JP2908120B2 - レチクル洗浄装置 - Google Patents
レチクル洗浄装置Info
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Landscapes
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置製造工程の
一つであるフォトリングラフィ工程で使用されるレチク
ルの洗浄装置に関するものである。
一つであるフォトリングラフィ工程で使用されるレチク
ルの洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のレチクル洗浄装置は、図面には示
さないが、大別して、レチクル洗浄処理部と、レチクル
乾燥処理部と、レチクル付着塵埃検査処理部と各処理部
を連結するレチクル搬送機構部より構成されている。
さないが、大別して、レチクル洗浄処理部と、レチクル
乾燥処理部と、レチクル付着塵埃検査処理部と各処理部
を連結するレチクル搬送機構部より構成されている。
【０００３】レチクル洗浄処理部は被洗浄物であるレチ
クルの洗浄面へ純水、又は帯電防止剤（アンモニア等）
混合水を噴出し、レチクル洗浄面に接触し回転する円盤
状、又は円筒状のブラシ、又はスポンジ材による洗浄手
段より構成され、レチクル洗浄面をブラシまたはスポン
ジ材により擦ることで洗浄効果を得ている。
クルの洗浄面へ純水、又は帯電防止剤（アンモニア等）
混合水を噴出し、レチクル洗浄面に接触し回転する円盤
状、又は円筒状のブラシ、又はスポンジ材による洗浄手
段より構成され、レチクル洗浄面をブラシまたはスポン
ジ材により擦ることで洗浄効果を得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のレチクル洗浄装
置の洗浄処理では、レチクル洗浄面を洗浄する手段であ
るブラシあるいはスポンジ材でレチクル面を機械的に擦
り、付着しているごみを取去っているので、レチクル面
状に形成されているクロムパターンにしばしば損傷を与
えることになる。また、洗浄手段であるブラシ、又はス
ポンジ材が摩威し、その塵埃が非洗浄物であるレチクル
に再付着して、取去ることが困難になるという問題があ
った。
置の洗浄処理では、レチクル洗浄面を洗浄する手段であ
るブラシあるいはスポンジ材でレチクル面を機械的に擦
り、付着しているごみを取去っているので、レチクル面
状に形成されているクロムパターンにしばしば損傷を与
えることになる。また、洗浄手段であるブラシ、又はス
ポンジ材が摩威し、その塵埃が非洗浄物であるレチクル
に再付着して、取去ることが困難になるという問題があ
った。
【０００５】本発明の目的は、表面に形成されるパター
ンに傷を付けることなく洗浄出来るレチクル洗浄装置を
提供することである。
ンに傷を付けることなく洗浄出来るレチクル洗浄装置を
提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、表面に
転写パターンが形成されるレチクルを保持するとともに
一方向に往復運動する保持機構と、前記レチクルの面に
対向し所定の間隔をおいて配置されるとともに前記レチ
クルの面に洗浄液を噴射する吐出口を中心にもつととも
に回転する複数の回転円盤とを備え、噴射された前記洗
浄液が前記レチクルの面に衝突し前記回転円盤の回転遠
心力により該回転円盤外に排出されかつ前記レチクルの
面に形成される水膜が途切れることなく前記吐出口から
前記洗浄液を噴射するレチクル洗浄装置である。
転写パターンが形成されるレチクルを保持するとともに
一方向に往復運動する保持機構と、前記レチクルの面に
対向し所定の間隔をおいて配置されるとともに前記レチ
クルの面に洗浄液を噴射する吐出口を中心にもつととも
に回転する複数の回転円盤とを備え、噴射された前記洗
浄液が前記レチクルの面に衝突し前記回転円盤の回転遠
心力により該回転円盤外に排出されかつ前記レチクルの
面に形成される水膜が途切れることなく前記吐出口から
前記洗浄液を噴射するレチクル洗浄装置である。
【０００７】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００８】図１（ａ）〜（ｃ）は本発明によるレチク
ル洗浄装置の一実施例における洗浄処理部を示す正面
図，側面図及び一部を拡大して示す断面図である。この
レチクル洗浄装置は、図１に示すように、レチクル２の
パターン面を露呈して保持する保持機構と、レチクル２
の面と所定の間隔をおいて配置されるとともに洗浄液を
噴出する吐出口４をもつ複数の回転円盤３とを備えてい
る。また、保持機構１と回転円盤３とは相対的に矢印に
示す一方向に移動出来るようになっている。
ル洗浄装置の一実施例における洗浄処理部を示す正面
図，側面図及び一部を拡大して示す断面図である。この
レチクル洗浄装置は、図１に示すように、レチクル２の
パターン面を露呈して保持する保持機構と、レチクル２
の面と所定の間隔をおいて配置されるとともに洗浄液を
噴出する吐出口４をもつ複数の回転円盤３とを備えてい
る。また、保持機構１と回転円盤３とは相対的に矢印に
示す一方向に移動出来るようになっている。
【０００９】次に、このレチクル洗浄装置の動作を説明
する。まず、回転円盤３をレチクルに所定間隔に配置す
る。次に、回転円盤３の吐出口４より洗浄液を噴射させ
る。このことにより噴射された洗浄液はレチクル２の面
に衝突し回転円盤３の回転遠心力で回転円盤外に排出さ
れる。この排出される洗浄液の量と吐出口４に供給され
る洗浄液の量と等しくなったところで、云い換れば、供
給された洗浄液が吐出口４から噴射され、回転円盤３と
レチクル２との間を通過する洗浄液がレチクル２の面に
水膜を形成しこの水膜を途切れることなく回転円盤４外
に排出されるとき、回転円盤３とレチクル２の間隔を固
定する。次に、保持機構１を矢印の方向に往復運動さ
せ、レチクル２の面を洗浄する。
する。まず、回転円盤３をレチクルに所定間隔に配置す
る。次に、回転円盤３の吐出口４より洗浄液を噴射させ
る。このことにより噴射された洗浄液はレチクル２の面
に衝突し回転円盤３の回転遠心力で回転円盤外に排出さ
れる。この排出される洗浄液の量と吐出口４に供給され
る洗浄液の量と等しくなったところで、云い換れば、供
給された洗浄液が吐出口４から噴射され、回転円盤３と
レチクル２との間を通過する洗浄液がレチクル２の面に
水膜を形成しこの水膜を途切れることなく回転円盤４外
に排出されるとき、回転円盤３とレチクル２の間隔を固
定する。次に、保持機構１を矢印の方向に往復運動さ
せ、レチクル２の面を洗浄する。
【００１０】このように浄液を媒体としてレチクル面を
液体摩擦力で洗浄するので、レチクル面に形成されたパ
ターンを傷つけることなく洗浄出来る。また、回転円盤
の遠心力による飛散される洗浄液の量と吐出する液量と
を等しくすることによって、レチクル面に形成される水
膜は途切れることなく更新されるので、洗浄液によるご
みの再付着や、洗浄液の能力の低下などを起すことがな
い。
液体摩擦力で洗浄するので、レチクル面に形成されたパ
ターンを傷つけることなく洗浄出来る。また、回転円盤
の遠心力による飛散される洗浄液の量と吐出する液量と
を等しくすることによって、レチクル面に形成される水
膜は途切れることなく更新されるので、洗浄液によるご
みの再付着や、洗浄液の能力の低下などを起すことがな
い。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によるレチク
ル洗浄装置の洗浄処理部はレチクル洗浄面に対し、固体
の接触無しに洗浄効果を得ている為、レチクル面上に形
成されているクロムパターンへの損傷、又、洗浄手段の
摩滅による塵埃の発生等の問題を解消する効果がある。
ル洗浄装置の洗浄処理部はレチクル洗浄面に対し、固体
の接触無しに洗浄効果を得ている為、レチクル面上に形
成されているクロムパターンへの損傷、又、洗浄手段の
摩滅による塵埃の発生等の問題を解消する効果がある。
【図１】本発明のレチクル洗浄装置の一実施例を示し、
（ａ）は主要部の正面図、（ｂ）は側面図及び（ｃ）は
一部拡大して示す断面図である。
（ａ）は主要部の正面図、（ｂ）は側面図及び（ｃ）は
一部拡大して示す断面図である。
１ 保持機構 ２ レチクル ３ 回転円盤 ４ 吐出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304 648 B08B 1/04 B08B 3/02 - 3/04
Claims (1)
- 【請求項１】 表面に転写パターンが形成されるレチク
ルを保持するとともに一方向に往復運動する保持機構
と、前記レチクルの面に対向し所定の間隔をおいて配置
されるとともに前記レチクルの面に洗浄液を噴射する吐
出口を中心にもつとともに回転する複数の回転円盤とを
備え、噴射された前記洗浄液が前記レチクルの面に衝突
し前記回転円盤の回転遠心力により該回転円盤外に排出
されかつ前記レチクルの面に形成される水膜が途切れる
ことなく前記吐出口から前記洗浄液を噴射することを特
徴とするレチクル洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15487792A JP2908120B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | レチクル洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15487792A JP2908120B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | レチクル洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05347290A JPH05347290A (ja) | 1993-12-27 |
| JP2908120B2 true JP2908120B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=15593898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15487792A Expired - Fee Related JP2908120B2 (ja) | 1992-06-15 | 1992-06-15 | レチクル洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2908120B2 (ja) |
-
1992
- 1992-06-15 JP JP15487792A patent/JP2908120B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05347290A (ja) | 1993-12-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990302 |
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