CN101060938A - 玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法 - Google Patents

玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法 Download PDF

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Abstract

一种玻璃基板清洗装置，其具备液体喷射机构(5)，所述液体喷射机构(5)以冲出存在于玻璃基板(3)的经研磨的端面(3a)的微小凹部内的异物所需要的喷射压力且不损伤玻璃基板(3)的喷射压力向该端面(3a)喷射清洗用液体(7)。液体喷射机构(5)优选构成为使清洗用液体(7)与玻璃基板(3)的经研磨的端面(3a)的整个区域直接接触，其喷射压力设定为9.8～24.5MPa。

Description

玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法
技术领域
本发明涉及玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法，详细地说，涉及用于适当清洗玻璃基板的经研磨的端面的技术。
背景技术
众所周知，在制作液晶显示器、等离子体显示器、场致发光显示器、场致发射显示器等各种图像显示设备用的玻璃面板时，目前采用的方法是由一片原板玻璃制作出多片玻璃面板。而且，现状是，伴随于此由玻璃制造商等制造的原板玻璃的大板化技术正不断前进。
这些原板玻璃通常如下获得，即，在制造工序的最终阶段，对切断为矩形状且规定大小的玻璃基板的端面实施研磨加工，然后进行清洗处理及干燥处理而使该玻璃基板的表里面成为清洁的面，由此，作为最终制品而获得原板玻璃。即，由于玻璃基板的切断部分是锐利的，因此，若置之不理的话，则会导致如下的不良情况：受到轻微的冲击就会产生缺损，或者在输送时损伤邻接的其他玻璃基板等。为了避免这种情况，而对玻璃基板的切断端面实施所述的研磨加工(多数情况下也兼为倒角加工)。另外，各种图像显示设备用的原板玻璃尤其在表面上形成电子功能元件等，因此，要求维持高清洁度。为了应对这样的要求，对玻璃基板进行所述的清洗处理及干燥处理。
而且，若说明所述玻璃基板的清洗处理及干燥处理的具体一例，则如图6所示，首先，在能够于内外间流通清洗用液体(通常使用水)的筐A的内部，以垂直姿势并列收纳多片玻璃基板G。而且，使该筐A浸渍于清洗槽B所储存的80℃左右的温水，并使其沿上下方向等振动，从而从玻璃基板G上除去杂质或洗涤剂等。然后，从清洗槽B中取出该筐A并移载到干燥处理位置C，向玻璃基板G吹出温风而将其干燥。
如图7所示，完成了以上处理的玻璃基板G成为多个异物(颗粒)P附着于其上并无法被容易地除去的状态，尤其在玻璃基板G的表里面的一边的周边部H成为异物的附着密度高的状态。这种现象产生的原因如下：在对玻璃基板G的四边的切断端面实施研磨加工时，该端面不形成为镜面，必然形成为具有微小凹凸的面，因此，在该端面的微小凹部内堆积玻璃粉或研磨粉，在清洗处理时它们渗出，在干燥处理时它们作为颗粒P析出在玻璃基板G的表里面上。而且，在清洗处理时及干燥处理时，玻璃基板G保持为垂直姿势，因此，此时颗粒P集中并附着在玻璃基板G的上端所存在的一边的周边部H。
本发明人等通过进行一直以来钻研的所述清洗处理及干燥处理而获得这样的结论。另外，本发明人等尝试了进行超声波清洗来作为所述清洗处理，但是即使如此，也无法充分排除颗粒向玻璃基板上的附着，不仅如此，为了从玻璃基板的端面除去一定量的玻璃粉末或研磨粉，还要不恰当地需要长时间，从而存在生产率极其恶化这一根本问题。
还有，虽然不是与所述清洗处理相关的技术，但是根据下述的专利文献1(参照图3)，公开了如下的技术，即，在用倒角磨石研磨玻璃基板的端面的工序中，从高压喷雾嘴吹出高压水的技术，以及，同样在该研磨工序中，从洒水机构的洒水口向玻璃基板的周缘供给切削水的技术。另外，根据下述专利文献2，公开了如下的技术，即，利用从喷水嘴喷射的超高压水，对从母基板(原板玻璃)或粘附(stick)基板切出的液晶面板的角部进行倒角。
专利文献1：特开平8-12361号公报
专利文献2：特开2002-292569号公报
另外，近年来，以液晶显示器为代表的显示设备的高精细化不断进步，伴随于此，对玻璃基板(原板玻璃)清洁度的要求也越来越严格。但即便如此，如之前所述，由于颗粒P集中并附着在玻璃基板G的一边的周边部H，因此也导致如下的不良情况：无法应对清洁度的严格要求，不仅制品价值下降，也不耐于使用，从而成为不良品。
而且，所述玻璃基板在从其制造商提供给其他显示器制造商等后，再次由该其他制造商进行清洗处理及干燥处理，因此，若异物依然堆积在玻璃基板的经研磨的端面的微小凹部内，则不仅限于所述例示的玻璃基板G的一边的周边部H，颗粒还集中并附着在其他边的周边部，从而导致同样的不良情况。
还有，根据所述专利文献1公开的技术，可以预测来自高压喷雾嘴的高压水向玻璃基板的研磨中的端面供给的情况，但是如该文献的段落[0019]中记载所述，该高压水被吹向倒角磨具的磨削部，用于防止该磨削部的堵塞。因而，假使该高压水暂时与倒角磨具的磨削部碰撞后，到达了玻璃基板的端面，水相对于该端面的供给压力也极其小。因此，即使玻璃粉或研磨粉等异物堆积在该端面的微小凹部内，也终究无法以所述水的冲劲将该异物冲出，从而无法解决所述的颗粒附着的问题。
另外，所述专利文献2公开的技术如下：超高压水从液晶面板的表面侧朝向外方喷射到其角部，因此，超高压水的喷射部位实质上是玻璃基板的角部的表面而不是端面。而且，该技术不是以玻璃基板为对象而是以液晶面板为对象，且考虑到切除液晶面板的角部的情况，则以此也终究无法解决所述的颗粒附着问题。
发明内容
本发明正是鉴于所述问题而实现的，其技术课题在于迅速且适当地清洗玻璃基板的经研磨的端面，正确地处理玻璃基板的尤其表面的颗粒附着的问题。
为了解决所述技术问题而提出的本发明提供一种玻璃基板清洗装置，其通过清洗用液体清洗玻璃基板的经研磨的端面，其特征在于，具备液体喷射机构，所述液体喷射机构以冲出存在于所述玻璃基板的经研磨的端面的微小凹部内的异物所需要的喷射压力且不损伤玻璃基板的喷射压力向该端面喷射清洗用液体。
在此，所述“冲出存在于端面的微小凹部内的异物所需要的喷射压力”并不一定意味着冲出存在于该端面的所有微小凹部内的所有异物所需要的喷射压力，而是意味着只要是冲出存在于该端面的相当数目的微小凹部内的相当量的异物所需要的喷射压力即可。另外，所述“不损伤玻璃基板的喷射压力”是指不赋予切除玻璃基板的该端面周边或者使玻璃基板产生不当的变形而产生裂纹或缺损等损伤的喷射压力。还有，作为所述“清洗用液体”，多使用水。
根据这样的结构，从液体喷射机构喷射的清洗用液体以适当的喷射压力相对于玻璃基板的经研磨的端面进行供给，由此，堆积在该端面的微小凹部内的玻璃粉或研磨粉等异物被清洗用液体冲出从而洗掉。因而，之后例如以清洗玻璃基板的表里面为目的而进行清洗处理或干燥处理时，异物也会从玻璃基板的该端面渗出，在该表里面(尤其表面)析出，抑制作为颗粒以难以除去的状态进行附着的情况。而且，从液体喷射机构喷射的清洗用液体以使玻璃基板损伤之类的不当的高压力向该端面喷射供给的情况得到阻止，因此，例如即使相对于0.5～0.7mm左右的极其薄壁的液晶显示器用的玻璃基板，也不会产生导致裂纹或缺损之类的不当变形，另外，也不会产生例如该端面的角部在清洗用液体的喷射冲劲的作用下被切除等不良情况。其结果是，即使在以液晶显示器为代表的显示设备的高精细化不断进展的现状下，也能够满足对玻璃基板(原板玻璃)的清洁度的严格要求，不仅制品价值提高，而且不良品的产生概率急剧减少，生产率大幅提高。
此时，所述液体喷射机构优选构成为：使清洗用液体与玻璃基板的经研磨的端面的整个区域直接接触。
在此，所述“直接接触”意味着排除了通过使清洗用液体与玻璃基板以外的其他构件接触而使清洗用液体在喷射的冲劲不当变弱的状态下与该端面接触这一情况，例如，使清洗用液体在喷射冲劲未不当变弱的状态下与调整清洗用液体的喷射方向的引导构件接触而向该端面喷射的情况、或使多条清洗用液体的喷射流在未不当变弱的状态下合流后与该端面接触的情况都包含于“直接接触”中。于是，由于在清洗用液体从液体喷射机构喷射并到达玻璃基板的端面的期间其冲劲几乎不变弱，因此，可高效地冲出异物，并且能够在玻璃基板的表面及里面的整个区域抑制颗粒的附着。
另外，所述液体喷射机构优选构成为：从玻璃基板的经研磨的端面的外侧，以存在于与其上存在有该端面的边的纵向正交的面内且与该玻璃基板的表里面平行的直线为基准，在其表里方向上的角度为0～70°的范围内向所述端面喷射清洗用液体。
于是，清洗用液体相对于玻璃基板的该端面的喷射方向不仅来自该端面的外侧，而且相对于存在于与其上存在有该端面的边的纵向正交的面内的直线且与该玻璃基板的表里面平行的直线，在其表里方向具有0～70°的角度。而且，若该角度超过70°，则清洗用液体与玻璃基板的端面接触时的冲击力(冲撞时的压力)变小，从而存在难以进行异物的冲出作用之患。因而，该角度优选是70°以下。另外，若该角度是0～20°，则清洗用液体的冲击力变大，异物的冲出作用变得充分。但是，若是这样的角度范围，则例如导致高压的清洗用液体与对玻璃基板的端面附近进行夹持固定的橡胶带等夹持构件直接接触的情况，从而夹持构件因清洗用液体的接触而产生磨损或损伤的概率变高，并且在玻璃基板和夹持构件之间产生相对的位置偏离，从而存在玻璃基板容易脱落的难点。若考虑这种情况，则所述角度更优选是20～70°。
进而，所述液体喷射机构优选具备对玻璃基板的经研磨的端面从该玻璃基板的表面侧和里面侧分别喷射清洗液用液体的多根喷射嘴。
于是，由于清洗用液体通过多根喷射嘴从玻璃基板的表面侧及里面侧分别向该端面喷射供给，因此，可容易且可靠地进行相对于该端面整个区域的异物冲出作用，从而能够进一步适当处理颗粒附着的问题。而且，在避免因高压的清洗用液体与已述的橡胶带等夹持构件直接接触而导致的该夹持构件的磨损或损伤、及玻璃基板的相对位置偏离等上也是极其有利的。
在以上的结构中，从所述液体喷射机构喷射的清洗用液体的喷射压力优选是9.8～24.5MPa。
即，若清洗用液体的喷射压力不足9.8MPa，则难以从玻璃基板的端面的微小凹部内冲出充分量的异物，从而存在依然残存颗粒的附着问题之患。相对于此，若该喷射压力超过24.5MPa，则例如在液晶显示器的玻璃基板之类壁厚为1mm以下(0.5～0.7mm左右)较薄的情况下，存在在玻璃基板的端面周边产生不当变形从而产生裂纹或缺损、或者在超高压的清洗用液体的作用下该端面周边被切除之患。因而，该喷射压力优选存在于所述数值范围内。若考虑以上的情况，则所述喷射压力更优选是14.7～24.5MPa。
另外，在以上的结构中，从所述液体喷射机构的喷射口至玻璃基板的经研磨的端面的距离优选是2～30mm。
于是，在从液体喷射机构的喷射口喷射的清洗用液体到达了玻璃基板的端面上的时点，清洗用液体的喷流径及供给压力维持为适当的值。即，若所述距离不足2mm，则清洗用液体的喷流径变得过于细径，从而存在在该端面的整个区域上异物的冲出作用变得不均匀之患，另外，若所述距离超过30mm，则清洗用液体过于扩径，从而存在在到达了该端面的时点清洗用液体的供给压力变得不充分之患。因而，该距离优选存在于所述数值范围内。
进而，在以上的结构中，所述液体喷射机构优选是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
即，基于从喷射嘴的喷射口喷射高压的清洗用液体这一关系考虑，例如若是金属制的喷射嘴，则尤其在喷射口周边喷孔在短时间内因磨损等而减少，从而耐久性极其恶化，但是若是由所述硬质陶瓷等构成的喷射嘴，则不产生这样的情况，从而能够经得起长年之类的长期使用。另外，由不锈钢构成的喷射嘴的寿命是1小时左右，由超硬合金构成的情况下是48小时左右，由硬质陶瓷构成的情况下是3个月左右。
在具备以上结构的玻璃基板清洗装置中，还可具备以水平姿势沿水平方向输送所述玻璃基板的输送机构，并且所述液体喷射机构分别配置在与该输送机构输送玻璃基板的输送路径的输送方向正交的方向的两侧。
于是，在用输送机构以水平姿势顺次输送玻璃基板的期间，相对于在与各玻璃基板的输送方向正交的方向的两侧存在的一对边的经研磨的端面，分别从液体喷射机构喷射清洗用液体，从而从各玻璃基板的两边的端面冲出异物。因而，不是相对于多个玻璃基板进行超声波清洗的情况之类的分批处理，而是进行连续处理，从而可缩短该端面的清洗处理所需要的时间。还有，还可具备以垂直姿势沿垂直方向输送玻璃基板的输送机构，进行同样的处理。
此时，也可以构成为：在所述玻璃基板的输送路径的途中该玻璃基板水平旋转90°，并且在该水平旋转前及水平旋转后中任一期间相对于所述玻璃基板的经研磨的端面从所述液体喷射机构喷射清洗用液体。
于是，在使玻璃基板水平旋转90°前，如上所述相对于被输送机构顺次输送的各玻璃基板的两边的端面喷射清洗用液体，水平旋转后，相对于同样被其他输送机构顺次输送的这些玻璃基板的剩余的两边的端面喷射清洗用液体，由此，能够从玻璃基板的四边所有的端面冲出异物。而且，这样还能够通过连续处理来进行异物从玻璃基板的四边的端面被冲出的作业。
另一方面，为了解决所述技术问题而提出的本发明的方法是通过清洗用液体清洗玻璃基板的经研磨的端面的玻璃基板清洗方法，其特征在于，以高压向所述玻璃基板的经研磨的端面喷射清洗用液体，冲出存在于该端面的微小凹部内的异物。
根据该方法，由于可解决不当量的颗粒附着在玻璃基板的表里面(尤其表面)上的问题，因此，在以液晶显示器为代表的显示设备的高精细化不断进步的现状下，也能够满足对玻璃基板(原板玻璃)的清洁度的严格要求，不仅制品价值提高，而且不良品的产生概率急剧减少，生产率大幅提高。
进而，为了解决所述技术问题而提出的本发明的玻璃基板清洗方法的特征在于，采用粗糙度不同的磨具对玻璃基板的端面实施多次研磨加工，然后以高压向该玻璃基板的端面喷射清洗用液体，由此冲出并洗掉该端面的微小凹部内的异物。
根据该方法，若相对于玻璃基板的端面实施多次研磨加工，则与只实施一次研磨加工的情况相比，存在于该端面的微小凹部内的异物的量的总和减少，这样相对于异物的量减少的该端面以高压喷射清洗用液体而冲出异物，由此，残存于该端面上的异物的量大幅减少。因而，玻璃基板的颗粒附着问题被进一步可靠地解决。还有，第一次研磨加工优选兼为倒角加工，另外，第二次以后的研磨加工也可以兼为倒角加工。
如上所述根据本发明，从液体喷射机构喷射的清洗用液体相对于玻璃基板的经研磨的端面以适当的喷射压力被供给，存在于该端面的微小凹部内的异物被冲出而洗掉，因此，之后异物从玻璃基板的该端面渗出并向其尤其表面析出，从而能尽可能地抑制作为颗粒以难以除去的状态进行附着的情况。而且，从液体喷射机构喷射的清洗用液体以使玻璃基板损伤之类的不当的高压力向该端面喷射供给的情况得到阻止，因此，不产生导致裂纹或缺损之类的不当变形，另外，也不会产生该端面的角部在清洗用液体的喷射冲劲的作用下被切除等不良情况。其结果是，即使在以液晶显示器为代表的显示设备的高精细化不断进展的现状下，也能够满足对玻璃基板(原板玻璃)的清洁度的严格要求，不仅制品价值提高，而且不良品的产生概率急剧减少，生产率大幅提高。
附图说明
图1是表示本发明实施方式的玻璃基板清洗装置的整体结构的概略俯视图；
图2是简化表示本发明实施方式的玻璃基板清洗装置的要部的要部放大立体图；
图3是表示本发明实施方式的玻璃基板清洗装置的要部的放大纵剖主视图；
图4是表示本发明其他实施方式的玻璃基板清洗装置的要部的放大纵剖主视图；
图5是表示使用本发明其他实施方式的玻璃基板清洗装置来进行与颗粒附着相关的实验的结果的图表；
图6是用于说明以往进行的玻璃基板的清洗处理及干燥处理的顺序的概略图；
图7是表示以往的颗粒向玻璃基板上的附着状态的主视图。
图中：1-玻璃基板清洗装置；2A-输送机构(上游侧输送机构)；2B-输送机构(下游侧输送机构)；3-玻璃基板；3a-玻璃基板的端面；4a-进行粗第一研磨加工的粗磨具；4b-进行微细第二研磨加工的微细磨具；5-喷射嘴(液体喷射机构)；6-橡胶带(夹持构件)；7-清洗水(清洗用液体)；L-直线；α-喷射角度。
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的实施方式。
首先，基于图1所示的概略俯视图，说明本发明实施方式的玻璃基板清洗装置的整体结构。如该图所示，玻璃基板清洗装置(以下，简称为清洗装置)1通过上游侧输送机构2A以水平姿势沿水平方向(该图的右方向)输送玻璃基板3，并且通过在其下游端邻接的旋转机构2X使玻璃基板3进行90°水平旋转，进而通过在其下游侧邻接的下游侧输送机构2B以水平姿势沿相同方向输送水平旋转后的玻璃基板3。还有，由这些输送机构2A、2B输送的玻璃基板3由液晶显示器用的原板玻璃构成，厚度是0.7mm。
在上游侧输送机构2A的输送路径上的左右两侧(与输送方向正交的方向的两侧)，从上游侧顺次配置有对于玻璃基板3的左右两边的端面3a相对实施粗第一研磨加工的一对粗磨具4a、相对实施微细第二研磨加工的微细磨具4b、对于玻璃基板3的左右两边的经研磨的各端面3a喷射清洗水的二对液体喷射机构(喷射嘴)5。还有，在下游侧输送机构2B的输送路径上的左右两侧也同样配置有粗磨具4a、微细磨具4b及喷射嘴5。
因而，对于在由上游侧输送机构2A输送的玻璃基板3的左右两边的全长上的各自的端面3a，用磨粒的粒度为#300～#500的粗磨具4a和磨粒的粒度为#800～#4000的微细磨具4b，实施2阶段的研磨加工后，从喷射嘴5喷射供给2次清洗水。还有，对于在由下游侧输送机构2B输送的玻璃基板3的剩余的两边的全长上的各自的端面3a也实施同样的处理。
图2是详细地表示上游侧输送机构2A的周边结构的要部立体图(下游侧输送机构2B的周边结构也同样)，为了便于说明，例示了在输送路径的左右两侧仅配置有一对喷射嘴5的状态。如该图所示，玻璃基板3在其左右两边的端面3a附近分别被各一对带状夹持构件(橡胶带)6以从上下夹持的状态沿箭头方向被输送，从该玻璃基板3的左右两边的端面3a的外侧区域通过喷射嘴5对各端面3a分别喷射清洗水7。
若详述，则如图3所示，玻璃基板3的端面3a在所述2次研磨加工下被实施了倒角处理，从而截面呈圆弧状(凸状的圆弧状)。具体地，该端面3a被粗磨具4a形成为大致剖面圆弧状后，主要用微细磨具4b进行减小表面粗糙度的研磨。然后，来自喷射嘴5的清洗水7与玻璃基板3的端面3a直接接触，若以存在于与其上存在该端面3a的边的纵向正交的面内(与纸面平行的面内)且与玻璃基板3的表里面平行的直线L为基准，则该清洗水7的喷射角度设定为0°。
进而，喷射嘴5包括喷孔的形成部且由硬质陶瓷构成，并且基于喷射嘴5的清洗水7的喷射压力是9.8～24.5MPa，优选是14.7～24.5MPa，从喷射嘴5的喷射口至端面3a的距离设定为2～30mm。
根据具备以上结构的清洗装置1，首先在由上游侧输送机构2A输送玻璃基板3的期间，在对于其左右两边的端面3a实施了2次研磨加工的时点，成为玻璃粉或研磨粉等异物堆积在这些端面3a的微小凹部内的状态。而且，通过该玻璃基板3被进一步向下游侧输送，清洗水7以所述规定压力相对于这些端面3a从喷射嘴5喷射，由此，冲出并洗掉该端面3a的微小凹部内的异物。这样的异物冲出作用在玻璃基板3的左右两边的端面3a分别进行2次，因此，残存于该端面3a的微小凹部内的异物变得极其微量。
尤其，在该实施方式中，来自喷射嘴5的清洗水7以完全从正面与玻璃基板3的端面3a冲撞的方式喷射，因此，即使是一根喷射嘴5也能够高效地向该端面3a的整个区域喷射清洗水7，从而能够得到充分的异物冲出效果。但是，此时，由于清洗水7也与橡胶带6直接接触，因此，有可能导致橡胶带6的磨损或因橡胶带6的变形而引起的玻璃基板3的相对位置偏离等不良情况。
该玻璃基板3在被输送到上游侧输送机构2A的下游端的时点，在旋转机构2X的动作作用下90°水平旋转，然后，被下游侧输送机构2B输送，由此，对于玻璃基板3的剩余的两边的端面3a也与所述同样进行2次研磨和2次基于清洗水的异物冲出。其结果是，在矩形的玻璃基板3的四边的所有端面3a上，成为异物几乎不残存在微小凹部内的状态。这样的处理相对于多片玻璃基板3顺次连续地进行。因而，即使之后进行如图6所示的已述清洗处理及干燥处理，大量的异物从玻璃基板3的端面3a渗出，从而不当量的颗粒附着在其表里面(尤其表面)上这一情况的产生概率也能够尽可能地被降低。
图4是例示本发明的其他实施方式的清洗装置的图。如该图所示，该清洗装置1按玻璃基板3的各边的端面3a的一个部位的清洗水喷射部位，从玻璃基板3的表面侧和里面侧通过一对喷射嘴5来喷射清洗水。若详述，则从该一对喷射嘴5喷射的清洗水与玻璃基板3的端面3a直接接触，若以存在于与其上存在该端面3a的边的纵向正交的面内(与纸面平行的面内)且与玻璃基板3的表里面平行的直线L为基准，则该清洗水7的喷射角度α相对于该表里方向设定为20～70°。另外，该一对喷射嘴5由硬质陶瓷构成，清洗水7的喷射压力是9.8～24.5MPa(优选是14.7～24.5MPa)，且从各喷射嘴5的喷射口至端面3a的距离是2～30mm，在这些点上，与已述的实施方式相同。另外，清洗装置1的整体结构也与图1所示的已述实施方向相同。
根据这样的结构，在玻璃基板3的端面如图所示是圆弧状的情况下，能够相对于该端面3a的表面侧的一半和里面侧的一半，将来自一对喷射嘴5的各自的清洗水7以适当的方向性喷射供给。而且，来自一对喷射嘴5的清洗水7的喷射角度α以所述直线L为基准设定为20～70°，因此，能够避免清洗水7与橡胶带6直接接触，从而橡胶带6的磨损或玻璃基板3的相对位置偏离等的产生概率变得极其低。
而且，本发明人等为了确认使用具备这种结构的清洗装置1对玻璃基板3的四边的端面3a进行了基于喷射嘴5的清洗时的效果，进行了以下所示的实验。即，比较了作为研磨处理进行了只基于粗磨具4a的研磨的情况、和进行了基于粗磨具4a及微细磨具4b的研磨的情况，并且比较了在该双方中都不进行基于喷射嘴5的清洗的情况、和以4.9MPa、9.8MPa、14.7MPa及19.6MPa的喷射压力分别进行了基于喷射嘴5的清洗的情况。在该比较时，对于玻璃基板3的端面3a进行所述各种处理后，执行图6所示的清洗处理及干燥处理，并分别检测出此时的颗粒向玻璃基板3上的附着量。图5的图表表示其比较结果。在该图表中，所谓“无微细”意味着只利用粗磨具4a进行研磨处理的情况，所谓“有微细”意味着利用粗磨具4a和微细磨具4b这两者进行研磨处理的情况，所谓“无喷射”意味着不进行基于喷射嘴5的清洗的情况。另外，纵轴的以“％”表示的数值是玻璃基板3的表里面的主要由玻璃粉构成的颗粒的每单位面积的占有率(通过显微镜判定而算出的数值)，以“MPa”表示的数值是喷射嘴5的喷射压力。
根据所述图表，即使不进行基于微细磨具4b的研磨，若基于喷射嘴5的喷射压力是9.8MPa以上，则可得到关于颗粒附着的良好效果，若是14.7MPa以上，则可得到更良好的结果。另外，当进行了基于微细磨具4b的研磨时，与不进行其的情况比较，例如即使以基于喷射嘴5的喷射压力是14.7MPa的情况为一例，也可得到远远优越的结果。而且，在不进行基于喷射嘴5的清洗的情况下，无论进行基于微细磨具4b的研磨与否，都无法得到良好的结果。
还有，在该实施方式中，按玻璃基板3的各边的端面3a的一部位的清洗水喷射部位，配置有一对喷射嘴5，但是，也可以配置3根以上喷射嘴5，此时，优选相对于所述直线L的喷射角度α也包括0～20°。
另外，在以上的实施方式中，使用了由硬质陶瓷构成的喷射嘴5，但是，也可以不使用它而使用由红宝石、蓝宝石或人造金刚石构成的喷射嘴。
进而，在以上的实施方式中，例示了分别各进行一次基于粗磨具4a及微细磨具4b的研磨的情况，但是，也可以采用粗糙度不同的多个粗磨具及/或粗糙度不同的多个微细磨具，实施多次研磨加工。
(产业上的可利用性)
本发明的玻璃基板清洗装置及玻璃基板清洗方法作为在液晶显示器、等离子体显示器、场致发光显示器、场致发射显示器等各种图像显示设备用的玻璃面板的制作中采用的玻璃基板、或作为用于形成各种电子显示功能元件或薄膜的基材而采用的玻璃基板之类的、要求高清洁面的玻璃基板的清洗用是优选的。

Claims (24)

1.一种玻璃基板清洗装置，其通过清洗用液体清洗玻璃基板的经研磨的端面，其特征在于，
具备液体喷射机构，所述液体喷射机构以冲出存在于所述玻璃基板的经研磨的端面的微小凹部内的异物所需要的喷射压力且不损伤玻璃基板的喷射压力向该端面喷射清洗用液体。
2.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构构成为：使清洗用液体与所述玻璃基板的经研磨的端面的整个区域直接接触。
3.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构构成为：从玻璃基板的经研磨的端面的外侧，以存在于与其上存在有该端面的边的纵向正交的面内且与该玻璃基板的表里面平行的直线为基准，在其表里方向上的角度为0～70°的范围内向所述端面喷射清洗用液体。
4.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构构成为：从玻璃基板的经研磨的端面的外侧，以存在于与其上存在有该端面的边的纵向正交的面内且与该玻璃基板的表里面平行的直线为基准，在其表里方向上的角度为0～70°的范围内向所述端面喷射清洗用液体。
5.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构具备对所述玻璃基板的经研磨的端面从该玻璃基板的表面侧和里面侧分别喷射清洗液用液体的多根喷射嘴。
6.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构具备对所述玻璃基板的经研磨的端面从该玻璃基板的表面侧和里面侧分别喷射清洗液用液体的多根喷射嘴。
7.如权利要求3所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构具备对所述玻璃基板的经研磨的端面从该玻璃基板的表面侧和里面侧分别喷射清洗液用液体的多根喷射嘴。
8.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构喷射的清洗用液体的喷射压力是9.8～24.5MPa。
9.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构喷射的清洗用液体的喷射压力是9.8～24.5MPa。
10.如权利要求3所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构喷射的清洗用液体的喷射压力是9.8～24.5MPa。
11.如权利要求5所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构喷射的清洗用液体的喷射压力是9.8～24.5MPa。
12.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构的喷射口至所述玻璃基板的经研磨的端面的距离是2～30mm。
13.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构的喷射口至所述玻璃基板的经研磨的端面的距离是2～30mm。
14.如权利要求3所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构的喷射口至所述玻璃基板的经研磨的端面的距离是2～30mm。
15.如权利要求5所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构的喷射口至所述玻璃基板的经研磨的端面的距离是2～30mm。
16.如权利要求8所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
从所述液体喷射机构的喷射口至所述玻璃基板的经研磨的端面的距离是2～30mm。
17.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
18.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
19.如权利要求3所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
20.如权利要求5所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
21.如权利要求8所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
所述液体喷射机构是由硬质陶瓷、红宝石、蓝宝石、人造金刚石中任一种构成的喷射嘴。
22.如权利要求1～21中任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于，
还具备以水平姿势沿水平方向输送所述玻璃基板的输送机构，并且所述液体喷射机构分别配置在与该输送机构输送玻璃基板的输送路径的输送方向正交的方向的两侧。
23.一种玻璃基板清洗方法，通过清洗用液体清洗玻璃基板的经研磨的端面，其特征在于，
以高压向所述玻璃基板的经研磨的端面喷射清洗用液体，冲出存在于该端面的微小凹部内的异物。
24.一种玻璃基板清洗方法，其特征在于，
采用粗糙度不同的磨具对玻璃基板的端面实施多次研磨加工，然后以高压向该玻璃基板的端面喷射清洗用液体，由此冲出并洗掉该端面的微小凹部内的异物。
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