JPS6180156A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPS6180156A JPS6180156A JP59201461A JP20146184A JPS6180156A JP S6180156 A JPS6180156 A JP S6180156A JP 59201461 A JP59201461 A JP 59201461A JP 20146184 A JP20146184 A JP 20146184A JP S6180156 A JPS6180156 A JP S6180156A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- glass substrate
- cleaned
- main surface
- cleaning machine
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラス、セラミツ２２１石英ガラス等の硬脆材
料からなる被洗浄物、特に半導体産業に使用されるフォ
トマスク用ガラス基板の洗浄に用いて好適な洗浄装置に
関する。
料からなる被洗浄物、特に半導体産業に使用されるフォ
トマスク用ガラス基板の洗浄に用いて好適な洗浄装置に
関する。
従来から半導体産業に使用されるフォトマスクブランク
等の基板製造において、フォトマスク用ガラス基板（以
下ガラス基板と称す）の主表面（表裏面）を、平面加工
装置により水にｃ＠０２等の研摩剤を加えた研摩液で研
摩して高い平面精度に仕上げ、後工程として研摩剤等の
異物を除去するためにブラシ等の摩擦材料を用いたスク
ラブ洗浄機でガラス基板の主表面を洗浄している。この
洗浄機による洗浄方法としては第２図（Ａ）〜（ｄ）に
示すように４つの方法が広く採用されている。すなわち
同図（−）は被洗浄物としてのガラス基板１とカップ型
ブラシ２を互いに逆方向に移動させ、ブラシ２でガラス
基板１の主表面を洗浄するようにしたもの、同図（ト）
）は皿形の回転ステージ４上に配置したガラス基板１を
円筒型ブラシ５で洗浄するようにしたもの、同図（ＣＩ
） （Ｃｌｌ）はガラス基板１を挾んで左右２対づつ合
計４個のカップ型ブラシ２と、左右一対の円筒型ブラシ
５を有し、ガラス基板１を回転させながらその主表面を
同時に洗浄するようにしたもの、そして同図（ｄ）は回
転ステージ６上に配置したガラス基板１を円筒型ブラシ
５と洗浄剤噴射ノズル７で洗浄するようにしたものであ
る。
等の基板製造において、フォトマスク用ガラス基板（以
下ガラス基板と称す）の主表面（表裏面）を、平面加工
装置により水にｃ＠０２等の研摩剤を加えた研摩液で研
摩して高い平面精度に仕上げ、後工程として研摩剤等の
異物を除去するためにブラシ等の摩擦材料を用いたスク
ラブ洗浄機でガラス基板の主表面を洗浄している。この
洗浄機による洗浄方法としては第２図（Ａ）〜（ｄ）に
示すように４つの方法が広く採用されている。すなわち
同図（−）は被洗浄物としてのガラス基板１とカップ型
ブラシ２を互いに逆方向に移動させ、ブラシ２でガラス
基板１の主表面を洗浄するようにしたもの、同図（ト）
）は皿形の回転ステージ４上に配置したガラス基板１を
円筒型ブラシ５で洗浄するようにしたもの、同図（ＣＩ
） （Ｃｌｌ）はガラス基板１を挾んで左右２対づつ合
計４個のカップ型ブラシ２と、左右一対の円筒型ブラシ
５を有し、ガラス基板１を回転させながらその主表面を
同時に洗浄するようにしたもの、そして同図（ｄ）は回
転ステージ６上に配置したガラス基板１を円筒型ブラシ
５と洗浄剤噴射ノズル７で洗浄するようにしたものであ
る。
しかし、前述した従来の洗浄方法はいずれもガラス基板
１の主表面をもっばら洗浄するだけで、ガラス基板１の
側面に付着した研摩剤等の異物に対しては十分除去でき
ないという不都合があった。
１の主表面をもっばら洗浄するだけで、ガラス基板１の
側面に付着した研摩剤等の異物に対しては十分除去でき
ないという不都合があった。
特に、ガラス基板１の板厚が厚くなると、異物の残存が
著しく、また搬送装置のガイド等と接するガラス基板の
側面においても同様に除去できないという不都合があっ
た。
著しく、また搬送装置のガイド等と接するガラス基板の
側面においても同様に除去できないという不都合があっ
た。
その結果、フォトマスク用ガラス基板の製造工程では、
前述した異物が後工程のフォトリゾダラフイ工程に持ち
込まれピンホールやパターン欠けなどの不良を誘発埒せ
る欠点があった。しかもこのような欠点はＩＣ，ＬＳＩ
、ＶＬＳＩ へと集積度か増え、パターンの線幅が細密
化していくにしたがい顕著に現われる。
前述した異物が後工程のフォトリゾダラフイ工程に持ち
込まれピンホールやパターン欠けなどの不良を誘発埒せ
る欠点があった。しかもこのような欠点はＩＣ，ＬＳＩ
、ＶＬＳＩ へと集積度か増え、パターンの線幅が細密
化していくにしたがい顕著に現われる。
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、ガラス
基板等の被洗浄物の側面に付着した異物に対しても主表
面と同様、確実に除去できるように洗浄装置を提供する
ものである。
基板等の被洗浄物の側面に付着した異物に対しても主表
面と同様、確実に除去できるように洗浄装置を提供する
ものである。
本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物を洗浄位置に搬送す
る搬送装置と、相対向して設けられ被洗浄物の主表面を
洗浄する主表面洗浄機と、相対向して設けられ被洗浄物
の移動方向と平行な２つの側面を洗浄する第１の側面洗
浄機と、相対向して設けられ被洗浄物の移動方向と直交
する２つの側面を洗浄する第２の側面洗浄機とを設けた
ものである。
る搬送装置と、相対向して設けられ被洗浄物の主表面を
洗浄する主表面洗浄機と、相対向して設けられ被洗浄物
の移動方向と平行な２つの側面を洗浄する第１の側面洗
浄機と、相対向して設けられ被洗浄物の移動方向と直交
する２つの側面を洗浄する第２の側面洗浄機とを設けた
ものである。
本発明においては主表面洗浄機と、第１および第２の側
面洗浄機とを備えているので、被洗浄物の６面すべてを
洗浄することができる。
面洗浄機とを備えているので、被洗浄物の６面すべてを
洗浄することができる。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図（ａ） 、 （ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第
１実施例で、洗浄前の状態を示す正面図および平面図で
ある同図において、３０は被洗浄物としてのガラス基板
、４０はガラス基板３０の主表面を洗浄する主表面洗浄
機、５０はガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向）と
平行な両側面を洗浄する第１の側面洗浄機、６０はガラ
ス基板３０の移動方向と直交する両側面を洗浄する第２
の側面洗浄機、７０．７１は洗浄液としての中性洗剤を
噴射するノズル、Ｂは前記洗浄機４０，５０．６０およ
びノズル７０．７１が配役ちれた洗浄位置である。
１実施例で、洗浄前の状態を示す正面図および平面図で
ある同図において、３０は被洗浄物としてのガラス基板
、４０はガラス基板３０の主表面を洗浄する主表面洗浄
機、５０はガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向）と
平行な両側面を洗浄する第１の側面洗浄機、６０はガラ
ス基板３０の移動方向と直交する両側面を洗浄する第２
の側面洗浄機、７０．７１は洗浄液としての中性洗剤を
噴射するノズル、Ｂは前記洗浄機４０，５０．６０およ
びノズル７０．７１が配役ちれた洗浄位置である。
ガラス基板３０はソーダライムガラス、アルミノシリケ
ートガラス、石英ガラス等を素材として、例えば１２７
Ｘ １２７ Ｘ ２．３ ｒｍの太き埒に形成でれる
ことにより、第３図に示すように６つの面、すなわち２
つの主表面３１Ａ、３１Ｂと、４つの側面３２Ａ、３２
Ｂ。
ートガラス、石英ガラス等を素材として、例えば１２７
Ｘ １２７ Ｘ ２．３ ｒｍの太き埒に形成でれる
ことにより、第３図に示すように６つの面、すなわち２
つの主表面３１Ａ、３１Ｂと、４つの側面３２Ａ、３２
Ｂ。
３２Ｃ，３２Ｄとを有し、主表面３１Ａと側面３２Ａに
研摩剤等の異物３３．３４がそれぞれ付着しているもの
とする。異物３３．３４の大きさは大略１０μ以下であ
る。そしてガラス基板３０はベルト等の適宜な搬送装置
（図示せず）によってほぼ垂値な状態で洗浄位置Ｂ（第
１図参照）に搬送でれる。
研摩剤等の異物３３．３４がそれぞれ付着しているもの
とする。異物３３．３４の大きさは大略１０μ以下であ
る。そしてガラス基板３０はベルト等の適宜な搬送装置
（図示せず）によってほぼ垂値な状態で洗浄位置Ｂ（第
１図参照）に搬送でれる。
前記主表面洗浄機４０は、ガラス基板３０の搬送路を挾
んで前後（矢印Ｙ方向）にそれぞれ４個ずつ互いに対向
して配設されたカップ型ブラシ４１．４２を有するスク
ラブ洗浄装置からなり、各カップ型ブラシ４１．４２は
前後移動され、洗浄時には第１図（ａ）矢印方向にそれ
ぞれ回転されるように構成されている。
んで前後（矢印Ｙ方向）にそれぞれ４個ずつ互いに対向
して配設されたカップ型ブラシ４１．４２を有するスク
ラブ洗浄装置からなり、各カップ型ブラシ４１．４２は
前後移動され、洗浄時には第１図（ａ）矢印方向にそれ
ぞれ回転されるように構成されている。
前記第１の側面洗浄機５０は、主表面洗浄機４０の手前
側にガラス基板３０を挾んで上下方向（矢印２方向）に
対向して配設された一対のカップ型ブラシ５１．５２を
有するスクラブ洗浄装置からなり、各ブラシ５１．５２
は上下方向に移動自在で、洗浄時にはガラス基板３０の
送り方向に回転てれるように構成されている。なお、カ
ップ型ブラシ５１．５２は直径０．２鴎程度のナイロン
を多数プレートに植毛して形成されている。また、主表
面洗浄装置４０のカップ型ブラシ４１．４２も同様であ
る。
側にガラス基板３０を挾んで上下方向（矢印２方向）に
対向して配設された一対のカップ型ブラシ５１．５２を
有するスクラブ洗浄装置からなり、各ブラシ５１．５２
は上下方向に移動自在で、洗浄時にはガラス基板３０の
送り方向に回転てれるように構成されている。なお、カ
ップ型ブラシ５１．５２は直径０．２鴎程度のナイロン
を多数プレートに植毛して形成されている。また、主表
面洗浄装置４０のカップ型ブラシ４１．４２も同様であ
る。
前記第２の側面洗浄機６０は、主表面洗浄機４０の両側
にそれぞれガラス基板３０の移動方向と直交する方向（
２方向）に長く延在して配設された左右一対の円筒型ブ
ラシ６１．６２を有するスクラブ洗浄装置からなり、各
円筒型ブラシ６１ 、６２は前後動され、通常は洗浄位
置Ｂより前方に位置し、洗浄時に第１図（ｂ）反時計方
向に回転され、かつ洗浄位置Ｂの位置まで移動嘔れるよ
うに構成されている。なお、円筒型ブラシ６１．６２も
ナイロンによって形成されている。
にそれぞれガラス基板３０の移動方向と直交する方向（
２方向）に長く延在して配設された左右一対の円筒型ブ
ラシ６１．６２を有するスクラブ洗浄装置からなり、各
円筒型ブラシ６１ 、６２は前後動され、通常は洗浄位
置Ｂより前方に位置し、洗浄時に第１図（ｂ）反時計方
向に回転され、かつ洗浄位置Ｂの位置まで移動嘔れるよ
うに構成されている。なお、円筒型ブラシ６１．６２も
ナイロンによって形成されている。
次に、このような構成からなる洗浄装置によるガラス基
板の洗浄動作について説明する。
板の洗浄動作について説明する。
ガラス基板３０を搬送装置によって矢印Ｘ方向に移動さ
せ洗浄位置Ｂに搬送する。すると、第１の側面洗浄機５
０が駆動し、上下一対のカップ型ブラシ５１．５２でガ
ラス基板３０の移動方向と平行な両側面、すなわち上下
に対向する側面３２Ａ。
せ洗浄位置Ｂに搬送する。すると、第１の側面洗浄機５
０が駆動し、上下一対のカップ型ブラシ５１．５２でガ
ラス基板３０の移動方向と平行な両側面、すなわち上下
に対向する側面３２Ａ。
３２Ｂを同時に洗浄する。この結果、側面３２Ａに付着
している異物３４（第３図参照）は除去される。
している異物３４（第３図参照）は除去される。
この際、ノズル７０から中性洗剤を噴射し、洗浄効果を
高めている。
高めている。
ガラス基板３０は第１の側面洗浄機５０によって洗浄さ
れている間も移動し続け、主表面洗浄機４０の位置に運
ばれる。すると、主表面洗浄機４０が駆動して前後のカ
ップ型ブラシ４１．４２が互いに接近する如く動作して
ガラス基板３０の主表面３１Ａ、３１Ｂをそれぞれ洗浄
する。この時、ノズルＴ１は中性洗剤を噴射供給する。
れている間も移動し続け、主表面洗浄機４０の位置に運
ばれる。すると、主表面洗浄機４０が駆動して前後のカ
ップ型ブラシ４１．４２が互いに接近する如く動作して
ガラス基板３０の主表面３１Ａ、３１Ｂをそれぞれ洗浄
する。この時、ノズルＴ１は中性洗剤を噴射供給する。
したがって、主表面３１Ａに付着していた異物３３は前
方のカップ型ブラシ４１によって除去される。この異物
３３の除去は、前述した第１の側面洗浄機５０による異
物除去と同様、物理的な力による除去である。
方のカップ型ブラシ４１によって除去される。この異物
３３の除去は、前述した第１の側面洗浄機５０による異
物除去と同様、物理的な力による除去である。
この洗浄過程の間、ガラス基板３０は第１図Ｘ方向、に
移動し続け、主表面全体を洗浄される。そして、ガラス
基板３０の後端、すなわち側面３２Ｃ側が主表面洗浄機
４０に近づくと、第２の側面洗浄機６０の右側の円筒型
ブラシ６２が回転しながらガラス基板３０の位置まで後
退し、第４図（、）に示すようにガラス基板３０の側面
３２Ｄを洗浄する。
移動し続け、主表面全体を洗浄される。そして、ガラス
基板３０の後端、すなわち側面３２Ｃ側が主表面洗浄機
４０に近づくと、第２の側面洗浄機６０の右側の円筒型
ブラシ６２が回転しながらガラス基板３０の位置まで後
退し、第４図（、）に示すようにガラス基板３０の側面
３２Ｄを洗浄する。
この状態において、ガラス基板３０はその位置で停止さ
れ、一定時間前記円筒型プラン６２による洗浄を受ける
。
れ、一定時間前記円筒型プラン６２による洗浄を受ける
。
なお、２生麦面洗浄機、４０と前記円筒型ブラシ６２に
よる洗浄時においては、洗浄効果を高めるだめノズル７
１から中性洗剤が噴射供給されている。
よる洗浄時においては、洗浄効果を高めるだめノズル７
１から中性洗剤が噴射供給されている。
また、この時、主表面洗浄機４０は、第１図（、）矢印
Ｘ方向とは逆の方向、すなわち第１の側面洗浄機５０方
向に向って移動を開始し、ガラス基板３０から外れる。
Ｘ方向とは逆の方向、すなわち第１の側面洗浄機５０方
向に向って移動を開始し、ガラス基板３０から外れる。
これはガラス基板３０が前述した通り一時停止した状態
になるため、主表面洗浄機４０による同一箇所だけの洗
浄により発生する洗浄欠陥（洗浄ムラ等）を防止するた
めである。
になるため、主表面洗浄機４０による同一箇所だけの洗
浄により発生する洗浄欠陥（洗浄ムラ等）を防止するた
めである。
一定時間経過すると、ガラス基板３０は第４図（ｂ）に
示すように矢印Ｃ方向に移動を開始する。すると、第２
の側面洗浄機６０の右側の円筒型プラノ６２は元の前方
位置に移動し、左側の円筒型ブラシ６１はガラス基板３
０の位置まで後退して残っている最後の側面３２Ｃの洗
浄を行い、載面に付着している異物の除去を行う。この
時ガラス基板３０は前述したと同様、一定時間停止して
前記円筒型ブラシ６１による洗浄を受け、一定時間経過
すると、該ブラシ６１の元の前方位置への移動と共に矢
印Ｃ方向への移動を再開し、初期位置に戻されて洗浄を
終了する。
示すように矢印Ｃ方向に移動を開始する。すると、第２
の側面洗浄機６０の右側の円筒型プラノ６２は元の前方
位置に移動し、左側の円筒型ブラシ６１はガラス基板３
０の位置まで後退して残っている最後の側面３２Ｃの洗
浄を行い、載面に付着している異物の除去を行う。この
時ガラス基板３０は前述したと同様、一定時間停止して
前記円筒型ブラシ６１による洗浄を受け、一定時間経過
すると、該ブラシ６１の元の前方位置への移動と共に矢
印Ｃ方向への移動を再開し、初期位置に戻されて洗浄を
終了する。
かくしてこのような洗浄装置によれば、ガラス基板３０
の６面全てを洗浄するので、いずれの面に異物が付着し
ていても確実に除去でき、後工程において異物によるピ
ンホールやパターン欠けなどの発生を未然に防止する。
の６面全てを洗浄するので、いずれの面に異物が付着し
ていても確実に除去でき、後工程において異物によるピ
ンホールやパターン欠けなどの発生を未然に防止する。
第５図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の第２実施例を示す
正面図および平面図でらる。図中第１図と同一構成部材
のものに対しては同一符号を以って示す。本実施例は、
主表面洗浄機４０の手前に第１および第２の側面洗浄機
ｓｏ、ｓｏを、ガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向
）に所定の間隔をおいて配置したもので、各側面洗浄機
５０．６０は、上下に対向してそれぞれ配設された一対
の円筒型ブラシ５３Ａ、 ５３Ｂ、 ６３Ａ、 ６３Ｂ
を有し、またこれら側面洗浄機５０と６０との間にはガ
ラス基板３０を垂直面内において９０回転させる回転機
構９０が配設されている。ガラス基板３０は、第１の側
面洗浄機５０を通過する際上下に対向する２つの側面３
２Ａ。
正面図および平面図でらる。図中第１図と同一構成部材
のものに対しては同一符号を以って示す。本実施例は、
主表面洗浄機４０の手前に第１および第２の側面洗浄機
ｓｏ、ｓｏを、ガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向
）に所定の間隔をおいて配置したもので、各側面洗浄機
５０．６０は、上下に対向してそれぞれ配設された一対
の円筒型ブラシ５３Ａ、 ５３Ｂ、 ６３Ａ、 ６３Ｂ
を有し、またこれら側面洗浄機５０と６０との間にはガ
ラス基板３０を垂直面内において９０回転させる回転機
構９０が配設されている。ガラス基板３０は、第１の側
面洗浄機５０を通過する際上下に対向する２つの側面３
２Ａ。
３２Ｂが該洗浄機５０によって洗浄され、通過後回転機
構９０によって９０回転てれることにより、第２の側面
洗浄機６０を通過する際残り２つの側面３２Ｃ，３２Ｄ
が該洗浄機６０によって洗浄される。
構９０によって９０回転てれることにより、第２の側面
洗浄機６０を通過する際残り２つの側面３２Ｃ，３２Ｄ
が該洗浄機６０によって洗浄される。
そして、最後にガラス基板３０の主表面３１Ａ、３１Ｂ
が主表面洗浄機４０によって洗浄される。
が主表面洗浄機４０によって洗浄される。
このような構成においても、上述した第１実施例と同様
の効果が得られることは明らかであろう。
の効果が得られることは明らかであろう。
第６図（ａ） 、 （ｂ）は本発明の第３実権例を示す
正面図および平面図である。本実施例は上下端がそれぞ
れ大径に形成され上下方向に延在する３個の段付き円筒
型ブラシ１００，１０１．１０２を、主表面洗浄機４０
０手前に所定の間隔をおいて配置し、これらによって第
１および第２の側面洗浄機を構成したものである。左端
に位置する段付き円筒型ブラシ１００は前後動てれ、ガ
ラス基板３０の往工程にてその小径部で該基板３０の右
側面３２Ｄを、両端の大径部内側面にてガラス基板３０
の上下に対向する側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄す
る。中央に位置・する段付き円筒型ブラシ１０１は左側
の段付き円筒型ブラシ１００より所定寸法だけ前方に固
定的に配置され、その小径部にてガラス基板３０の前方
側主表面３１Ａを洗浄し、両端の大径部内側面にて前記
側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄する。一方、右端の
段付き円筒型ブラシ１０２は、左端のブラシ１００と同
様、前後動され、ガラス基板３０の復工程にてその小径
部でガラス基板３０の左側ｆｆ１３２ｃを洗浄し、両端
の大径部内側面で前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗
浄する。
正面図および平面図である。本実施例は上下端がそれぞ
れ大径に形成され上下方向に延在する３個の段付き円筒
型ブラシ１００，１０１．１０２を、主表面洗浄機４０
０手前に所定の間隔をおいて配置し、これらによって第
１および第２の側面洗浄機を構成したものである。左端
に位置する段付き円筒型ブラシ１００は前後動てれ、ガ
ラス基板３０の往工程にてその小径部で該基板３０の右
側面３２Ｄを、両端の大径部内側面にてガラス基板３０
の上下に対向する側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄す
る。中央に位置・する段付き円筒型ブラシ１０１は左側
の段付き円筒型ブラシ１００より所定寸法だけ前方に固
定的に配置され、その小径部にてガラス基板３０の前方
側主表面３１Ａを洗浄し、両端の大径部内側面にて前記
側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄する。一方、右端の
段付き円筒型ブラシ１０２は、左端のブラシ１００と同
様、前後動され、ガラス基板３０の復工程にてその小径
部でガラス基板３０の左側ｆｆ１３２ｃを洗浄し、両端
の大径部内側面で前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗
浄する。
なお、第２および第３実施例においてはノズルを省略し
たが、第１実施例と同様ノズルによって中性洗剤が噴射
供給されるものとする。
たが、第１実施例と同様ノズルによって中性洗剤が噴射
供給されるものとする。
また、上記実施例はいずれも主表面洗浄機４０としてカ
ップ壓ブラシ４１．４２を使用したが、これに限らず円
筒型ブラシを用いてもよいことは勿論である。また、摩
擦材料としてナイロンからなるブラシを用いたが、馬毛
等の他の材質のブラシを用いてもよく、またブラシに限
らずフェルト。
ップ壓ブラシ４１．４２を使用したが、これに限らず円
筒型ブラシを用いてもよいことは勿論である。また、摩
擦材料としてナイロンからなるブラシを用いたが、馬毛
等の他の材質のブラシを用いてもよく、またブラシに限
らずフェルト。
発泡ポリワレタン等を用いてもよい。
また、上記実施例はいずれも研摩工程後のガラス基板の
洗浄について述べたが、研摩工程前の洗浄工程にもその
まま使用できることは勿論である。
洗浄について述べたが、研摩工程前の洗浄工程にもその
まま使用できることは勿論である。
以上説明したように本発明に係る洗浄装置は、フォトマ
スク用ガラス基板等の被洗浄物の主表面を洗浄する主表
面洗浄機と、相対向する２つの側面を洗浄する第１の側
面洗浄機と、相対向する他の２つの側面を洗浄する第２
の側面洗浄機とを備え、被加工物の６面全てを洗浄する
ように構成したので、従来装置では困難であった側面に
付着している異物を完全に除去でき、主表面にクロム膜
等を蒸着する工程や、前記クロム膜にパターンを形成す
る工程において異物によるピンホール、パターン欠は等
の欠陥を未然に防止し、半導体産業に使用されるフォト
マスクブランク等の基板製造に用いて好適である。
スク用ガラス基板等の被洗浄物の主表面を洗浄する主表
面洗浄機と、相対向する２つの側面を洗浄する第１の側
面洗浄機と、相対向する他の２つの側面を洗浄する第２
の側面洗浄機とを備え、被加工物の６面全てを洗浄する
ように構成したので、従来装置では困難であった側面に
付着している異物を完全に除去でき、主表面にクロム膜
等を蒸着する工程や、前記クロム膜にパターンを形成す
る工程において異物によるピンホール、パターン欠は等
の欠陥を未然に防止し、半導体産業に使用されるフォト
マスクブランク等の基板製造に用いて好適である。
第１図（、） 、 （ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第
一実施例を示す洗浄前の正面図および平面図、第２図（
、）〜（ｄ）はそれぞれ従来の洗浄方法を示す図、第３
図はガラス基板の斜視図、第４図（ａ） 、 （ｂ）は
第１図実施例装置による洗浄状態を説明するだめの図、
第５図（ｊＬ） 、 （ｂ）は本発明の第２実施例を示
す正面図および平面図、第６図（ａ） 、 （ｂ）は本
発明の第３実殉例を示す正面図および平面図である。 ３０・・・・ガラス基板、３１Ａ、３１Ｂ・・・・主表
面、３２Ａ〜３２Ｄ・・・・側面、３３．３４・・・・
異物、４０・・・・主表面洗浄機、４１．４２・・・・
カップ型ブラシ、５０・・・・第１の側面洗浄機、５１
．５２・・・・円筒型ブラシ、６゜・・・・第２の側面
洗浄機、６１．６２・・・・円筒型ブラシ、９０・・・
・回転機構、Ｂ・・・・洗浄位置。 特許出願人 株式会社保谷硝子 代理人 山川政情（Ｉジ・２名） 第２図 （Ｑ） （ｂ） （ｃＩ）（。■） （ｄ） 手続補正書（０幻 昭和 年 月 日 特許庁長官殿 ５Ｑ、４．３０１
、事件の表示 昭和５９年 特 許 願第２０１４６１号２、発明の名
称 洗浄装置 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名
） ホーヤ株式会社 （２）第３図を別紙の通り未配訂正する。 明 細 書 （全文補正） １、発明の名称 洗浄装置 ２、特許請求の範囲 フォトマスク用ガラス基板等の被洗浄物を洗浄位置に搬
送する搬送装置と、被洗浄物の表裏面をた第２の側面洗
浄機とを備え、前記主表面洗浄機および第１．第２の側
面洗浄機によって被測定物の６面すべてを洗浄するよう
にしたことを特徴とする洗浄装置。 λ 発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス、セラミックス、石英ガラス等の硬脆材
料からなる被洗浄物、特に半導体産業に使用されるフォ
トマスク用ガラス基板の洗浄に用いて好適な洗浄装置に
関する。 〔従来の技術〕 従来から半導体産業に使用されるフォトマスクブランク
等の基板製造において、フォトマスク用ガラス基板（以
下ガラス基板と称す）の主表面（表裏面）を、平面加工
装置により水にｃｅ ｏｓ等の研摩剤を加えた研摩液で
研摩して高い平面精度に仕上げ、後工程として研摩剤等
の異物を除去するためにブラシ等の摩擦材料を用いたス
クラブ洗浄機でガラス基板の主表面を洗浄している。こ
の洗浄機による洗浄方法としては第２図（ａ）〜＠）に
示すように４つの方法が広く採用されている。すなわち
同図（ａ）は被洗浄物としてのガラス基板１とカップ型
ブラシ２を互いに逆方向に移動させ、ブラシ２でガラス
基板１の主表面を洗浄するようにしたもの、同図（ｂ）
は皿形の回転ステージ４上に配置したガラス基板１を円
筒型ブラシ５で洗浄するようにしたもの、同図（ＣＩ
） （Ｃｍ）はガラス基板１ｔ−挾んで左右２対づつ合
計４個のカップ型ブラシ２と、左右一対の円筒型ブラシ
５を有し、ガラス基板１を回転させながらその主表面を
同時に洗浄するようにしたもの、そして同図＠）は回転
ステージ６上に配置したガラス基板１を円筒型ブラシ５
と洗浄剤噴射ノズル７で洗浄するようにしたものである
。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述した従来の洗浄方法はいずれもガラス基板
１の主表面をもっばら洗浄するだけで、ガラス基板１の
側面に付着した研摩剤等の異物に対しては十分除去でき
ないという不都合があった。 特に、ガラス基板１の板厚が厚くなると、異物の残存が
著しく、また搬送装置のガイド等と接するガラス基板の
側面においては、その搬送中、常時前記ガイドに接して
いるため、その側面に付着し九異物も同様に除去できな
いという不都合があった。 その結果、フォトマスク用ガラス基板の製造工程では、
前述した異物が後工程のフオ） ＩＪソゲラフイエ程に
持ち込まれピンホールやパターン欠けなどの不良を誘発
させる欠点があった。しかもこのような欠点はＩＣ，Ｌ
ＳＩ、ＶＬＳＩへと集積度が増し、パターンの線幅が細
密化していくにしたがい顕著に現われる。 本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、ガラス
基板等の被洗浄物の側面に付着した異物に対しても主表
面と同様、確実に除去できるようにした洗浄装置を提供
するものである。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物を洗浄位置に搬送す
る搬送装置と、被洗浄物の表裏面を洗浄するために設け
られた主表面洗浄機と、被洗浄物の２対の相対向する側
面のうち、一対の側面を洗浄するために設けられた第１
の側面洗浄機と、もう一方の一対の側面を洗浄するため
に設けられた第２の」１１面洗浄機とを設けたものであ
る。 〔作 用〕 本発明においては主表面洗浄機と、第１および第２の側
面洗浄機とを備えているので、被洗浄物の６面すべてを
洗浄することができる。 〔実施例〕 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。 第１図ｋＬ（ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第１実施例
で、それぞれ洗浄前の状態を示す正面図および平面図で
ある。同図において、３Ｇは被洗浄物としてのガラス基
板、４０はガラス基板３０の主表面を洗浄する主表面洗
浄機、５０はガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向）
と平行な両側面を洗浄する第１の側面洗浄機、６０けガ
ラス基板工０の移動方向と直交する両側面を洗浄する第
２の側面洗浄機、７０．７１は洗浄液としての中性洗剤
を噴射するノズル、Ｂは前記洗浄機４０．５０，６０お
よびノズル７０．７１が配設された洗浄位置である。 ガラス基板３０はソーダライムガラス、アルミノシリケ
ートガラス、石英ガラス等を素材と【７て、例えば１２
７ Ｘ １２７Ｘ ２．、：３ｍの大きさに形成される
ことにより、第３図に示すように６つの面、す彦わち２
つの主表面３１Ａ、３１１１と、４つの側面３２Ａ、３
２Ｂ。 ３２Ｃ，３２Ｄとを有し、主表面３１Ａと側面３２Ａに
研摩剤等の異物３３．３４がそれぞれ付着しているもの
とする。異物３３．３４の大きさは大略１０μ以下であ
る。そしてガラス基板３０はベルト等の適宜な搬送装置
（図示せず）によってはは垂直な状態で洗浄位置Ｂ（第
１図参照）Ｋ搬送される。 前記主表面洗浄機４０は、ガラス基板３０の搬送路を挾
んで前後（矢印Ｙ方向）Ｋそれぞれ４個ずつ互いに対向
して配設されたカップ型ブラシ４１．４２を有するスク
ラブ洗浄装置からなり、各カップ型ブラシ４１．４２は
前後移動され、すなわち搬送路に対して接近、離間する
ように移動され、洗浄時には第１回船矢印方向にそれぞ
れ回転されるように構成されている。なお、カップ型ブ
ラシ４１．４２は、直径０．２−程度のナイロンをプレ
ートに多数植毛して形成されている。 前記第１の側面洗浄機５Ｇは、主表面洗浄機４０の手前
側にガラス基板３０を挾んで上下方向（矢印２方向）に
対向して配設された一対の円筒型ブラシ５１．５２を有
するスクラブ洗浄装置がらなり、各ブラシ５１．５２は
上下方向に移動自在で、洗浄時にはガラス基板３０の送
り方向に回転されるように構成されている。 前記第２の側面洗浄機６０は、主表面洗浄機４゜の両側
にそれぞれガラス基板３０の移動方向と直交する方向（
２方向）に長く延在して配設された左右一対の円筒型ブ
ラシ６１．６２を有するスクラブ洗浄装置からなり、各
円筒型ブラシ６１．６２は前後動され、通常はガラス基
板３ｏの搬送路外に配置され（第１図（ｂ）参照）、洗
浄時に第１図←）に示すように時計方向に回転され、か
つ洗浄位ｉＢの位置である搬送路上まで移動されるよう
に構成されている。なお、円筒型ブラシ６１．６２およ
び前述した第１の側面洗浄機５００円筒型ブラシ５１
、５２ もナイロンによって形成されている。 次に、このような構成からなる洗浄装置によるガラス基
板の洗浄動作について説明する。 ガラス基板３０を搬送装置によって矢印Ｘ方向に移動さ
せ洗浄位置Ｂに搬送する。すると、第１の側面洗浄機５
０が駆動し、上下一対の円筒型ブラシ５１．５２でガラ
ス基板３ｏの移動方向と平行な同側面、すなわち上下に
対向する側面３２Ａ、３２Ｂを同時に洗浄する。この結
果、側面３２Ａに付着している異物３４（第３図参照）
は除去される。この際、ノズルＴＯから中性洗剤を噴射
し、洗浄効果を高めている。 ガラス基板３０は第１の側面洗浄機５０によって洗浄さ
れている間も移動し続け、主表面洗浄機４０の位置に運
ばれる。すると、主表面洗浄機４０が駆動して前後のカ
ップ型ブラシ４１．４２が互いに接近する如く動作して
ガラス基板３０の主表面３１Ａ、３１Ｂをそれぞれ洗浄
する。この時、ノズル７１は中性洗剤を噴射供給する。 したがって、主表面３１Ａに付着していた異物３３は前
方のカップ型ブラシ４１によって除去される。この異物
３３の除去は、前述した菜１の側面洗浄機５０による異
物除去と同様、物理的な力による除去である。この洗浄
過程の間、ガラス基板３０は第１図Ｘ方向に移動し続け
、主表面全体全洗浄される。そして、ガラス基板３０の
後端、すなわち側ｆｆｉ＋３２（４Ｍｇが主表面洗浄機
４０に近づくと、第２の側面洗浄機６０の右側の円筒型
ブラシ６２が回転しながらガラス基板３０の位置である
搬送路上に移動し、ガラス基板３０の側面３２ＤＫ接し
、第４図（ａ）に示すようにガラス基板３０の側面３２
Ｄを洗浄する。なお、第４図←）において、便宜上側面
１Ｗと円筒型ブラシ６２とを離間させたが、実際には前
述のように接している。この状態において、ガラス基板
３０はその位置で停止され、一定時間前記円筒型ブラシ
６２による洗浄を受ける。 なお、主表面洗浄機４０と前記円筒型ブラシ６２による
洗浄時においては、洗浄効果を高めるためノズルＴ１か
ら中性洗剤が噴射供給されている。 また、この時、主表面洗浄機４０は、第１図（ａ）矢印
Ｘ方向とは逆の方向、すなわち第１の側面洗浄機５０方
向に向って移動を開始し、この主表面洗浄ＩＩ！４Ｇの
カップ型ブラシ４１，４２のうち、第１の側面洗浄機５
０に近いブラシ４１．４２がガラス基板３０の側面３２
Ｃから若干外れると、第１の側面洗浄機５０方向への移
動を停止し、次にカップ型フッタ４１．４２はガラス基
板３０の搬送路から離れる方向に移動し、ガラス基板３
ｏがら外れる。 これはガラス基板３０が前述した通り一時停止した状態
になるため、主表面洗浄機４０による同一箇所だけの洗
浄により発生する洗浄欠陥（洗浄ムラ等）が防止するた
めである。 一定時間経過すると、ガラス基板３０は第４図（ｂ）Ｋ
示すように矢印Ｃ方向に移動を開始する。すると、第２
の側面洗浄機６０の右側の円筒型ブラシ６２は元の位置
に移動し、左側の円筒型ブラシ６１はガラス基板３０の
位置である搬送路上へ移動して残っている最後の側面３
２Ｃの洗浄を行い、載面に付着している異物の除去を行
う。この時ガラス基板３０は前述したと同様、一定時間
停止して前記円筒型ブラシ６１による洗浄を受け、一定
時間経過すると、該ブラシ６１の元の位置への移動と共
に矢印Ｃ方向への移動を再開し、ガラス基板３０の洗浄
前の初期位置に戻されて洗浄を終了する。 かくしてこのような洗浄装置によれば、ガラス基板３０
の６面全てを洗浄するので、いずれの面に異物が付着し
ていても確実に除去でき、後工程において異物によるピ
ンホールやパターン欠けなどの発生を未然に防止する。 第５図ＩＬ）、←）は本発明の第２実施例を示す正面図
および平面図である。図中第１図と同一構成部材のもの
に対しては同一符号を以って示す。本実施例は、主表面
洗浄機４００手前にｙＸｌおよび第２の側面洗浄１ｆｉ
５０．６０を、ガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向
）に所定の間隔をおいて配置したもので、各側面洗浄機
５０．６０は、上下に対向してそれぞれ配設された一対
の円筒型ブラシ５３Ａ、５３Ｂ、６３Ａ、、６３Ｂを有
し、またこれら側面洗浄機５０と６０との間にはガラス
基板３０を垂直面内において９０°回転させる回転機構
９０が配設されている。ガラス基板３０は、第１の側面
洗浄機５０を通過する際上下に対向する２つの側面３２
Ａ。 ３２Ｂが該洗浄Ｐａ５ｏによって洗浄され、通過後回転
機構９０によって９０°Ｕ転されることにより、第２の
側面洗浄機６０を通過する際残り２つの側面３２Ｃ，３
２Ｄが該洗浄機６０によって洗浄される。 そして、最後にガラス基板３０の主表面３１ Ａ 、
３１Ｂが主表面洗浄機４０によって洗浄される。 このような構成においても、上述した第１実施例と同様
の効果が得られることは明らかであろう。 第６図（ロ）） 、 （ｂ）は本発明の第３実施例を示
す正面図および平面図である。本実施例は上下端がそれ
ぞれ大径に形成され上下方向に延在する３個の段付き円
筒型ブラシ１００，１０１ 、１０２を、主表面洗浄機
４０の手前に所定の間隔をおいて配置し、これらによっ
て第１および第２の側面洗浄機を構成したものである。 左鳩に位置する段付き円筒型ブラシ１００は前後動され
、ガラス基板３０の往工程にてその小径部で該基板３０
の右側面３２Ｄを、両端の大径部内側面にてガラス基板
３０の上下に対向する側面３２Ａ、 ３２Ｂをそれぞれ
洗浄する。中央に位置する段付き円筒型ブラシ１０１は
左側の段付き円筒型ブラシ１００より所定寸法だけ前方
に固定的に配置され、その小径部にてガラス基板３０の
前方側主表面３１Ａ ｆ洗浄し、両端の大径部内側面に
て前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄する。−万、
右端の段付き円筒型ブラシ１０２は、左端のブラシ１０
０と同様、前後動され、ガラス基板３０の復工程にてそ
の小径部でガラス基板３０の左側面３２Ｃ’に洗浄し、
両端の大径部内側面で前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞ
れ洗浄する。 なお、第２および第３実施例においてはノズルを省略し
たが、第１実施例と同様ノズルによって中性洗剤が噴射
供給されるものとする。 また、上記実施例はいずれも主表面洗浄機４０としてカ
ップ型ブラシ４１．４２を使用したが、これに限らず円
筒をブラシを用いてもよいことは勿論である。また、摩
擦材料としてナイロンからなるブラシを用いたが、馬毛
等の他の材質のブラシを用いてもよく、またブラシに限
らずフェルト。 発泡ポリウレタン等を用いてもよい。 また、上記実施例において主表面洗浄機４ｏは搬送路を
挾んで相対向して設けられたが、これに限定されるもの
ではなく、さらに第１および第２側面洗浄機５０．６０
も同様である。 また、上記実施例はいずれも研摩工程後のガラス基板の
洗浄について述べたが、研摩工程前の洗浄工程にその−
１ま使用できることは勿論である。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明に係る洗浄装置は、フォトマ
スク用ガラス基板等の被洗浄物の主表面を洗浄する主表
面洗浄機と、２対の相対向する側面のうち、一対の側面
を洗浄する第１の側面洗浄機と、もう一方の側面を洗浄
する第２の側面洗浄機とを備え、被洗浄物の６面全てを
洗浄するように構成したので、従来装置では困難であっ
た側面に付着している異物を完全に除去でき、主表面に
クロム膜等を蒸着する工程や、前記クロム膜にパターン
を形成する工程において異物によるピンホール、パター
ン欠は等の欠陥を未然に防止し、半導体産業に使用され
るフォトマスクブランク等の基板製造に用いて好適であ
る。 ４、図面の簡単な説明 第１９鉢） 、 （ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第−
実施例金示す洗浄前の正面図および平面図、第２図（ａ
）〜（山はそれぞれ従来の洗浄方法を示す図、第３図は
ガラス基板の斜視図、第４図鉢） 、 （ｂ）は第１図
実施例装置による洗浄状態を説明するための図、第５図
（ａ） 、 （ｂ）は本発明の第２実施例を示す正面図
および平面図、第６図＠１ 、 （ｂ）は本発明の第３
実施例を示す正面図および平面図である。 ３０・・拳・ガラス基板、３１Ａ、３１Ｂ−Φ・−主表
面、３２Ａ〜３２１）・・・嗜側面、３３．３４−晦＠
９異物、４０・−・１主表面洗浄機、４１，４２・・・
・カップ凰フリシ、５０・−・φ第１の側面洗浄機、５
１，５２ ・・・・円筒展ブラシ、６０・嗜・・第２の
側面洗浄慢、６１．６２ ・・・・円筒型ブラシ、９０
・・・・回転機構、Ｂ・・・・洗浄位置。
一実施例を示す洗浄前の正面図および平面図、第２図（
、）〜（ｄ）はそれぞれ従来の洗浄方法を示す図、第３
図はガラス基板の斜視図、第４図（ａ） 、 （ｂ）は
第１図実施例装置による洗浄状態を説明するだめの図、
第５図（ｊＬ） 、 （ｂ）は本発明の第２実施例を示
す正面図および平面図、第６図（ａ） 、 （ｂ）は本
発明の第３実殉例を示す正面図および平面図である。 ３０・・・・ガラス基板、３１Ａ、３１Ｂ・・・・主表
面、３２Ａ〜３２Ｄ・・・・側面、３３．３４・・・・
異物、４０・・・・主表面洗浄機、４１．４２・・・・
カップ型ブラシ、５０・・・・第１の側面洗浄機、５１
．５２・・・・円筒型ブラシ、６゜・・・・第２の側面
洗浄機、６１．６２・・・・円筒型ブラシ、９０・・・
・回転機構、Ｂ・・・・洗浄位置。 特許出願人 株式会社保谷硝子 代理人 山川政情（Ｉジ・２名） 第２図 （Ｑ） （ｂ） （ｃＩ）（。■） （ｄ） 手続補正書（０幻 昭和 年 月 日 特許庁長官殿 ５Ｑ、４．３０１
、事件の表示 昭和５９年 特 許 願第２０１４６１号２、発明の名
称 洗浄装置 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名
） ホーヤ株式会社 （２）第３図を別紙の通り未配訂正する。 明 細 書 （全文補正） １、発明の名称 洗浄装置 ２、特許請求の範囲 フォトマスク用ガラス基板等の被洗浄物を洗浄位置に搬
送する搬送装置と、被洗浄物の表裏面をた第２の側面洗
浄機とを備え、前記主表面洗浄機および第１．第２の側
面洗浄機によって被測定物の６面すべてを洗浄するよう
にしたことを特徴とする洗浄装置。 λ 発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス、セラミックス、石英ガラス等の硬脆材
料からなる被洗浄物、特に半導体産業に使用されるフォ
トマスク用ガラス基板の洗浄に用いて好適な洗浄装置に
関する。 〔従来の技術〕 従来から半導体産業に使用されるフォトマスクブランク
等の基板製造において、フォトマスク用ガラス基板（以
下ガラス基板と称す）の主表面（表裏面）を、平面加工
装置により水にｃｅ ｏｓ等の研摩剤を加えた研摩液で
研摩して高い平面精度に仕上げ、後工程として研摩剤等
の異物を除去するためにブラシ等の摩擦材料を用いたス
クラブ洗浄機でガラス基板の主表面を洗浄している。こ
の洗浄機による洗浄方法としては第２図（ａ）〜＠）に
示すように４つの方法が広く採用されている。すなわち
同図（ａ）は被洗浄物としてのガラス基板１とカップ型
ブラシ２を互いに逆方向に移動させ、ブラシ２でガラス
基板１の主表面を洗浄するようにしたもの、同図（ｂ）
は皿形の回転ステージ４上に配置したガラス基板１を円
筒型ブラシ５で洗浄するようにしたもの、同図（ＣＩ
） （Ｃｍ）はガラス基板１ｔ−挾んで左右２対づつ合
計４個のカップ型ブラシ２と、左右一対の円筒型ブラシ
５を有し、ガラス基板１を回転させながらその主表面を
同時に洗浄するようにしたもの、そして同図＠）は回転
ステージ６上に配置したガラス基板１を円筒型ブラシ５
と洗浄剤噴射ノズル７で洗浄するようにしたものである
。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、前述した従来の洗浄方法はいずれもガラス基板
１の主表面をもっばら洗浄するだけで、ガラス基板１の
側面に付着した研摩剤等の異物に対しては十分除去でき
ないという不都合があった。 特に、ガラス基板１の板厚が厚くなると、異物の残存が
著しく、また搬送装置のガイド等と接するガラス基板の
側面においては、その搬送中、常時前記ガイドに接して
いるため、その側面に付着し九異物も同様に除去できな
いという不都合があった。 その結果、フォトマスク用ガラス基板の製造工程では、
前述した異物が後工程のフオ） ＩＪソゲラフイエ程に
持ち込まれピンホールやパターン欠けなどの不良を誘発
させる欠点があった。しかもこのような欠点はＩＣ，Ｌ
ＳＩ、ＶＬＳＩへと集積度が増し、パターンの線幅が細
密化していくにしたがい顕著に現われる。 本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、ガラス
基板等の被洗浄物の側面に付着した異物に対しても主表
面と同様、確実に除去できるようにした洗浄装置を提供
するものである。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物を洗浄位置に搬送す
る搬送装置と、被洗浄物の表裏面を洗浄するために設け
られた主表面洗浄機と、被洗浄物の２対の相対向する側
面のうち、一対の側面を洗浄するために設けられた第１
の側面洗浄機と、もう一方の一対の側面を洗浄するため
に設けられた第２の」１１面洗浄機とを設けたものであ
る。 〔作 用〕 本発明においては主表面洗浄機と、第１および第２の側
面洗浄機とを備えているので、被洗浄物の６面すべてを
洗浄することができる。 〔実施例〕 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。 第１図ｋＬ（ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第１実施例
で、それぞれ洗浄前の状態を示す正面図および平面図で
ある。同図において、３Ｇは被洗浄物としてのガラス基
板、４０はガラス基板３０の主表面を洗浄する主表面洗
浄機、５０はガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向）
と平行な両側面を洗浄する第１の側面洗浄機、６０けガ
ラス基板工０の移動方向と直交する両側面を洗浄する第
２の側面洗浄機、７０．７１は洗浄液としての中性洗剤
を噴射するノズル、Ｂは前記洗浄機４０．５０，６０お
よびノズル７０．７１が配設された洗浄位置である。 ガラス基板３０はソーダライムガラス、アルミノシリケ
ートガラス、石英ガラス等を素材と【７て、例えば１２
７ Ｘ １２７Ｘ ２．、：３ｍの大きさに形成される
ことにより、第３図に示すように６つの面、す彦わち２
つの主表面３１Ａ、３１１１と、４つの側面３２Ａ、３
２Ｂ。 ３２Ｃ，３２Ｄとを有し、主表面３１Ａと側面３２Ａに
研摩剤等の異物３３．３４がそれぞれ付着しているもの
とする。異物３３．３４の大きさは大略１０μ以下であ
る。そしてガラス基板３０はベルト等の適宜な搬送装置
（図示せず）によってはは垂直な状態で洗浄位置Ｂ（第
１図参照）Ｋ搬送される。 前記主表面洗浄機４０は、ガラス基板３０の搬送路を挾
んで前後（矢印Ｙ方向）Ｋそれぞれ４個ずつ互いに対向
して配設されたカップ型ブラシ４１．４２を有するスク
ラブ洗浄装置からなり、各カップ型ブラシ４１．４２は
前後移動され、すなわち搬送路に対して接近、離間する
ように移動され、洗浄時には第１回船矢印方向にそれぞ
れ回転されるように構成されている。なお、カップ型ブ
ラシ４１．４２は、直径０．２−程度のナイロンをプレ
ートに多数植毛して形成されている。 前記第１の側面洗浄機５Ｇは、主表面洗浄機４０の手前
側にガラス基板３０を挾んで上下方向（矢印２方向）に
対向して配設された一対の円筒型ブラシ５１．５２を有
するスクラブ洗浄装置がらなり、各ブラシ５１．５２は
上下方向に移動自在で、洗浄時にはガラス基板３０の送
り方向に回転されるように構成されている。 前記第２の側面洗浄機６０は、主表面洗浄機４゜の両側
にそれぞれガラス基板３０の移動方向と直交する方向（
２方向）に長く延在して配設された左右一対の円筒型ブ
ラシ６１．６２を有するスクラブ洗浄装置からなり、各
円筒型ブラシ６１．６２は前後動され、通常はガラス基
板３ｏの搬送路外に配置され（第１図（ｂ）参照）、洗
浄時に第１図←）に示すように時計方向に回転され、か
つ洗浄位ｉＢの位置である搬送路上まで移動されるよう
に構成されている。なお、円筒型ブラシ６１．６２およ
び前述した第１の側面洗浄機５００円筒型ブラシ５１
、５２ もナイロンによって形成されている。 次に、このような構成からなる洗浄装置によるガラス基
板の洗浄動作について説明する。 ガラス基板３０を搬送装置によって矢印Ｘ方向に移動さ
せ洗浄位置Ｂに搬送する。すると、第１の側面洗浄機５
０が駆動し、上下一対の円筒型ブラシ５１．５２でガラ
ス基板３ｏの移動方向と平行な同側面、すなわち上下に
対向する側面３２Ａ、３２Ｂを同時に洗浄する。この結
果、側面３２Ａに付着している異物３４（第３図参照）
は除去される。この際、ノズルＴＯから中性洗剤を噴射
し、洗浄効果を高めている。 ガラス基板３０は第１の側面洗浄機５０によって洗浄さ
れている間も移動し続け、主表面洗浄機４０の位置に運
ばれる。すると、主表面洗浄機４０が駆動して前後のカ
ップ型ブラシ４１．４２が互いに接近する如く動作して
ガラス基板３０の主表面３１Ａ、３１Ｂをそれぞれ洗浄
する。この時、ノズル７１は中性洗剤を噴射供給する。 したがって、主表面３１Ａに付着していた異物３３は前
方のカップ型ブラシ４１によって除去される。この異物
３３の除去は、前述した菜１の側面洗浄機５０による異
物除去と同様、物理的な力による除去である。この洗浄
過程の間、ガラス基板３０は第１図Ｘ方向に移動し続け
、主表面全体全洗浄される。そして、ガラス基板３０の
後端、すなわち側ｆｆｉ＋３２（４Ｍｇが主表面洗浄機
４０に近づくと、第２の側面洗浄機６０の右側の円筒型
ブラシ６２が回転しながらガラス基板３０の位置である
搬送路上に移動し、ガラス基板３０の側面３２ＤＫ接し
、第４図（ａ）に示すようにガラス基板３０の側面３２
Ｄを洗浄する。なお、第４図←）において、便宜上側面
１Ｗと円筒型ブラシ６２とを離間させたが、実際には前
述のように接している。この状態において、ガラス基板
３０はその位置で停止され、一定時間前記円筒型ブラシ
６２による洗浄を受ける。 なお、主表面洗浄機４０と前記円筒型ブラシ６２による
洗浄時においては、洗浄効果を高めるためノズルＴ１か
ら中性洗剤が噴射供給されている。 また、この時、主表面洗浄機４０は、第１図（ａ）矢印
Ｘ方向とは逆の方向、すなわち第１の側面洗浄機５０方
向に向って移動を開始し、この主表面洗浄ＩＩ！４Ｇの
カップ型ブラシ４１，４２のうち、第１の側面洗浄機５
０に近いブラシ４１．４２がガラス基板３０の側面３２
Ｃから若干外れると、第１の側面洗浄機５０方向への移
動を停止し、次にカップ型フッタ４１．４２はガラス基
板３０の搬送路から離れる方向に移動し、ガラス基板３
ｏがら外れる。 これはガラス基板３０が前述した通り一時停止した状態
になるため、主表面洗浄機４０による同一箇所だけの洗
浄により発生する洗浄欠陥（洗浄ムラ等）が防止するた
めである。 一定時間経過すると、ガラス基板３０は第４図（ｂ）Ｋ
示すように矢印Ｃ方向に移動を開始する。すると、第２
の側面洗浄機６０の右側の円筒型ブラシ６２は元の位置
に移動し、左側の円筒型ブラシ６１はガラス基板３０の
位置である搬送路上へ移動して残っている最後の側面３
２Ｃの洗浄を行い、載面に付着している異物の除去を行
う。この時ガラス基板３０は前述したと同様、一定時間
停止して前記円筒型ブラシ６１による洗浄を受け、一定
時間経過すると、該ブラシ６１の元の位置への移動と共
に矢印Ｃ方向への移動を再開し、ガラス基板３０の洗浄
前の初期位置に戻されて洗浄を終了する。 かくしてこのような洗浄装置によれば、ガラス基板３０
の６面全てを洗浄するので、いずれの面に異物が付着し
ていても確実に除去でき、後工程において異物によるピ
ンホールやパターン欠けなどの発生を未然に防止する。 第５図ＩＬ）、←）は本発明の第２実施例を示す正面図
および平面図である。図中第１図と同一構成部材のもの
に対しては同一符号を以って示す。本実施例は、主表面
洗浄機４００手前にｙＸｌおよび第２の側面洗浄１ｆｉ
５０．６０を、ガラス基板３０の移動方向（矢印Ｘ方向
）に所定の間隔をおいて配置したもので、各側面洗浄機
５０．６０は、上下に対向してそれぞれ配設された一対
の円筒型ブラシ５３Ａ、５３Ｂ、６３Ａ、、６３Ｂを有
し、またこれら側面洗浄機５０と６０との間にはガラス
基板３０を垂直面内において９０°回転させる回転機構
９０が配設されている。ガラス基板３０は、第１の側面
洗浄機５０を通過する際上下に対向する２つの側面３２
Ａ。 ３２Ｂが該洗浄Ｐａ５ｏによって洗浄され、通過後回転
機構９０によって９０°Ｕ転されることにより、第２の
側面洗浄機６０を通過する際残り２つの側面３２Ｃ，３
２Ｄが該洗浄機６０によって洗浄される。 そして、最後にガラス基板３０の主表面３１ Ａ 、
３１Ｂが主表面洗浄機４０によって洗浄される。 このような構成においても、上述した第１実施例と同様
の効果が得られることは明らかであろう。 第６図（ロ）） 、 （ｂ）は本発明の第３実施例を示
す正面図および平面図である。本実施例は上下端がそれ
ぞれ大径に形成され上下方向に延在する３個の段付き円
筒型ブラシ１００，１０１ 、１０２を、主表面洗浄機
４０の手前に所定の間隔をおいて配置し、これらによっ
て第１および第２の側面洗浄機を構成したものである。 左鳩に位置する段付き円筒型ブラシ１００は前後動され
、ガラス基板３０の往工程にてその小径部で該基板３０
の右側面３２Ｄを、両端の大径部内側面にてガラス基板
３０の上下に対向する側面３２Ａ、 ３２Ｂをそれぞれ
洗浄する。中央に位置する段付き円筒型ブラシ１０１は
左側の段付き円筒型ブラシ１００より所定寸法だけ前方
に固定的に配置され、その小径部にてガラス基板３０の
前方側主表面３１Ａ ｆ洗浄し、両端の大径部内側面に
て前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ洗浄する。−万、
右端の段付き円筒型ブラシ１０２は、左端のブラシ１０
０と同様、前後動され、ガラス基板３０の復工程にてそ
の小径部でガラス基板３０の左側面３２Ｃ’に洗浄し、
両端の大径部内側面で前記側面３２Ａ、３２Ｂをそれぞ
れ洗浄する。 なお、第２および第３実施例においてはノズルを省略し
たが、第１実施例と同様ノズルによって中性洗剤が噴射
供給されるものとする。 また、上記実施例はいずれも主表面洗浄機４０としてカ
ップ型ブラシ４１．４２を使用したが、これに限らず円
筒をブラシを用いてもよいことは勿論である。また、摩
擦材料としてナイロンからなるブラシを用いたが、馬毛
等の他の材質のブラシを用いてもよく、またブラシに限
らずフェルト。 発泡ポリウレタン等を用いてもよい。 また、上記実施例において主表面洗浄機４ｏは搬送路を
挾んで相対向して設けられたが、これに限定されるもの
ではなく、さらに第１および第２側面洗浄機５０．６０
も同様である。 また、上記実施例はいずれも研摩工程後のガラス基板の
洗浄について述べたが、研摩工程前の洗浄工程にその−
１ま使用できることは勿論である。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明に係る洗浄装置は、フォトマ
スク用ガラス基板等の被洗浄物の主表面を洗浄する主表
面洗浄機と、２対の相対向する側面のうち、一対の側面
を洗浄する第１の側面洗浄機と、もう一方の側面を洗浄
する第２の側面洗浄機とを備え、被洗浄物の６面全てを
洗浄するように構成したので、従来装置では困難であっ
た側面に付着している異物を完全に除去でき、主表面に
クロム膜等を蒸着する工程や、前記クロム膜にパターン
を形成する工程において異物によるピンホール、パター
ン欠は等の欠陥を未然に防止し、半導体産業に使用され
るフォトマスクブランク等の基板製造に用いて好適であ
る。 ４、図面の簡単な説明 第１９鉢） 、 （ｂ）は本発明に係る洗浄装置の第−
実施例金示す洗浄前の正面図および平面図、第２図（ａ
）〜（山はそれぞれ従来の洗浄方法を示す図、第３図は
ガラス基板の斜視図、第４図鉢） 、 （ｂ）は第１図
実施例装置による洗浄状態を説明するための図、第５図
（ａ） 、 （ｂ）は本発明の第２実施例を示す正面図
および平面図、第６図＠１ 、 （ｂ）は本発明の第３
実施例を示す正面図および平面図である。 ３０・・拳・ガラス基板、３１Ａ、３１Ｂ−Φ・−主表
面、３２Ａ〜３２１）・・・嗜側面、３３．３４−晦＠
９異物、４０・−・１主表面洗浄機、４１，４２・・・
・カップ凰フリシ、５０・−・φ第１の側面洗浄機、５
１，５２ ・・・・円筒展ブラシ、６０・嗜・・第２の
側面洗浄慢、６１．６２ ・・・・円筒型ブラシ、９０
・・・・回転機構、Ｂ・・・・洗浄位置。
Claims (1)
- フォトマスク用ガラス基板等の被洗浄物を洗浄位置に
搬送する搬送装置と、相対向して設けられ被洗浄物の表
裏面を洗浄する主表面洗浄機と、相対向して設けられ被
洗浄物の移動方向と平行な２つの側面を洗浄する第１の
側面洗浄機と、相対向して設けられ被洗浄物の移動方向
と直交する２つの側面を洗浄する第２の側面洗浄機とを
備え、前記主表面洗浄機および第１、第２の側面洗浄機
によつて被測定物の６面すべてを洗浄するようにしたこ
とを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201461A JPS6180156A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59201461A JPS6180156A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180156A true JPS6180156A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16441472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59201461A Pending JPS6180156A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180156A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428990U (ja) * | 1987-08-10 | 1989-02-21 | ||
| JP2006225189A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板洗浄装置及びガラス基板洗浄方法 |
| WO2012169536A1 (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | 住友化学株式会社 | ハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法及び洗浄装置、並びに、ハニカムフィルタの製造方法 |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP59201461A patent/JPS6180156A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6428990U (ja) * | 1987-08-10 | 1989-02-21 | ||
| JP2006225189A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス基板洗浄装置及びガラス基板洗浄方法 |
| WO2012169536A1 (ja) * | 2011-06-09 | 2012-12-13 | 住友化学株式会社 | ハニカム構造体封口用マスクの洗浄方法及び洗浄装置、並びに、ハニカムフィルタの製造方法 |
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