，可謀求生產性的大幅提高。

下面，參照附圖對本發明的實施形態進行說明。

首先，根據圖1所示的概略平面圖，對關於本發明的實施形態之玻璃基板清洗裝置的全體構成進行說明。如同圖所示，玻璃基板清洗裝置(以下只稱作清洗裝置)採用利用上游側運送單元2A將玻璃基板3以水平姿勢沿水平方向(同圖的右方向)運送，且利用與其下游端鄰接的旋轉裝置2X使玻璃基板3水平旋轉90°，另外利用與其下游側鄰接的下游側運送單元2B，將水平旋轉後的玻璃基板3以水平姿勢沿同方向進行運送之構成。而且，利用這些運送單元2A、2B運送的玻璃基板3，其為形成液晶顯示器用的原板玻璃，且其厚度為0.7mm。

在上游側運送單元2A的運送路徑的左右兩側(與運送方向直交之方向的兩側)上，從上游側開始依序設置有對玻璃基板3的左右兩邊的端面3a施以相對粗略的第1研磨加工之一對粗磨石4a、施以相對微細的第2研磨加工之微細磨石4b、對玻璃基板3的左右兩邊的被研磨的各端面3a噴射清洗水之二對液體噴射單元(噴射噴嘴)5。另外，在下游側運送單元2B的運送路徑的左右兩側，也同樣地設置有粗磨石4a、微細磨石4b及噴射噴嘴5。

因此，對利用上游側運送單元2A運送的玻璃基板3之左右兩邊的全長範圍內的各個端面3a，利用研磨粒的粒度為#300~#500的粗磨石4a、研磨粒的粒度為#800~#4000的微細磨石4b，施行2階段的研磨加工後，從噴射 噴嘴5噴射供給2次清洗水。另外，對利用下游側運送單元2B運送的玻璃基板3之剩餘兩邊的全長範圍內的各個端面3a，也施以同樣的處理。

圖2所示為上游側運送單元2A的周邊構成之詳細的要部斜視圖(下游側運送單元2B的周邊構成也相同)，為了說明上的便利，例示一種在運送路徑的左右兩側只設置一對噴射噴嘴5的狀態。如同圖所示，玻璃基板3採用在將其左右兩邊的端面3a的附近分別利用各一對帶狀挾持構件(橡膠帶)6從上下進行夾持的狀態下，沿箭形符號方向被運送之構成，可從該玻璃基板3左右兩邊的端面3a的外側區域，利用噴射噴嘴5使清洗水7對各端面3a分別進行噴射。

具體地說，如圖3所示，玻璃基板3的端面3a在上述的2次研磨加工中施行倒稜處理，以使斷面呈圓弧形(凸狀的圓弧形)。該端面3a具體地說，在利用粗磨石4a形成大致斷面圓弧形後，利用微細磨石4b主要進行使表面粗糙度變小的研磨。而且，採用對玻璃基板3的端面3a，使來自噴射噴嘴5的清洗水7直接接觸之構成，且該清洗水7的噴射角度，如存在於與該端面3a所在的邊的長邊方向直交之面內(與紙面平行的面內)，且以與玻璃基板3的表面及背面平行的直綫L作為基準，則被設定為0°。

另外，噴射噴嘴5包括噴孔的形成部在內都是由硬質陶瓷構成，且利用噴射噴嘴5，而使清洗水7的噴射壓力，為9.8~24.5MPa，較佳為14.7~24.5MPa，且從噴射噴嘴 5的噴射口到端面3a的距離被設定為2~30mm。

如利用具有以上構成的清洗裝置1，首先在利用上游側運送單元2A運送玻璃基板3期間，當對其左右兩邊的端面3a施行2次的研磨加工時，形成一種玻璃粉和研磨粉等異物在這些端面3a的微小凹部內堵塞的狀態。然後，藉由將該玻璃基板3向更下游側運送，而以上述的設定壓力從噴射噴嘴5使清洗水對這些端面3a進行噴射，且藉此使該端面3a的微小凹部內的異物被淘出並洗掉。這種異物的淘出作用，對玻璃基板3的左右兩邊的端面3a分別進行2次，所以使在該端面3a的微小凹部內所殘留的異物變得極其微量。

特別是在該實施形態下，來自噴射噴嘴5的清洗水7對玻璃基板3的端面3a是在從真正面衝擊的形態下進行噴射，所以即使為一根噴射噴嘴5，也可對該端面3a的全部區域效率良好地噴射清洗水，得到充分的異物淘出效果。但是，在這種情況下，因為清洗水7也與橡膠帶6直接接觸，所以有可能導致橡膠帶6的磨耗和因橡膠帶6的變形所引起之玻璃基板3的相對位置偏離等。

該玻璃基板3藉由在被運送到上游側運送單元2A的下游端時，利用旋轉裝置2X的動作而水平旋轉90°，然後由下游側運送單元2B進行運送，從而即可對玻璃基板3的剩餘的2邊上的端面3a，也與上述同樣地進行2次研磨、2次利用清洗水的異物的淘出。結果，對矩形玻璃基板3的4邊上的所有端面3a，形成在微小凹部內幾乎不存 在異物的狀態。這種處理可對多片玻璃基板3依序連續地進行。因此，即使在此後進行圖6所示那樣的已經說明的清洗處理及乾燥處理，也可使從玻璃基板3的端面3a滲出較多的異物，而在其表面及背面(特別是表面)上附著不合理的量的微粒之問題的產生概率，被盡可能地降低。

圖4所示為關於本發明的另一實施形態之清洗裝置的例子。如同圖所示，該清洗裝置1採用對玻璃基板3各邊的端面3a上的一處清洗水噴射部位，都從玻璃基板3的表面側和背面側利用一對噴射噴嘴5噴射清洗水的構成。詳細地說，採用使從該一對噴射噴嘴5所噴射的清洗水，對玻璃基板3的端面3a直接接觸的構成，且該清洗水7的噴射角度α，如存在於與該端面3a所在的邊的長邊方向直交之面內(與紙面平行的面內)，且以與玻璃基板3的表面及背面平行的直綫L作為基準，則對其表面及背面方向被設定為20°~70°。而且，在該一對噴射噴嘴5由硬質陶瓷構成方面，清洗水的噴射壓力為9.8~24.5MPa(較佳為14.7~24.5MPa)方面，及從各噴射噴嘴5的噴射口到端面3a的距離為2~30mm方面，與已經說明的實施形態相同。而且，清洗裝置1的全體構成也與圖1所示之已經說明的實施形態相同。

如利用這種構成，在玻璃基板3的端面如圖示那樣為圓弧狀的情況下，可對該端面3a的表面側的一半和背面側的一半，將來自一對噴射噴嘴5的清洗水7分別以適當的方向性進行噴射供給。而且，來自一對噴射噴嘴5的清洗 水7的噴射角度，以上述直綫L為基準被設定為20~70°，所以能夠回避清洗水7與橡膠帶6直接接觸，使橡膠帶6的磨耗和玻璃基板3的相對位置偏離等的產生概率變得極低。

而且，本發明者等為了確認使用具有這種構成的清洗裝置，對玻璃基板3的4邊的端面3a進行利用噴射噴嘴5的清洗之情況下的效果，進行以下所示那樣的實驗。即，對作為研磨處理進行只利用粗磨石4a的研磨之情況和利用粗磨石4a及微細磨石4b的研磨之情況進行比較，且對在兩者都不進行利用噴射噴嘴5的清洗之情況，和使噴射壓力為4.9MPa、9.8MPa、14.7MPa及19.6MPa而分別進行利用噴射噴嘴5的清洗之情況進行比較。當進行該比較時，在對玻璃基板3的端面3a進行了上述各個處理後，實行如圖6所示的清洗處理及乾燥處理，並對届時的向玻璃基板3的微粒的附著量分別進行檢測。其比較結果如圖5的標繪圖所示。在該標繪圖中，所說的「無微細」是指研磨處理只利用粗磨石4a進行的情況，「有微細」是指研磨處理利用粗磨石4a和微細磨石4b這兩者進行的情況，「無噴射」是指不進行利用噴射噴嘴5的清洗之情況。而且，縱軸的「%」所示的數值，為玻璃基板3的表面及背面上主要由玻璃粉構成之微粒的每單位面積的占有率(利用顯微鏡判定所推斷出的數值)，「MPa」所示的數值為噴射噴嘴5的噴射壓力。

根據上述的標繪圖，即使不進行利用微細磨石4b的 研磨，如利用噴射噴嘴5的噴射壓力在9.8MPa以上，則在微粒附著方面可得到良好的結果，如在14.7MPa以上，則可得到更加良好的結果。而且，在進行利用微細磨石4b的研磨之情況下，與不進行該研磨的情況相比，即使將利用噴射噴嘴5的噴射壓力為14.7MPa的情況作為一個例子，也可得到非常優良的結果。而且，在不進行噴射噴嘴5的清洗之情況下，無論是否進行利用微細磨石4b的研磨，都無法得到良好的結果。

另外，在該實施形態中，是在玻璃基板3各邊的端面3a上的一處清洗水噴射部位上，都設置一對噴射噴嘴5，但也可設置3根以上的噴射噴嘴5，且在這種情況下，使對上述的直綫L之噴射角度α較佳也包括0~20°。

而且，在以上的實施形態中，是使用由硬質陶瓷所構成的噴射噴嘴5，但也可取代它而使用由紅寶石、藍寶石或人造鑽石所構成的噴射噴嘴。

另外，在以上的實施形態中，所例示為利用粗磨石4a及微細磨石4b的研磨分別只進行1次之情況，但也可利用粗糙度不同的多個粗磨石及/或粗糙度不同的多個微細磨石，施行多次研磨加工。

本發明的玻璃基板清洗裝置及玻璃基板清洗方法，作為液晶顯示器、電漿顯示器、電致發光顯示器、場致發射顯示器等各種圖像顯示機器用的玻璃面板的製作中所使用之玻璃基板，和作為用於形成各種電子顯示機能元件和薄膜的基材被使用之玻璃基板那樣，要求高潔淨面之玻璃基 板的清洗用較為適當。

1‧‧‧玻璃基板清洗裝置

2A‧‧‧運送單元(上游側運送單元)

2B‧‧‧運送單元(下游側運送單元)

2X‧‧‧旋轉裝置

3‧‧‧玻璃基板

3a‧‧‧玻璃基板的端面

4a‧‧‧進行粗略的第1研磨加工的粗磨石

4b‧‧‧進行微細的第2研磨加工的微細磨石

5‧‧‧噴射噴嘴(液體噴射單元)

6‧‧‧橡膠帶(挾持構件)

7‧‧‧清洗水(清洗用液體)

A‧‧‧籃部

B‧‧‧清洗槽

C‧‧‧乾燥處理位置

G‧‧‧玻璃基板

L‧‧‧直綫

α‧‧‧噴射角度

圖1所示為關於本發明的實施形態之玻璃基板清洗裝置的全體構成的概略平面圖。

圖2所示為將關於本發明的實施形態之玻璃基板清洗裝置的要部簡略化的要部擴大斜視圖。

圖3所示為關於本發明的實施形態之玻璃基板清洗裝置的要部擴大縱斷正面圖。

圖4所示為關於本發明的另一實施形態之玻璃基板清洗裝置的要部擴大縱斷正面圖。

圖5所示為使用關於本發明的另一實施形態的玻璃基板清洗裝置，進行關於微粒附著的實驗之結果的標繪圖。

圖6為用於說明習知所進行的玻璃基板的清洗處理及乾燥處理之順序的概略圖。

圖7所示為向習知的玻璃基板之微粒附著狀態的正面圖。

3‧‧‧玻璃基板

3a‧‧‧玻璃基板的端面

5‧‧‧噴射噴嘴(液體噴射單元)

6‧‧‧橡膠帶(挾持構件)

7‧‧‧清洗水(清洗用液體)

L‧‧‧直綫

α‧‧‧噴射角度

Claims (23)

1. 一種玻璃基板清洗裝置，在玻璃基板製造工程中，以一片的玻璃基板為對象，利用清洗用液體清洗玻璃基板的被研磨的端面，其特徵在於：在維持使前述玻璃基板的被研磨的端面以及與該端面所連接的表面及背面的周邊部露出狀態，具備有液體噴射單元，其用於將清洗用液體，以為了將前述玻璃基板的被研磨之端面的微小凹部內存在的異物淘出所必需的噴射壓力，且不使玻璃基板損傷的噴射壓力，對該端面進行噴射，前述液體噴射單元指向前述玻璃基板的被研磨的端面而將前述清洗用液體噴射於該端面上，從前述液體噴射單元朝向前述端面噴射的前述清洗用液體以存在於與前述端面所在的邊的長邊方向直交之面內、且與前述玻璃基板的表面及背面平行、並通過前述玻璃基板的表面及背面方向的中心之直綫(L)作為基準，以成對稱之方式噴射於前述玻璃基板的表面及背面。
2. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元採用使清洗用液體與前述玻璃基板的被研磨的端面的全體區域直接抵接之構成。
3. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元採用從玻璃基板的被研磨之端面的外側，以存在於與該端面所在邊的長邊方向直交的面內且與該玻璃基板的表面及背面平行之直綫作為基準，在其表 面及背面方向上的角度為0~70°的範圍內，對前述端面噴射清洗用液體之構成。
4. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元採用從玻璃基板的被研磨之端面的外側，以存在於與該端面所在邊的長邊方向直交的面內且與該玻璃基板的表面及背面平行之直綫作為基準，在其表面及背面方向上的角度為0~70°的範圍內，對前述端面噴射清洗用液體之構成。
5. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元具有多根噴射噴嘴，其分別從該玻璃基板的表面側和背面側對前述玻璃基板的被研磨的端面噴射清洗用液體。
6. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元具有多根噴射噴嘴，其分別從該玻璃基板的表面側和背面側對前述玻璃基板的被研磨的端面噴射清洗用液體。
7. 如申請專利範圍第3項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元具有多根噴射噴嘴，其分別從該玻璃基板的表面側和背面側對前述玻璃基板的被研磨的端面噴射清洗用液體。
8. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元所噴射出的清洗用液體的噴射壓力為9.8~24.5MPa。
9. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基板清洗裝置， 其中從前述液體噴射單元所噴射出的清洗用液體的噴射壓力為9.8~24.5MPa。
10. 如申請專利範圍第3項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元所噴射出的清洗用液體的噴射壓力為9.8~24.5MPa。
11. 如申請專利範圍第5項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元所噴射出的清洗用液體的噴射壓力為9.8~24.5MPa。
12. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元的噴射口到前述玻璃基板的被研磨的端面之間的距離為2~30mm。
13. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元的噴射口到前述玻璃基板的被研磨的端面之間的距離為2~30mm。
14. 如申請專利範圍第3項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元的噴射口到前述玻璃基板的被研磨的端面之間的距離為2~30mm。
15. 如申請專利範圍第5項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元的噴射口到前述玻璃基板的被研磨的端面之間的距離為2~30mm。
16. 如申請專利範圍第8項所述的玻璃基板清洗裝置，其中從前述液體噴射單元的噴射口到前述玻璃基板的被研磨的端面之間的距離為2~30mm。
17. 如申請專利範圍第1項所述的玻璃基板清洗裝 置，其中前述液體噴射單元為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。
18. 如申請專利範圍第2項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。
19. 如申請專利範圍第3項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。
20. 如申請專利範圍第5項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。
21. 如申請專利範圍第8項所述的玻璃基板清洗裝置，其中前述液體噴射單元為由硬質陶瓷、紅寶石、藍寶石、人造鑽石中的任一種所構成的噴射噴嘴。
22. 一種玻璃基板清洗方法，在玻璃基板製造工程中，以一片的玻璃基板為對象，利用清洗用液體清洗玻璃基板的被研磨的端面，其特徵在於：在維持使前述玻璃基板的被研磨的端面以及與該端面所連接的表面及背面的周邊部露出狀態，將來自液體噴射單元的清洗用液體以高壓噴射於前述玻璃基板的被研磨的端面，將該端面的微小凹部內所存在的異物淘出時，前述液體噴射單元指向前述玻璃基板的被研磨的端面而將前述清洗用液體噴射於該端面上，從前述液體噴射單元朝向前述端面噴射的前述清洗 用液體以存在於與前述端面所在的邊的長邊方向直交之面內、且與前述玻璃基板的表面及背面平行、並通過前述玻璃基板的表面及背面方向的中心之直綫(L)作為基準，以成對稱之方式噴射於前述玻璃基板的表面及背面。
23. 一種玻璃基板清洗方法，其特徵在於：在玻璃基板製造工程中，以一片的玻璃基板為對象，對玻璃基板的端面，利用粗糙度不同的磨石施行多次的研磨加工，然後在玻璃基板製造工程中，在維持使前述玻璃基板的被研磨的端面以及與該端面所連接的表面及背面的周邊部露出狀態，藉由液體噴射單元指向前述玻璃基板的被研磨的端面而對該玻璃基板的端面以高壓噴射清洗用液體，並且藉由使從前述液體噴射單元朝向前述端面噴射的前述清洗用液體以存在於與前述端面所在的邊的長邊方向直交之面內、且與前述玻璃基板的表面及背面平行、並通過前述玻璃基板的表面及背面方向的中心之直綫(L)作為基準，以成對稱之方式噴射於前述玻璃基板的表面及背面，而使該端面的微小凹部內的異物淘出並洗掉。