JPH0745955Y2 - 基板のディスクブラシ式洗浄装置 - Google Patents
基板のディスクブラシ式洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0745955Y2 JPH0745955Y2 JP9172390U JP9172390U JPH0745955Y2 JP H0745955 Y2 JPH0745955 Y2 JP H0745955Y2 JP 9172390 U JP9172390 U JP 9172390U JP 9172390 U JP9172390 U JP 9172390U JP H0745955 Y2 JPH0745955 Y2 JP H0745955Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- brush
- disk
- cleaning
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本考案は、液晶デイバイスや薄膜トランジスタに使用す
るガラス基板やウエハ等の基板を洗浄する洗浄装置に関
し、特に、基板表面に接触して回転するデイスクブラシ
の構造及びデイスクブラシと洗浄液噴出ノズルとの配置
に関する。
るガラス基板やウエハ等の基板を洗浄する洗浄装置に関
し、特に、基板表面に接触して回転するデイスクブラシ
の構造及びデイスクブラシと洗浄液噴出ノズルとの配置
に関する。
《従来技術》 基板の表面に異物が付着していると、製品の欠陥発生率
が上昇することから、従来、フォトレジスト塗布工程の
前処理として、基板の表面に洗浄液を噴出するととも
に、基板の表面に回転ブラシを作用させて基板表面を洗
浄するように構成している。
が上昇することから、従来、フォトレジスト塗布工程の
前処理として、基板の表面に洗浄液を噴出するととも
に、基板の表面に回転ブラシを作用させて基板表面を洗
浄するように構成している。
そして、このような洗浄装置として、例えば特開昭55-2
7103号公報に示されたものがある。
7103号公報に示されたものがある。
これは、搬送路を搬送されて来る被処理基板の両面に、
デイスクブラシをその回転軸が被処理基板の主面に対し
て垂直となる状態に配置するとともに、その回転軸芯部
分に洗浄液の噴出口を設けた構成となっている。
デイスクブラシをその回転軸が被処理基板の主面に対し
て垂直となる状態に配置するとともに、その回転軸芯部
分に洗浄液の噴出口を設けた構成となっている。
《解決しようとする課題》 ところが、前述の従来構造のデイスクブラシでは、基板
表面にデイスクブラシを当接し、その回転軸より洗浄液
を噴射させた場合、洗浄液の圧力によりブラシの毛先が
外側に曲げられ、基板表面とデイスクブラシとの接触面
積が減少し、早期に洗浄力が低下することがあるうえ、
ブラシの毛先部分に付着したパーティクルの除去が難し
く、ブラシに付着しているパーティクルを被処理基板の
表面にこすりつけるという問題があった。
表面にデイスクブラシを当接し、その回転軸より洗浄液
を噴射させた場合、洗浄液の圧力によりブラシの毛先が
外側に曲げられ、基板表面とデイスクブラシとの接触面
積が減少し、早期に洗浄力が低下することがあるうえ、
ブラシの毛先部分に付着したパーティクルの除去が難し
く、ブラシに付着しているパーティクルを被処理基板の
表面にこすりつけるという問題があった。
本考案は、このような点に着目してなされたもので、長
期に亘って高い洗浄能力を維持でき、かつ、ブラシ自体
の洗浄を確実に行うことのできる洗浄装置を提供するこ
とを目的とする。
期に亘って高い洗浄能力を維持でき、かつ、ブラシ自体
の洗浄を確実に行うことのできる洗浄装置を提供するこ
とを目的とする。
《課題を解決するための手段》 上述の目的を達成するために本考案は、ディスクブラシ
の回転軸を被処理基板の主面に対して直交する状態に配
置するようにした基板の洗浄装置において、ディスクブ
ラシをその回転中心部に植毛部のないリング状ブラシで
構成するとともに、植毛していないディスクブラシの回
転中心部に向けて洗浄液を噴出する洗浄液噴出ノズルを
ディスクブラシに対向させて配置したことを特徴として
いる。
の回転軸を被処理基板の主面に対して直交する状態に配
置するようにした基板の洗浄装置において、ディスクブ
ラシをその回転中心部に植毛部のないリング状ブラシで
構成するとともに、植毛していないディスクブラシの回
転中心部に向けて洗浄液を噴出する洗浄液噴出ノズルを
ディスクブラシに対向させて配置したことを特徴として
いる。
《作用》 本考案では、デイスクブラシをその回転中心部分に植毛
部のないリング状ブラシに構成してあることから、全体
に植毛していたディスクブラシに比べて刷毛部分の曲が
りが少なくなるうえ、洗浄液噴出ノズルをデイスクブラ
シの回転中心部に向けて配置しているので、デイスクブ
ラシと洗浄液噴出ノズルとの間に基板が存在しない状態
では、洗浄液がデイスクブラシの回転中心部に吹き付け
られることになり、この吹き付けられた洗浄液がデイス
クブラシの回転に伴う遠心力でデイスクブラシの刷毛部
分を洗浄することになり、刷毛部分に付着しているパー
ティクルを効率良く除去することができる。
部のないリング状ブラシに構成してあることから、全体
に植毛していたディスクブラシに比べて刷毛部分の曲が
りが少なくなるうえ、洗浄液噴出ノズルをデイスクブラ
シの回転中心部に向けて配置しているので、デイスクブ
ラシと洗浄液噴出ノズルとの間に基板が存在しない状態
では、洗浄液がデイスクブラシの回転中心部に吹き付け
られることになり、この吹き付けられた洗浄液がデイス
クブラシの回転に伴う遠心力でデイスクブラシの刷毛部
分を洗浄することになり、刷毛部分に付着しているパー
ティクルを効率良く除去することができる。
《実施例》 図面は本考案の一実施例を示し、第１図は要部の取り出
し斜視図、第２図はデイスクブラシと洗浄液噴出ノズル
との配置を示す斜視図、第３図は本考案を適用したガラ
ス基板洗浄装置の概略構成図である。
し斜視図、第２図はデイスクブラシと洗浄液噴出ノズル
との配置を示す斜視図、第３図は本考案を適用したガラ
ス基板洗浄装置の概略構成図である。
この基板洗浄装置は、第３図に示すように、洗浄部
（Ｉ）、水洗部（II）、乾燥部（III）を連続して形成
し、基板洗浄装置に導入されたガラス基板（Ｐ）を水平
搬送して洗浄部（Ｉ）、水洗部（II）、乾燥部（III）
を順に通過する間に所定の処理を行うようにしてある。
（Ｉ）、水洗部（II）、乾燥部（III）を連続して形成
し、基板洗浄装置に導入されたガラス基板（Ｐ）を水平
搬送して洗浄部（Ｉ）、水洗部（II）、乾燥部（III）
を順に通過する間に所定の処理を行うようにしてある。
洗浄部（Ｉ）には、基板（Ｐ）の搬送路（Ｗ）に沿わせ
て４つの洗浄ユニット（１）が配置してある。各洗浄ユ
ニット（１）は、多数のディスクブラシ（２）とディス
クブラシ（２）と同数の洗浄液噴出ノズル（３）とで構
成してあり、ディスクブラシ（２）と洗浄液噴出ノズル
（３）とは搬送路（Ｗ）を挟む状態で対向配置してあ
る。そして各ディスクブラシ（２）は搬送路（Ｗ）に対
して公知の手段で接離調整可能に構成して、基板（Ｐ）
に対すえるデイスクブラシの当接圧力を調整できるとと
もに、基板（Ｐ）の板厚に対するデイスクブラシの位置
を可変できるようにしてある。また、１つの洗浄ユニッ
ト（１）におけるディスブラシ（２）は、第２図に示す
ように、基板（Ｐ）の搬送方向と直交する状態で前後２
列に配置してあり、前列側に位置するディスクブラシ
（2a）と後列側に位置するディスクブラシ（2b）とは千
鳥状に配置してある。
て４つの洗浄ユニット（１）が配置してある。各洗浄ユ
ニット（１）は、多数のディスクブラシ（２）とディス
クブラシ（２）と同数の洗浄液噴出ノズル（３）とで構
成してあり、ディスクブラシ（２）と洗浄液噴出ノズル
（３）とは搬送路（Ｗ）を挟む状態で対向配置してあ
る。そして各ディスクブラシ（２）は搬送路（Ｗ）に対
して公知の手段で接離調整可能に構成して、基板（Ｐ）
に対すえるデイスクブラシの当接圧力を調整できるとと
もに、基板（Ｐ）の板厚に対するデイスクブラシの位置
を可変できるようにしてある。また、１つの洗浄ユニッ
ト（１）におけるディスブラシ（２）は、第２図に示す
ように、基板（Ｐ）の搬送方向と直交する状態で前後２
列に配置してあり、前列側に位置するディスクブラシ
（2a）と後列側に位置するディスクブラシ（2b）とは千
鳥状に配置してある。
また、本実施例では基板（Ｐ）の搬送方向に並ぶ２つの
洗浄ユニット（１）（１）を一対として形成してあり、
一方の洗浄ユニット（１）ではディスクブラシ（２）を
被処理基板（Ｐ）の裏面に下方から臨ませ、他方の洗浄
ユニット（１）ではディスクブラシ（１）を被処理基板
（Ｐ）の表面に上方から臨ませている。そして、この洗
浄ユニット（１）の各ディスクブラシ（１）は、第１図
に示すように、回転中心部から一定の範囲に刷毛を植毛
していないリング状ブラシで構成してあり、洗浄液噴出
ノズル（３）は各ディスクブラシ（２）の刷毛を植毛し
ていない部分、即ち回転中心部分に向けてキャピラリー
状のスプレー形状で洗浄液を噴出するようになってい
る。
洗浄ユニット（１）（１）を一対として形成してあり、
一方の洗浄ユニット（１）ではディスクブラシ（２）を
被処理基板（Ｐ）の裏面に下方から臨ませ、他方の洗浄
ユニット（１）ではディスクブラシ（１）を被処理基板
（Ｐ）の表面に上方から臨ませている。そして、この洗
浄ユニット（１）の各ディスクブラシ（１）は、第１図
に示すように、回転中心部から一定の範囲に刷毛を植毛
していないリング状ブラシで構成してあり、洗浄液噴出
ノズル（３）は各ディスクブラシ（２）の刷毛を植毛し
ていない部分、即ち回転中心部分に向けてキャピラリー
状のスプレー形状で洗浄液を噴出するようになってい
る。
従って、対向しているディスクブラシ（２）と洗浄液噴
出ノズル（３）との間に被処理物である基板（Ｐ）が存
在しない間は洗浄液噴出ノズル（３）から噴出された洗
浄液はディスクブラシ（２）の刷毛を植毛していない回
転中心部分に吹き付けられ、ディスクブラシ（２）の回
転に伴う遠心力で刷毛部分を通過する間に刷毛部分を洗
浄して刷毛に付着しているパーティクル等の塵埃を除去
することになる。そして、対向しているディスクブラシ
（２）と洗浄液噴出ノズル（３）との間に被処理物であ
る基板（Ｐ）が存在すると、洗浄液噴出ノズル（３）か
ら噴出された洗浄液は基板（Ｐ）の表面あるいは裏面に
吹き付けられることになり、基板（Ｐ）の表面あるいは
裏面を洗浄液で洗うとともに、基板（Ｐ）の表・裏面を
湿してディスクブラシ（２）との潤滑作用を促すことに
なる。
出ノズル（３）との間に被処理物である基板（Ｐ）が存
在しない間は洗浄液噴出ノズル（３）から噴出された洗
浄液はディスクブラシ（２）の刷毛を植毛していない回
転中心部分に吹き付けられ、ディスクブラシ（２）の回
転に伴う遠心力で刷毛部分を通過する間に刷毛部分を洗
浄して刷毛に付着しているパーティクル等の塵埃を除去
することになる。そして、対向しているディスクブラシ
（２）と洗浄液噴出ノズル（３）との間に被処理物であ
る基板（Ｐ）が存在すると、洗浄液噴出ノズル（３）か
ら噴出された洗浄液は基板（Ｐ）の表面あるいは裏面に
吹き付けられることになり、基板（Ｐ）の表面あるいは
裏面を洗浄液で洗うとともに、基板（Ｐ）の表・裏面を
湿してディスクブラシ（２）との潤滑作用を促すことに
なる。
洗浄部（Ｉ）で洗浄された基板（Ｐ）は水洗部（II）に
送り込まれ、ここで基板搬送路（Ｗ）を挟む状態で上下
に配置された噴水ノズル（４）から噴出される純水で洗
浄されたのち、乾燥部（III）に送り込まれ、基板搬送
路（Ｗ）を挟む状態で上下に配置されたエアナイフ装置
（５）で水切りされ、温風器（６）からの温風で乾燥さ
れることになる。
送り込まれ、ここで基板搬送路（Ｗ）を挟む状態で上下
に配置された噴水ノズル（４）から噴出される純水で洗
浄されたのち、乾燥部（III）に送り込まれ、基板搬送
路（Ｗ）を挟む状態で上下に配置されたエアナイフ装置
（５）で水切りされ、温風器（６）からの温風で乾燥さ
れることになる。
なお、図中符号（７）は基板搬送ローラである。
上述の実施例では、基板（Ｐ）を水平搬送する基板洗浄
装置について説明したが、基板（Ｐ）を垂直に搬送する
基板洗浄装置でのブラシ洗浄部に適用することもでき
る。また、基板搬送手段をもたないマニアルタイプの基
板洗浄装置に適用することもできる。
装置について説明したが、基板（Ｐ）を垂直に搬送する
基板洗浄装置でのブラシ洗浄部に適用することもでき
る。また、基板搬送手段をもたないマニアルタイプの基
板洗浄装置に適用することもできる。
さらに、ディスクブラシ（２）を基板搬送路（Ｗ）の一
側にのみ配置し、基板（Ｐ）の一面だけを洗浄する基板
洗浄装置に適用することもできる。この場合には、ディ
スクブラシ（２）よりも基板搬送方向上手側に洗浄液の
供給ノズルを洗浄液噴出ノズル（３）とは別に配置して
おくことが望ましい。
側にのみ配置し、基板（Ｐ）の一面だけを洗浄する基板
洗浄装置に適用することもできる。この場合には、ディ
スクブラシ（２）よりも基板搬送方向上手側に洗浄液の
供給ノズルを洗浄液噴出ノズル（３）とは別に配置して
おくことが望ましい。
《効果》 本考案では、デイスクブラシをその回転中心部分に植毛
部のないリング状ブラシに構成してあることから、全体
に植毛していたデイスクブラシに比べて刷毛部分の曲が
りが少なくなるうえ、洗浄液噴出ノズルをデイスクブラ
シの回転中心部に向けて配置しているので、デイスクブ
ラシと洗浄液噴出ノズルとの間に基板が存在しない状態
では、洗浄液がデイスクブラシの回転中心部に吹き付け
られることになり、この吹き付けられた洗浄液がデイス
クブラシの回転に伴う遠心力でデイスクブラシの刷毛部
分を洗浄することになり、刷毛部分に付着しているパー
ティクルを効率良く除去することができる。これによ
り、高い洗浄効果を長期に亘って維持できる基板洗浄装
置を提供することができる。
部のないリング状ブラシに構成してあることから、全体
に植毛していたデイスクブラシに比べて刷毛部分の曲が
りが少なくなるうえ、洗浄液噴出ノズルをデイスクブラ
シの回転中心部に向けて配置しているので、デイスクブ
ラシと洗浄液噴出ノズルとの間に基板が存在しない状態
では、洗浄液がデイスクブラシの回転中心部に吹き付け
られることになり、この吹き付けられた洗浄液がデイス
クブラシの回転に伴う遠心力でデイスクブラシの刷毛部
分を洗浄することになり、刷毛部分に付着しているパー
ティクルを効率良く除去することができる。これによ
り、高い洗浄効果を長期に亘って維持できる基板洗浄装
置を提供することができる。
また、先願のデイスクブラシに比べ、回転軸より洗浄液
を供給する機構を不要とし、構造が簡易となる。
を供給する機構を不要とし、構造が簡易となる。
図面は本考案の一実施例を示し、第１図は要部の取り出
し斜視図、第２図はデイスクブラシと洗浄液噴出ノズル
との配置を示す斜視図、第３図は本考案を適用したガラ
ス基板洗浄装置の概略構成図である。 ２……ディスクブラシ、３……洗浄噴出ノズル、７……
基板搬送ローラ、Ｗ……基板搬送路、Ｐ……被処理基
板。
し斜視図、第２図はデイスクブラシと洗浄液噴出ノズル
との配置を示す斜視図、第３図は本考案を適用したガラ
ス基板洗浄装置の概略構成図である。 ２……ディスクブラシ、３……洗浄噴出ノズル、７……
基板搬送ローラ、Ｗ……基板搬送路、Ｐ……被処理基
板。
Claims (2)
- 【請求項１】被処理基板を搬送する基板搬送ローラと、
被処理基板の少なくとも一面に臨ませて配置した回転可
能なディスクブラシと、基板の前記一面に洗浄液を作用
させる洗浄液供給手段とを有し、ディスクブラシの回転
軸を被処理基板の主面に対して直交する状態に配置する
とともに、被処理基板の搬送中に基板表面をディスクブ
ラシで払拭することにより洗浄するように構成した基板
の洗浄装置において、 ディスクブラシはその回転中心部を除いて環状に植毛し
たリング状ブラシで形成し、ディスクブラシの回転中心
部に向けて洗浄液を噴出する洗浄液噴出ノズルをディス
クブラシに対向させて配置したことを特徴とする基板の
ディスクブラシ式洗浄装置。 - 【請求項２】デイスクブラシを被処理基板の搬送路を挟
んだ状態で被処理基板の両面に臨ませて配置し、基板搬
送路を挟んで位置しているディスクブラシを基板搬送方
向での位相をずらして配置した請求項１に記載した基板
のデイスクブラシ式洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172390U JPH0745955Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 基板のディスクブラシ式洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9172390U JPH0745955Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 基板のディスクブラシ式洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448619U JPH0448619U (ja) | 1992-04-24 |
| JPH0745955Y2 true JPH0745955Y2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=31827605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9172390U Expired - Lifetime JPH0745955Y2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 基板のディスクブラシ式洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745955Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10685856B2 (en) | 2017-03-09 | 2020-06-16 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006068706A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Nihon Micro Coating Co Ltd | パネルクリーニング装置及び方法 |
| JP5764309B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-08-19 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | シートガラスの製造方法 |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP9172390U patent/JPH0745955Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10685856B2 (en) | 2017-03-09 | 2020-06-16 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing method and substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0448619U (ja) | 1992-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5349978A (en) | Cleaning device for cleaning planar workpiece | |
| JP3517585B2 (ja) | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 | |
| JPH0745955Y2 (ja) | 基板のディスクブラシ式洗浄装置 | |
| JP4838929B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
| JP2004121980A (ja) | 予備吐出装置および方法 | |
| JPH08250389A (ja) | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 | |
| JP3645686B2 (ja) | 塗布ノズルの洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JPH05347287A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH10337543A (ja) | 洗浄処理装置 | |
| JPH08267024A (ja) | スクラブ洗浄装置 | |
| JP2008140928A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2512015B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
| JP2000150441A (ja) | ローラブラシ洗浄装置 | |
| KR20050047147A (ko) | 웨이퍼 세정 장치 | |
| JPH06163491A (ja) | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH1050650A (ja) | 基板表面処理装置 | |
| JP2908120B2 (ja) | レチクル洗浄装置 | |
| JPH03220723A (ja) | ウェットエッチング装置 | |
| JPH05234974A (ja) | 基板洗浄装置及び洗浄方法 | |
| JP2003320410A (ja) | 圧延設備の洗浄装置 | |
| JPH11323582A (ja) | コイル材の洗浄装置 | |
| JPH08299917A (ja) | 板状体洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH0647284B2 (ja) | 印刷機 | |
| JPH0329919A (ja) | 液晶表示素子のガラス基板洗浄方法 | |
| JP2004130159A (ja) | 予備吐出装置および方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |