JPH0617283Y2 - スクラバー洗浄機 - Google Patents

スクラバー洗浄機

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JPH0617283Y2
JPH0617283Y2 JP1989051127U JP5112789U JPH0617283Y2 JP H0617283 Y2 JPH0617283 Y2 JP H0617283Y2 JP 1989051127 U JP1989051127 U JP 1989051127U JP 5112789 U JP5112789 U JP 5112789U JP H0617283 Y2 JPH0617283 Y2 JP H0617283Y2
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JP
Japan
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substrate
brush
ultrafine fibers
sponge
scrubbing
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP1989051127U
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English (en)
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JPH02142527U (ja
Inventor
喜英 荒川
Original Assignee
日本コロムビア株式会社
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 半導体集積回路IC,LSI製造又はコンパクト・ディ
スク,レーザ・ディスクのマスタリング等に使用するシ
リコン又はガラス基板の研磨後に使用するスクラバー洗
浄機に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体集積回路LSIを製造するためのホトマスク基
板,シリコン基板や、コンパクト・ディスク,レーザ・
ディスク等の光ディスク製造のマスタリングに使用する
ガラス原盤は研磨機を使いシリコン・カーバイド,アル
ミナ,酸化セリウム等を研磨剤としてラッピング,ポリ
ッシングを行って基板表面を鏡面研磨した後、第3図
(A)に示す円筒状のスポンジ又はブラッシあるいは第
3図(B)に示す様にスポンジ又はブラッシを植立せし
めた円板を使ったスクラバー洗浄機を使って研磨剤を除
去洗浄して、超音波洗浄機により精密洗浄を行い、基板
表面を超清浄にした後、ホトマスク基板の場合は、酸化
クロム又は金属クロムをスパッタリングし、シリコン基
板,ガラス原盤の場合はシランカップリング剤処理を施
した後ホトレジスト塗布を行って、パターン又は信号を
露光記録した後、現像・エッチングしてパターン又は信
号ピットを基板又は原盤上に形成していた。
〔考案が解決しようとする課題〕
従来の単なるスポンジ又はナイロンブラッシを使ったス
クラバー洗浄機では数ミクロンメータ以下の微小な研磨
剤等の異物を完全に除去することが困難であり、また超
音波洗浄を使っても完全には除去できない。そのため、
その除去されずに基板表面に付着した異物が欠陥とな
り、品質を悪くしたり製品の歩留を悪くする。そこで微
小な異物を完全に除去し欠陥のない基板表面の得られる
ブラッシ材料を種々検討した結果優れた効果を持つ材料
を見出した。
〔課題を解決するための手段〕
即ち本考案は従来のスポンジ又はナイロンブラッシ等で
は除去できなかった数ミクロンメータの研磨剤等の異物
を除去するために成すもので、スポンジ又はナイロンブ
ラッシ等の弾性部材の表面を1〜2μmの超微細繊維で
包む構成に成し、超極細繊維で基板表面をこすり洗いす
ることにより清浄な基板表面が得られる様に成すもので
ある。
弾性部材の表面を超極細繊維で包む構成は超極細繊維で
織られた布で包むか、表面に植毛するか、繊維の束をブ
ラッシの表面に突出せしめる等の構成によって成され
る。
〔作用〕
基板表面の異物をこすり洗いする時の作用機構を模型図
を使って説明する。従来方法のスポンジの場合は第4図
(B)の如く又ナイロンブラッシでは(C)の如く除去
しようとする異物4が小さ過ぎてこすり取ることができ
ずかえって押し付けて基板5の表面に付着させてしまう
結果になる。本考案では第4図(A)のように基板5の
表面の異物4を引掛けて取り除く作用をして除去するこ
とができるものである。
〔実施例〕
以下図面により本考案を説明する。
第1図(A),(B)はそれぞれ本考案の一実施例を示
す図である。第2図(A),(B)はそれぞれ本考案を
用いたスクラバー洗浄機の略図である。
実施例1 第1図(A)及び第2図(A)により説明する。
着脱自在のターンテーブル上に基板5を取付けモーター
8により回転させる。次にノズル9より純水7を滴下さ
せながらアーム10をモーター11でスイングさせ基板
5の表面を純水7で洗い流しながら、スポンジ2のロー
ラ6がエアーシリンダー12により基板5の表面上を矢
印AB方向に移動しながらこすり洗いを行う。ここでこ
のローラ6は第1図(A)の如き構造でスポンジ2のロ
ーラ6表面部に超極細繊維1の織布1aで覆われた構成
となっていて、軸12aで回転自在にエアーシリンダー
12と連結されて基板5の回転とローラ6の表面に設け
た超極細繊維1の相対移動によって第4図(A)に示す
様に数ミクロンの異物4を超極細繊維1によってこすり
洗いすることが可能となる。
実施例2 第1図(B)及び第2図(B)により説明する。
基板5は、こすり洗いユニット14が多数取付けられた
円板13に挟まれて基板駆動ローラ17上にセットされ
る。駆動ローラ17は駆動モーター18,こすり洗いユ
ニット14のついた円板13はモーター15により回転
され、シャワー16から純水7が流下し基板5を洗いな
がらこすり洗いを行い、研磨剤等の数ミクロンの微小異
物を洗い落とし清浄な基板表面が得られる。こすり洗い
ユニットは第1図(B)の如くブラッシ3を覆うように
超極細繊維1の不織布で包んである。ブラッシ3は弾性
を有し基板5を両面から押圧し1〜2μmの超極細繊維
によって数ミクロンの異物をこすり洗いすることができ
る。
〔考案の効果〕
上記のように本考案は基板の表面に当接しその表面をこ
する当接面が弾性部材を基部としてその表面に繊維の太
さが1〜2μmの超極細繊維を具備したので上記超極細
繊維が上記基板の表面をこすり洗浄するように成すこと
で数ミクロン以下の微小異物も除去し洗浄することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)及び(B)は本考案の実施例を説明するた
めの説明図、第2図(A)及び(B)は装置を説明する
ための図、第3図は従来例を説明するための図、第4図
(A),(B),(C)はそれぞれ洗浄動作を説明する
ための図で(A)は本考案(B),(C)は従来例であ
る。 1……超極細繊維 2……スポンジ 3……ブラッシ 4……異物 5……基板 6,17……ローラ 7……純水 8,11,15,18……モーター 9……ノズル 10……アーム 12……エアーシリンダー 13……円板 14……ユニット 15……シャワーである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】鏡面研磨した基板の表面等をこすり洗浄す
    るスクラバー洗浄機に於いて、上記基板の表面に当接し
    その表面をこする当接面が弾性部材を基部としてその表
    面に繊維の太さが1〜2μmの超極細繊維を具備し上記
    超極細繊維が上記基板の表面をこすり洗浄するように成
    すことを特徴とするスクラバー洗浄機。
JP1989051127U 1989-04-29 1989-04-29 スクラバー洗浄機 Expired - Lifetime JPH0617283Y2 (ja)

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JPH02142527U JPH02142527U (ja) 1990-12-04
JPH0617283Y2 true JPH0617283Y2 (ja) 1994-05-02

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9748090B2 (en) 2015-01-22 2017-08-29 Toshiba Memory Corporation Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

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JP2890915B2 (ja) * 1991-08-13 1999-05-17 信越半導体株式会社 ウエーハのブラシ洗浄装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5612734A (en) * 1979-07-10 1981-02-07 Nec Corp Wafer polishing method
JPS57143831A (en) * 1981-03-03 1982-09-06 Toshiba Corp Process of semiconductor wafer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9748090B2 (en) 2015-01-22 2017-08-29 Toshiba Memory Corporation Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

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JPH02142527U (ja) 1990-12-04

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