JPS6230030Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6230030Y2 JPS6230030Y2 JP1983064123U JP6412383U JPS6230030Y2 JP S6230030 Y2 JPS6230030 Y2 JP S6230030Y2 JP 1983064123 U JP1983064123 U JP 1983064123U JP 6412383 U JP6412383 U JP 6412383U JP S6230030 Y2 JPS6230030 Y2 JP S6230030Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- cleaning
- support
- cleaning device
- high speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〈技術分野〉
この考案は、ウエハ上に半導体チツプパターン
を露光するときに使用するフオトマスク、特に投
影型露光装置として所謂ステツパを使用する場合
に、そのステツパに装着されるレチクル(フオト
マスクの呼称)を洗浄するときに有用なフオトマ
スク洗浄装置の改良に関する。
を露光するときに使用するフオトマスク、特に投
影型露光装置として所謂ステツパを使用する場合
に、そのステツパに装着されるレチクル(フオト
マスクの呼称)を洗浄するときに有用なフオトマ
スク洗浄装置の改良に関する。
〈従来技術〉
近年の半導体集積回路のパターンに対する高密
度化の要求に伴い、原寸パターンの1倍〜10倍の
大きさのパターンを描き込んだレチクルをフオト
マスク原版として装着するステツパと称される投
影型露光装置が使用されるようになつてきた。こ
のようなステツパを使用する上において重要なこ
とは、レチクル上に常に異物が付着していないよ
うにすることである。若しレチクル上に異物が付
着しているとウエハ上に正しいパターンを焼き付
けることができず、放置しておいた場合すべての
チツプが不良という大変な事態に陥るからであ
る。そこで一般には、ステツパを使用するときに
はレチクルを洗浄し、そのパターン面とガラス面
の両方に異物が付着していないことを確認してか
らそのレチクルをステツパに装着している。この
ようなフオトマスク洗浄装置には、その洗浄方法
で分類した場合いくつかの種類があるが、このう
ち最もコンパクトに構成できるのはウエハを高速
回転させた状態でその表面を洗浄するいわゆるス
ピンスクラバー型洗浄装置である。第1図は従来
のスピンスクラバー型洗浄装置の概略構造図であ
る。
度化の要求に伴い、原寸パターンの1倍〜10倍の
大きさのパターンを描き込んだレチクルをフオト
マスク原版として装着するステツパと称される投
影型露光装置が使用されるようになつてきた。こ
のようなステツパを使用する上において重要なこ
とは、レチクル上に常に異物が付着していないよ
うにすることである。若しレチクル上に異物が付
着しているとウエハ上に正しいパターンを焼き付
けることができず、放置しておいた場合すべての
チツプが不良という大変な事態に陥るからであ
る。そこで一般には、ステツパを使用するときに
はレチクルを洗浄し、そのパターン面とガラス面
の両方に異物が付着していないことを確認してか
らそのレチクルをステツパに装着している。この
ようなフオトマスク洗浄装置には、その洗浄方法
で分類した場合いくつかの種類があるが、このう
ち最もコンパクトに構成できるのはウエハを高速
回転させた状態でその表面を洗浄するいわゆるス
ピンスクラバー型洗浄装置である。第1図は従来
のスピンスクラバー型洗浄装置の概略構造図であ
る。
図において、1はフオトマスク、2はフオトマ
スク1を支持台3上に真空チヤツクするバキユー
ム装置、4は回転軸5を介してフオトマスク1を
真空吸着する平板3を高速回転する回転駆動部で
あり、また6はフオトマスク1の表面を洗浄する
スポンジブラシ、7はフオトマスク1上に付着し
ている異物を水流によつて吹き飛ばすハイプレツ
シヤーウオータ発生装置、さらに8は以上の装置
を覆うボウルであり、ボウル8の上部突出部9内
には洗浄後のフオトマスクを乾燥するための赤外
線ヒータ(図示せず)が設けられている。以上の
構成のように、従来の洗浄装置ではフオトマスク
1の片側、主にパターン面を上向きにおいて真空
チヤツクし、その状態で高速回転し、スポンジブ
ラシとハイプレツシヤーウオータによつてパター
ン面を洗浄するようにしていた。しかし、この洗
浄装置ではフオトマスクの片側(パターン面を上
向きに置いた場合にはパターン面)は洗浄するこ
とができるが、下側のガラス面側を同時に洗浄す
ることができないために、パターン面の洗浄後ロ
ボツトハンドなどを使用してフオトマスク1を反
転させる必要があり、工程が複雑化するとともに
装置も大型化する不都合があつた。
スク1を支持台3上に真空チヤツクするバキユー
ム装置、4は回転軸5を介してフオトマスク1を
真空吸着する平板3を高速回転する回転駆動部で
あり、また6はフオトマスク1の表面を洗浄する
スポンジブラシ、7はフオトマスク1上に付着し
ている異物を水流によつて吹き飛ばすハイプレツ
シヤーウオータ発生装置、さらに8は以上の装置
を覆うボウルであり、ボウル8の上部突出部9内
には洗浄後のフオトマスクを乾燥するための赤外
線ヒータ(図示せず)が設けられている。以上の
構成のように、従来の洗浄装置ではフオトマスク
1の片側、主にパターン面を上向きにおいて真空
チヤツクし、その状態で高速回転し、スポンジブ
ラシとハイプレツシヤーウオータによつてパター
ン面を洗浄するようにしていた。しかし、この洗
浄装置ではフオトマスクの片側(パターン面を上
向きに置いた場合にはパターン面)は洗浄するこ
とができるが、下側のガラス面側を同時に洗浄す
ることができないために、パターン面の洗浄後ロ
ボツトハンドなどを使用してフオトマスク1を反
転させる必要があり、工程が複雑化するとともに
装置も大型化する不都合があつた。
〈考案の目的〉
この考案の目的は、フオトマスクの支持の仕方
を工夫することによつてパターン面およびガラス
面を同時に洗浄することのできるフオトマスク洗
浄装置を提供することにある。
を工夫することによつてパターン面およびガラス
面を同時に洗浄することのできるフオトマスク洗
浄装置を提供することにある。
〈考案の構成〉
この考案は上記目的を達成するために、フオト
マスクを側方から支持固定するフオトマスク支持
体と、モータを含み前記支持体を高速回転する回
転駆動とを設けるとともに、前記フオトマスクの
上下両面に対向してスポンジブラシおよび/また
はハイプレツシヤーウオータ発生装置を配設し、
これらの洗浄手段によつて高速回転するフオトマ
スクのパターン面およびガラス面を同時に洗浄す
るようにしたものである。
マスクを側方から支持固定するフオトマスク支持
体と、モータを含み前記支持体を高速回転する回
転駆動とを設けるとともに、前記フオトマスクの
上下両面に対向してスポンジブラシおよび/また
はハイプレツシヤーウオータ発生装置を配設し、
これらの洗浄手段によつて高速回転するフオトマ
スクのパターン面およびガラス面を同時に洗浄す
るようにしたものである。
〈実施例〉
第2図はこの考案の実施例であるフオトマスク
洗浄装置の概略構造図である。構成において、第
1図に示す従来の洗浄装置と同一部分ないし相当
部分には同一番号を付してある。ボウル8の外側
に設けられているスピンモータ4の駆動軸には駆
動ギア10が連結され、この駆動ギア10に係合
するフオトマスク支持体11がボウル8の内側に
配設されている。このフオトマスク支持体11は
ボウル8内で回転できるようにボウル8の外周に
設けられているころがり支持ガイド12によつて
支持されており、スピンモータ4の回転に応じて
ボウル8内で高速回転できるようになつている。
上記フオトマスク支持体11は第3図に示すよう
に外周部にギア部が形成されているリング状ギア
部11aとこのリング状ギア部11aの内周壁に
一定間隔で固着されているアーム12〜15とで
構成され、各アーム12〜15はリング状ギア部
11aの半径よりも短い長さを有し、それぞれ
向心している。また各アームの先端部には、第4
図A,Bに示すうに段部Pが形成され、この段部
Pに円筒ころa,bが回動実在に支持されてい
る。正方形状のフオトマスク1は上記4本のアー
ム12〜15のそれぞれの先端部で支持される。
すなわち、アーム12,14の段部Pにそれぞれ
支持されている円筒ころa,bによつてフオトマ
スク1の対向する隅部1a,1bが挾持され、同
様にアーム13,15の段部Pに支持されている
円筒ころa,bによつてフオトマスク1の対向す
る他の隅部1d,1cがそれぞれ挾持されること
によつてフオトマスク1がフオトマスク支持体1
1に支持固定されている。フオトマスク支持体1
1が以上のように構成されるとともに、フオトマ
スク1の上下両面に対向してスポンジブラシ6,
6′およびハイプレツシヤーウオータ発生装置
7,7′がそれぞれ配設されている。このスポン
ジブラシ6,6′およびハイプレツシヤーウオー
タ発生装置7,7′は、それぞれスピンモータ4
が駆動したときに独立に作動できる構造になつて
いる。したがつて、フオトマスク1をフオトマス
ク支持体11にセツトした後、スピンモータ4を
駆動した状態でスポンジブラシ6,6′を同時に
作動すれば、あるいはハイプレツシヤーウオータ
発生装置7,7′を同時に作動させれば、フオト
マスク1の上下両面、すなわちパターン面とガラ
ス面とを同時に洗浄することができる。すなわ
ち、フオトマスク1の洗浄においては従来のよう
に片面洗浄後に反転させる工程が不要であり、し
かも短時間に上下両面の洗浄を行うことができ
る。
洗浄装置の概略構造図である。構成において、第
1図に示す従来の洗浄装置と同一部分ないし相当
部分には同一番号を付してある。ボウル8の外側
に設けられているスピンモータ4の駆動軸には駆
動ギア10が連結され、この駆動ギア10に係合
するフオトマスク支持体11がボウル8の内側に
配設されている。このフオトマスク支持体11は
ボウル8内で回転できるようにボウル8の外周に
設けられているころがり支持ガイド12によつて
支持されており、スピンモータ4の回転に応じて
ボウル8内で高速回転できるようになつている。
上記フオトマスク支持体11は第3図に示すよう
に外周部にギア部が形成されているリング状ギア
部11aとこのリング状ギア部11aの内周壁に
一定間隔で固着されているアーム12〜15とで
構成され、各アーム12〜15はリング状ギア部
11aの半径よりも短い長さを有し、それぞれ
向心している。また各アームの先端部には、第4
図A,Bに示すうに段部Pが形成され、この段部
Pに円筒ころa,bが回動実在に支持されてい
る。正方形状のフオトマスク1は上記4本のアー
ム12〜15のそれぞれの先端部で支持される。
すなわち、アーム12,14の段部Pにそれぞれ
支持されている円筒ころa,bによつてフオトマ
スク1の対向する隅部1a,1bが挾持され、同
様にアーム13,15の段部Pに支持されている
円筒ころa,bによつてフオトマスク1の対向す
る他の隅部1d,1cがそれぞれ挾持されること
によつてフオトマスク1がフオトマスク支持体1
1に支持固定されている。フオトマスク支持体1
1が以上のように構成されるとともに、フオトマ
スク1の上下両面に対向してスポンジブラシ6,
6′およびハイプレツシヤーウオータ発生装置
7,7′がそれぞれ配設されている。このスポン
ジブラシ6,6′およびハイプレツシヤーウオー
タ発生装置7,7′は、それぞれスピンモータ4
が駆動したときに独立に作動できる構造になつて
いる。したがつて、フオトマスク1をフオトマス
ク支持体11にセツトした後、スピンモータ4を
駆動した状態でスポンジブラシ6,6′を同時に
作動すれば、あるいはハイプレツシヤーウオータ
発生装置7,7′を同時に作動させれば、フオト
マスク1の上下両面、すなわちパターン面とガラ
ス面とを同時に洗浄することができる。すなわ
ち、フオトマスク1の洗浄においては従来のよう
に片面洗浄後に反転させる工程が不要であり、し
かも短時間に上下両面の洗浄を行うことができ
る。
〈考案の効果〉
以上のようにこの考案によれば、フオトマスク
側方から支持固定するようにして、かつフオトマ
スクの上下両面に対向して洗浄手段を配設するよ
うにしたので、フオトマスクのパターン面とガラ
ス面とを同時に洗浄することができ、スピンスク
ラバー型洗浄装置の利点であるコンパクト性を保
持したまま洗浄のスループツトを大幅に高めるこ
とができる。
側方から支持固定するようにして、かつフオトマ
スクの上下両面に対向して洗浄手段を配設するよ
うにしたので、フオトマスクのパターン面とガラ
ス面とを同時に洗浄することができ、スピンスク
ラバー型洗浄装置の利点であるコンパクト性を保
持したまま洗浄のスループツトを大幅に高めるこ
とができる。
第1図は従来のフオトマスク洗浄装置の概略構
造図、第2図はこの考案の実施例であるフオトマ
スク洗浄装置の概略構造図、第3図は同実施例に
示すリング状ギアの平面図、第4図A,Bはフオ
トマスク支持体11のアーム先端部の平面図、側
面図である。 1……フオトマスク、4……スピンモータ、
6,6′……スポンジブラシ、7,7′……ハイプ
レツシヤーウオータ発生装置、8……ボウル、1
0……駆動ギア、11……フオトマスク支持体、
11a……リング状ギア部、12〜15……アー
ム。
造図、第2図はこの考案の実施例であるフオトマ
スク洗浄装置の概略構造図、第3図は同実施例に
示すリング状ギアの平面図、第4図A,Bはフオ
トマスク支持体11のアーム先端部の平面図、側
面図である。 1……フオトマスク、4……スピンモータ、
6,6′……スポンジブラシ、7,7′……ハイプ
レツシヤーウオータ発生装置、8……ボウル、1
0……駆動ギア、11……フオトマスク支持体、
11a……リング状ギア部、12〜15……アー
ム。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) フオトマスクを高速回転し、その表面をスポ
ンジブラシおよび/またはハイプレツシヤーウ
オータ発生装置からなる洗浄手段によつて洗浄
するフオトマスク洗浄装置において、前記フオ
トマスクを側方から支持固定するフオトマスク
支持体と、モータを含み前記支持体を高速回転
する回転駆動部とを設けるとともに、前記フオ
トマスクの上下両面に対向して前記洗浄手段を
配設したことを特徴とするフオトマスク洗浄装
置。 (2) 前記フオトマスク支持体を、前記フオトマス
ク側端部の適所を挾持固定するアームおよびこ
のアームが固着したリング状ギアで構成し、前
記回転駆動部を前記リング状ギアに係合する駆
動ギアおよびこの駆動ギアに連結するモータで
構成した実用新案登録請求の範囲第1項記載の
フオトマスク洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1983064123U JPS59170852U (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | フオトマスク洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1983064123U JPS59170852U (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | フオトマスク洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59170852U JPS59170852U (ja) | 1984-11-15 |
JPS6230030Y2 true JPS6230030Y2 (ja) | 1987-08-01 |
Family
ID=30194307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1983064123U Granted JPS59170852U (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | フオトマスク洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59170852U (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2645425B2 (ja) * | 1985-03-04 | 1997-08-25 | 松下冷機株式会社 | 伝熱管壁面の製造方法 |
JPH0528759Y2 (ja) * | 1985-03-23 | 1993-07-23 | ||
JPH0695508B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1994-11-24 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 基板の両面洗浄装置 |
JP3964517B2 (ja) * | 1997-10-31 | 2007-08-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 洗浄装置とその方法 |
JP6811882B2 (ja) * | 2020-01-23 | 2021-01-13 | 株式会社東京精密 | 洗浄装置 |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP1983064123U patent/JPS59170852U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59170852U (ja) | 1984-11-15 |
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