JPS583234A - ガラスマスク洗浄装置 - Google Patents
ガラスマスク洗浄装置Info
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- JPS583234A JPS583234A JP10178381A JP10178381A JPS583234A JP S583234 A JPS583234 A JP S583234A JP 10178381 A JP10178381 A JP 10178381A JP 10178381 A JP10178381 A JP 10178381A JP S583234 A JPS583234 A JP S583234A
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- glass mask
- plates
- mask
- sponge
- cleaning device
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- Pending
Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
- H01L21/3046—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting using blasting, e.g. sand-blasting
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
半導体装置製造において、フォトエツチングプロセスで
使用するガラスマスクは、使用中に表面に異物が付着し
、この異物がパターニングの時転写され、パターン欠陥
となり、歩留り低下の大きな要因となっている。この異
物は、ゴ之、ホコリ、指紋、シリコン、アルミ等の金属
粉９階化シリコン等ＯＶＤの７レーク類、レジスト材等
の有機物であるが、通常、この異物を除去するために、
マスク材が浸されない洗剤、有機溶剤、酸アルカリ等に
浸漬して洗浄していた。しかし前記したガラスマスク表
面に付着した異物は、かなり強固に付着しているものが
あり、薬液による洗浄だけでは完全に除去することは困
難であった。
使用するガラスマスクは、使用中に表面に異物が付着し
、この異物がパターニングの時転写され、パターン欠陥
となり、歩留り低下の大きな要因となっている。この異
物は、ゴ之、ホコリ、指紋、シリコン、アルミ等の金属
粉９階化シリコン等ＯＶＤの７レーク類、レジスト材等
の有機物であるが、通常、この異物を除去するために、
マスク材が浸されない洗剤、有機溶剤、酸アルカリ等に
浸漬して洗浄していた。しかし前記したガラスマスク表
面に付着した異物は、かなり強固に付着しているものが
あり、薬液による洗浄だけでは完全に除去することは困
難であった。
本発明は、この付着異物を、ガラスマスク表面およびガ
ラス表面にパターニングされているクロム、酸化クロム
等の庶光材を破損やキズ、磨耗させることなく、機械的
にこすって完全に除去するものである。本発明は、ガラ
スマスク表面をスぎンジ（モルトプレーン）材を使って
機械的にこすることに効果があり、スポンジ材のかわり
に、セーム皮材、ネル布等では、パターンの欠損、キズ
、磨耗をおこし、洗浄材としては適さない。本発明の洗
浄装置の詳細を第１図を用いて説明する。
ラス表面にパターニングされているクロム、酸化クロム
等の庶光材を破損やキズ、磨耗させることなく、機械的
にこすって完全に除去するものである。本発明は、ガラ
スマスク表面をスぎンジ（モルトプレーン）材を使って
機械的にこすることに効果があり、スポンジ材のかわり
に、セーム皮材、ネル布等では、パターンの欠損、キズ
、磨耗をおこし、洗浄材としては適さない。本発明の洗
浄装置の詳細を第１図を用いて説明する。
図１，２のスポンジ製円形平板を回転板３，４に擬着な
り、図５，６のようにおさえて固定する。
り、図５，６のようにおさえて固定する。
スポンジ図１，２は対向させ、図７，８の回転軸を同一
方向に回転させる。回転数は１０〜１１０００ｒｐ程度
下十分な効果が得られる。ガラスマスクは、図９の保持
具で左右からおさえて固定し、スポンジ板１，２の間に
挿入して、表面を回転しているスゲ２９表面でこすって
、マスクを洗浄する。スポンジ板１と２の間隔は、ガラ
スマスク材の厚さによって多少変えるのが望ましいが、
スポンジ材は弾力があるので、多少の間隔ずれでも一定
接触表面圧力が確保でき、安定した洗浄効果が得られる
。スポンジ板１，２を同方向に回転することにより、ス
ポンジ表面が接触していても、磨擦して消耗することが
ないため、耐久性が良い。
方向に回転させる。回転数は１０〜１１０００ｒｐ程度
下十分な効果が得られる。ガラスマスクは、図９の保持
具で左右からおさえて固定し、スポンジ板１，２の間に
挿入して、表面を回転しているスゲ２９表面でこすって
、マスクを洗浄する。スポンジ板１と２の間隔は、ガラ
スマスク材の厚さによって多少変えるのが望ましいが、
スポンジ材は弾力があるので、多少の間隔ずれでも一定
接触表面圧力が確保でき、安定した洗浄効果が得られる
。スポンジ板１，２を同方向に回転することにより、ス
ポンジ表面が接触していても、磨擦して消耗することが
ないため、耐久性が良い。
この洗浄装置で、スポンジ板またはガラスマスクに純水
をかけながら回転洗浄するか、第２図１１．１２の導水
パイプにより、スポンジ板の中心から湧出させる方式で
純水併用洗浄をおこなうと、より洗浄効果をあげること
ができる。
をかけながら回転洗浄するか、第２図１１．１２の導水
パイプにより、スポンジ板の中心から湧出させる方式で
純水併用洗浄をおこなうと、より洗浄効果をあげること
ができる。
なお、薬液による浸漬洗浄をおこなった後、とれない異
物を、本発明の洗浄装置を使って、完全におとすことも
可能である。
物を、本発明の洗浄装置を使って、完全におとすことも
可能である。
＃！１１ｉ！！７．第２図は、本発明の洗浄装置の断面
図である。 第１図 １．２・・・・・・スポンジ製円形平板（洗浄板）３．
４・・・・・・回転板 ５．６・・・・・・スポンジ固定治具 ７．８・・・・・・回転軸 ９・・・・・・・・・・・・ガラスマスク保持具１０・
・・・・・・・・ガラスマスク 第２図 １１．１２・・・・・・純水導水パイプ以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
図である。 第１図 １．２・・・・・・スポンジ製円形平板（洗浄板）３．
４・・・・・・回転板 ５．６・・・・・・スポンジ固定治具 ７．８・・・・・・回転軸 ９・・・・・・・・・・・・ガラスマスク保持具１０・
・・・・・・・・ガラスマスク 第２図 １１．１２・・・・・・純水導水パイプ以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士 最上 務
Claims (1)
- 半導体製造に使用するガラスマスクの洗浄において、表
面の材質をスポンジを使用した２枚の平面回転板を、表
面を対向させ、この２枚の回転板を同方向に、同回転数
で回転させ、２枚のスポンジ表面回転板のあいだにガラ
スマスクを挿入し、ガラスマスク表面をスポンジで機械
的にこすって洗浄するガラスマスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10178381A JPS583234A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | ガラスマスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10178381A JPS583234A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | ガラスマスク洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583234A true JPS583234A (ja) | 1983-01-10 |
Family
ID=14309780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10178381A Pending JPS583234A (ja) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | ガラスマスク洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583234A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6096825U (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-02 | 株式会社東芝 | 洗浄用ブラシ |
| JPS63137429A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の両面洗浄装置 |
| CN103691685A (zh) * | 2013-11-30 | 2014-04-02 | 南通环球光学仪器有限公司 | 一种镜片清洁装置 |
| CN106944374A (zh) * | 2017-03-08 | 2017-07-14 | 安徽神农光电机械有限公司 | 一种色选机分选室玻璃清灰装置 |
| CN111346852A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-06-30 | 赵智勇 | 一种呼吸内科肺炎治疗雾化器面罩消毒干燥器械 |
-
1981
- 1981-06-29 JP JP10178381A patent/JPS583234A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6096825U (ja) * | 1983-12-07 | 1985-07-02 | 株式会社東芝 | 洗浄用ブラシ |
| JPS63137429A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の両面洗浄装置 |
| CN103691685A (zh) * | 2013-11-30 | 2014-04-02 | 南通环球光学仪器有限公司 | 一种镜片清洁装置 |
| CN106944374A (zh) * | 2017-03-08 | 2017-07-14 | 安徽神农光电机械有限公司 | 一种色选机分选室玻璃清灰装置 |
| CN111346852A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-06-30 | 赵智勇 | 一种呼吸内科肺炎治疗雾化器面罩消毒干燥器械 |
| CN111346852B (zh) * | 2020-03-11 | 2021-03-30 | 杨云伟 | 一种呼吸内科肺炎治疗雾化器面罩消毒干燥器械 |
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